KR102391136B1 - Resin particles, conductive particles, conductive materials, adhesives, bonded structures, and liquid crystal display elements - Google Patents

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Abstract

스프링 백의 발생을 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 수지 입자를 제공한다. 본 발명에 관한 수지 입자는, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물과, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물의 중합체이며, 상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량의 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량에 대한 중량비가 7 이상이고, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비가 0.9 이하이다.Provided is a resin particle capable of effectively suppressing the occurrence of springback and effectively suppressing the occurrence of floating or peeling. The resin particle according to the present invention is a polymer of a first polymerizable compound having one polymerizable functional group and a cyclic organic group and a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and a cyclic organic group, When the weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 or more, and the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the particles of the resin particles after heating The ratio of the diameter to the particle diameter of the resin particles before heating is 0.9 or less.

Description

수지 입자, 도전성 입자, 도전 재료, 접착제, 접속 구조체 및 액정 표시 소자Resin particles, conductive particles, conductive materials, adhesives, bonded structures, and liquid crystal display elements

본 발명은, 수지에 의해 형성된 수지 입자에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 상기 수지 입자를 사용한 도전성 입자, 도전 재료, 접착제, 접속 구조체 및 액정 표시 소자에 관한 것이다.The present invention relates to resin particles formed of resin. Moreover, this invention relates to the electroconductive particle which used the said resin particle, an electrically-conductive material, an adhesive agent, a bonded structure, and a liquid crystal display element.

이방성 도전 페이스트 및 이방성 도전 필름 등의 이방성 도전 재료가 폭넓게 알려져 있다. 상기 이방성 도전 재료에서는, 바인더 중에 도전성 입자가 분산되어 있다.Anisotropic electrically-conductive materials, such as an anisotropic electrically-conductive paste and an anisotropic electrically-conductive film, are known widely. In the said anisotropic electrically-conductive material, electroconductive particle is disperse|distributed in the binder.

상기 이방성 도전 재료는, 플렉시블 프린트 기판(FPC), 유리 기판, 유리 에폭시 기판 및 반도체 칩 등의 다양한 접속 대상 부재의 전극간을 전기적으로 접속하고, 접속 구조체를 얻기 위해 사용되고 있다. 또한, 상기 도전성 입자로서, 수지 입자와, 해당 수지 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 갖는 도전성 입자가 사용되는 경우가 있다.The said anisotropic electrically-conductive material electrically connects between electrodes of various connection object members, such as a flexible printed circuit board (FPC), a glass substrate, a glass epoxy board|substrate, and a semiconductor chip, and is used in order to obtain a bonded structure. Moreover, as said electroconductive particle, the electroconductive particle which has a resin particle and the electroconductive part arrange|positioned on the surface of this resin particle may be used.

또한, 액정 표시 소자는, 2매의 유리 기판간에 액정이 배치되어 구성되어 있다. 해당 액정 표시 소자에서는, 2매의 유리 기판의 간격(갭)을 균일하면서 또한 일정하게 유지하기 위해, 갭 제어재로서 스페이서가 사용되고 있다. 해당 스페이서로서, 수지 입자가 일반적으로 사용되고 있다.In addition, liquid crystal is arrange|positioned between two glass substrates, and the liquid crystal display element is comprised. In this liquid crystal display element, in order to keep the space|interval (gap) of two glass substrates uniform and constant, a spacer is used as a gap control material. As the spacer, resin particles are generally used.

상기 도전성 입자의 일례로서, 하기의 특허문헌 1에서는, 중합체 입자와, 해당 중합체 입자의 표면을 피복하고 있는 도전층을 갖는 도전성 입자가 개시되어 있다. 상기 중합체 입자는, 2관능의 (메트)아크릴레이트 모노머, 3관능의 (메트)아크릴레이트 모노머 및 4관능의 (메트)아크릴레이트 모노머 중 적어도 1종의 다관능 (메트)아크릴레이트와, 단관능의 (메트)아크릴레이트 모노머를 포함하는 공중합 성분을 공중합시킴으로써 얻어진다. 상기 2관능의 (메트)아크릴레이트 모노머는, 1,10-데칸디올디(메트)아크릴레이트이다. 상기 다관능 (메트)아크릴레이트가 상기 2관능의 (메트)아크릴레이트 모노머를 포함하는 경우에는, 상기 공중합 성분은, 상기 2관능의 (메트)아크릴레이트 모노머 100중량부에 대하여, 상기 단관능의 (메트)아크릴레이트 모노머를 10중량부 내지 400중량부의 범위에서 함유한다. 상기 다관능 (메트)아크릴레이트가 상기 4관능의 (메트)아크릴레이트 모노머를 포함하는 경우에는, 상기 공중합 성분은, 상기 4관능의 (메트)아크릴레이트 모노머와 상기 단관능의 (메트)아크릴레이트 모노머의 합계 100중량% 중, 상기 단관능의 (메트)아크릴레이트 모노머를 80중량% 이하로 함유한다. 상기 중합체 입자의 압축 변형 회복률은, 70% 이상이다. 상기 중합체 입자의 부피 팽창률은, 1.3 이하이다.As an example of the said electroconductive particle, in following patent document 1, the electroconductive particle which has a polymer particle and the conductive layer which has coat|covered the surface of this polymer particle is disclosed. The said polymer particle, the polyfunctional (meth)acrylate of at least 1 sort(s) of a bifunctional (meth)acrylate monomer, a trifunctional (meth)acrylate monomer, and a tetrafunctional (meth)acrylate monomer, and a monofunctional It is obtained by copolymerizing the copolymerization component containing the (meth)acrylate monomer of. The bifunctional (meth)acrylate monomer is 1,10-decanediol di(meth)acrylate. When the polyfunctional (meth)acrylate includes the bifunctional (meth)acrylate monomer, the copolymerization component is, with respect to 100 parts by weight of the bifunctional (meth)acrylate monomer, the monofunctional The (meth)acrylate monomer is contained in a range of 10 parts by weight to 400 parts by weight. When the polyfunctional (meth)acrylate includes the tetrafunctional (meth)acrylate monomer, the copolymerization component includes the tetrafunctional (meth)acrylate monomer and the monofunctional (meth)acrylate 80 weight% or less of the said monofunctional (meth)acrylate monomer is contained in 100 weight% of total of monomers. The compression set recovery rate of the said polymer particle is 70 % or more. The volume expansion coefficient of the said polymer particle is 1.3 or less.

또한, 상기 도전성 입자 또는 상기 스페이서에 사용되는 수지 입자의 일례로서, 하기의 특허문헌 2에서는, 가교 (메트)아크릴산에스테르계 수지로 구성되어 있는 고복원성 수지 입자가 개시되어 있다. 상기 고복원성 수지 입자의 평균 입자 직경은, 1㎛ 내지 100㎛이다. 상기 고복원성 수지 입자의 복원율은, 22% 이상이다. 상기 고복원성 수지 입자의 30% 압축 강도는, 1.5kgf/mm2 내지 5.0kgf/mm2이다.In addition, as an example of the resin particle used for the said electroconductive particle or the said spacer, the following Patent Document 2 discloses a highly resilient resin particle composed of a cross-linked (meth)acrylic acid ester-based resin. The average particle diameter of the high-restorability resin particles is 1 µm to 100 µm. The recovery rate of the high recovery resin particles is 22% or more. The 30% compressive strength of the high-resilience resin particles is 1.5 kgf/mm 2 to 5.0 kgf/mm 2 .

WO2010/013668A1WO2010/013668A1 WO2016/039357A1WO2016/039357A1

종래의 수지 입자를 도전성 입자나 스페이서로서 사용하는 경우에는, 압축된 수지 입자가 원래의 형상으로 되돌아가려고 하는 작용이 기능하여, 스프링 백이라 불리는 현상이 발생하는 경우가 있다. 도전성 입자로서 사용된 수지 입자에 스프링 백이 발생하면, 도전성 입자와 전극의 접촉 면적이 저하되어, 도통 신뢰성이 저하되는 경우가 있다. 또한, 스페이서로서 사용된 수지 입자에 스프링 백이 발생하면, 스페이서와 액정 표시 소자용 부재 등이 충분히 접촉하지 않아, 갭 제어 효과가 충분히 얻어지지 않는 경우가 있다.When the conventional resin particle is used as electroconductive particle or a spacer, the effect|action which the compressed resin particle tries to return to an original shape may function, and the phenomenon called a springback may generate|occur|produce. When a springback generate|occur|produces in the resin particle used as electroconductive particle, the contact area of electroconductive particle and an electrode may fall, and conduction|electrical_connection reliability may fall. Moreover, when a springback generate|occur|produces in the resin particle used as a spacer, a spacer and the member for liquid crystal display elements etc. may not fully contact and the gap control effect may not fully be acquired.

또한, 도전성 입자와 바인더를 포함하는 도전 재료나, 스페이서와 바인더를 포함하는 접착제는, 사용시에 가열 환경에 노출되는 경우가 있으며, 바인더가 경화 수축되는 경우가 있다. 종래의 수지 입자는 가열시에 충분히 수축되지 않아, 바인더의 경화 수축에 추종할 수 없는 경우가 있다. 결과로서, 도전 재료와 전극의 사이, 또는 접착제와 액정 표시 소자용 부재 등의 사이에 있어서, 들뜸 또는 박리가 발생하는 경우가 있다.Moreover, the electrically conductive material containing electroconductive particle and a binder, and the adhesive agent containing a spacer and a binder may be exposed to a heating environment at the time of use, and the binder may cure and shrink. Conventional resin particles do not sufficiently shrink upon heating, and may not be able to follow the curing shrinkage of the binder. As a result, between an electrically-conductive material and an electrode, or between an adhesive agent and a member for liquid crystal display elements, etc. WHEREIN: A float or peeling may generate|occur|produce.

본 발명의 목적은, 스프링 백의 발생을 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 수지 입자를 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 목적은, 상기 수지 입자를 사용한 도전성 입자, 도전 재료, 접착제, 접속 구조체 및 액정 표시 소자를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a resin particle capable of effectively suppressing the occurrence of springback and effectively suppressing the occurrence of floating or peeling. Moreover, the objective of this invention is providing the electroconductive particle which used the said resin particle, an electrically-conductive material, an adhesive agent, a bonded structure, and a liquid crystal display element.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물과, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물의 중합체이며, 상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량의 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량에 대한 중량비가 7 이상이고, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비가 0.9 이하인, 수지 입자가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, it is a polymer of a first polymerizable compound having one polymerizable functional group and having a cyclic organic group, and a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and having a cyclic organic group, When the weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 or more, and the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the particles of the resin particles after heating A resin particle is provided, wherein the ratio of the diameter to the particle diameter of the resin particle before heating is 0.9 or less.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률이 10% 이하이다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, the compression recovery factor at the time of carrying out compression deformation 60% is 10 % or less.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 10% K값이 3000N/mm2 이하이다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, a 10% K value is 3000 N/mm< 2 > or less.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 30% K값이 1500N/mm2 이하이다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, 30% K-value is 1500 N/mm< 2 > or less.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 30% K값의 가열 전의 수지 입자의 30% K값에 대한 비가 0.8 이상 1.5 이하이다.In a specific situation of the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating is 0.8 or more and 1.5 or less am.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기와 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기가 각각 탄화수소기이다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, the cyclic organic group in the said 1st polymeric compound and the cyclic organic group in the said 2nd polymeric compound are a hydrocarbon group, respectively.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기가, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기이다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, the cyclic organic group in the said 1st polymeric compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기가, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기이다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, the cyclic organic group in the said 2nd polymeric compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 수지 입자는 애시드 포스페이트 화합물을 포함한다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, the said resin particle contains an acid phosphate compound.

본 발명에 관한 수지 입자의 어느 특정한 국면에서는, 상기 수지 입자는 스페이서로서 사용되거나, 또는 표면 상에 도전부가 형성되며, 상기 도전부를 갖는 도전성 입자를 얻기 위해 사용된다.On the specific situation with the resin particle which concerns on this invention, the said resin particle is used as a spacer, or an electroconductive part is formed on the surface, and it is used in order to obtain the electroconductive particle which has the said electroconductive part.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 상술한 수지 입자와, 상기 수지 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는, 도전성 입자가 제공된다.According to the broad situation of this invention, electroconductive particle provided with the resin particle mentioned above and the electroconductive part arrange|positioned on the surface of the said resin particle is provided.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 도전성 입자와, 바인더를 포함하고, 상기 도전성 입자가, 상술한 수지 입자와, 상기 수지 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는, 도전 재료가 제공된다.According to the broad situation of this invention, it contains electroconductive particle and a binder, The said electroconductive particle is equipped with the resin particle mentioned above, and the electroconductive part arrange|positioned on the surface of the said resin particle, the electrically-conductive material is provided.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 상술한 수지 입자와, 바인더를 포함하는, 접착제가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, there is provided an adhesive comprising the above-described resin particles and a binder.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 제1 전극을 표면에 갖는 제1 접속 대상 부재와, 제2 전극을 표면에 갖는 제2 접속 대상 부재와, 상기 제1 접속 대상 부재와 상기 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비하고, 상기 접속부의 재료가, 상술한 수지 입자를 포함하고, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극이, 상기 접속부에 의해 전기적으로 접속되어 있는, 접속 구조체가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, a first connection object member having a first electrode on its surface, a second connection object member having a second electrode on its surface, and the first connection object member and the second connection object member are provided. There is provided a bonded structure comprising a connecting portion to be connected, wherein the material of the connecting portion contains the above-described resin particles, and the first electrode and the second electrode are electrically connected by the connecting portion.

본 발명의 넓은 국면에 의하면, 제1 액정 표시 소자용 부재와, 제2 액정 표시 소자용 부재와, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재의 사이에 배치된 스페이서를 구비하고, 상기 스페이서가 상술한 수지 입자인, 액정 표시 소자가 제공된다.According to a broad aspect of the present invention, a first liquid crystal display element member, a second liquid crystal display element member, and a spacer disposed between the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member are provided. and wherein the spacer is the above-mentioned resin particle, a liquid crystal display element is provided.

본 발명에 관한 수지 입자는, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물과, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물의 중합체이다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량의 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량에 대한 중량비가 7 이상이다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비가 0.9 이하이다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는 상기한 구성이 구비되어 있기 때문에, 스프링 백의 발생을 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.The resin particle which concerns on this invention is a polymer of the 1st polymeric compound which has one polymerizable functional group and has a cyclic organic group, and the 2nd polymeric compound which has two or more polymerizable functional groups and has a cyclic organic group. In the resin particle which concerns on this invention, the weight ratio with respect to content of the structure derived from the said 2nd polymeric compound of content of the structure derived from a said 1st polymeric compound is 7 or more. In the resin particle which concerns on this invention, when a resin particle is heated at 150 degreeC for 1000 hours, ratio with respect to the particle diameter of the resin particle before heating of the particle diameter of the resin particle after heating is 0.9 or less. In the resin particle which concerns on this invention, since the said structure is provided, generation|occurrence|production of a springback can be suppressed effectively, and generation|occurrence|production of a float or peeling can be suppressed effectively.

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.
도 4는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 도전성 입자를 사용한 접속 구조체의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 5는, 본 발명에 관한 수지 입자를 사용한 접속 구조체의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 6은, 본 발명에 관한 수지 입자를 액정 표시 소자용 스페이서로서 사용한 액정 표시 소자의 일례를 도시하는 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the electroconductive particle which concerns on 1st Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows the electroconductive particle which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows the electroconductive particle which concerns on 3rd Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows an example of the bonded structure using the electroconductive particle which concerns on 1st Embodiment of this invention.
5 : is sectional drawing which shows an example of the bonded structure using the resin particle which concerns on this invention.
6 : is sectional drawing which shows an example of the liquid crystal display element which used the resin particle which concerns on this invention as spacers for liquid crystal display elements.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(수지 입자) (resin particles)

본 발명에 관한 수지 입자는, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물과, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물의 중합체이다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM)의, 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)에 대한 중량비(WM/WD)는 7 이상이다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비(가열 후의 수지 입자의 입자 직경/가열 전의 수지 입자의 입자 직경)는 0.9 이하이다.The resin particle which concerns on this invention is a polymer of the 1st polymeric compound which has one polymerizable functional group and has a cyclic organic group, and the 2nd polymeric compound which has two or more polymerizable functional groups and has a cyclic organic group. In the resin particle according to the present invention, the weight ratio (WM/WD) of the content (WM) of the structure derived from the first polymerizable compound to the content (WD) of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 More than that. In the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the ratio of the particle diameter of the resin particles after heating to the particle diameter of the resin particles before heating (the particle diameter of the resin particles after heating / the resin before heating) The particle diameter of the particles) is 0.9 or less.

본 발명에서는 상기한 구성이 구비되어 있기 때문에, 스프링 백의 발생을 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.In this invention, since the said structure is provided, generation|occurrence|production of a springback can be suppressed effectively, and generation|occurrence|production of a float or peeling can be suppressed effectively.

본 발명에 관한 수지 입자에서는 상기한 구성이 구비되어 있기 때문에, 압축 회복률이 비교적 낮고, 압축된 수지 입자가 원래의 형상으로 되돌아가려고 하는 작용이 비교적 작용하기 어려워, 스프링 백이 발생하기 어렵다. 예를 들어, 본 발명에 관한 수지 입자를 도전성 입자로서 사용한 경우에는, 도전성 입자와 전극의 접촉 면적의 저하를 효과적으로 방지할 수 있으며, 전극간의 도통 신뢰성을 효과적으로 높일 수 있다. 또한, 본 발명에 관한 수지 입자를 스페이서로서 사용한 경우에는, 스페이서를 액정 표시 소자용 부재 등에 충분히 접촉시킬 수 있으며, 갭을 한층 더 고정밀도로 제어할 수 있다.In the resin particles according to the present invention, since the above structure is provided, the compression recovery rate is relatively low, the action of the compressed resin particles to return to their original shape is relatively difficult to act, and springback is unlikely to occur. For example, when the resin particle which concerns on this invention is used as electroconductive particle, the fall of the contact area of electroconductive particle and an electrode can be prevented effectively, and the conduction|electrical_connection reliability between electrodes can be improved effectively. Moreover, when the resin particle which concerns on this invention is used as a spacer, a spacer can fully be made to contact the member for liquid crystal display elements, etc., and a gap can be further precisely controlled.

또한, 도전성 입자와 바인더를 포함하는 도전 재료나, 스페이서와 바인더를 포함하는 접착제는, 사용시에 가열 환경에 노출되는 경우가 있으며, 가열에 의해 바인더가 경화 수축되는 경우가 있다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는 상기한 구성이 구비되어 있기 때문에, 수지 입자가 가열에 의해 비교적 용이하게 수축된다. 가열 후의 수지 입자의 입자 직경은, 가열 전의 수지 입자의 입자 직경보다도 적절하게 작아지기 때문에, 수지 입자가 바인더의 경화 수축에도 추종할 수 있다. 결과로서, 도전 재료와 전극의 사이, 또는 접착제와 액정 표시 소자용 부재 등의 사이에 있어서, 들뜸 또는 박리의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.In addition, the electrically conductive material containing electroconductive particle and a binder, and the adhesive agent containing a spacer and a binder may be exposed to a heating environment at the time of use, and the binder may cure and shrink by heating. In the resin particle which concerns on this invention, since the said structure is provided, the resin particle shrink|contracts comparatively easily by heating. Since the particle diameter of the resin particle after heating becomes smaller than the particle diameter of the resin particle before heating suitably, a resin particle can track also cure shrinkage of a binder. As a result, between an electrically-conductive material and an electrode, or between an adhesive agent and the member for liquid crystal display elements, etc. WHEREIN: Generation|occurrence|production of a float or peeling can be suppressed effectively.

