JP2010194566A - Gma welding method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a GMA welding method capable of carrying out high-efficiency welding while suppressing a spatter generation amount. <P>SOLUTION: In the GMA welding method, an arc Ac is generated by applying an arc voltage between a first contact chip 2 contacting with a wire W and a welding base material WP while feeding the wire W to the welding base material WP in shield gas SG. A first GMA welding current Iwa as a pulse current is made to flow between the first contact chip 2 and the welding base material WP, and a second GMA welding current Iwb as a constant current with its current value controlled to a constant value is made to flow between a second contact chip 3 contacting with the wire W and the welding base material WP. Accordingly, smooth droplet transfer of the wire W and the optimization of the length of the arc Ac are enabled and stable high-efficiency welding having a reduced amount of scattering spatter can be carried out. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、シールドガス内を送られるワイヤを消耗電極として用いるGMA溶接方法に関する。   The present invention relates to a GMA welding method using a wire fed through a shielding gas as a consumable electrode.

従来より、Arなどのシールドガス中において消耗電極としてのワイヤを送給しながらこのワイヤの先端からアークを発生させるGMA溶接が提案されている。このGMA溶接方法においては、ワイヤの溶融量とアーク長を所望の大きさにバランスさせることが、たとえばスパッタ飛散が少ない、安定した溶接を実現するために重要である。   Conventionally, GMA welding has been proposed in which an arc is generated from the tip of a wire while feeding a wire as a consumable electrode in a shielding gas such as Ar. In this GMA welding method, it is important to balance the melting amount of the wire and the arc length to a desired size, for example, to realize stable welding with less spatter scattering.

図2は、従来のGMA溶接方法に用いられる溶接装置の一例を示している(たとえば、特許文献1)。同図に示された溶接装置Xは、シールドノズル91および複数のコンタクトチップ92を備える溶接トーチY、GMA溶接電源PSを備えている。複数のコンタクトチップ92は、それぞれに貫通孔が設けられており、これらが整列するように配置されている。これらの貫通孔には、送給速度Fwで送給されるワイヤWが挿通される。複数のコンタクトチップ92は、GMA溶接電源PSに接続されている。GMA溶接電源PSからは、アークAcを発生させるためのアーク電流Iwが供給される。シールドノズル91と複数のコンタクトチップ92との間には、ArなどのシールドガスSGが供給される。   FIG. 2 shows an example of a welding apparatus used in a conventional GMA welding method (for example, Patent Document 1). The welding apparatus X shown in the figure includes a welding torch Y including a shield nozzle 91 and a plurality of contact tips 92, and a GMA welding power source PS. The plurality of contact chips 92 are each provided with a through hole, and are arranged so that they are aligned. A wire W fed at a feeding speed Fw is inserted through these through holes. The plurality of contact tips 92 are connected to the GMA welding power source PS. An arc current Iw for generating an arc Ac is supplied from the GMA welding power source PS. A shield gas SG such as Ar is supplied between the shield nozzle 91 and the plurality of contact chips 92.

この溶接方法においては、複数のコンタクトチップ92のいずれか1つを用いて、ワイヤWから溶接母材WPへとアーク電流Iwを供給する。これにより、ワイヤWに生じるジュール熱の大きさを調節することが可能であり、ワイヤWの溶融量とアークAcの長さとを所望の大きさに調節することが意図されている。このような構成は、特許文献2に記載されたような、消耗電極から発生する消耗電極アークと、この消耗電極アークを包むようにして非消耗電極から発生する非消耗電極アークとを用いるプラズマGMA溶接方法にも適用することができる。   In this welding method, arc current Iw is supplied from wire W to welding base material WP using any one of a plurality of contact tips 92. Thereby, it is possible to adjust the magnitude of the Joule heat generated in the wire W, and it is intended to adjust the melting amount of the wire W and the length of the arc Ac to a desired magnitude. Such a configuration is a plasma GMA welding method using a consumable electrode arc generated from a consumable electrode and a non-consumable electrode arc generated from a non-consumable electrode so as to wrap around the consumable electrode arc as described in Patent Document 2. It can also be applied to.

しかしながら、溶接速度やワイヤWの送給速度Fwが比較的速い、いわゆる高効率溶接においては、ワイヤWの溶融量がさらに多くなる。ワイヤWの溶融量が多くなるほど、アークAcの長さを所望の大きさに調整することが困難となる。その結果、スパッタの発生量が多くなるなど、溶接が不安定となるという問題があった。   However, in the so-called high-efficiency welding in which the welding speed and the feeding speed Fw of the wire W are relatively fast, the melting amount of the wire W is further increased. As the melting amount of the wire W increases, it becomes more difficult to adjust the length of the arc Ac to a desired size. As a result, there has been a problem that welding becomes unstable, such as an increased amount of spatter.

特開昭52−7846号公報JP-A-52-7846 特開2008−229641号公報JP 2008-229641 A

本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、スパッタ発生量を抑制しつつ、高効率溶接を行うことが可能なGMA溶接方法を提供することをその課題とする。   The present invention has been conceived under the circumstances described above, and an object thereof is to provide a GMA welding method capable of performing high-efficiency welding while suppressing the amount of spatter generated.

本発明によって提供されるGMA溶接方法は、シールドガス中を溶接対象材に向けてワイヤを送給しつつ、上記ワイヤに接触させた接触電極と上記溶接対象材との間にアーク電圧を印加することによりアークを発生させる、GMA溶接方法であって、上記接触電極と上記溶接対象材との間にパルス電流を流すとともに、上記ワイヤに接触させた追加の接触電極と上記溶接対象材との間に、その電流値が一定値に制御された一定電流を流すことを特徴としている。   The GMA welding method provided by the present invention applies an arc voltage between a contact electrode brought into contact with the wire and the welding target material while feeding the wire in a shielding gas toward the welding target material. A GMA welding method for generating an arc by causing a pulse current to flow between the contact electrode and the material to be welded and between the additional contact electrode brought into contact with the wire and the material to be welded. In addition, a constant current whose current value is controlled to a constant value is supplied.

このような構成によれば、上記ワイヤのスムーズな溶滴移行と上記アークの長さの適正化が可能であり、スパッタ飛散量が少ない安定した高効率溶接を行うことができる。   According to such a configuration, it is possible to smoothly transfer the droplet of the wire and optimize the length of the arc, and perform stable high-efficiency welding with a small amount of spatter scattering.

本発明の好ましい実施の形態においては、上記追加の接触電極は、上記接触電極よりも上記溶接対象材に近い位置において上記ワイヤと接触している。このような構成によれば、上記ワイヤに過大なジュール熱が発生することを回避するのに適している。   In a preferred embodiment of the present invention, the additional contact electrode is in contact with the wire at a position closer to the material to be welded than the contact electrode. Such a configuration is suitable for avoiding the generation of excessive Joule heat in the wire.

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。   Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

本発明に係るGMA溶接方法の一例を示すシステム構成図である。It is a system configuration figure showing an example of the GMA welding method concerning the present invention. 従来のGMA溶接方法の一例を示すシステム構成図である。It is a system block diagram which shows an example of the conventional GMA welding method.

以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1は、本発明に係るGMA溶接方法に用いられる溶接装置の一例を示している。本実施形態の溶接装置Aは、溶接トーチB、第1GMA溶接電源PSA、第2GMA溶接電源PSB、送給ローラRw、および送給モータWMを備えている。   FIG. 1 shows an example of a welding apparatus used in the GMA welding method according to the present invention. The welding apparatus A of this embodiment includes a welding torch B, a first GMA welding power source PSA, a second GMA welding power source PSB, a feeding roller Rw, and a feeding motor WM.

溶接トーチBは、シールドガスノズル1内に、第1コンタクトチップ2および第2コンタクトチップ3が同心軸上に配置された構造とされている。溶接トーチBは、通常ロボット(図示略)によって保持された状態で、溶接母材WPに対して移動させられる。   The welding torch B has a structure in which a first contact tip 2 and a second contact tip 3 are arranged on a concentric shaft in the shield gas nozzle 1. The welding torch B is moved relative to the welding base material WP while being held by a normal robot (not shown).

第1コンタクトチップ2は、たとえばCuまたはCu合金製であり、貫通孔21が設けられている。貫通孔21には、消耗電極としてのワイヤWが送給される。第2コンタクトチップ3は、略円筒状であり、たとえば図示しない水冷機構を有するCuまたはCu合金製である。第2コンタクトチップ3には、貫通孔31が設けられている。貫通孔21および貫通孔31は、それぞれの内面がワイヤWと擦れ合う寸法とされている。貫通孔31は、貫通孔21よりもワイヤWの送給方向先端寄りに位置している。ワイヤWは、送給モータWMを駆動源とする送給ローラRwによって送給される。   The first contact chip 2 is made of, for example, Cu or Cu alloy, and is provided with a through hole 21. A wire W as a consumable electrode is fed to the through hole 21. The second contact chip 3 has a substantially cylindrical shape, and is made of, for example, Cu or a Cu alloy having a water cooling mechanism (not shown). A through hole 31 is provided in the second contact chip 3. The through hole 21 and the through hole 31 are sized so that the inner surfaces thereof rub against the wire W. The through hole 31 is located closer to the tip of the wire W in the feeding direction than the through hole 21. The wire W is fed by a feed roller Rw using a feed motor WM as a drive source.