본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM)의, 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)에 대한 중량비(WM/WD)는 7 이상이다. 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 중량비(WM/WD)는 바람직하게는 9 이상, 보다 바람직하게는 13 이상이고, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 17 이하이다.In the resin particle according to the present invention, the weight ratio (WM/WD) of the content (WM) of the structure derived from the first polymerizable compound to the content (WD) of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 More than that. From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of lifting or peeling, the weight ratio (WM/WD) is preferably 9 or more, more preferably 13 or more, and preferably is 20 or less, more preferably 17 or less.

상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM) 및 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)을 구하는 방법으로서는, 이하의 방법을 들 수 있다. 중합체를 얻을 때에 사용한 제1, 제2 중합성 화합물의 배합량 및 중합 후의 제1, 제2 중합성 화합물의 잔존량으로부터, 중합한 제1, 제2 중합성 화합물의 양을 구하고, 중합한 제1, 제2 중합성 화합물의 양으로부터 산출한다.The following methods are mentioned as a method of calculating|requiring content (WM) of the structure derived from a said 1st polymeric compound, and content (WD) of a structure derived from a said 2nd polymeric compound. From the blending amount of the first and second polymerizable compounds used to obtain the polymer, and the residual amount of the first and second polymerizable compounds after polymerization, the amounts of the first and second polymerizable compounds are determined, and the first and second polymerized compounds are obtained. , computed from the amount of the second polymerizable compound.

또한, 수지 입자로부터 상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM) 및 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)을 구하는 방법으로서는, 이하의 방법을 들 수 있다. 중합체를 얻을 때에 사용한 제1, 제2 중합성 화합물의 각각의 수지 입자에 있어서의 관능기의 양이나, 중합체를 얻을 때에 사용한 제1, 제2 중합성 화합물의 각각의 수지 입자에 있어서의 관능기가 반응한 기의 양으로부터 산출한다.Moreover, the following method is mentioned as a method of calculating|requiring content (WM) of the structure derived from a said 1st polymeric compound, and content (WD) of a structure derived from a said 2nd polymeric compound from a resin particle. The amount of the functional group in each resin particle of the 1st, 2nd polymeric compound used when obtaining a polymer, and the functional group in each resin particle of the 1st, 2nd polymeric compound used when obtaining a polymer react It is calculated from the quantity of one qi.

본 발명에 관한 수지 입자에서는, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비(가열 후의 수지 입자의 입자 직경/가열 전의 수지 입자의 입자 직경)는 0.9 이하이다. 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 비(가열 후의 수지 입자의 입자 직경/가열 전의 수지 입자의 입자 직경)는 바람직하게는 0.4 이상, 보다 바람직하게는 0.6 이상이고, 바람직하게는 0.85 이하, 보다 바람직하게는 0.8 이하이다.In the resin particles according to the present invention, when the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the ratio of the particle diameter of the resin particles after heating to the particle diameter of the resin particles before heating (the particle diameter of the resin particles after heating / the resin before heating) The particle diameter of the particles) is 0.9 or less. From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of floating or peeling, the ratio (particle diameter of the resin particles after heating/particle diameter of the resin particles before heating) is preferably 0.4 or more, more preferably 0.6 or more, and preferably is 0.85 or less, more preferably 0.8 or less.

상기 수지 입자의 입자 직경(상기 가열 전의 수지 입자의 입자 직경)은, 용도에 따라 적절히 설정할 수 있다. 상기 수지 입자의 입자 직경은 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상이고, 바람직하게는 500㎛ 이하, 보다 바람직하게는 300㎛ 이하, 한층 더 바람직하게는 150㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하, 특히 바람직하게는 50㎛ 이하이다. 상기 수지 입자의 입자 직경이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있다. 상기 수지 입자의 입자 직경이 0.5㎛ 이상 500㎛ 이하이면, 상기 수지 입자를 도전성 입자의 용도에 적합하게 사용할 수 있다. 상기 수지 입자의 입자 직경이 0.5㎛ 이상 500㎛ 이하이면, 상기 수지 입자를 스페이서의 용도에 적합하게 사용할 수 있다.The particle diameter of the said resin particle (the particle diameter of the resin particle before the said heating) can be set suitably according to a use. The particle diameter of the resin particles is preferably 0.5 µm or more, more preferably 1 µm or more, preferably 500 µm or less, more preferably 300 µm or less, still more preferably 150 µm or less, still more preferably is 100 μm or less, particularly preferably 50 μm or less. When the particle diameter of the said resin particle is more than the said lower limit and below the said upper limit, generation|occurrence|production of springback can be suppressed still more effectively, and generation|occurrence|production of a float or peeling can be suppressed further more effectively. If the particle diameter of the said resin particle is 0.5 micrometer or more and 500 micrometers or less, the said resin particle can be used suitably for the use of electroconductive particle. If the particle diameter of the said resin particle is 0.5 micrometer or more and 500 micrometer or less, the said resin particle can be used suitably for the use of a spacer.

상기 수지 입자의 입자 직경(가열 전의 수지 입자의 입자 직경 및 가열 후의 수지 입자의 입자 직경)은, 수지 입자가 진구상인 경우에는 직경을 나타내고, 수지 입자가 진구상이 아닌 경우에는 최대 직경을 나타낸다.The particle diameter of the resin particles (the particle diameter of the resin particles before heating and the particle diameter of the resin particles after heating) indicates the diameter when the resin particles are spherical, and the maximum diameter when the resin particles are not spherical.

상기 수지 입자의 입자 직경(가열 전의 수지 입자의 입자 직경 및 가열 후의 수지 입자의 입자 직경)은 평균 입자 직경인 것이 바람직하고, 수 평균 입자 직경인 것이 보다 바람직하다. 상기 수지 입자의 입자 직경은, 입도 분포 측정 장치 등을 사용하여 구해진다. 예를 들어, 레이저 산란광, 전기 저항값 변화, 촬상 후의 화상 해석 등의 원리를 사용한 입도 분포 측정 장치를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 수지 입자의 입자 직경의 측정 방법으로서는, 예를 들어 입도 분포 측정 장치(베크만 콜터사제 「Multisizer4」)를 사용하여, 약 100000개의 수지 입자의 입자 직경을 측정하고, 평균값을 산출하는 방법 등을 들 수 있다. 수지 입자의 입자 직경은, 임의의 수지 입자 50개를 전자 현미경 또는 광학 현미경으로 관찰하고, 평균값을 산출함으로써 구하는 것이 바람직하다. 도전성 입자에 있어서, 상기 수지 입자의 입자 직경을 측정하는 경우에는, 예를 들어 이하와 같이 하여 측정할 수 있다.It is preferable that it is an average particle diameter, and, as for the particle diameter (the particle diameter of the resin particle before heating, and the particle diameter of the resin particle after heating) of the said resin particle, it is more preferable that it is a number average particle diameter. The particle diameter of the said resin particle is calculated|required using a particle size distribution measuring apparatus etc. For example, the particle size distribution measuring apparatus using principles, such as laser-scattered light, a change in electrical resistance value, and image analysis after imaging, can be used. Specifically, as a method for measuring the particle diameter of the resin particles, for example, using a particle size distribution analyzer (“Multisizer 4” manufactured by Beckman Coulter), the particle diameter of about 100000 resin particles is measured, and the average value is calculated. and the like. It is preferable to calculate|require the particle diameter of a resin particle by observing 50 arbitrary resin particles with an electron microscope or an optical microscope, and calculating an average value. Electroconductive particle WHEREIN: When measuring the particle diameter of the said resin particle, it can measure as follows, for example.

도전성 입자의 함유량이 30중량%가 되도록, Kulzer사제 「테크노 비트 4000」에 첨가하고, 분산시켜, 도전성 입자 검사용 매립 수지를 제작한다. 검사용 매립 수지 중에 분산된 도전성 입자의 중심 부근을 통과하도록 이온 밀링 장치(히타치 하이테크놀러지즈사제 「IM4000」)를 사용하여, 도전성 입자의 단면을 잘라낸다. 그리고, 전계 방사형 주사형 전자 현미경(FE-SEM)을 사용하여, 화상 배율을 25000배로 설정하고, 50개의 도전성 입자를 무작위로 선택하여, 각 도전성 입자의 수지 입자를 관찰한다. 각 도전성 입자에 있어서의 수지 입자의 입자 직경을 계측하고, 이들을 산술 평균하여 수지 입자의 입자 직경으로 한다.It is added and disperse|distributed to "technobit 4000" by a Kulzer company so that content of electroconductive particle may be set to 30 weight%, and embedding resin for electroconductive particle test|inspection is produced. The cross section of electroconductive particle is cut out using the ion milling apparatus ("IM4000" by Hitachi High-Technologies company) so that center vicinity of the electroconductive particle disperse|distributed in embedding resin for a test|inspection may pass. And using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), the image magnification is set to 25000 times, 50 electroconductive particles are selected at random, and the resin particle of each electroconductive particle is observed. The particle diameter of the resin particle in each electroconductive particle is measured, these are arithmetic average, and let it be the particle diameter of a resin particle.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 수지 입자의 입자 직경의 변동 계수(CV값)는 바람직하게는 0.5% 이상, 보다 바람직하게는 1% 이상이고, 바람직하게는 10% 이하, 보다 바람직하게는 7% 이하이다. 상기 수지 입자의 입자 직경의 변동 계수가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 상기 수지 입자를 스페이서 및 도전성 입자의 용도에 적합하게 사용할 수 있다. 단, 상기 수지 입자의 입자 직경의 변동 계수는, 0.5% 미만이어도 된다.From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the resin particles is preferably 0.5% or more, more preferably is 1% or more, preferably 10% or less, and more preferably 7% or less. If the coefficient of variation of the particle diameter of the said resin particle is more than the said minimum and below the said upper limit, the said resin particle can be used suitably for the use of a spacer and electroconductive particle. However, less than 0.5 % may be sufficient as the variation coefficient of the particle diameter of the said resin particle.

상기 변동 계수(CV값)는, 이하와 같이 하여 측정할 수 있다.The said coefficient of variation (CV value) can be measured as follows.

CV값(%)=(ρ/Dn)×100CV value (%) = (ρ/Dn) × 100

ρ: 수지 입자의 입자 직경의 표준 편차ρ: standard deviation of the particle diameter of the resin particles

Dn: 수지 입자의 입자 직경의 평균값Dn: average value of particle diameters of resin particles

상기 수지 입자의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 상기 수지 입자의 형상은 구상이어도 되고, 편평상 등의 구 형상 이외의 형상이어도 된다.The shape of the said resin particle is not specifically limited. A spherical shape may be sufficient as the shape of the said resin particle, and shapes other than spherical shapes, such as a flat shape, may be sufficient as it.

수지 입자의 10% K값은 바람직하게는 1000N/mm2 이상, 보다 바람직하게는 1500N/mm2 이상이고, 바람직하게는 3000N/mm2 이하, 보다 바람직하게는 2750N/mm2 이하, 더욱 바람직하게는 2500N/mm2 이하이다. 상기 수지 입자의 10% K값이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있다.The 10% K value of the resin particles is preferably 1000 N/mm 2 or more, more preferably 1500 N/mm 2 or more, preferably 3000 N/mm 2 or less, more preferably 2750 N/mm 2 or less, still more preferably is 2500N/mm 2 or less. When the 10% K value of the resin particles is equal to or higher than the lower limit and equal to or lower than the upper limit, the occurrence of springback can be suppressed more effectively, and the occurrence of floating or peeling can be suppressed even more effectively.

수지 입자의 30% K값은 바람직하게는 300N/mm2 이상, 보다 바람직하게는 500N/mm2 이상이고, 바람직하게는 1500N/mm2 이하, 보다 바람직하게는 1200N/mm2 이하, 더욱 바람직하게는 1000N/mm2 이하이다. 상기 수지 입자의 30% K값이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있다.30% K value of the resin particles is preferably 300 N/mm 2 or more, more preferably 500 N/mm 2 or more, preferably 1500 N/mm 2 or less, more preferably 1200 N/mm 2 or less, still more preferably is 1000N/mm 2 or less. Generation|occurrence|production of springback can be suppressed still more effectively that the 30% K value of the said resin particle is more than the said lower limit and below the said upper limit, and generation|occurrence|production of a float or peeling can be suppressed further more effectively.

수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 30% K값의 가열 전의 수지 입자의 30% K값에 대한 비(가열 후의 수지 입자의 30% K값/가열 전의 수지 입자의 30% K값)는 바람직하게는 0.8 이상, 보다 바람직하게는 1.15 이상, 더욱 바람직하게는 1.2 이상이다. 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 30% K값의 가열 전의 수지 입자의 30% K값에 대한 비(가열 후의 수지 입자의 30% K값/가열 전의 수지 입자의 30% K값)는 바람직하게는 1.5 이하, 보다 바람직하게는 1.45 이하, 더욱 바람직하게는 1.4 이하이다. 상기 비(가열 후의 수지 입자의 30% K값/가열 전의 수지 입자의 30% K값)가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있다.When the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating (30% K value of the resin particles after heating / of the resin particles before heating 30% K value) becomes like this. Preferably it is 0.8 or more, More preferably, it is 1.15 or more, More preferably, it is 1.2 or more. When the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating (30% K value of the resin particles after heating / of the resin particles before heating 30% K value) becomes like this. Preferably it is 1.5 or less, More preferably, it is 1.45 or less, More preferably, it is 1.4 or less. When the ratio (30% K value of the resin particles after heating / 30% K value of the resin particles before heating) is equal to or higher than the lower limit and equal to or lower than the upper limit, the occurrence of springback can be further effectively suppressed, and no lifting or peeling generation can be more effectively suppressed.

상기 수지 입자의 10% K값 및 30% K값(수지 입자를 10% 압축했을 때의 압축 탄성률 및 30% 압축했을 때의 압축 탄성률)은, 이하와 같이 하여 측정할 수 있다.The 10% K-value and the 30% K-value (the compressive elastic modulus when the resin particle is compressed 10% and the compressive elastic modulus when compressed 30%) of the said resin particle can be measured as follows.

미소 압축 시험기를 사용하여, 원기둥(직경 100㎛, 다이아몬드제)의 평활 압자 단부면에서, 25℃에서 압축 속도 0.3mN/초 및 최대 시험 하중 20mN의 조건하에서 수지 입자 1개를 압축한다. 이때의 하중값(N) 및 압축 변위(mm)를 측정한다. 얻어진 측정값으로부터, 25℃에서의 10% K값 또는 30% K값을 하기 식에 의해 구할 수 있다. 상기 미소 압축 시험기로서, 예를 들어 시마즈 세이사쿠쇼사제 「미소 압축 시험기 MCT-W200」 및 피셔사제 「피셔 스코프 H-100」 등이 사용된다. 상기 수지 입자의 10% K값 또는 30% K값은, 임의로 선택된 50개의 수지 입자의 10% K값 또는 30% K값를 산술 평균함으로써 산출하는 것이 바람직하다.Using a micro compression tester, one resin particle is compressed on the end face of a smooth indenter of a cylinder (100 µm in diameter, made of diamond) at 25°C under the conditions of a compression rate of 0.3 mN/sec and a maximum test load of 20 mN. At this time, the load value (N) and the compression displacement (mm) are measured. From the obtained measured value, a 10% K value or 30% K value in 25 degreeC can be calculated|required by a following formula. As said micro compression tester, the Shimadzu Corporation make "micro compression tester MCT-W200", the Fischer company "Fischer Scope H-100", etc. are used, for example. The 10% K value or 30% K value of the resin particles is preferably calculated by arithmetic average of the 10% K value or 30% K value of 50 arbitrarily selected resin particles.

10% K값 또는 30% K값(N/mm2)=(3/21/2)·F·S-3/2·R-1/2 10% K value or 30% K value (N/mm 2 ) = (3/2 1/2 ) F S -3/2 R -1/2

F: 수지 입자가 10% 압축 변형되었을 때의 하중값(N) 또는 30% 압축 변형되었을 때의 하중값(N)F: The load value (N) when the resin particle is compressively deformed by 10% or the load value (N) when the resin particle is compressively deformed by 30%

S: 수지 입자가 10% 압축 변형되었을 때의 압축 변위(mm) 또는 30% 압축 변형되었을 때의 압축 변위(mm)S: Compressive displacement (mm) when the resin particles are compressively deformed by 10% or compressive displacement (mm) when compressed by 30%

R: 수지 입자의 반경(mm)R: radius of resin particles (mm)

상기 K값은, 수지 입자의 경도를 보편적이면서 또한 정량적으로 나타낸다. 상기 K값을 사용함으로써, 수지 입자의 경도를 정량적이면서 또한 일의적으로 나타낼 수 있다.The said K value shows the hardness of a resin particle universally and quantitatively. By using the said K value, the hardness of a resin particle can be expressed quantitatively and uniquely.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 수지 입자의 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률은 바람직하게는 2% 이상, 보다 바람직하게는 4% 이상이고, 바람직하게는 10% 이하, 보다 바람직하게는 9.5% 이하, 더욱 바람직하게는 9% 이하이다.From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, the compression recovery rate when the resin particles are subjected to compression deformation by 60% is preferably 2% or more, more preferably It is 4 % or more, Preferably it is 10 % or less, More preferably, it is 9.5 % or less, More preferably, it is 9 % or less.

상기 수지 입자의 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률은, 이하와 같이 하여 측정할 수 있다.The compression recovery factor at the time of carrying out compression deformation of the said resin particle 60% can be measured as follows.

시료대 상에 수지 입자를 살포한다. 살포된 수지 입자 하나에 대하여, 미소 압축 시험기를 사용하여, 원기둥(직경 100㎛, 다이아몬드제)의 평활 압자 단부면에서, 25℃에서 수지 입자의 중심 방향으로 수지 입자가 60% 압축 변형될 때까지 부하(반전 하중값)를 부여한다. 그 후, 원점용 하중값(0.40mN)까지 제하를 행한다. 이 사이의 하중-압축 변위를 측정하고, 하기 식으로부터 25℃에서의 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률을 구할 수 있다. 또한, 부하 속도는 0.33mN/초로 한다. 상기 미소 압축 시험기로서, 예를 들어 시마즈 세이사쿠쇼사제 「미소 압축 시험기 MCT-W200」 및 피셔사제 「피셔 스코프 H-100」 등이 사용된다.The resin particles are spread on the sample stage. For one sprayed resin particle, using a micro compression tester, at the end face of the smooth indenter of a cylinder (100 μm in diameter, made of diamond), at 25° C. A load (reverse load value) is applied. Then, unloading is performed to the load value for origin (0.40 mN). The load-compression displacement during this is measured, and the compression recovery factor at the time of carrying out 60% compression deformation at 25 degreeC can be calculated|required from the following formula. In addition, the load speed shall be 0.33 mN/sec. As said micro compression tester, the Shimadzu Corporation make "micro compression tester MCT-W200", the Fischer company "Fischer Scope H-100", etc. are used, for example.