シールドガスノズル1は、略円筒状であり、たとえば図示しない水冷機構を有するCuまたはCu合金製である。シールドガスノズル1には、開口11が設けられている。シールドガスノズル1と第2コンタクトチップ3との間には、たとえばArなどのシールドガスSGが供給される。このシールドガスSGは、開口11から噴出する。この噴出するシールドガスSG内をワイヤWが送給される。   The shield gas nozzle 1 has a substantially cylindrical shape, and is made of, for example, Cu or a Cu alloy having a water cooling mechanism (not shown). The shield gas nozzle 1 is provided with an opening 11. A shield gas SG such as Ar is supplied between the shield gas nozzle 1 and the second contact chip 3. The shield gas SG is ejected from the opening 11. The wire W is fed through the jetting shield gas SG.

第1GMA溶接電源PSAは、第1コンタクトチップ2を介してワイヤWと溶接母材WPとの間に、第1GMA溶接電圧Vwaを印加することにより、パルス電流としての第1GMA溶接電流Iwaを流すための電源である。また、第1GMA溶接電源PSAからは、送給モータWMに対して送給制御信号FCが送られる。第1GMA溶接電源PSAから第1GMA溶接電圧Vwaが印加されるときは、ワイヤWが+側とされる。   The first GMA welding power source PSA applies the first GMA welding voltage Vwa between the wire W and the welding base material WP via the first contact tip 2 to flow the first GMA welding current Iwa as a pulse current. Is the power source. Further, a feed control signal FC is sent from the first GMA welding power source PSA to the feed motor WM. When the first GMA welding voltage Vwa is applied from the first GMA welding power source PSA, the wire W is set to the + side.

第2GMA溶接電源PSBは、第2コンタクトチップ3を介してワイヤWと溶接母材WPとの間に、第2GMA溶接電圧Vwbを印加することにより、一定電流としての第2GMA溶接電流Iwbを流すための電源である。第2GMA溶接電源PSBから第2GMA溶接電圧Vwbが印加されるときは、ワイヤWが+側とされる。   The second GMA welding power source PSB applies a second GMA welding voltage Iwb as a constant current by applying a second GMA welding voltage Vwb between the wire W and the welding base material WP via the second contact tip 3. Is the power source. When the second GMA welding voltage Vwb is applied from the second GMA welding power source PSB, the wire W is set to the + side.

本実施形態においては、送給速度Fwが10m/min程度の高効率溶接を行う。この場合、第1GMA溶接電圧Vwaが30V程度、パルス電流である第1GMA溶接電流Iwaの周波数が200Hz、ベース電流値が50〜60A、ピーク電流値が450〜460A、平均電流値が180A程度である。一方、第2GMA溶接電圧Vwbが30V程度、電流値が一定である第2GMA溶接電流Iwbが100A程度である。   In this embodiment, high-efficiency welding with a feeding speed Fw of about 10 m / min is performed. In this case, the first GMA welding voltage Vwa is about 30 V, the frequency of the first GMA welding current Iwa that is a pulse current is 200 Hz, the base current value is 50 to 60 A, the peak current value is 450 to 460 A, and the average current value is about 180 A. . On the other hand, the second GMA welding voltage Vwb is about 30V, and the second GMA welding current Iwb having a constant current value is about 100A.

次に、本実施形態のGMA溶接方法の作用について説明する。   Next, the effect | action of the GMA welding method of this embodiment is demonstrated.

第1GMA溶接電流Iwaと第2GMA溶接電流Iwbを合計した平均電流値は、280A程度である。仮にパルス電流のみを平均電流値280A程度で供給した場合、ワイヤWの適切な溶滴移行を実現するためには、周波数を280〜300Hz程度に設定することが一般的である。この条件で溶接した場合、送給速度Fw10m/min程度の高効率溶接は可能であるが、スパッタの飛散量が1〜2g/min程度と過大となる。   The average current value obtained by summing the first GMA welding current Iwa and the second GMA welding current Iwb is about 280A. If only the pulse current is supplied at an average current value of about 280 A, in order to realize appropriate droplet transfer of the wire W, it is common to set the frequency to about 280 to 300 Hz. When welding is performed under these conditions, high-efficiency welding with a feeding speed Fw of about 10 m / min is possible, but the amount of spatter scattering becomes excessive, about 1-2 g / min.