압축 회복률(%)=[L2/L1]×100Compression recovery rate (%) = [L2/L1] × 100

L1: 부하를 부여할 때의 원점용 하중값으로부터 반전 하중값에 이르기까지의 압축 변위L1: Compressive displacement from the origin load value to the reversal load value when a load is applied

L2: 부하를 해방할 때의 반전 하중값으로부터 원점용 하중값에 이르기까지의 제하 변위L2: unloading displacement from the reversal load value when the load is released to the origin load value

상기 수지 입자의 용도는 특별히 한정되지 않는다. 상기 수지 입자는, 다양한 용도에 적합하게 사용된다. 상기 수지 입자는 스페이서로서 사용되거나, 또는 도전부를 갖는 도전성 입자를 얻기 위해 사용되는 것이 바람직하다. 상기 도전성 입자에 있어서, 상기 도전부는 상기 수지 입자의 표면 상에 형성된다. 상기 수지 입자는, 스페이서로서 사용되는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자는, 도전부를 갖는 도전성 입자를 얻기 위해 사용되는 것이 바람직하다. 상기 스페이서의 사용 방법으로서는, 액정 표시 소자용 스페이서, 갭 제어용 스페이서 및 응력 완화용 스페이서 등을 들 수 있다. 상기 갭 제어용 스페이서는, 스탠드 오프 높이 및 평탄성을 확보하기 위한 적층 칩의 갭 제어, 그리고 유리면의 평활성 및 접착제층의 두께를 확보하기 위한 광학 부품의 갭 제어 등에 사용할 수 있다. 상기 응력 완화용 스페이서는 센서 칩 등의 응력 완화, 및 2개의 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부의 응력 완화 등에 사용할 수 있다.The use of the said resin particle is not specifically limited. The said resin particle is used suitably for various uses. It is preferable that the said resin particle is used as a spacer, or in order to obtain electroconductive particle which has an electroconductive part. The said electroconductive particle WHEREIN: The said electroconductive part is formed on the surface of the said resin particle. It is preferable that the said resin particle is used as a spacer. It is preferable that the said resin particle is used in order to obtain the electroconductive particle which has an electroconductive part. Examples of the method of using the spacer include a spacer for liquid crystal display elements, a spacer for gap control, a spacer for stress relaxation, and the like. The gap control spacer may be used for controlling the gap of a laminated chip to ensure standoff height and flatness, and controlling the gap of an optical component to secure the smoothness of the glass surface and the thickness of the adhesive layer. The spacer for stress relaxation can be used for stress relaxation of a sensor chip or the like, stress relaxation of a connection portion connecting two connection target members, and the like.

상기 수지 입자는, 액정 표시 소자용 스페이서로서 사용되는 것이 바람직하고, 액정 표시 소자용 주변 시일제에 사용되는 것이 바람직하다. 상기 액정 표시 소자용 주변 시일제에 있어서, 상기 수지 입자는 스페이서로서 기능하는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자는 양호한 압축 변형 특성을 갖기 때문에, 상기 수지 입자를 스페이서로서 사용하여 기판간에 배치하거나, 표면에 도전부를 형성하여 도전성 입자로서 사용하여 전극간을 전기적으로 접속하거나 한 경우에, 스페이서 또는 도전성 입자가 기판간 또는 전극간에 효율적으로 배치된다. 또한, 상기 수지 입자에서는, 액정 표시 소자용 부재 등의 흠집 발생을 억제할 수 있기 때문에, 상기 액정 표시 소자용 스페이서를 사용한 액정 표시 소자 및 상기 도전성 입자를 사용한 접속 구조체에 있어서, 접속 불량 및 표시 불량이 발생하기 어려워진다.It is preferable that the said resin particle is used as a spacer for liquid crystal display elements, and it is preferable that it is used for the peripheral sealing compound for liquid crystal display elements. The said peripheral sealing compound for liquid crystal display elements WHEREIN: It is preferable that the said resin particle functions as a spacer. Since the resin particles have good compressive deformation properties, when the resin particles are used as a spacer and disposed between substrates, or when a conductive part is formed on the surface and used as conductive particles to electrically connect between electrodes, a spacer or conductive material is used. Particles are efficiently disposed between substrates or between electrodes. Moreover, in the said resin particle, since the generation|occurrence|production of flaws, such as a member for liquid crystal display elements, can be suppressed, the liquid crystal display element which used the said spacer for liquid crystal display elements, and the bonded structure which used the said electroconductive particle WHEREIN: Connection and poor display. This becomes difficult to occur.

또한, 상기 수지 입자는 무기 충전재, 토너의 첨가제, 충격 흡수제 또는 진동 흡수제로서도 적합하게 사용된다. 예를 들어, 고무 또는 스프링 등의 대체품으로서, 상기 수지 입자를 사용할 수 있다.The resin particles are also suitably used as inorganic fillers, toner additives, shock absorbers, or vibration absorbers. For example, as an alternative to rubber or spring, the resin particles may be used.

(수지 입자의 기타 상세한 설명) (Other detailed description of resin particles)

본 발명에 관한 수지 입자는, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물과, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물의 중합체이다. 상기 수지 입자는, 상기 제1 중합성 화합물과, 상기 제2 중합성 화합물을 중합시켜 얻는 것이 바람직하다.The resin particle which concerns on this invention is a polymer of the 1st polymeric compound which has one polymerizable functional group and has a cyclic organic group, and the 2nd polymeric compound which has two or more polymerizable functional groups and has a cyclic organic group. It is preferable to obtain the said resin particle by superposing|polymerizing a said 1st polymeric compound and a said 2nd polymeric compound.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 수지 입자에서는, 수지 입자의 중심부와 수지 입자의 표면부가 동일한 상기 중합체로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자의 중심부에 있어서의 중합성 화합물의 배합비와, 상기 수지 입자의 표면부에 있어서의 중합성 화합물의 배합비는 동일해도 되고, 상이해도 된다. 상기 수지 입자의 중심부에 있어서의 구성 성분의 구성비와, 상기 수지 입자의 표면부에 있어서의 구성 성분의 구성비는 동일해도 되고, 상이해도 된다.From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, in the resin particle, it is preferable that the central portion of the resin particle and the surface portion of the resin particle are composed of the same polymer. Do. The compounding ratio of the polymeric compound in the center part of the said resin particle and the compounding ratio of the polymeric compound in the surface part of the said resin particle may be same or different. The composition ratio of the structural component in the center part of the said resin particle and the structural ratio of the structural component in the surface part of the said resin particle may be same or different.

상기 수지 입자에서는, 수지 입자의 중심부가 중심부 형성 재료에 의해 형성되어 있으며, 수지 입자의 표면부가 표면부 형성 재료에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다. 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 수지 입자에서는, 상기 중심부 형성 재료의 성분과 상기 표면부 형성 재료의 성분은 동일한 것이 바람직하다. 상기 수지 입자에서는, 상기 중심부 형성 재료의 성분비와 상기 표면부 형성 재료의 성분비는 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또한, 상기 수지 입자에서는, 상기 중심부 형성 재료와 상기 표면부 형성 재료의 양쪽을 포함하는 영역이 존재하는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자에서는 상기 중심부 형성 재료를 포함하고, 또한 상기 표면부 형성 재료를 포함하지 않거나 또는 상기 표면부 형성 재료를 25% 미만으로 포함하는 영역을, 수지 입자가 중심부에 갖는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자에서는 상기 표면부 형성 재료를 포함하고, 또한 상기 중심부 형성 재료를 포함하지 않거나 또는 상기 중심부 형성 재료를 25% 미만으로 포함하는 영역을, 수지 입자가 표면부에 갖는 것이 바람직하다.In the said resin particle, it is preferable that the center part of a resin particle is formed with the center part forming material, and it is preferable that the surface part of the resin particle is formed with the surface part forming material. From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, in the resin particle, it is preferable that the component of the core forming material and the component of the surface portion forming material be the same. . In the said resin particle, the component ratio of the said center part forming material and the component ratio of the said surface part forming material may be same or different. Moreover, in the said resin particle, it is preferable that the area|region containing both the said center part forming material and the said surface part forming material exist exists. In the resin particle, it is preferable that the resin particle has a region in the center that contains the center portion forming material and does not contain the surface portion forming material or contains less than 25% of the surface portion forming material. In the resin particles, it is preferable that the surface portion of the resin particles have a region that contains the material for forming the surface portion and does not contain the material for forming the center portion or contains less than 25% of the material for forming the center portion in the surface portion.

상기 수지 입자는, 코어와, 해당 코어의 표면 상에 배치된 셸을 구비하는 코어 셸 입자가 아닌 것이 바람직하고, 수지 입자 내에서 코어와 셸의 계면을 갖지 않는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자는, 수지 입자 내에서 계면을 갖지 않는 것이 바람직하고, 상이한 면끼리가 접촉하고 있는 계면을 갖지 않는 것이 보다 바람직하다. 상기 수지 입자는, 표면이 존재하는 불연속 부분을 갖지 않는 것이 바람직하고, 구조 표면이 존재하는 불연속 부분을 갖지 않는 것이 바람직하다.It is preferable that the said resin particle is not a core-shell particle provided with a core and the shell arrange|positioned on the surface of this core, and it is preferable that it does not have the interface between a core and a shell in a resin particle. It is preferable not to have an interface in the resin particle, and, as for the said resin particle, it is more preferable that it does not have the interface with which different surfaces are in contact. It is preferable that the said resin particle does not have a discontinuous part in which a surface exists, and it is preferable that it does not have a discontinuous part in which a structure surface exists.

본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제1 중합성 화합물은 중합성 관능기(제1 중합성 관능기)를 1개 갖는다. 상기 중합성 관능기(제1 중합성 관능기)로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 비닐기, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기 등을 들 수 있다. 상기 제1 중합성 화합물로서는, 스티렌, 메타크릴산페닐, 아크릴산페닐, 메타크릴산시클로헥실, 아크릴산시클로헥실, 이소보르닐메타크릴레이트 및 이소보르닐아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 제1 중합성 화합물은 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.In the resin particle which concerns on this invention, the said 1st polymeric compound has one polymerizable functional group (1st polymerizable functional group). It does not specifically limit as said polymerizable functional group (1st polymerizable functional group), For example, a vinyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, etc. are mentioned. Examples of the first polymerizable compound include styrene, phenyl methacrylate, phenyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl methacrylate, and isobornyl acrylate. As for the said 1st polymeric compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제2 중합성 화합물은 중합성 관능기(제2 중합성 관능기)를 2개 이상 갖는다. 상기 중합성 관능기(제2 중합성 관능기)로서는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어 비닐기, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기 등을 들 수 있다. 상기 제2 중합성 화합물로서는, 디비닐벤젠, 디비닐나프탈렌, 디비닐시클로헥산 및 트리비닐시클로헥산 등을 들 수 있다. 상기 제2 중합성 화합물은 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.In the resin particle which concerns on this invention, the said 2nd polymeric compound has two or more polymerizable functional groups (2nd polymerizable functional group). It does not specifically limit as said polymerizable functional group (2nd polymerizable functional group), For example, a vinyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, etc. are mentioned. Examples of the second polymerizable compound include divinylbenzene, divinylnaphthalene, divinylcyclohexane, and trivinylcyclohexane. As for the said 2nd polymeric compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

상기 수지 입자는, 상기 제1 중합성 화합물과 상기 제2 중합성 화합물을 중량비(제1 중합성 화합물의 중량/제2 중합성 화합물의 중량)로 바람직하게는 7 이상, 보다 바람직하게는 9 이상, 더욱 바람직하게는 13 이상, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 18.5 이하, 더욱 바람직하게는 17 이하로 중합시켜 얻는 것이 더욱 바람직하다. 상기 수지 입자는, 상기 제1 중합성 화합물과 상기 제2 중합성 화합물을 중량비로 7 이상으로 중합시켜 얻는 것이 바람직하고, 9 이상으로 중합시켜 얻는 것이 보다 바람직하고, 13 이상으로 중합시켜 얻는 것이 더욱 바람직하다. 상기 수지 입자는, 상기 제1 중합성 화합물과 상기 제2 중합성 화합물을 중량비로 20 이하로 중합시켜 얻는 것이 바람직하고, 18.5 이하로 중합시켜 얻는 것이 보다 바람직하고, 17 이하로 중합시켜 얻는 것이 더욱 바람직하다. 상기 수지 입자는, 상기 제1 중합성 화합물과 상기 제2 중합성 화합물을 상기한 바람직한 범위의 중량비로 중합시켜 얻음으로써, 스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있으며, 또한 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있다.Preferably the said resin particle is 7 or more, More preferably, 9 or more by weight ratio (weight of 1st polymeric compound/weight of 2nd polymeric compound) of said 1st polymeric compound and said 2nd polymeric compound. , more preferably 13 or more, preferably 20 or less, more preferably 18.5 or less, still more preferably 17 or less. The resin particles are preferably obtained by polymerization of the first polymerizable compound and the second polymerizable compound in a weight ratio of 7 or more, more preferably obtained by polymerization of 9 or more, and further obtained by polymerization of 13 or more desirable. The resin particles are preferably obtained by polymerization of the first polymerizable compound and the second polymerizable compound in a weight ratio of 20 or less, more preferably obtained by polymerization of 18.5 or less, and further obtained by polymerization of 17 or less. desirable. The resin particles are obtained by polymerizing the first polymerizable compound and the second polymerizable compound in a weight ratio within the above-described preferred range, so that the occurrence of springback can be more effectively suppressed, and the occurrence of float or peeling can be reduced. It can be suppressed more effectively.

본 발명에 관한 수지 입자는, 2종 이상의 환상 유기기를 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제1 중합성 화합물은 환상 유기기(제1 환상 유기기)를 갖는다. 상기 제1 중합성 화합물은 환상 유기기를 1개 이상 갖는다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제2 중합성 화합물은 환상 유기기(제2 환상 유기기)를 갖는다. 상기 제2 중합성 화합물은 환상 유기기를 1개 이상 갖는다. 본 발명에 관한 수지 입자에서는, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제1 환상 유기기)와 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제2 환상 유기기)는 동일해도 되고, 상이해도 된다. 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제1 환상 유기기)와 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제2 환상 유기기)는, 상이한 것이 바람직하다.It is preferable that the resin particle which concerns on this invention contains 2 or more types of cyclic organic groups. In the resin particle which concerns on this invention, the said 1st polymeric compound has a cyclic organic group (1st cyclic organic group). The said 1st polymeric compound has one or more cyclic organic groups. In the resin particle which concerns on this invention, the said 2nd polymeric compound has a cyclic organic group (2nd cyclic organic group). The said 2nd polymeric compound has one or more cyclic organic groups. In the resin particle which concerns on this invention, even if the cyclic organic group (1st cyclic organic group) in the said 1st polymeric compound and the cyclic organic group (2nd cyclic organic group) in the said 2nd polymeric compound are the same, and may be different. It is preferable that the cyclic organic group (1st cyclic organic group) in the said 1st polymeric compound differ from the cyclic organic group (2nd cyclic organic group) in the said 2nd polymeric compound.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제1 환상 유기기)와 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제2 환상 유기기)가 각각, 탄화수소기인 것이 바람직하다.From a viewpoint of suppressing the generation|occurrence|production of springback more effectively, and a viewpoint of suppressing the generation|occurrence|production of float or peeling further effectively, the cyclic organic group (first cyclic organic group) and the said 2nd polymerization in said 1st polymeric compound It is preferable that each cyclic organic group (2nd cyclic organic group) in a sexual compound is a hydrocarbon group.

상기 탄화수소기로서는, 페닐기, 페닐렌기, 나프틸기, 나프틸렌기, 시클로프로필기, 시클로헥실기, 이소보르닐기 및 디시클로펜타닐기 등을 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group include a phenyl group, a phenylene group, a naphthyl group, a naphthylene group, a cyclopropyl group, a cyclohexyl group, an isobornyl group, and a dicyclopentanyl group.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 본 발명에 관한 수지 입자는, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기 중 2개 이상의 환상 유기기를 갖는 것이 바람직하다.From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, the resin particle according to the present invention is a cyclic organic group of two or more of a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group. It is preferable to have a group.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제1 환상 유기기)는, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기인 것이 바람직하다.From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, the cyclic organic group (first cyclic organic group) in the first polymerizable compound is a phenylene group; It is preferable that it is a cyclohexyl group or an isobornyl group.

스프링 백의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점, 및 들뜸 또는 박리의 발생을 한층 더 효과적으로 억제하는 관점에서는, 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기(제2 환상 유기기)는, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기인 것이 바람직하다.From the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of springback, and from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of float or peeling, the cyclic organic group (second cyclic organic group) in the second polymerizable compound is a phenylene group; It is preferable that it is a cyclohexyl group or an isobornyl group.

상기 수지 입자가 도전성 입자로서 사용되는 경우에 있어서, 수지 입자와 도금의 밀착성을 한층 더 효과적으로 높이는 관점에서는, 상기 수지 입자는 애시드 포스페이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자는, 표면 상에 애시드 포스페이트 화합물에서 유래하는 인산 구조를 갖는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자가 표면 상에 상기 인산 구조를 가짐으로써, 도금과의 밀착성을 한층 더 효과적으로 높일 수 있다. 또한, 상기 수지 입자가 표면 상에 상기 인산 구조를 가짐으로써, 상기 수지 입자가 가열에 의해 수축되었다고 해도, 도금 깨짐을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있다. 예를 들어, 애시드 포스페이트 화합물을 포함하는 수지 입자를 무전해 도금함으로써 제작한 도전성 입자와, 바인더를 포함하는 도전 재료에서는, 전극간의 접속시에 가열되거나, 도전 재료가 가열 환경에 노출되거나 했다고 해도, 도금 깨짐을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있으며, 전극간의 접속 신뢰성을 한층 더 효과적으로 높일 수 있다. 상기 수지 입자가 도전성 입자를 얻기 위해 사용되는 경우에는, 상기 수지 입자는 애시드 포스페이트 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자가 도전성 입자를 얻기 위해 사용되는 경우에는, 상기 수지 입자는, 표면 상에 애시드 포스페이트 화합물에서 유래하는 인산 구조를 갖는 것이 바람직하다. 상기 애시드 포스페이트 화합물은, 산성 인산에스테르 화합물인 것이 바람직하다.When the said resin particle is used as electroconductive particle, it is preferable that the said resin particle contains an acid phosphate compound from a viewpoint of improving the adhesiveness of a resin particle and plating still more effectively. It is preferable that the said resin particle has a phosphoric acid structure derived from an acid phosphate compound on the surface. When the said resin particle has the said phosphoric acid structure on the surface, adhesiveness with plating can be improved still more effectively. Moreover, when the said resin particle has the said phosphoric acid structure on the surface, even if the said resin particle shrinks by heating, plating crack can be suppressed still more effectively. For example, in conductive particles produced by electroless plating of resin particles containing an acid phosphate compound and a conductive material containing a binder, even if heated at the time of connection between electrodes or the conductive material is exposed to a heating environment, The plating crack can be suppressed more effectively, and the connection reliability between electrodes can be improved still more effectively. When the said resin particle is used in order to obtain electroconductive particle, it is preferable that the said resin particle contains an acid phosphate compound. When the said resin particle is used in order to obtain electroconductive particle, it is preferable that the said resin particle has a phosphoric acid structure derived from an acid phosphate compound on the surface. It is preferable that the said acid phosphate compound is an acidic phosphoric acid ester compound.

상기 애시드 포스페이트 화합물로서는, 에틸애시드 포스페이트, 부틸애시드 포스페이트, 부톡시에틸애시드 포스페이트, 2-에틸헥실애시드 포스페이트, 이소트리데실애시드 포스페이트, 올레일애시드 포스페이트, 테트라코실애시드 포스페이트, 에틸렌글리콜애시드 포스페이트, 2-히드록시에틸메타크릴애시드 포스페이트, 디부틸애시드 포스페이트 및 비스(2-에틸헥실)애시드 포스페이트 등을 들 수 있다. 상기 애시드 포스페이트 화합물은 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.Examples of the acid phosphate compound include ethyl acid phosphate, butyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, isotridecyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, tetracosyl acid phosphate, ethylene glycol acid phosphate, 2- Hydroxyethyl methacrylic acid phosphate, dibutyl acid phosphate, bis(2-ethylhexyl) acid phosphate, etc. are mentioned. As for the said acid phosphate compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

수지 입자와 도금의 밀착성을 한층 더 효과적으로 높이는 관점에서는, 상기 수지 입자 100중량% 중, 상기 애시드 포스페이트 화합물의 함유량은 바람직하게는 1중량% 이상, 보다 바람직하게는 5중량% 이상이고, 바람직하게는 20중량% 이하, 보다 바람직하게는 15중량% 이하이다.From the viewpoint of further effectively enhancing the adhesion between the resin particles and the plating, the content of the acid phosphate compound in 100% by weight of the resin particles is preferably 1% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, preferably It is 20 weight% or less, More preferably, it is 15 weight% or less.

(도전성 입자) (conductive particles)

본 발명에 관한 도전성 입자는, 상술한 수지 입자와, 해당 수지 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비한다.The electroconductive particle which concerns on this invention is equipped with the resin particle mentioned above, and the electroconductive part arrange|positioned on the surface of this resin particle.

도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows the electroconductive particle which concerns on 1st Embodiment of this invention.

도 1에 도시하는 도전성 입자(1)는, 수지 입자(11)와, 수지 입자(11)의 표면 상에 배치된 도전부(2)를 갖는다. 도전부(2)는, 수지 입자(11)의 표면에 접하고 있다. 도전부(2)는, 수지 입자(11)의 표면을 덮고 있다. 도전성 입자(1)는, 수지 입자(11)의 표면이 도전부(2)에 의해 피복된 피복 입자이다. 도전성 입자(1)에서는, 도전부(2)는 단층의 도전부(도전층)이다.The electroconductive particle 1 shown in FIG. 1 has the resin particle 11 and the electroconductive part 2 arrange|positioned on the surface of the resin particle 11. As shown in FIG. The conductive part 2 is in contact with the surface of the resin particle 11 . The conductive part 2 has covered the surface of the resin particle 11 . The electroconductive particle 1 is the covering particle|grain by which the surface of the resin particle 11 was coat|covered with the electroconductive part 2 . In the electroconductive particle 1, the electroconductive part 2 is a single-layer electroconductive part (conductive layer).

도 2는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.It is sectional drawing which shows the electroconductive particle which concerns on 2nd Embodiment of this invention.

도 2에 도시하는 도전성 입자(21)는, 수지 입자(11)와, 수지 입자(11)의 표면 상에 배치된 도전부(22)를 갖는다. 도전부(22)는 전체에서, 수지 입자(11)측에 제1 도전부(22A)와, 수지 입자(11)측과는 반대측에 제2 도전부(22B)를 갖는다.The electroconductive particle 21 shown in FIG. 2 has the resin particle 11 and the electroconductive part 22 arrange|positioned on the surface of the resin particle 11. As shown in FIG. The electroconductive part 22 has the 1st electroconductive part 22A on the side of the resin particle 11 in the whole, and the 2nd electroconductive part 22B on the opposite side to the resin particle 11 side.

도 1에 도시하는 도전성 입자(1)와 도 2에 도시하는 도전성 입자(21)에서는, 도전부(22)만이 상이하다. 즉, 도전성 입자(1)에서는, 1층 구조의 도전부가 형성되어 있는 것에 비해, 도전성 입자(21)에서는, 2층 구조의 제1 도전부(22A) 및 제2의 도전부(22B)가 형성되어 있다. 제1 도전부(22A)와 제2 도전부(22B)는, 상이한 도전부로서 형성되어 있어도 되고, 동일한 도전부로서 형성되어 있어도 된다.From the electroconductive particle 1 shown in FIG. 1, and the electroconductive particle 21 shown in FIG. 2, only the electroconductive part 22 differs. That is, in the electroconductive particle 1, the 1st electroconductive part 22A and the 2nd electroconductive part 22B of a two-layer structure are formed in the electroconductive particle 21, whereas the electroconductive part of a one-layer structure is formed. has been The first conductive portion 22A and the second conductive portion 22B may be formed as different conductive portions or may be formed as the same conductive portion.

제1 도전부(22A)는, 수지 입자(11)의 표면 상에 배치되어 있다. 수지 입자(11)와 제2 도전부(22B) 사이에 제1 도전부(22A)가 배치되어 있다. 제1 도전부(22A)는, 수지 입자(11)에 접하고 있다. 제2 도전부(22B)는, 제1 도전부(22A)에 접하고 있다. 수지 입자(11)의 표면 상에 제1 도전부(22A)가 배치되어 있으며, 제1 도전부(22A)의 표면 상에 제2 도전부(22B)가 배치되어 있다.The first conductive portion 22A is disposed on the surface of the resin particle 11 . The first conductive portion 22A is disposed between the resin particle 11 and the second conductive portion 22B. The first conductive portion 22A is in contact with the resin particle 11 . The second conductive portion 22B is in contact with the first conductive portion 22A. The first conductive part 22A is disposed on the surface of the resin particle 11 , and the second conductive part 22B is disposed on the surface of the first conductive part 22A.

도 3은, 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 도전성 입자를 도시하는 단면도이다.It is sectional drawing which shows the electroconductive particle which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

도 3에 도시하는 도전성 입자(31)는, 수지 입자(11)와, 도전부(32)와, 복수의 코어 물질(33)과, 복수의 절연성 물질(34)을 갖는다. 도전부(32)는, 수지 입자(11)의 표면 상에 배치되어 있다. 복수의 코어 물질(33)은, 수지 입자(11)의 표면 상에 배치되어 있다. 도전부(32)는, 수지 입자(11)와, 복수의 코어 물질(33)을 덮도록, 수지 입자(11)의 표면 상에 배치되어 있다. 도전성 입자(31)에서는, 도전부(32)는 단층의 도전부(도전층)이다.The electroconductive particle 31 shown in FIG. 3 has the resin particle 11, the electroconductive part 32, the some core substance 33, and the some insulating substance 34. The conductive portion 32 is disposed on the surface of the resin particle 11 . The plurality of core substances 33 are arranged on the surface of the resin particles 11 . The electroconductive part 32 is arrange|positioned on the surface of the resin particle 11 so that the resin particle 11 and the some core substance 33 may be covered. In the electroconductive particle 31, the electroconductive part 32 is a single-layer electroconductive part (conductive layer).

도전성 입자(31)는 외표면에, 복수의 돌기(31a)를 갖는다. 도전성 입자(31)에서는, 도전부(32)는 외표면에 복수의 돌기(32a)를 갖는다. 복수의 코어 물질(33)은, 도전부(32)의 외표면을 융기시키고 있다. 도전부(32)의 외표면이 복수의 코어 물질(33)에 의해 융기되어 있음으로써, 돌기(31a 및 32a)가 형성되어 있다. 복수의 코어 물질(33)은 도전부(32) 내에 매립되어 있다. 돌기(31a 및 32a)의 내측에, 코어 물질(33)이 배치되어 있다. 도전성 입자(31)에서는, 돌기(31a 및 32a)를 형성하기 위해 복수의 코어 물질(33)을 사용하고 있다. 상기 도전성 입자에서는, 상기 돌기를 형성하기 위해 복수의 상기 코어 물질을 사용하지 않아도 된다. 상기 도전성 입자는, 복수의 상기 코어 물질을 구비하고 있지 않아도 된다.The electroconductive particle 31 has the some processus|protrusion 31a on the outer surface. In the electroconductive particle 31, the electroconductive part 32 has the some protrusion 32a on the outer surface. The plurality of core substances 33 raise the outer surface of the conductive portion 32 . The protrusions 31a and 32a are formed because the outer surface of the conductive portion 32 is raised by the plurality of core substances 33 . The plurality of core materials 33 are embedded in the conductive portion 32 . Inside the projections 31a and 32a, a core material 33 is disposed. In the electroconductive particle 31, the some core substance 33 is used in order to form the projections 31a and 32a. In the said electroconductive particle, in order to form the said processus|protrusion, it is not necessary to use several said core substance. The said electroconductive particle does not need to be equipped with the some said core substance.

도전성 입자(31)는, 도전부(32)의 외표면 상에 배치된 절연성 물질(34)을 갖는다. 도전부(32)의 외표면의 적어도 일부의 영역이, 절연성 물질(34)에 의해 피복되어 있다. 절연성 물질(34)은 절연성을 갖는 재료에 의해 형성되어 있으며, 절연성 입자이다. 이와 같이, 본 발명에 관한 도전성 입자는, 도전부의 외표면 상에 배치된 절연성 물질을 갖고 있어도 된다. 단, 상기 도전성 입자는, 절연성 물질을 반드시 갖고 있지 않아도 된다. 상기 도전성 입자는, 복수의 절연성 물질을 구비하고 있지 않아도 된다.The electroconductive particle 31 has the insulating substance 34 arrange|positioned on the outer surface of the electroconductive part 32. As shown in FIG. At least a part of the region of the outer surface of the conductive portion 32 is covered with the insulating material 34 . The insulating material 34 is made of an insulating material, and is an insulating particle. Thus, the electroconductive particle which concerns on this invention may have the insulating substance arrange|positioned on the outer surface of an electroconductive part. However, the said electroconductive particle does not necessarily need to have an insulating substance. The said electroconductive particle does not need to be equipped with the some insulating substance.

도전부:Challenge:

상기 도전부를 형성하기 위한 금속은 특별히 한정되지 않는다. 해당 금속으로서는, 예를 들어 금, 은, 팔라듐, 구리, 백금, 아연, 철, 주석, 납, 알루미늄, 코발트, 인듐, 니켈, 크롬, 티타늄, 안티몬, 비스무트, 탈륨, 게르마늄, 카드뮴, 규소, 텅스텐, 몰리브덴 및 이들의 합금 등을 들 수 있다. 또한, 상기 금속으로서는, 주석 도프 산화인듐(ITO) 및 땜납 등을 들 수 있다. 전극간의 접속 저항을 한층 더 낮게 할 수 있기 때문에, 주석을 포함하는 합금, 니켈, 팔라듐, 구리 또는 금이 바람직하고, 니켈 또는 팔라듐이 바람직하다.The metal for forming the said electroconductive part is not specifically limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, silicon, tungsten. , molybdenum, and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Since the connection resistance between electrodes can be made further lower, the alloy containing a tin, nickel, palladium, copper, or gold|metal|money is preferable, and nickel or palladium is preferable.

또한, 도통 신뢰성을 효과적으로 높일 수 있기 때문에, 상기 도전부 및 상기 도전부의 외표면 부분은 니켈을 포함하는 것이 바람직하다. 니켈을 포함하는 도전부 100중량% 중의 니켈의 함유량은, 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 50중량% 이상, 한층 더 바람직하게는 60중량% 이상, 더욱 바람직하게는 70중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상이다. 상기 니켈을 포함하는 도전부 100중량% 중의 니켈의 함유량은, 97중량% 이상이어도 되고, 97.5중량% 이상이어도 되고, 98중량% 이상이어도 된다.Moreover, since conduction|electrical_connection reliability can be improved effectively, it is preferable that the said electroconductive part and the outer surface part of the said electroconductive part contain nickel. Content of nickel in 100 weight% of electroconductive parts containing nickel becomes like this. Preferably it is 10 weight% or more, More preferably, it is 50 weight% or more, More preferably, it is 60 weight% or more, More preferably, it is 70 weight% or more. , particularly preferably 90% by weight or more. 97 weight% or more may be sufficient as content of nickel in 100 weight% of the electroconductive parts containing the said nickel, 97.5 weight% or more may be sufficient, and 98 weight% or more may be sufficient as it.

또한, 도전부의 표면에는, 산화에 의해 수산기가 존재하는 경우가 많다. 일반적으로, 니켈에 의해 형성된 도전부의 표면에는, 산화에 의해 수산기가 존재한다. 이러한 수산기를 갖는 도전부의 표면(도전성 입자의 표면)에, 화학 결합을 통해 절연성 물질을 배치할 수 있다.Moreover, a hydroxyl group exists on the surface of an electroconductive part by oxidation in many cases. Generally, a hydroxyl group exists on the surface of the electroconductive part formed with nickel by oxidation. An insulating material can be disposed on the surface of the conductive portion having such a hydroxyl group (the surface of the conductive particles) through a chemical bond.

도전성 입자(1, 31)와 같이, 상기 도전부는, 1개의 층에 의해 형성되어 있어도 된다. 도전성 입자(21)와 같이, 도전부는, 복수의 층에 의해 형성되어 있어도 된다. 즉, 도전부는, 2층 이상의 적층 구조를 갖고 있어도 된다. 도전부가 복수의 층에 의해 형성되어 있는 경우에는, 최외층은 금층, 니켈층, 팔라듐층, 구리층 또는 주석과 은을 포함하는 합금층인 것이 바람직하고, 금층인 것이 보다 바람직하다. 최외층이 이들의 바람직한 도전부인 경우에는, 전극간의 접속 저항을 한층 더 효과적으로 낮게 할 수 있다. 또한, 최외층이 금층인 경우에는, 내부식성을 한층 더 효과적으로 높일 수 있다.Like the electroconductive particles 1 and 31, the said electroconductive part may be formed by one layer. Like the electroconductive particle 21, the electroconductive part may be formed of several layers. That is, the conductive part may have a laminated structure of two or more layers. When the conductive part is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, more preferably a gold layer. When the outermost layer is these preferable electroconductive parts, the connection resistance between electrodes can be made low still more effectively. Moreover, when the outermost layer is a gold|metal layer, corrosion resistance can be improved still more effectively.

상기 수지 입자의 표면에 상기 도전부를 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 상기 도전부를 형성하는 방법으로서는, 예를 들어 무전해 도금에 의한 방법, 전기 도금에 의한 방법, 물리적 증착에 의한 방법, 그리고 금속 분말 혹은 금속 분말과 바인더를 포함하는 페이스트를 수지 입자의 표면에 코팅하는 방법 등을 들 수 있다. 도전부의 형성이 간편하기 때문에, 무전해 도금에 의한 방법이 바람직하다. 상기 물리적 증착에 의한 방법으로서는, 진공 증착, 이온 플레이팅 및 이온 스퍼터링 등의 방법을 들 수 있다.The method of forming the said electroconductive part on the surface of the said resin particle is not specifically limited. As a method of forming the conductive part, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and coating a metal powder or a paste containing a metal powder and a binder on the surface of the resin particles. method and the like. Since formation of an electroconductive part is simple, the method by electroless plating is preferable. As a method by the said physical vapor deposition, methods, such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering, are mentioned.

상기 도전성 입자의 입자 직경은, 바람직하게는 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1.0㎛ 이상이고, 바람직하게는 500㎛ 이하, 보다 바람직하게는 450㎛ 이하, 한층 더 바람직하게는 100㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 50㎛ 이하, 특히 바람직하게는 20㎛ 이하이다. 상기 도전성 입자의 입자 직경이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 도전성 입자를 사용하여 전극간을 접속한 경우에, 도전성 입자와 전극의 접촉 면적이 충분히 커지고, 또한 도전부를 형성할 때에 응집된 도전성 입자가 형성되기 어려워진다. 또한, 도전성 입자를 통해 접속된 전극간의 간격이 지나치게 커지지 않고, 또한 도전부가 수지 입자의 표면으로부터 박리되기 어려워진다. 또한, 상기 도전성 입자의 입자 직경이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 도전성 입자를 도전 재료의 용도에 적합하게 사용 가능하다.The particle diameter of the said electroconductive particle becomes like this. Preferably it is 0.5 micrometer or more, More preferably, it is 1.0 micrometer or more, Preferably it is 500 micrometers or less, More preferably, it is 450 micrometers or less, More preferably, it is 100 micrometers or less, and still more Preferably it is 50 micrometers or less, Especially preferably, it is 20 micrometers or less. When the particle diameters of the said electroconductive particle are more than the said minimum and below the said upper limit and between electrodes are connected using electroconductive particle, the contact area of electroconductive particle and an electrode becomes large enough, and the electroconductive particle aggregated when forming an electroconductive part. becomes difficult to form. Moreover, the space|interval between the electrodes connected via electroconductive particle does not become large too much, and an electroconductive part becomes difficult to peel from the surface of a resin particle. Moreover, electroconductive particle can be used suitably for the use of an electrically-conductive material as the particle diameter of the said electroconductive particle is more than the said minimum and below the said upper limit.

상기 도전성 입자의 입자 직경은, 도전성 입자가 진구상인 경우에는 직경을 나타내고, 도전성 입자가 진구상이 아닌 경우에는 최대 직경을 나타낸다.The particle diameter of the said electroconductive particle shows a diameter, when electroconductive particle is a spherical shape, and shows a maximum diameter, when electroconductive particle is not a spherical shape.

상기 도전성 입자의 입자 직경은 평균 입자 직경인 것이 바람직하고, 수 평균 입자 직경인 것이 보다 바람직하다. 상기 도전성 입자의 입자 직경은, 예를 들어 임의의 도전성 입자 50개를 전자 현미경 또는 광학 현미경으로 관찰하고, 평균값을 산출하거나, 복수회의 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치에 의한 측정 결과의 평균값을 산출함으로써 구해진다.It is preferable that it is an average particle diameter, and, as for the particle diameter of the said electroconductive particle, it is more preferable that it is a number average particle diameter. The particle diameter of the said electroconductive particle observes 50 arbitrary electroconductive particles with an electron microscope or an optical microscope, and calculates an average value, or calculates the average value of the measurement result by multiple times of laser diffraction type particle size distribution analyzers, for example. saved

상기 도전부의 두께는, 바람직하게는 0.005㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎛ 이상이고, 바람직하게는 10㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.3㎛ 이하이다. 상기 도전부의 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 충분한 도전성이 얻어지고, 또한 도전성 입자가 지나치게 단단해지지 않아, 전극간의 접속시에 도전성 입자가 충분히 변형된다.The thickness of the said conductive part becomes like this. Preferably it is 0.005 micrometer or more, More preferably, it is 0.01 micrometer or more, Preferably it is 10 micrometers or less, More preferably, it is 1 micrometer or less, More preferably, it is 0.3 micrometer or less. Sufficient electroconductivity is acquired as the thickness of the said electroconductive part is more than the said minimum and below the said upper limit, and electroconductive particle does not become hard too much, but electroconductive particle fully deform|transforms at the time of the connection between electrodes.

상기 도전부가 복수의 층에 의해 형성되어 있는 경우에 최외층의 도전부의 두께는, 바람직하게는 0.001㎛ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎛ 이상이고, 바람직하게는 0.5㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이하이다. 상기 최외층의 도전부의 두께가 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 최외층의 도전부에 의한 피복이 균일해지고, 내부식성이 충분히 높아지고, 또한 전극간의 접속 저항이 충분히 낮아진다. 또한, 상기 최외층이 금층인 경우에, 금층의 두께가 얇을수록 비용이 낮아진다.When the conductive portion is formed of a plurality of layers, the thickness of the conductive portion of the outermost layer is preferably 0.001 µm or more, more preferably 0.01 µm or more, preferably 0.5 µm or less, more preferably 0.1 µm or more. is below. When the thickness of the conductive portion of the outermost layer is greater than or equal to the lower limit and less than or equal to the upper limit, the coating by the conductive portion of the outermost layer becomes uniform, corrosion resistance becomes sufficiently high, and the connection resistance between electrodes becomes sufficiently low. In addition, when the outermost layer is a gold layer, the lower the thickness of the gold layer, the lower the cost.