これに対し、発明者らの試験によれば、本実施形態においては、スパッタの飛散量は0.5g/min程度と、ごく少量に抑えられた。これは、平均電流値の合計が280A程度であるにもかかわらず、第1GMA溶接電流Iwaの周波数が200Hz程度と比較的低いことが一因であると考えられる。このような安定した溶接は、パルス電流としての第1GMA溶接電流Iwaだけでなく、一定電流としての第2GMA溶接電流Iwbを重畳的に流すことによってワイヤWの適切な溶滴移行を実現しつつ、ワイヤWに供給するエネルギー量を高めることにより、はじめて実現可能である。   On the other hand, according to the tests by the inventors, in the present embodiment, the amount of spatter scattered was suppressed to a very small amount of about 0.5 g / min. This is considered to be due to the fact that the frequency of the first GMA welding current Iwa is relatively low at about 200 Hz, even though the total of the average current values is about 280A. In such stable welding, not only the first GMA welding current Iwa as a pulse current but also the second GMA welding current Iwb as a constant current are flowed in an overlapping manner, thereby realizing appropriate droplet transfer of the wire W, It can be realized only by increasing the amount of energy supplied to the wire W.

また、第2コンタクトチップ3を第1コンタクトチップ2よりもワイヤWの先端寄りにおいてワイヤWと接触させることは、第2GMA溶接電流IwbによってワイヤWに過大なジュール熱が発生することを回避するのに適している。   Also, bringing the second contact tip 3 into contact with the wire W closer to the tip of the wire W than the first contact tip 2 avoids excessive Joule heat from being generated in the wire W by the second GMA welding current Iwb. Suitable for

本発明に係るGMA溶接方法は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係るGMA溶接方法の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。   The GMA welding method according to the present invention is not limited to the above-described embodiment. The specific configuration of the GMA welding method according to the present invention can be modified in various ways.

本発明に係るGMA溶接方法としては、上述した消耗電極アークのみを発生させるものに限定されず、たとえば消耗電極アークと、これを囲む非消耗電極アークとを発生させる、いわゆるプラズマGMA溶接方法に適用してもよい。   The GMA welding method according to the present invention is not limited to the one that generates only the above-described consumable electrode arc, and is applied to, for example, a so-called plasma GMA welding method that generates a consumable electrode arc and a non-consumable electrode arc surrounding the consumable electrode arc. May be.

A 溶接装置
Ac アーク
B 溶接トーチ
FC 送給制御信号
Fw 送給速度
Iwa 第1GMA溶接電流
Iwb 第2GMA溶接電流
PSA 第1GMA溶接電源
PSB 第2GMA溶接電源
Rw 送給ローラ
W ワイヤ
WM 送給モータ
WP 溶接母材(溶接対象材)
1 シールドノズル
2 第1コンタクトチップ(接触電極)
3 第2コンタクトチップ(追加の接触電極)
A welding apparatus Ac arc B welding torch FC feeding control signal Fw feeding speed Iwa first GMA welding current Iwb second GMA welding current PSA first GMA welding power source PSB second GMA welding power source Rw feeding roller W wire WM feeding motor WP welding mother Material (material to be welded)
1 Shield nozzle 2 First contact tip (contact electrode)
3 Second contact tip (additional contact electrode)

Claims (2)

シールドガス中を溶接対象材に向けてワイヤを送給しつつ、
上記ワイヤに接触させた接触電極と上記溶接対象材との間にアーク電圧を印加することによりアークを発生させる、GMA溶接方法であって、
上記接触電極と上記溶接対象材との間にパルス電流を流すとともに、
上記ワイヤに接触させた追加の接触電極と上記溶接対象材との間に、その電流値が一定値に制御された一定電流を流すことを特徴とする、GMA溶接方法。
While feeding the wire through the shielding gas toward the material to be welded,
A GMA welding method for generating an arc by applying an arc voltage between a contact electrode brought into contact with the wire and the material to be welded,
While passing a pulse current between the contact electrode and the material to be welded,
A GMA welding method, wherein a constant current whose current value is controlled to a constant value is allowed to flow between the additional contact electrode brought into contact with the wire and the material to be welded.
上記追加の接触電極は、上記接触電極よりも上記溶接対象材に近い位置において上記ワイヤと接触している、請求項1に記載のGMA溶接方法。   The GMA welding method according to claim 1, wherein the additional contact electrode is in contact with the wire at a position closer to the welding target material than the contact electrode.
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