상기 도전부의 두께는, 예를 들어 투과형 전자 현미경(TEM)을 사용하여, 도전성 입자의 단면을 관찰함으로써 측정할 수 있다. 상기 도전부의 두께에 대해서는, 임의의 도전부의 두께 5개소의 평균값을 1개의 도전성 입자의 도전부의 두께로서 산출하는 것이 바람직하고, 도전부 전체의 두께의 평균값을 1개의 도전부의 두께로서 산출하는 것이 보다 바람직하다. 복수의 도전성 입자의 경우에는, 상기 도전부의 두께는 바람직하게는 임의의 도전성 입자 10개에 대하여, 이들의 평균값을 산출하여 구해진다.The thickness of the said electroconductive part can be measured by observing the cross section of electroconductive particle using a transmission electron microscope (TEM), for example. About the thickness of the said electroconductive part, it is preferable to compute the average value of 5 thickness places of arbitrary electroconductive parts as the thickness of the electroconductive part of one electroconductive particle, and it is more preferable to calculate the average value of the thickness of the whole electroconductive part as the thickness of one electroconductive part. desirable. In the case of some electroconductive particle, the thickness of the said electroconductive part becomes like this. Preferably it computes and calculates|requires these average values with respect to 10 arbitrary electroconductive particles.

코어 물질:Core material:

상기 도전성 입자는, 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖는 것이 바람직하다. 상기 도전성 입자가, 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖고 있음으로써, 전극간의 도통 신뢰성을 한층 더 높일 수 있다. 상기 도전성 입자에 의해 접속되는 전극의 표면에는, 산화 피막이 형성되어 있는 경우가 많다. 또한, 상기 도전성 입자의 도전부의 표면에는, 산화 피막이 형성되어 있는 경우가 많다. 상기 돌기를 갖는 도전성 입자를 사용함으로써, 전극간에 도전성 입자를 배치한 후, 압착시킴으로써, 돌기에 의해 산화 피막이 효과적으로 배제된다. 이 때문에, 전극과 도전성 입자를 한층 더 확실하게 접촉시킬 수 있으며, 전극간의 접속 저항을 한층 더 효과적으로 낮게 할 수 있다. 또한, 상기 도전성 입자가 표면에 절연성 물질을 갖는 경우, 또는 도전성 입자가 바인더 수지 중에 분산되어 도전 재료로서 사용되는 경우에, 도전성 입자의 돌기에 의해, 도전성 입자와 전극 사이의 절연성 물질이나 바인더 수지가 효과적으로 배제된다. 이 때문에, 전극간의 도통 신뢰성을 한층 더 효과적으로 높일 수 있다.It is preferable that the said electroconductive particle has several processus|protrusion on the outer surface of the said electroconductive part. When the said electroconductive particle has several processus|protrusion on the outer surface of the said electroconductive part, the conduction|electrical_connection reliability between electrodes can be improved further. An oxide film is formed in the surface of the electrode connected by the said electroconductive particle in many cases. Moreover, the oxide film is formed in the surface of the electroconductive part of the said electroconductive particle in many cases. By using the electroconductive particle which has the said processus|protrusion, after arrange|positioning electroconductive particle between electrodes, an oxide film is effectively excluded by a processus|protrusion by crimping|bonding. For this reason, an electrode and electroconductive particle can be made to contact still more reliably, and the connection resistance between electrodes can be made low still more effectively. In addition, when the conductive particles have an insulating material on the surface, or when the conductive particles are dispersed in a binder resin and used as a conductive material, the insulating material or binder resin between the conductive particles and the electrode is formed by the projections of the conductive particles. effectively excluded. For this reason, the conduction|electrical_connection reliability between electrodes can be improved still more effectively.

상기 코어 물질이 상기 도전부 중에 매립되어 있음으로써, 상기 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 용이하게 형성할 수 있다. 단, 도전성 입자의 도전부의 표면에 돌기를 형성하기 위해, 코어 물질을 반드시 사용하지 않아도 된다.Since the core material is embedded in the conductive part, it is possible to easily form a plurality of protrusions on the outer surface of the conductive part. However, in order to form a processus|protrusion on the surface of the electroconductive part of electroconductive particle, it is not necessary to necessarily use a core substance.

상기 돌기를 형성하는 방법으로서는, 수지 입자의 표면에 코어 물질을 부착시킨 후, 무전해 도금에 의해 도전부를 형성하는 방법, 그리고 수지 입자의 표면에 무전해 도금에 의해 도전부를 형성한 후, 코어 물질을 부착시키고, 추가로 무전해 도금에 의해 도전부를 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 돌기를 형성하는 다른 방법으로서는, 수지 입자의 표면 상에, 제1 도전부를 형성한 후, 해당 제1 도전부 상에 코어 물질을 배치하고, 이어서 제2 도전부를 형성하는 방법, 그리고 수지 입자의 표면 상에 도전부(제1 도전부 또는 제2 도전부 등)를 형성하는 도중 단계에서, 코어 물질을 첨가하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 돌기를 형성하기 위해 상기 코어 물질을 사용하지 않고, 수지 입자에 무전해 도금에 의해 도전부를 형성한 후, 도전부의 표면 상에 돌기 상에 도금을 석출시키고, 추가로 무전해 도금에 의해 도전부를 형성하는 방법 등을 사용해도 된다.As a method of forming the projections, a method of forming a conductive portion by electroless plating after attaching a core material to the surface of the resin particle, and a method of forming a conductive portion by electroless plating on the surface of the resin particle, followed by a core material and a method of forming an electroconductive part by further electroless plating, and the like. As another method of forming the projections, a method of forming a first conductive part on the surface of a resin particle, arranging a core material on the first conductive part, and then forming a second conductive part, and a method of forming a resin particle A method of adding a core material in a step in the middle of forming a conductive portion (such as a first conductive portion or a second conductive portion) on the surface may be mentioned. In addition, without using the core material to form the projections, after forming the conductive portion on the resin particles by electroless plating, plating is deposited on the projections on the surface of the conductive portion, and further conductive by electroless plating You may use the method of forming a part, etc.

상기 수지 입자의 표면 상에 코어 물질을 배치하는 방법으로서는, 예를 들어 수지 입자의 분산액 중에 코어 물질을 첨가하고, 수지 입자의 표면에 코어 물질을 반데르발스힘에 의해 집적시키고, 부착시키는 방법, 그리고 수지 입자를 넣은 용기에 코어 물질을 첨가하고, 용기의 회전 등에 의한 기계적인 작용에 의해 수지 입자의 표면에 코어 물질을 부착시키는 방법 등을 들 수 있다. 부착시키는 코어 물질의 양을 제어하기 쉽기 때문에, 분산액 중의 수지 입자의 표면에 코어 물질을 집적시키고, 부착시키는 방법이 바람직하다.As a method of disposing the core material on the surface of the resin particles, for example, a method in which a core material is added to a dispersion of resin particles, the core material is accumulated on the surface of the resin particles by van der Waals force, and a method of attaching it; And the method of adding a core substance to the container in which the resin particle was put, and making the core substance adhere to the surface of a resin particle by the mechanical action by rotation of a container, etc. are mentioned. Since it is easy to control the amount of the core substance to be adhered, a method in which the core substance is accumulated and adhered to the surface of the resin particles in the dispersion is preferred.

상기 코어 물질의 재료는 특별히 한정되지 않는다. 상기 코어 물질의 재료로서는, 예를 들어 도전성 물질 및 비도전성 물질을 들 수 있다. 상기 도전성 물질로서는, 금속, 금속의 산화물, 흑연 등의 도전성 비금속 및 도전성 중합체 등을 들 수 있다. 상기 도전성 중합체로서는, 폴리아세틸렌 등을 들 수 있다. 상기 비도전성 물질로서는, 실리카, 알루미나, 티타늄산바륨 및 지르코니아 등을 들 수 있다. 도전성을 높일 수 있으며, 또한 접속 저항을 효과적으로 낮게 할 수 있기 때문에, 금속이 바람직하다. 상기 코어 물질은 금속 입자인 것이 바람직하다. 상기 코어 물질의 재료인 금속으로서는, 상기 도전부를 형성하기 위한 금속으로서 예시한 금속을 적절히 사용 가능하다.The material of the core material is not particularly limited. As a material of the said core substance, an electroconductive substance and a non-conductive substance are mentioned, for example. Examples of the conductive material include metals, metal oxides, conductive nonmetals such as graphite, and conductive polymers. Polyacetylene etc. are mentioned as said conductive polymer. Examples of the non-conductive material include silica, alumina, barium titanate, and zirconia. Since electroconductivity can be raised and connection resistance can be made low effectively, a metal is preferable. The core material is preferably a metal particle. As a metal which is a material of the said core substance, the metal illustrated as a metal for forming the said electroconductive part can be used suitably.

절연성 물질:Insulating material:

상기 도전성 입자는, 상기 도전부의 표면 상에 배치된 절연성 물질을 구비하는 것이 바람직하다. 이 경우에는, 도전성 입자를 전극간의 접속에 사용하면, 인접하는 전극간의 단락을 한층 더 방지할 수 있다. 구체적으로는, 복수의 도전성 입자가 접촉했을 때에, 복수의 전극간에 절연성 물질이 존재하기 때문에, 상하의 전극간이 아니라 가로 방향으로 인접하는 전극간의 단락을 방지할 수 있다. 또한, 전극간의 접속시에, 2개의 전극으로 도전성 입자를 가압함으로써, 도전성 입자의 도전부와 전극 사이의 절연성 물질을 용이하게 배제할 수 있다. 상기 도전성 입자가 도전부의 외표면에 복수의 돌기를 갖는 경우에는, 도전성 입자의 도전부와 전극 사이의 절연성 물질을 한층 더 용이하게 배제할 수 있다.It is preferable that the said electroconductive particle is equipped with the insulating substance arrange|positioned on the surface of the said electroconductive part. In this case, when electroconductive particle is used for the connection between electrodes, the short circuit between adjacent electrodes can be prevented further. Since an insulating substance exists between some electrodes when some electroconductive particle contacts specifically, the short circuit between the electrodes adjacent to the horizontal direction instead of between the upper and lower electrodes can be prevented. Moreover, at the time of the connection between electrodes, the insulating substance between the electroconductive part of electroconductive particle and an electrode can be excluded easily by pressurizing electroconductive particle with two electrodes. When the said electroconductive particle has a some processus|protrusion on the outer surface of an electroconductive part, the insulating substance between the electroconductive part of electroconductive particle, and an electrode can be excluded still more easily.

전극간의 압착시에 상기 절연성 물질을 한층 더 용이하게 배제할 수 있다는 점에서, 상기 절연성 물질은 절연성 입자인 것이 바람직하다.In view of the fact that the insulating material can be more easily removed during compression between electrodes, the insulating material is preferably an insulating particle.

상기 절연성 물질의 재료로서는, 폴리올레핀 화합물, (메트)아크릴레이트 중합체, (메트)아크릴레이트 공중합체, 블록 중합체, 열가소성 수지, 열가소성 수지의 가교물, 열경화성 수지 및 수용성 수지 등을 들 수 있다. 상기 절연성 물질의 재료는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.Examples of the material of the insulating material include polyolefin compounds, (meth)acrylate polymers, (meth)acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked products of thermoplastic resins, thermosetting resins, and water-soluble resins. As for the material of the said insulating substance, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

상기 폴리올레핀 화합물로서는, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 및 에틸렌-아크릴산에스테르 공중합체 등을 들 수 있다. 상기 (메트)아크릴레이트 중합체로서는, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리도데실(메트)아크릴레이트 및 폴리스테아릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 블록 중합체로서는, 폴리스티렌, 스티렌-아크릴산에스테르 공중합체, SB형 스티렌-부타디엔 블록 공중합체 및SBS형 스티렌-부타디엔 블록 공중합체, 그리고 이들의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지로서는, 비닐 중합체 및 비닐 공중합체 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 수지로서는, 에폭시 수지, 페놀 수지 및 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지의 가교로서는, 폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 알콕시화 트리메틸올프로판메타크릴레이트나 알콕시화 펜타에리트리톨메타크릴레이트 등의 도입을 들 수 있다. 상기 수용성 수지로서는, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리아크릴아미드, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌옥시드 및 메틸셀룰로오스 등을 들 수 있다. 또한, 중합도의 조정에 연쇄 이동제를 사용해도 된다. 연쇄 이동제로서는, 티올이나 사염화탄소 등을 들 수 있다.Examples of the polyolefin compound include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. As said (meth)acrylate polymer, polymethyl (meth)acrylate, polydodecyl (meth)acrylate, polystearyl (meth)acrylate, etc. are mentioned. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB-type styrene-butadiene block copolymer and SBS-type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. As said thermoplastic resin, a vinyl polymer, a vinyl copolymer, etc. are mentioned. As said thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, etc. are mentioned. Introduction of polyethylene glycol methacrylate, alkoxylated trimethylolpropane methacrylate, and alkoxylated pentaerythritol methacrylate is exemplified as crosslinking of the thermoplastic resin. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Moreover, you may use a chain transfer agent for adjustment of polymerization degree. A thiol, carbon tetrachloride, etc. are mentioned as a chain transfer agent.

상기 도전부의 표면 상에 절연성 물질을 배치하는 방법으로서는, 화학적 방법 및 물리적 혹은 기계적 방법 등을 들 수 있다. 상기 화학적 방법으로서는, 예를 들어 계면 중합법, 입자 존재하에서의 현탁 중합법 및 유화 중합법 등을 들 수 있다. 상기 물리적 혹은 기계적 방법으로서는, 스프레이 드라이, 하이브리다이제이션, 정전 부착법, 분무법, 디핑 및 진공 증착에 의한 방법 등을 들 수 있다. 절연성 물질이 탈리되기 어렵다는 점에서, 상기 도전부의 표면에 화학 결합을 통해 상기 절연성 물질을 배치하는 방법이 바람직하다.A chemical method, a physical or mechanical method, etc. are mentioned as a method of arrange|positioning an insulating material on the surface of the said electroconductive part. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, an emulsion polymerization method, and the like. As said physical or mechanical method, the method by spray drying, hybridization, the electrostatic adhesion method, the spraying method, dipping, and vacuum vapor deposition, etc. are mentioned. Since it is difficult for the insulating material to be detached, a method of disposing the insulating material through a chemical bond on the surface of the conductive part is preferable.

상기 도전부의 외표면 및 절연성 물질의 표면은 각각, 반응성 관능기를 갖는 화합물에 의해 피복되어 있어도 된다. 도전부의 외표면과 절연성 물질의 표면은, 직접 화학 결합하고 있지 않아도 되고, 반응성 관능기를 갖는 화합물에 의해 간접적으로 화학 결합하고 있어도 된다. 도전부의 외표면에 카르복실기를 도입한 후, 해당 카르복실기가 폴리에틸렌이민 등의 고분자 전해질을 통해 절연성 물질의 표면 관능기와 화학 결합하고 있어도 상관없다.The outer surface of the said conductive part and the surface of the insulating substance may be respectively coat|covered with the compound which has a reactive functional group. The outer surface of the conductive portion and the surface of the insulating substance may not be directly chemically bonded, or may be chemically bonded indirectly by a compound having a reactive functional group. After the carboxyl group is introduced into the outer surface of the conductive part, the carboxyl group may be chemically bonded to the surface functional group of the insulating material through a polymer electrolyte such as polyethyleneimine.

(도전 재료) (conductive material)

본 발명에 관한 도전 재료는, 상술한 도전성 입자와, 바인더를 포함한다. 상기 도전성 입자는, 바인더 중에 분산되어 사용되는 것이 바람직하고, 바인더 중에 분산되어 도전 재료로서 사용할 수 있는 것이 바람직하다. 상기 도전 재료는, 이방성 도전 재료인 것이 바람직하다. 상기 도전 재료는, 전극간의 전기적인 접속에 사용되는 것이 바람직하다. 상기 도전 재료는 회로 접속용 도전 재료인 것이 바람직하다.The electrically-conductive material which concerns on this invention contains the electroconductive particle mentioned above and a binder. It is preferable that the said electroconductive particle is disperse|distributed and used in a binder, It is preferable that it disperse|distributes in a binder and can use it as an electrically-conductive material. It is preferable that the said electrically-conductive material is an anisotropic electrically-conductive material. It is preferable that the said electrically-conductive material is used for the electrical connection between electrodes. It is preferable that the said electrically-conductive material is an electrically-conductive material for circuit connection.

상기 바인더는 특별히 한정되지 않는다. 상기 바인더로서, 공지된 절연성의 수지가 사용된다. 상기 바인더는, 열가소성 성분(열가소성 화합물) 또는 경화성 성분을 포함하는 것이 바람직하고, 경화성 성분을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 상기 경화성 성분으로서는, 광경화성 성분 및 열경화성 성분을 들 수 있다. 상기 광경화성 성분은, 광경화성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 열경화성 성분은, 열경화성 화합물 및 열경화제를 포함하는 것이 바람직하다.The binder is not particularly limited. As the binder, a known insulating resin is used. It is preferable that a thermoplastic component (thermoplastic compound) or a sclerosing|hardenable component is included, and, as for the said binder, it is more preferable that a sclerosing|hardenable component is included. As said curable component, a photocurable component and a thermosetting component are mentioned. It is preferable that the said photocurable component contains a photocurable compound and a photoinitiator. It is preferable that the said thermosetting component contains a thermosetting compound and a thermosetting agent.

상기 바인더로서는, 비닐 수지, 열가소성 수지, 경화성 수지, 열가소성 블록 공중합체 및 엘라스토머 등을 들 수 있다. 상기 바인더는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.Examples of the binder include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers and elastomers. As for the said binder, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

상기 비닐 수지로서는, 예를 들어 아세트산비닐 수지, 아크릴 수지 및 스티렌 수지 등을 들 수 있다. 상기 열가소성 수지로서는, 예를 들어 폴리올레핀 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 및 폴리아미드 수지 등을 들 수 있다. 상기 경화성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리이미드 수지 및 불포화 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다. 또한, 상기 경화성 수지는, 상온 경화형 수지, 열경화형 수지, 광경화형 수지 또는 습기 경화형 수지여도 된다. 상기 경화성 수지는, 경화제와 병용되어도 된다. 상기 열가소성 블록 공중합체로서는, 예를 들어 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물, 및 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체의 수소 첨가물 등을 들 수 있다. 상기 엘라스토머로서는, 예를 들어 스티렌-부타디엔 공중합 고무 및 아크릴로니트릴-스티렌 블록 공중합 고무 등을 들 수 있다.As said vinyl resin, a vinyl acetate resin, an acrylic resin, a styrene resin, etc. are mentioned, for example. As said thermoplastic resin, polyolefin resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyamide resin, etc. are mentioned, for example. As said curable resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, an unsaturated polyester resin, etc. are mentioned, for example. In addition, room temperature curable resin, thermosetting resin, photocurable resin, or moisture curable resin may be sufficient as the said curable resin. The said curable resin may be used together with a hardening|curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene-styrene block copolymer. A hydrogenated substance etc. are mentioned. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

상기 도전 재료는, 상기 도전성 입자 및 상기 바인더 이외에, 예를 들어 충전제, 증량제, 연화제, 가소제, 중합 촉매, 경화 촉매, 착색제, 산화 방지제, 열 안정제, 광안정제, 자외선 흡수제, 활제, 대전 방지제 및 난연제 등의 각종 첨가제를 포함하고 있어도 된다.In addition to the conductive particles and the binder, the conductive material is, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant You may contain various additives, such as

상기 바인더 중에 상기 도전성 입자를 분산시키는 방법은, 종래 공지된 분산 방법을 사용할 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다. 상기 바인더 중에 상기 도전성 입자를 분산시키는 방법으로서는, 상기 바인더 중에 상기 도전성 입자를 첨가한 후, 플라네터리 믹서 등으로 혼련하여 분산시키는 방법, 상기 도전성 입자를 물 또는 유기 용제 중에 호모지나이저 등을 사용하여 균일하게 분산시킨 후, 상기 바인더 중에 첨가하고, 플라네터리 믹서 등으로 혼련하여 분산시키는 방법을 들 수 있다. 또한, 상기 바인더 중에 상기 도전성 입자를 분산시키는 방법으로서는, 상기 바인더를 물 또는 유기 용제 등으로 희석한 후, 상기 도전성 입자를 첨가하고, 플라네터리 믹서 등으로 혼련하여 분산시키는 방법 등을 들 수 있다.A conventionally well-known dispersion method can be used for the method of disperse|distributing the said electroconductive particle in the said binder, and it is not specifically limited. As a method of dispersing the conductive particles in the binder, after adding the conductive particles in the binder, kneading and dispersing the conductive particles with a planetary mixer or the like, using a homogenizer or the like for the conductive particles in water or an organic solvent and uniformly dispersed therein, added to the binder, and kneaded with a planetary mixer or the like to disperse. In addition, as a method of dispersing the conductive particles in the binder, after diluting the binder with water or an organic solvent, the conductive particles are added, and kneading with a planetary mixer or the like to disperse. .

상기 도전 재료는, 도전 페이스트 및 도전 필름 등으로서 사용될 수 있다. 상기 도전 재료가 도전 필름인 경우에는, 도전성 입자를 포함하는 도전 필름에, 도전성 입자를 포함하지 않는 필름이 적층되어 있어도 된다. 상기 도전 페이스트는, 이방성 도전 페이스트인 것이 바람직하다. 상기 도전 필름은, 이방성 도전 필름인 것이 바람직하다.The said electrically-conductive material can be used as an electrically-conductive paste, an electrically-conductive film, etc. When the said electrically-conductive material is a conductive film, the film which does not contain electroconductive particle may be laminated|stacked on the conductive film containing electroconductive particle. It is preferable that the said electrically conductive paste is an anisotropic electrically conductive paste. It is preferable that the said conductive film is an anisotropic conductive film.

상기 도전 재료 100중량% 중, 상기 바인더의 함유량은 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 30중량% 이상, 더욱 바람직하게는 50중량% 이상, 특히 바람직하게는 70중량% 이상이고, 바람직하게는 99.99중량% 이하, 보다 바람직하게는 99.9중량% 이하이다. 상기 바인더의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전극간에 도전성 입자가 효율적으로 배치되고, 도전 재료에 의해 접속된 접속 대상 부재의 접속 신뢰성이 한층 더 높아진다.In 100 weight% of the said electrically-conductive material, content of the said binder becomes like this. Preferably it is 10 weight% or more, More preferably, it is 30 weight% or more, More preferably, it is 50 weight% or more, Especially preferably, it is 70 weight% or more. Preferably it is 99.99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. Electroconductive particles are efficiently arrange|positioned between electrodes as content of the said binder is more than the said minimum and below the said upper limit, and the connection reliability of the connection object member connected with the electrically-conductive material becomes still higher.

상기 도전 재료 100중량% 중, 상기 도전성 입자의 함유량은 바람직하게는 0.01중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1중량% 이상이고, 바람직하게는 80중량% 이하, 보다 바람직하게는 60중량% 이하, 더욱 바람직하게는 40중량% 이하, 특히 바람직하게는 20중량% 이하, 가장 바람직하게는 10중량% 이하이다. 상기 도전성 입자의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 전극간의 도통 신뢰성이 한층 더 높아진다.In 100 weight% of the said electrically-conductive material, content of the said electroconductive particle becomes like this. Preferably it is 0.01 weight% or more, More preferably, it is 0.1 weight% or more, Preferably it is 80 weight% or less, More preferably, it is 60 weight% or less, further Preferably it is 40 wt% or less, particularly preferably 20 wt% or less, and most preferably 10 wt% or less. The conduction|electrical_connection reliability between electrodes becomes it still higher that content of the said electroconductive particle is more than the said minimum and below the said upper limit.

(접착제) (glue)

본 발명에 관한 접착제는, 상술한 수지 입자와, 바인더를 포함한다. 상기 수지 입자는, 바인더 중에 분산되어 사용되는 것이 바람직하고, 바인더 중에 분산되어 접착제로서 사용되는 것이 바람직하다. 상기 수지 입자는, 바인더 중에서 스페이서로서 사용되는 것이 바람직하다. 상기 접착제는, 도전성 입자를 포함하고 있지 않아도 된다.The adhesive according to the present invention contains the above-mentioned resin particles and a binder. The resin particles are preferably dispersed in a binder and used, and are preferably dispersed in a binder and used as an adhesive. It is preferable that the said resin particle is used as a spacer in a binder. The said adhesive agent does not need to contain electroconductive particle.

상기 접착제는, 2개의 접속 대상 부재를 접착하는 접착층을 형성하기 위해 사용된다. 또한, 상기 접착제는, 상기 접착층의 갭을 고정밀도로 제어하기 위해, 또는 상기 접착층의 응력을 완화하기 위해 등에 사용된다.The said adhesive agent is used in order to form the adhesive bond layer which adhere|attaches two connection object members. In addition, the adhesive is used for controlling the gap of the adhesive layer with high precision or for relieving the stress of the adhesive layer.

상기 바인더는 특별히 한정되지 않는다. 상기 바인더의 구체예로서는, 상술한 도전 재료에 사용되는 바인더 등을 들 수 있다. 상기 접착제는, 상기 바인더로서 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The binder is not particularly limited. As a specific example of the said binder, the binder etc. used for the electrically-conductive material mentioned above are mentioned. It is preferable that the said adhesive agent contains an epoxy resin as the said binder.

상기 접착제 100중량% 중, 상기 바인더의 함유량은 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 30중량% 이상, 더욱 바람직하게는 50중량% 이상, 특히 바람직하게는 70중량% 이상이고, 바람직하게는 99.99중량% 이하, 보다 바람직하게는 99.9중량% 이하이다. 상기 바인더의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 상기 접착층의 접착력을 한층 더 효과적으로 높일 수 있으며, 상기 수지 입자가 스페이서로서의 기능을 한층 더 효과적으로 발휘할 수 있다.The content of the binder in 100% by weight of the adhesive is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, and preferably is 99.99% by weight or less, more preferably 99.9% by weight or less. When the content of the binder is greater than or equal to the lower limit and less than or equal to the upper limit, the adhesive force of the adhesive layer can be further effectively increased, and the resin particles can more effectively function as a spacer.

상기 접착제 100중량% 중, 상기 수지 입자의 함유량은 바람직하게는 0.01중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1중량% 이상이고, 바람직하게는 80중량% 이하, 보다 바람직하게는 60중량% 이하, 더욱 바람직하게는 40중량% 이하, 특히 바람직하게는 20중량% 이하, 가장 바람직하게는 10중량% 이하이다. 상기 수지 입자의 함유량이 상기 하한 이상 및 상기 상한 이하이면, 상기 수지 입자가 스페이서로서의 기능을 한층 더 효과적으로 발휘할 수 있다.The content of the resin particles in 100% by weight of the adhesive is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 80% by weight or less, more preferably 60% by weight or less, still more preferably preferably 40% by weight or less, particularly preferably 20% by weight or less, and most preferably 10% by weight or less. When content of the said resin particle is more than the said minimum and below the said upper limit, the said resin particle can exhibit the function as a spacer much more effectively.

(접속 구조체) (connection structure)

상기 도전성 입자를 사용하여, 또는 상기 도전성 입자와 바인더를 포함하는 도전 재료를 사용하여 접속 대상 부재를 접속함으로써, 접속 구조체를 얻을 수 있다.A bonded structure can be obtained by connecting a connection object member using the electrically-conductive material containing the said electroconductive particle and a binder using the said electroconductive particle.

본 발명에 관한 접속 구조체는, 제1 전극을 표면에 갖는 제1 접속 대상 부재와, 제2 전극을 표면에 갖는 제2 접속 대상 부재와, 상기 제1 접속 대상 부재와 상기 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비한다. 상기 접속부의 재료가, 상술한 수지 입자를 포함한다. 상기 접속부의 재료가 상술한 도전성 입자이거나, 또는 상술한 도전 재료인 것이 바람직하다. 상기 접속부가 상술한 도전성 입자에 의해 형성되어 있거나, 또는 상술한 도전 재료에 의해 형성되어 있는 접속 구조체인 것이 바람직하다.The connection structure which concerns on this invention is a 1st connection object member which has a 1st electrode on the surface, A 2nd connection object member which has a 2nd electrode on the surface, The said 1st connection object member, and the said 2nd connection object member A connecting portion is provided. The material of the said connection part contains the resin particle mentioned above. It is preferable that the material of the said connection part is the electroconductive particle mentioned above, or it is the electroconductive material mentioned above. It is preferable that the said connection part is formed with the electroconductive particle mentioned above, or it is a bonded structure formed with the electrically-conductive material mentioned above.

상기 도전성 입자가 단독으로 사용된 경우에는, 접속부 자체가 도전성 입자이다. 즉, 제1, 제2 접속 대상 부재가 상기 도전성 입자에 의해 접속된다. 상기 접속 구조체를 얻기 위해 사용되는 상기 도전 재료는, 이방성 도전 재료인 것이 바람직하다. 상기 제1 전극과 상기 제2 전극이, 상기 접속부에 의해 전기적으로 접속되어 있는 것이 바람직하다.When the said electroconductive particle is used independently, connection part itself is electroconductive particle. That is, the 1st, 2nd connection object member is connected by the said electroconductive particle. It is preferable that the said electrically-conductive material used in order to obtain the said bonded structure is an anisotropic electrically-conductive material. It is preferable that the said 1st electrode and the said 2nd electrode are electrically connected by the said connection part.

도 4는, 도 1에 도시하는 도전성 입자(1)를 사용한 접속 구조체의 일례를 도시하는 단면도이다.4 : is sectional drawing which shows an example of the bonded structure using the electroconductive particle 1 shown in FIG.

도 4에 도시하는 접속 구조체(41)는, 제1 접속 대상 부재(42)와, 제2 접속 대상 부재(43)와, 제1 접속 대상 부재(42)와 제2 접속 대상 부재(43)를 접속하고 있는 접속부(44)를 구비한다. 접속부(44)는, 도전성 입자(1)와 바인더를 포함하는 도전 재료에 의해 형성되어 있다. 도 4에서는, 도시의 편의상, 도전성 입자(1)는 약도적으로 도시되어 있다. 도전성 입자(1) 대신에, 도전성 입자(21, 31) 등의 다른 도전성 입자를 사용해도 된다.The connection structure 41 shown in FIG. 4 includes the 1st connection object member 42, the 2nd connection object member 43, the 1st connection object member 42, and the 2nd connection object member 43 A connecting portion 44 is provided. The connection part 44 is formed of the electrically-conductive material containing the electroconductive particle 1 and a binder. In FIG. 4, for convenience of illustration, the electroconductive particle 1 is shown schematically. Instead of the electroconductive particle 1, you may use other electroconductive particle, such as electroconductive particle 21 and 31.

제1 접속 대상 부재(42)는 표면(상면)에, 복수의 제1 전극(42a)을 갖는다. 제2 접속 대상 부재(43)는 표면(하면)에, 복수의 제2 전극(43a)을 갖는다. 제1 전극(42a)과 제2 전극(43a)이, 1개 또는 복수의 도전성 입자(1)에 의해 전기적으로 접속되어 있다. 따라서, 제1, 제2 접속 대상 부재(42, 43)가 도전성 입자(1)에 의해 전기적으로 접속되어 있다.The 1st connection object member 42 has the some 1st electrode 42a on the surface (upper surface). The 2nd connection object member 43 has the some 2nd electrode 43a on the surface (lower surface). The 1st electrode 42a and the 2nd electrode 43a are electrically connected by the 1 or some electroconductive particle 1 . Therefore, the 1st, 2nd connection object members 42 and 43 are electrically connected by the electroconductive particle 1 .

도 5는, 본 발명에 관한 수지 입자를 사용한 접속 구조체의 일례를 도시하는 단면도이다.5 : is sectional drawing which shows an example of the bonded structure using the resin particle which concerns on this invention.

도 5에 도시하는 접속 구조체(51)는, 제1 접속 대상 부재(52)와, 제2 접속 대상 부재(53)와, 제1 접속 대상 부재(52)와 제2 접속 대상 부재(53)를 접착하고 있는 접착층(54)을 구비한다.The connection structure 51 shown in FIG. 5 is the 1st connection object member 52, the 2nd connection object member 53, the 1st connection object member 52, and the 2nd connection object member 53 An adhesive layer 54 to be adhered is provided.

접착층(54)은, 상술한 수지 입자(11)를 포함한다. 수지 입자(11)는, 제1, 제2 접속 대상 부재(52, 53)의 양쪽에 접하고 있지 않다. 수지 입자(11)는, 응력 완화용 스페이서로서 사용되고 있다.The adhesive layer 54 contains the resin particle 11 mentioned above. The resin particle 11 is not in contact with both the 1st, 2nd connection object members 52 and 53. The resin particles 11 are used as a spacer for stress relaxation.

접착층(54)은, 갭 제어 입자(61)와, 열경화성 성분(62)을 포함한다. 접착층(54)에서는, 갭 제어 입자(61)가 제1, 제2 접속 대상 부재(52, 53)의 양쪽에 접하고 있다. 갭 제어 입자(61)는 도전성 입자여도 되고, 도전성을 갖지 않는 입자여도 된다. 상기 갭 제어 입자는, 상술한 수지 입자여도 된다. 열경화성 성분(62)은, 열경화성 화합물과 열경화제를 포함한다. 열경화성 성분(62)은, 열경화성 화합물의 경화물이다. 열경화성 성분(62)은, 열경화성 화합물을 경화시킴으로써 형성되어 있다.The adhesive layer 54 includes gap control particles 61 and a thermosetting component 62 . In the adhesive layer 54 , the gap control particles 61 are in contact with both the first and second connection object members 52 and 53 . The gap control particles 61 may be conductive particles or particles having no conductivity. The said gap control particle|grains may be the resin particle mentioned above. The thermosetting component 62 contains a thermosetting compound and a thermosetting agent. The thermosetting component 62 is a cured product of a thermosetting compound. The thermosetting component 62 is formed by hardening a thermosetting compound.

상기 제1 접속 대상 부재는, 제1 전극을 표면에 갖고 있어도 된다. 상기 제2 접속 대상 부재는, 제2 전극을 표면에 갖고 있어도 된다.The said 1st connection object member may have a 1st electrode on the surface. The said 2nd connection object member may have a 2nd electrode on the surface.

상기 접속 구조체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 접속 구조체의 제조 방법의 일례로서, 제1 접속 대상 부재와 제2 접속 대상 부재 사이에 상기 도전 재료를 배치하고, 적층체를 얻은 후, 해당 적층체를 가열 및 가압하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 가압시의 압력은 9.8×104Pa 내지 4.9×106Pa 정도이다. 상기 가열시의 온도는, 120℃ 내지 220℃ 정도이다. 플렉시블 프린트 기판의 전극, 수지 필름 상에 배치된 전극 및 터치 패널의 전극을 접속하기 위한 상기 가압시의 압력은 9.8×104Pa 내지 1.0×106Pa 정도이다.The manufacturing method of the said bonded structure is not specifically limited. As an example of the manufacturing method of a bonded structure, after arrange|positioning the said electrically-conductive material between a 1st connection object member and a 2nd connection object member and obtaining a laminated body, the method of heating and pressurizing this laminated body, etc. are mentioned. The pressure at the time of pressurization is about 9.8×10 4 Pa to 4.9×10 6 Pa. The temperature at the time of the said heating is about 120 degreeC - 220 degreeC. The pressure at the time of the said press for connecting the electrode of a flexible printed circuit board, the electrode arrange|positioned on the resin film, and the electrode of a touch panel is about 9.8x10 4 Pa - 1.0x10 6 Pa.

상기 접속 대상 부재로서는, 구체적으로는 반도체 칩, 콘덴서 및 다이오드 등의 전자 부품, 그리고 프린트 기판, 플렉시블 프린트 기판, 유리 에폭시 기판 및 유리 기판 등의 회로 기판 등의 전자 부품 등을 들 수 있다. 상기 접속 대상 부재는 전자 부품인 것이 바람직하다. 상기 제1 접속 대상 부재 및 상기 제2 접속 대상 부재 중 적어도 한쪽은, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩인 것이 바람직하다. 상기 접속 구조체는, 반도체 장치인 것이 바람직하다.Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors and diodes, and electronic components such as circuit boards such as printed circuit boards, flexible printed circuit boards, glass epoxy boards and glass boards. It is preferable that the said connection object member is an electronic component. It is preferable that at least one of the said 1st connection object member and the said 2nd connection object member is a semiconductor wafer or a semiconductor chip. It is preferable that the said connection structure is a semiconductor device.

상기 도전 재료는, 전자 부품을 접속하기 위한 도전 재료인 것이 바람직하다. 상기 도전 페이스트는 페이스트상의 도전 재료이며, 페이스트상의 상태로 접속 대상 부재 상에 도공되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said electrically-conductive material is an electrically-conductive material for connecting an electronic component. The said electrically conductive paste is a paste-form electrically conductive material, It is preferable to apply on the connection object member in a paste-form state.

상기 도전성 입자, 상기 도전 재료 및 상기 접착제는, 터치 패널에도 적합하게 사용된다. 따라서, 상기 접속 대상 부재는 플렉시블 기판이거나, 또는 수지 필름 표면 상에 전극이 배치된 접속 대상 부재인 것도 바람직하다. 상기 접속 대상 부재는 플렉시블 기판인 것이 바람직하고, 수지 필름의 표면 상에 전극이 배치된 접속 대상 부재인 것이 바람직하다. 상기 플렉시블 기판이 플렉시블 프린트 기판 등인 경우에, 플렉시블 기판은 일반적으로 전극을 표면에 갖는다.The said electroconductive particle, the said electrically-conductive material, and the said adhesive agent are used suitably also for a touchscreen. Therefore, it is preferable that the said connection object member is also a flexible substrate or the connection object member in which the electrode was arrange|positioned on the resin film surface. It is preferable that the said connection object member is a flexible substrate, and it is preferable that it is a connection object member by which the electrode was arrange|positioned on the surface of a resin film. When the flexible substrate is a flexible printed circuit board or the like, the flexible substrate generally has an electrode on its surface.

상기 접속 대상 부재에 마련되어 있는 전극으로서는, 금 전극, 니켈 전극, 주석 전극, 알루미늄 전극, 은 전극, SUS 전극, 구리 전극, 몰리브덴 전극 및 텅스텐 전극 등의 금속 전극을 들 수 있다. 상기 접속 대상 부재가 플렉시블 프린트 기판인 경우에는, 상기 전극은 금 전극, 니켈 전극, 주석 전극 또는 구리 전극인 것이 바람직하다. 상기 접속 대상 부재가 유리 기판인 경우에는, 상기 전극은 알루미늄 전극, 구리 전극, 몰리브덴 전극 또는 텅스텐 전극인 것이 바람직하다. 또한, 상기 전극이 알루미늄 전극인 경우에는, 알루미늄만으로 형성된 전극이어도 되고, 금속 산화물층의 표면에 알루미늄층이 적층된 전극이어도 된다. 상기 금속 산화물층의 재료로서는, 3가의 금속 원소가 도프된 산화인듐 및 3가의 금속 원소가 도프된 산화아연 등을 들 수 있다. 상기 3가의 금속 원소로서는, Sn, Al 및 Ga 등을 들 수 있다.Metal electrodes, such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a silver electrode, a SUS electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode, are mentioned as an electrode provided in the said connection object member. When the said connection object member is a flexible printed circuit board, it is preferable that the said electrode is a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the said connection object member is a glass substrate, it is preferable that the said electrode is an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only of aluminum may be sufficient, and the electrode in which the aluminum layer was laminated|stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material of the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Sn, Al, Ga, etc. are mentioned as said trivalent metal element.

(액정 표시 소자) (liquid crystal display element)

상기 수지 입자는, 액정 표시 소자용 스페이서로서 적합하게 사용할 수 있다.The said resin particle can be used suitably as spacers for liquid crystal display elements.

본 발명에 관한 액정 표시 소자는, 제1 액정 표시 소자용 부재와, 제2 액정 표시 소자용 부재와, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재 사이에 배치된 스페이서를 구비한다. 상기 스페이서는, 상술한 수지 입자이다.A liquid crystal display element according to the present invention comprises a first liquid crystal display element member, a second liquid crystal display element member, and a spacer disposed between the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member. be prepared The said spacer is the resin particle mentioned above.

상기 액정 표시 소자는, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재가 대향한 상태에서, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재의 외주를 시일하고 있는 시일부를 구비하고 있어도 된다.The said liquid crystal display element seals the outer periphery of the said 1st liquid crystal display element member and the said 2nd liquid crystal display element member in the state which the said 1st liquid crystal display element member and the said 2nd liquid crystal display element member face each other You may be equipped with the sealing part which is doing.

상기 수지 입자는, 액정 표시 소자용 주변 시일제에 사용할 수도 있다. 액정 표시 소자는, 제1 액정 표시 소자용 부재와, 제2 액정 표시 소자용 부재와, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재가 대향한 상태에서, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재의 외주를 시일하고 있는 시일부를 구비한다. 액정 표시 소자는, 상기 시일부의 내측에서, 상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재의 사이에 배치되어 있는 액정을 구비한다. 이 액정 표시 소자에서는, 액정 적하 공법이 적용되고, 또한 상기 시일부가, 액정 적하 공법용 시일제를 열경화시킴으로써 형성되어 있다.The said resin particle can also be used for the peripheral sealing compound for liquid crystal display elements. The liquid crystal display element includes a first liquid crystal display element member, a second liquid crystal display element member, and the first liquid crystal display element in a state where the first liquid crystal display element member and the second liquid crystal display element member are opposed to each other. The sealing part which seals the outer periphery of the member for display elements and the said 2nd member for liquid crystal display elements is provided. A liquid crystal display element is equipped with the liquid crystal arrange|positioned between the said 1st member for liquid crystal display elements and the said 2nd member for liquid crystal display elements inside the said sealing part. In this liquid crystal display element, the liquid crystal dropping method is applied, and the said sealing part is formed by thermosetting the sealing compound for liquid crystal dropping methods.

도 6은, 본 발명에 관한 수지 입자를 액정 표시 소자용 스페이서로서 사용한 액정 표시 소자의 일례를 도시하는 단면도이다.6 : is sectional drawing which shows an example of the liquid crystal display element which used the resin particle which concerns on this invention as spacers for liquid crystal display elements.

도 6에 도시하는 액정 표시 소자(81)는, 한 쌍의 투명 유리 기판(82)을 갖는다. 투명 유리 기판(82)은, 대향하는 면에 절연막(도시하지 않음)을 갖는다. 절연막의 재료로서는, 예를 들어 SiO2 등을 들 수 있다. 투명 유리 기판(82)에 있어서의 절연막 상에 투명 전극(83)이 형성되어 있다. 투명 전극(83)의 재료로서는, ITO 등을 들 수 있다. 투명 전극(83)은, 예를 들어 포토리소그래피에 의해 패터닝하여 형성 가능하다. 투명 유리 기판(82)의 표면 상의 투명 전극(83) 상에 배향막(84)이 형성되어 있다. 배향막(84)의 재료로서는, 폴리이미드 등을 들 수 있다.The liquid crystal display element 81 illustrated in FIG. 6 has a pair of transparent glass substrates 82 . The transparent glass substrate 82 has an insulating film (not shown) on the surface which opposes. As a material of an insulating film, SiO2 etc. are mentioned, for example. A transparent electrode 83 is formed on the insulating film in the transparent glass substrate 82 . As a material of the transparent electrode 83, ITO etc. are mentioned. The transparent electrode 83 can be formed by, for example, patterning by photolithography. An alignment film 84 is formed on the transparent electrode 83 on the surface of the transparent glass substrate 82 . As a material of the orientation film 84, polyimide etc. are mentioned.

한 쌍의 투명 유리 기판(82) 사이에는, 액정(85)이 봉입되어 있다. 한 쌍의 투명 유리 기판(82) 사이에는, 복수의 수지 입자(11)가 배치되어 있다. 수지 입자(11)는, 액정 표시 소자용 스페이서로서 사용되고 있다. 복수의 수지 입자(11)에 의해, 한 쌍의 투명 유리 기판(82)의 간격이 규제되어 있다. 한 쌍의 투명 유리 기판(82)의 테두리부 사이에는, 시일제(86)가 배치되어 있다. 시일제(86)에 의해, 액정(85)의 외부로의 유출이 방지되어 있다. 시일제(86)에는, 수지 입자(11)와 입경만이 상이한 수지 입자(11A)가 포함되어 있다.A liquid crystal 85 is sealed between the pair of transparent glass substrates 82 . A plurality of resin particles 11 are disposed between the pair of transparent glass substrates 82 . The resin particle 11 is used as a spacer for liquid crystal display elements. The spacing between the pair of transparent glass substrates 82 is regulated by the plurality of resin particles 11 . A sealing compound 86 is disposed between the edge portions of the pair of transparent glass substrates 82 . The outflow to the outside of the liquid crystal 85 is prevented by the sealing compound 86. In the sealing compound 86, the resin particle 11 and the resin particle 11A from which only a particle diameter differs are contained.

상기 액정 표시 소자에 있어서 1mm2당의 액정 표시 소자용 스페이서의 배치 밀도는, 바람직하게는 10개/mm2 이상이고, 바람직하게는 1000개/mm2 이하이다. 상기 배치 밀도가 10개/mm2 이상이면, 셀 갭이 한층 더 균일해진다. 상기 배치 밀도가 1000개/mm2 이하이면, 액정 표시 소자의 콘트라스트가 한층 더 양호해진다.In the said liquid crystal display element, the arrangement density of the spacers for liquid crystal display elements per 1 mm2 becomes like this. Preferably it is 10 pieces/ mm2 or more, Preferably it is 1000 pieces/ mm2 or less. When the batch density is 10 pieces/mm 2 or more, the cell gap becomes even more uniform. Contrast of a liquid crystal display element becomes it more favorable that the said arrangement density is 1000 pieces/mm< 2 > or less.

이하, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 구체적으로 설명한다. 본 발명은, 이하의 실시예만으로 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(실시예 1)(Example 1)

(1) 수지 입자의 제작(1) Preparation of resin particles

종입자로서 평균 입자 직경 6.0㎛의 폴리스티렌 입자를 준비하였다. 상기 폴리스티렌 입자 5.0중량부와, 이온 교환수 900중량부와, 폴리비닐알코올의 5중량% 수용액 170중량부를 혼합하여, 혼합액을 제조하였다. 상기 혼합액을 초음파에 의해 분산시킨 후, 세퍼러블 플라스크에 넣고, 균일하게 교반하였다.Polystyrene particles having an average particle diameter of 6.0 µm were prepared as seed particles. 5.0 parts by weight of the polystyrene particles, 900 parts by weight of ion-exchanged water, and 170 parts by weight of a 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol were mixed to prepare a liquid mixture. After the mixture was dispersed by ultrasonication, it was placed in a separable flask and stirred uniformly.

또한, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물 1로서 메타크릴산시클로헥실을 준비하고, 중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물 2로서 이소보르닐아크릴레이트를 준비하였다. 또한, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물로서 디비닐벤젠을 준비하였다.Moreover, cyclohexyl methacrylate is prepared as the 1st polymeric compound 1 which has one polymerizable functional group and has a cyclic organic group, and isoisomer as the 1st polymeric compound 2 which has one polymerizable functional group and has a cyclic organic group. Bornyl acrylate was prepared. Furthermore, divinylbenzene was prepared as a 2nd polymerizable compound which has two or more polymerizable functional groups and has a cyclic organic group.

이어서, 폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트 9중량부와, 디비닐벤젠 1중량부와, 메타크릴산시클로헥실 15중량부와, 이소보르닐아크릴레이트 75중량부를 혼합하여, 혼합물을 얻었다. 얻어진 혼합물에, 과산화벤조일(니치유사제 「나이퍼 BW」) 6.0중량부를 첨가하고, 이온 교환수 1000중량부를 더 첨가하여, 유화액을 제조하였다.Next, 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate, 1 part by weight of divinylbenzene, 15 parts by weight of cyclohexyl methacrylate, and 75 parts by weight of isobornyl acrylate were mixed to obtain a mixture. To the obtained mixture, 6.0 parts by weight of benzoyl peroxide ("Niper BW" manufactured by Nichi Industries Co., Ltd.) was added, and 1000 parts by weight of ion-exchanged water was further added to prepare an emulsion.

세퍼러블 플라스크 중의 상기 혼합액에 상기 유화액을 더 첨가하고, 16시간 교반하고, 종입자에 모노머를 흡수시켜, 모노머가 팽윤된 종입자를 포함하는 현탁액을 얻었다.The said emulsion liquid was further added to the said liquid mixture in a separable flask, and it stirred for 16 hours, the seed particle was made to absorb a monomer, and the suspension containing the seed particle by which the monomer swelled was obtained.

그 후, 폴리비닐알코올의 5중량% 수용액 510중량부를 첨가하고, 가열을 개시하여 85℃에서 10시간 반응시켜, 수지 입자를 얻었다.Then, 510 weight part of 5 weight% of polyvinyl alcohol aqueous solutions were added, heating was started, it was made to react at 85 degreeC for 10 hours, and the resin particle was obtained.

(2) 도전성 입자의 제작(2) Preparation of conductive particles

얻어진 수지 입자를 세정하고, 분급 조작을 행한 후에 건조하였다. 그 후, 무전해 도금법에 의해, 얻어진 수지 입자의 표면에 니켈층을 형성하고, 도전성 입자를 제작하였다. 또한, 니켈층의 두께는, 0.1㎛였다.It dried after wash|cleaning the obtained resin particle and performing classification operation. Then, by the electroless-plating method, the nickel layer was formed in the surface of the obtained resin particle, and electroconductive particle was produced. In addition, the thickness of the nickel layer was 0.1 micrometer.

(3) 도전 재료(이방성 도전 페이스트)의 제작(3) Preparation of conductive material (anisotropic conductive paste)

도전 재료(이방성 도전 페이스트)를 제작하기 위해, 이하의 재료를 준비하였다.In order to produce an electrically-conductive material (anisotropic electrically-conductive paste), the following materials were prepared.

(도전 재료(이방성 도전 페이스트)의 재료) (Material of conductive material (anisotropic conductive paste))

열경화성 화합물 A: 에폭시 화합물(나가세 켐텍스사제 「EP-3300P」)Thermosetting compound A: Epoxy compound ("EP-3300P" manufactured by Nagase Chemtex Corporation)

열경화성 화합물 B: 에폭시 화합물(DIC사제 「EPICLON HP-4032D」)Thermosetting compound B: Epoxy compound ("EPICLON HP-4032D" manufactured by DIC)

열경화성 화합물 C: 에폭시 화합물(욧카이치 고세사제 「에포고세 PT」, 폴리테트라메틸렌글리콜디글리시딜에테르)Thermosetting compound C: Epoxy compound ("Epogose PT" manufactured by Yokkaichi Kosei Co., Ltd., polytetramethylene glycol diglycidyl ether)

열경화제: 열양이온 발생제(산신 가가쿠사제 선에이드 「SI-60」)Thermosetting agent: Thermal cation generator (Sun-Aid “SI-60” manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.)

필러: 실리카(평균 입자 직경 0.25㎛)Filler: Silica (average particle diameter 0.25 µm)

도전 재료(이방성 도전 페이스트)를 이하와 같이 하여 제작하였다.An electrically-conductive material (anisotropic electrically-conductive paste) was produced as follows.

(도전 재료(이방성 도전 페이스트)의 제작 방법) (Method for Producing Conductive Material (Anisotropic Conductive Paste))

열경화성 화합물 A 10중량부와, 열경화성 화합물 B 10중량부와, 열경화성 화합물 C 15중량부와, 열경화제 5중량부와, 필러 20중량부를 배합하여, 배합물을 얻었다. 또한 얻어진 도전성 입자를 배합물 100중량% 중에서의 함유량이 10중량%가 되도록 첨가한 후, 유성식 교반기를 사용하여 2000rpm으로 5분간 교반함으로써, 도전 재료(이방성 도전 페이스트)를 얻었다.10 parts by weight of the thermosetting compound A, 10 parts by weight of the thermosetting compound B, 15 parts by weight of the thermosetting compound C, 5 parts by weight of the thermosetting agent, and 20 parts by weight of the filler were blended to obtain a mixture. Furthermore, after adding the obtained electroconductive particle so that content in 100 weight% of compounds might be set to 10 weight%, the electrically-conductive material (anisotropic electrically-conductive paste) was obtained by stirring at 2000 rpm for 5 minutes using the planetary stirrer.

(4) 접속 구조체의 제작 (4) Fabrication of the bonded structure

제1 접속 대상 부재로서, L/S가 20㎛/20㎛인 알루미늄 전극 패턴을 상면에 갖는 유리 기판을 준비하였다. 또한, 제2 접속 대상 부재로서, L/S가 20㎛/20㎛인 금 전극 패턴(금 전극 두께 20㎛)을 하면에 갖는 반도체 칩을 준비하였다.As a 1st connection object member, the glass substrate which has an aluminum electrode pattern whose L/S is 20 micrometers/20 micrometers on an upper surface was prepared. Moreover, as a 2nd connection object member, the semiconductor chip which has a gold electrode pattern (gold electrode thickness of 20 micrometers) of L/S of 20 micrometers/20 micrometers was prepared on the lower surface.

상기 유리 기판의 상면에, 제작 직후의 도전 재료(이방성 도전 페이스트)를 두께 30㎛가 되도록 도공하고, 도전 재료(이방성 도전 페이스트)층을 형성하였다. 이어서, 도전 재료(이방성 도전 페이스트)층의 상면에 상기 반도체 칩을, 전극끼리가 대향하도록 적층하였다. 그 후, 도전 재료(이방성 도전 페이스트)층의 온도가 170℃가 되도록 헤드의 온도를 조정하면서, 반도체 칩의 상면에 가압 가열 헤드를 올리고, 도전 재료(이방성 도전 페이스트)층을 170℃, 1.0MPa 및 15초간의 조건으로 경화시켜, 접속 구조체를 얻었다.On the upper surface of the said glass substrate, the electrically-conductive material (anisotropic electrically-conductive paste) immediately after preparation was coated so that it might become 30 micrometers in thickness, and the electrically-conductive material (anisotropic electrically conductive paste) layer was formed. Next, the semiconductor chip was laminated on the upper surface of the conductive material (anisotropic conductive paste) layer so that the electrodes were opposed to each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the conductive material (anisotropic conductive paste) layer is 170°C, a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip, and the conductive material (anisotropic conductive paste) layer is 170°C, 1.0 MPa And it hardened on the conditions for 15 second, and the bonded structure was obtained.

(실시예 2) (Example 2)

수지 입자를 제작할 때에, 폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트 9중량부를 메타크릴산메틸 91중량부로 변경하고, 메타크릴산시클로헥실의 배합량을 15중량부로부터 5중량부로 변경하고, 이소보르닐아크릴레이트의 배합량을 75중량부로부터 3중량부로 변경하였다. 상기한 변경 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing resin particles, 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate is changed to 91 parts by weight of methyl methacrylate, and the compounding amount of cyclohexyl methacrylate is changed from 15 parts by weight to 5 parts by weight, and isobornyl acrylate The blending amount was changed from 75 parts by weight to 3 parts by weight. Except for the above-mentioned change, it carried out similarly to Example 1, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(실시예 3) (Example 3)

수지 입자를 제작할 때에, 폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트 9중량부를 2-메타크릴로일옥시에틸애시드 포스페이트 9중량부로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.Conductive particles, conductive material and bonded structure were prepared in the same manner as in Example 1 except that 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate was changed to 9 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate when producing resin particles. got it

(실시예 4) (Example 4)

수지 입자를 제작할 때에, 메타크릴산시클로헥실 5중량부를 페녹시에틸렌글리콜메타크릴레이트 5중량부로 변경한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing resin particle, except having changed 5 weight part of cyclohexyl methacrylate into 5 weight part of phenoxyethylene glycol methacrylate, it carried out similarly to Example 2, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(실시예 5) (Example 5)

수지 입자를 제작할 때에, 메타크릴산시클로헥실 5중량부를 디시클로펜테닐아크릴레이트 5중량부로 변경한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing a resin particle, except having changed 5 weight part of cyclohexyl methacrylate into 5 weight part of dicyclopentenyl acrylates, it carried out similarly to Example 2, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(실시예 6) (Example 6)

수지 입자를 제작할 때에, 디비닐벤젠 1중량부를 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트 1중량부로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing the resin particle, except having changed 1 weight part of divinylbenzene into 1 weight part of tricyclodecane dimethanol diacrylates, it carried out similarly to Example 1, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(비교예 1) (Comparative Example 1)

수지 입자를 제작할 때에, 폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트의 배합량을 9중량부로부터 10중량부로 변경한 것, 및 디비닐벤젠을 배합하지 않도록 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.Conductive particles in the same manner as in Example 1, except that the compounding amount of polytetramethylene glycol diacrylate was changed from 9 parts by weight to 10 parts by weight, and divinylbenzene was not mixed when producing the resin particles; An electrically-conductive material and bonded structure were obtained.

(비교예 2) (Comparative Example 2)

수지 입자를 제작할 때에, 폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트 9중량부를 메타크릴산메틸 94중량부로 변경하고, 메타크릴산시클로헥실의 배합량을 15중량부로부터 5중량부로 변경하고, 이소보르닐아크릴레이트를 배합하지 않도록 변경하였다. 상기한 변경 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing the resin particles, 9 parts by weight of polytetramethylene glycol diacrylate is changed to 94 parts by weight of methyl methacrylate, the compounding amount of cyclohexyl methacrylate is changed from 15 parts by weight to 5 parts by weight, and isobornyl acrylate is It was changed not to mix. Except for the above-mentioned change, it carried out similarly to Example 1, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(비교예 3) (Comparative Example 3)

수지 입자를 제작할 때에, 폴리테트라메틸렌글리콜디아크릴레이트의 배합량을 9중량부로부터 50중량부로 변경한 것, 및 이소보르닐아크릴레이트의 배합량을 75중량부로부터 34중량부로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing the resin particles, the compounding amount of polytetramethylene glycol diacrylate was changed from 9 parts by weight to 50 parts by weight, and the compounding amount of isobornyl acrylate was changed from 75 parts by weight to 34 parts by weight, except that It carried out similarly to Example 1, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(비교예 4) (Comparative Example 4)

수지 입자를 제작할 때에, 메타크릴산시클로헥실 15중량부를 페녹시에틸렌글리콜메타크릴레이트 15중량부로 변경한 것 이외는, 비교예 1과 마찬가지로 하여 도전성 입자, 도전 재료 및 접속 구조체를 얻었다.When producing a resin particle, except having changed 15 weight part of cyclohexyl methacrylate into 15 weight part of phenoxyethylene glycol methacrylate, it carried out similarly to the comparative example 1, and obtained electroconductive particle, an electrically-conductive material, and bonded structure.

(평가) (evaluation)

(1) 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM) 및 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)(1) Content (WM) of a structure derived from a 1st polymeric compound, and content (WD) of a structure derived from a 2nd polymeric compound

중합체를 얻을 때에 사용한 제1, 제2 중합성 화합물의 배합량 및 중합 후의 제1, 제2 중합성 화합물의 잔존량으로부터, 중합한 제1, 제2 중합성 화합물을 구하고, 얻어진 수지 입자의 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM) 및 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)을 산출하였다. 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WM)의, 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량(WD)에 대한 중량비(WM/WD)를 산출하였다.The first and second resin particles obtained by obtaining the polymerized first and second polymerizable compounds from the blending amounts of the first and second polymerizable compounds used to obtain the polymer and the residual amounts of the first and second polymerizable compounds after polymerization Content (WM) of the structure derived from a polymeric compound, and content (WD) of the structure derived from a 2nd polymeric compound were computed. The weight ratio (WM/WD) of content (WM) of the structure derived from a 1st polymeric compound with respect to content (WD) of a structure derived from a 2nd polymeric compound was computed.

(2) 입자 직경 (2) particle diameter

얻어진 수지 입자의 입자 직경(가열 전의 입자 직경)을, 입도 분포 측정 장치(베크만 콜터사제 「Multisizer4」)를 사용하여, 약 100000개의 수지 입자의 입자 직경을 측정하고, 평균값을 산출함으로써 구하였다.The particle diameter (particle diameter before heating) of the obtained resin particles was determined by measuring the particle diameters of about 100000 resin particles using a particle size distribution analyzer (“Multisizer 4” manufactured by Beckman Coulter), and calculating an average value.

이어서, 입자 직경의 측정에 사용한 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열하였다. 1000시간 가열 후의 수지 입자의 입자 직경을, 상술한 방법으로 측정하였다. 얻어진 측정 결과로부터, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비(가열 후의 수지 입자의 입자 직경/가열 전의 수지 입자의 입자 직경)를 산출하였다.Next, the resin particle used for the measurement of a particle diameter was heated at 150 degreeC for 1000 hours. The particle diameter of the resin particle after heating for 1000 hours was measured by the method mentioned above. From the obtained measurement result, the ratio (particle diameter of the resin particle after heating/particle diameter of the resin particle before heating) with respect to the particle diameter of the resin particle before heating of the particle diameter of the resin particle after heating was computed.

(3) 10% K값 및 30% K값(3) 10% K value and 30% K value

얻어진 수지 입자의 10% K값 및 30% K값(가열 전의 30% K값)을, 상술한 방법으로 측정하였다.The 10% K value and 30% K value (30% K value before heating) of the obtained resin particles were measured by the method described above.

이어서, 30% K값의 측정에 사용한 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열하였다. 1000시간 가열 후의 수지 입자의 30% K값을, 상술한 방법으로 측정하였다. 얻어진 측정 결과로부터, 가열 후의 30% K값의 가열 전의 30% K값에 대한 비(가열 후의 30% K값/가열 전의 30% K값)를 산출하였다.Next, the resin particle used for the measurement of the 30% K value was heated at 150 degreeC for 1000 hours. The 30% K value of the resin particle after heating for 1000 hours was measured by the method mentioned above. From the obtained measurement result, the ratio of the 30% K value after heating to the 30% K value before heating (30% K value after heating / 30% K value before heating) was calculated.

(4) 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률(4) Compression recovery rate when subjected to compression deformation by 60%

얻어진 수지 입자의 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률을, 상술한 방법으로 측정하였다.The compression recovery factor at the time of carrying out compression deformation of the obtained resin particle 60% was measured by the method mentioned above.

(5) 도금 상태 (5) Plating state

얻어진 도전성 입자를 150℃에서 1000시간 가열하였다. 가열 후의 도전성 입자의 50개의 도금 상태를, 주사형 전자 현미경에 의해 관찰하였다. 도금 깨짐 또는 도금 박리 등의 도금 불균일의 유무를 평가하였다. 도금 상태를 이하의 기준으로 판정하였다.The obtained electroconductive particle was heated at 150 degreeC for 1000 hours. The plating state of 50 electroconductive particles after heating was observed with the scanning electron microscope. The presence or absence of plating unevenness, such as plating crack or plating peeling, was evaluated. The plating state was judged according to the following criteria.

[도금 상태의 판정 기준] [Criteria for judgment of plating state]

○○: 도금 불균일이 확인된 도전성 입자가 3개 미만○○: less than 3 conductive particles in which plating nonuniformity was confirmed

○: 도금 불균일이 확인된 도전성 입자가 3개 이상 6개 미만(circle): 3 or more and less than 6 electroconductive particles by which plating nonuniformity was confirmed

×: 도금 불균일이 확인된 도전성 입자가 6개 이상x: 6 or more electroconductive particles by which plating nonuniformity was confirmed

(6) 접속 강도 (6) Connection strength

마운트 강도 측정 장치를 사용하여, 얻어진 접속 구조체의 260℃에서의 접속 강도를 측정하였다. 접속 강도를 이하의 기준으로 판정하였다.The connection strength in 260 degreeC of the obtained bonded structure was measured using the mount strength measuring apparatus. Connection strength was judged on the following reference|standard.

[접속 강도의 판정 기준] [Criteria for judgment of connection strength]

○○: 전단 강도가 150N/cm2 이상○○: shear strength of 150N/cm 2 or more

○: 전단 강도가 100N/cm2 이상 150N/cm2 미만○: shear strength of 100N/cm 2 or more and less than 150N/cm 2

×: 전단 강도가 100N/cm2 미만×: shear strength less than 100N/cm 2

(7) 스프링 백 (7) springback

주사형 전자 현미경에 의해, 얻어진 접속 구조체의 접속부에 있어서 스프링 백이 발생하였는지 여부를 관찰하였다. 스프링 백을 이하의 기준으로 판정하였다.With a scanning electron microscope, it was observed whether or not springback generate|occur|produced in the connection part of the obtained bonded structure. Springback was judged according to the following criteria.

[스프링 백의 판정 기준] [Spring Bag Judgment Criteria]

○: 스프링 백이 발생하지 않음○: No springback occurred

×: 스프링 백이 발생함×: Springback occurred

(8) 냉열 사이클 특성(접속 신뢰성)(8) Cooling/heating cycle characteristics (connection reliability)

얻어진 접속 구조체를 -65℃부터 150℃로 가열하고, -65℃로 냉각하는 과정을 1사이클로 하는 냉열 사이클 시험을 1000사이클 실시하였다. 초음파 탐상 장치(SAT)에 의해, 접속부에 있어서 들뜸 또는 박리의 발생의 유무를 관찰하였다. 냉열 사이클 특성(접속 신뢰성)을 이하의 기준으로 판정하였다.1000 cycles of the cooling-heat cycle test which makes 1 cycle the process of heating the obtained bonded structure from -65 degreeC to 150 degreeC, and cooling to -65 degreeC was implemented. The presence or absence of generation|occurrence|production of a float or peeling in a connection part was observed with the ultrasonic flaw detection apparatus (SAT). The cooling/heating cycle characteristics (connection reliability) were determined on the basis of the following criteria.

[냉열 사이클 특성(접속 신뢰성)의 판정 기준][Criteria for determination of cooling/heating cycle characteristics (connection reliability)]

○: 접속부에 들뜸 및 박리 없음○: No floating or peeling at the connection part

×: 접속부에 들뜸 또는 박리가 있음x: There is a float or peeling in the connection part

결과를 하기의 표 1, 2, 3에 나타낸다.The results are shown in Tables 1, 2 and 3 below.

Figure 112019059799069-pct00001
Figure 112019059799069-pct00001

Figure 112019059799069-pct00002
Figure 112019059799069-pct00002

Figure 112019059799069-pct00003
Figure 112019059799069-pct00003

(9) 액정 표시 소자용 스페이서로서의 사용예(9) Examples of use as spacers for liquid crystal display elements

STN형 액정 표시 소자의 제작:Preparation of STN type liquid crystal display element:

이소프로필알코올 70중량부와 물 30중량부를 포함하는 분산매에, 얻어지는 스페이서 분산액 100중량% 중에서 실시예 1 내지 6의 액정 표시 소자용 스페이서(수지 입자)를 고형분 농도가 2중량%가 되도록 첨가하고, 교반하여, 액정 표시 소자용 스페이서 분산액을 얻었다.To a dispersion medium containing 70 parts by weight of isopropyl alcohol and 30 parts by weight of water, the spacer for liquid crystal display (resin particles) of Examples 1 to 6 in 100% by weight of the obtained spacer dispersion is added so that the solid content concentration is 2% by weight, It stirred and obtained the dispersion liquid of the spacer for liquid crystal display elements.

한 쌍의 투명 유리판(세로 50mm, 가로 50mm, 두께 0.4mm)의 한 면에, CVD법에 의해 SiO2막을 증착한 후, SiO2막의 표면 전체에 스퍼터링에 의해 ITO막을 형성하였다. 얻어진 ITO막 구비 유리 기판에, 스핀 코팅법에 의해 폴리이미드 배향막 조성물(닛산 가가쿠사제, SE3510)을 도공하고, 280℃에서 90분간 소성함으로써 폴리이미드 배향막을 형성하였다. 배향막에 러빙 처리를 실시한 후, 한쪽 기판의 배향막측에, 액정 표시 소자용 스페이서를 1mm2당 100개가 되도록 습식 살포하였다. 다른쪽 기판의 주변에 시일제를 형성한 후, 이 기판과 스페이서를 살포한 기판을 러빙 방향이 90°가 되도록 대향 배치시키고, 양자를 접합하였다. 그 후, 160℃에서 90분간 처리하여 시일제를 경화시켜, 빈 셀(액정이 들어가 있지 않은 화면)을 얻었다. 얻어진 빈 셀에, 키랄제를 넣은 STN형 액정(DIC사제)을 주입하고, 이어서 주입구를 밀봉제로 막은 후, 120℃에서 30분간 열 처리하여 STN형 액정 표시 소자를 얻었다.On one side of a pair of transparent glass plates (length 50 mm, width 50 mm, thickness 0.4 mm), a SiO 2 film was deposited by a CVD method, and then an ITO film was formed on the entire surface of the SiO 2 film by sputtering. A polyimide alignment film composition (the Nissan Chemical Company make, SE3510) was coated to the obtained glass substrate with an ITO film by the spin coating method, and the polyimide alignment film was formed by baking at 280 degreeC for 90 minutes. After rubbing an alignment film, it wet-sprayed so that it might become 100 spacers for liquid crystal display elements per 1 mm< 2 > to the alignment film side of one board|substrate. After forming the sealing compound in the periphery of the other board|substrate, this board|substrate and the board|substrate which spread|dispersed the spacer were arrange|positioned so that a rubbing direction might become 90 degrees, and both were bonded together. Then, it processed at 160 degreeC for 90 minutes, the sealing compound was hardened, and the empty cell (screen in which a liquid crystal does not enter) was obtained. STN-type liquid crystal (manufactured by DIC) containing a chiral agent was injected into the obtained empty cell, the injection port was then blocked with a sealing agent, and then heat-treated at 120°C for 30 minutes to obtain an STN-type liquid crystal display element.

얻어진 액정 표시 소자에서는, 실시예 1 내지 6의 액정 표시 소자용 스페이서(수지 입자)에 의해 기판간의 간격이 양호하게 규제되어 있었다. 또한, 액정 표시 소자는, 양호한 표시 품질을 나타내었다. 또한, 액정 표시 소자의 주변 시일제에, 실시예 1 내지 6의 수지 입자를 액정 표시 소자용 스페이서로서 사용한 경우에도, 얻어진 액정 표시 소자의 표시 품질은 양호하였다.In the obtained liquid crystal display element, the space|interval between board|substrates was favorably regulated by the spacer (resin particle) for liquid crystal display elements of Examples 1-6. Moreover, the liquid crystal display element showed favorable display quality. Moreover, even when it used the resin particle of Examples 1-6 for the peripheral sealing compound of a liquid crystal display element as a spacer for liquid crystal display elements, the display quality of the obtained liquid crystal display element was favorable.

1…도전성 입자
2…도전부
11…수지 입자
11A…수지 입자
21…도전성 입자
22…도전부
22A…제1 도전부
22B…제2 도전부
31…도전성 입자
31a…돌기
32…도전부
32a…돌기
33…코어 물질
34…절연성 물질
41…접속 구조체
42…제1 접속 대상 부재
42a…제1 전극
43…제2 접속 대상 부재
43a…제2 전극
44…접속부
51…접속 구조체
52…제1 접속 대상 부재
53…제2 접속 대상 부재
54…접착층
61…갭 제어 입자
62…열경화성 성분
81…액정 표시 소자
82…투명 유리 기판
83…투명 전극
84…배향막
85…액정
86…시일제
One… conductive particles
2… conductive part
11… resin particles
11A… resin particles
21… conductive particles
22… conductive part
22A… first conductive part
22B… 2nd conductive part
31… conductive particles
31a… spin
32… conductive part
32a… spin
33… core material
34… insulating material
41… connection structure
42… 1st connection target member
42a... first electrode
43… 2nd connection target member
43a… second electrode
44… junction
51… connection structure
52... 1st connection target member
53… 2nd connection target member
54… adhesive layer
61... Gap Control Particles
62... thermosetting ingredients
81… liquid crystal display
82… transparent glass substrate
83… transparent electrode
84… alignment film
85… liquid crystal
86… sealed

Claims (15)

중합성 관능기를 1개 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제1 중합성 화합물과, 중합성 관능기를 2개 이상 갖고 또한 환상 유기기를 갖는 제2 중합성 화합물의 중합체이며,
상기 제1 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량의 상기 제2 중합성 화합물에서 유래하는 구조의 함유량에 대한 중량비가 7 이상이고,
수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 입자 직경의 가열 전의 수지 입자의 입자 직경에 대한 비가 0.9 이하인, 수지 입자.
A polymer of a first polymerizable compound having one polymerizable functional group and having a cyclic organic group, and a second polymerizable compound having two or more polymerizable functional groups and having a cyclic organic group,
The weight ratio of the content of the structure derived from the first polymerizable compound to the content of the structure derived from the second polymerizable compound is 7 or more,
The resin particle whose ratio with respect to the particle diameter of the resin particle before heating of the particle diameter of the resin particle after heating is 0.9 or less when a resin particle is heated at 150 degreeC for 1000 hours.
제1항에 있어서, 60% 압축 변형시켰을 때의 압축 회복률이 10% 이하인, 수지 입자.The resin particle according to claim 1, wherein the compression recovery factor when subjected to 60% compression deformation is 10% or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 10% K값이 3000N/mm2 이하인, 수지 입자.The resin particle according to claim 1 or 2, wherein the 10% K value is 3000 N/mm 2 or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 30% K값이 1500N/mm2 이하인, 수지 입자.The resin particle according to claim 1 or 2, wherein the 30% K value is 1500 N/mm 2 or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 수지 입자를 150℃에서 1000시간 가열했을 때에, 가열 후의 수지 입자의 30% K값의 가열 전의 수지 입자의 30% K값에 대한 비가 0.8 이상 1.5 이하인, 수지 입자.The resin according to claim 1 or 2, wherein when the resin particles are heated at 150° C. for 1000 hours, the ratio of the 30% K value of the resin particles after heating to the 30% K value of the resin particles before heating is 0.8 or more and 1.5 or less. particle. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기와 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기가 각각 탄화수소기인, 수지 입자.The resin particle according to claim 1 or 2, wherein the cyclic organic group in the first polymerizable compound and the cyclic organic group in the second polymerizable compound are each a hydrocarbon group. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기가, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기인, 수지 입자.The resin particle according to claim 1 or 2, wherein the cyclic organic group in the first polymerizable compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2 중합성 화합물에 있어서의 환상 유기기가, 페닐렌기, 시클로헥실기 또는 이소보르닐기인, 수지 입자.The resin particle according to claim 1 or 2, wherein the cyclic organic group in the second polymerizable compound is a phenylene group, a cyclohexyl group, or an isobornyl group. 제1항 또는 제2항에 있어서, 애시드 포스페이트 화합물을 포함하는, 수지 입자.The resin particle according to claim 1 or 2, comprising an acid phosphate compound. 제1항 또는 제2항에 있어서, 스페이서로서 사용되거나, 또는 표면 상에 도전부가 형성되며, 상기 도전부를 갖는 도전성 입자를 얻기 위해 사용되는, 수지 입자.The resin particle of Claim 1 or 2 which is used as a spacer, or an electroconductive part is formed on the surface, and is used for obtaining the electroconductive particle which has the said electroconductive part. 제1항 또는 제2항에 기재된 수지 입자와,
상기 수지 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는, 도전성 입자.
The resin particles according to claim 1 or 2,
Electroconductive particle provided with the electroconductive part arrange|positioned on the surface of the said resin particle.
도전성 입자와, 바인더를 포함하고,
상기 도전성 입자가, 제1항 또는 제2항에 기재된 수지 입자와, 상기 수지 입자의 표면 상에 배치된 도전부를 구비하는, 도전 재료.
Conductive particles and a binder,
The electrically-conductive material in which the said electroconductive particle is equipped with the resin particle of Claim 1 or 2, and the electroconductive part arrange|positioned on the surface of the said resin particle.
제1항 또는 제2항에 기재된 수지 입자와,
바인더를 포함하는, 접착제.
The resin particles according to claim 1 or 2,
An adhesive comprising a binder.
제1 전극을 표면에 갖는 제1 접속 대상 부재와,
제2 전극을 표면에 갖는 제2 접속 대상 부재와,
상기 제1 접속 대상 부재와 상기 제2 접속 대상 부재를 접속하고 있는 접속부를 구비하고,
상기 접속부의 재료가, 제1항 또는 제2항에 기재된 수지 입자를 포함하고,
상기 제1 전극과 상기 제2 전극이, 상기 접속부에 의해 전기적으로 접속되어 있는, 접속 구조체.
a first connection object member having a first electrode on its surface;
a second connection object member having a second electrode on its surface;
a connection portion connecting the first connection object member and the second connection object member;
The material of the said connection part contains the resin particle of Claim 1 or 2,
The connection structure in which the said 1st electrode and the said 2nd electrode are electrically connected by the said connection part.
제1 액정 표시 소자용 부재와,
제2 액정 표시 소자용 부재와,
상기 제1 액정 표시 소자용 부재와 상기 제2 액정 표시 소자용 부재의 사이에 배치된 스페이서를 구비하고,
상기 스페이서가 제1항 또는 제2항에 기재된 수지 입자인, 액정 표시 소자.
A member for a first liquid crystal display element;
a member for a second liquid crystal display element;
a spacer disposed between the first member for liquid crystal display elements and the second member for liquid crystal display elements;
The liquid crystal display element whose said spacer is the resin particle of Claim 1 or 2.
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