JP2010188497A - 有機分子膜被覆ナノ結晶粒子と有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法。 - Google Patents
有機分子膜被覆ナノ結晶粒子と有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法。 Download PDFInfo
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Abstract
本発明は、欠陥のない有機分子膜被覆ナノ結晶粒子を提供するのみならず、これを含む有機分子膜被覆ナノ粒子の製造工程を極めて簡便にすることができた製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、ナノ結晶粒子の表面が有機分子膜にて被覆されてなる有機分子膜被覆ナノ結晶粒子であって、前記ナノ結晶粒子の表面全体が有機分子膜にて被覆されていることを特徴とし、有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法であって、ナノ粒子の母材となるターゲット材料を表面修飾用の有機分子液中に浸漬した状態でレーザー照射し、前記ターゲット材料から前記有機分子液中にナノ粒子を放散させ、その表面に前記有機分子を結合させることを特徴とする。
本発明は、上記の製造方法において、前記ターゲット材料が、前記レーザー照射によって放散されたナノ粒子の表面に酸化膜が生じない性質を有することを特徴とし、前記ターゲット材料が、予め表面を水素終端化されていることを特徴とする。
【選択図】 図7
Description
当該方法により得られた有機分子膜被覆ナノ結晶粒子は、粒子表面の一部に有機分子が存在しない部分を有するものであった。
また、従来の方法は、ナノ結晶粒子の生成と、得られた粒子表面への有機分子の修飾とを別工程で行う必要があるとされていた。
発明2は、有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法であって、ナノ粒子の母材となるターゲット材料を表面修飾用の有機分子液中に浸漬した状態でレーザー照射して、前記ターゲット材料から前記有機分子液中にナノ粒子を放散させ、その表面に前記有機分子を結合させることを特徴とする。
発明3は、発明2の製造方法において、前記ターゲット材料が、前記レーザー照射によって放散されたナノ粒子の表面に酸化膜が生じない性質を有することを特徴とする。
発明4は、発明2の製造方法において、前記ターゲット材料が、予め表面を水素終端化されていることを特徴とする。
また、発明2の製造方法により、従来に比べ極めて簡便な方法で、有機分子膜被覆ナノ粒子を生成できた。
このような有機分子膜被覆ナノ粒子が得られる理由は、レーザー照射により放出されたクラスターが、表面修飾用の有機分子液中で急冷され、ナノ粒子構造を構築すると同時に、その表面が前記有機分子と結合するために得られた現象である。
また、クラスターの放出時点で非酸化雰囲気を維持することにより、当該粒子表面はラジカル(未結合手)で終端されており極めて活性が高いので、そこへ1−アルケン等の有機分子が容易に結合することとなり、粒子表面に欠陥なく有機分子を結合させることができたものと考えられる。
特に、粒子成分がSiである場合は、Si―C界面結合を有した無機有機融合体を構築することで、ナノ結晶粒子の表面エネルギーが下げられることにより安定化するためであると考えられる。
なお、ここでいう金属材料は、例えば、シリコン、ゲルマニウム、炭化珪素、砒化ガリウム、InP、ZnTe等の半導体であってもよい。また、金属化合物材料としては、各種の遷移元素金属、典型元素金属又は半金属の酸化物、窒化物、炭化物等が挙げられ、中でも酸化亜鉛、チタニア、アルミナ、マグネシア、ベリリア、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、Fe、Cr、W、Mo、V等の金属元素の炭化物が好ましい。
なお、ここでいう金属化合物材料は複数の金属元素を含有していてもよく、更に非金属元素を含んでいてもよい。液相としては、1−アルケンを実施例に示したが、これは、ターゲット材料をシリコンとした場合に、Si-C結合による修飾が本発明においても可能なことを明らかにする為である。
逆に比較例1は、Si-C結合が生じない有機分子を用いた例を明らかにする為に示した。
この両者より明らかな通り、材料的に結合可能な無機粒子と有機分子の組み合わせであれば、本発明の方法によりナノ粒子表面を有機分子で修飾することが可能である。
よって、前記各ターゲット材料を用いる場合は、それぞれから生成される無機粒子に対して結合可能な末端基を有している有機分子であれば、液相成分としえると考えられる。
なお、実施例において、1−アルケンに代わり、不飽和結合逆末端部位をメチル基からアルデヒド基、カルボキシル基、アルコキシ基、スルホ基、フェニル基、エチル基、プロピル基へ置換した分子を用いた場合も、各々の機能性官能基を末端に有するシリコンナノ結晶粒子が作製可能である。
さらに、液相成分として用いる有機分子が高粘度などで当該方法に用いることが困難な場合は、これを溶媒和して用いることも考えられるが、この場合、その溶媒は、比較例2に示すような、粒子に対して活性の因子を持たないものを選択することで、溶媒による誤修飾をさけることができる。
下記実施例においては、粒子表面が酸化被膜で覆われると修飾するのは不可能であるから、もし溶媒を用いるとしても、水は使用できないと考えられる。また、含水有機溶媒の使用も有機分子の被覆密度を低下させるので好ましくない。
具体的には、表1の実験No.1から35に示す、1−アルケン(CnH2n)100%の常温の液相中に、水素終端化シリコンウェハーを浸漬し、Nd:YAGレーザ(波長によりそれぞれ所定の照射密度でレーザー照射し、その後30分経過後に、前記ウェハを液相より取り出し、エバポレータなどにより未反応の液相成分を除去して、大気中に取出し、ナノ結晶粒子を得た。
試料の分析は、日立分光蛍光光度計F−7000を用いたPL(Photoluminescence:フォトルミネッセンス)測定、FT−IR(フーリエ赤外分光法)測定、及び、TEM(Transmission Electron Microscopy)によって、評価した。
その結果、当該試料は、いずれも高い分子密度を有するアルキル単分子膜にキャッピングされ、平均粒子サイズが5nm以下のダイヤモンド構造を有した非酸化シリコンナノ結晶粒子から構成されていた。
つまり、シリコンナノ粒子の表面が外気に曝されても、酸化しなかったことを示し、当該粒子の全周囲が液相を構成した有機単分子により修飾されていることが明らかとなった。
前記実施例と同様な方法で得られたナノ結晶粒子を分析した結果、平均粒径5nm以下のダイヤモンド構造を有するナノ結晶粒子であり、その表面は、有機単分子修飾されなかったため、大気中へ取り出した際に、粒子表面が酸化され、酸化シリコン膜により被覆されたナノ結晶粒子から構成されていた。
精製は、濾過後、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて行った。得られたナノ粒子を前記実施例と同様な方法で分析した結果、オクタン単分子膜で被覆された、平均粒径5nm以下の非酸化シリコンナノ粒子から構成されていることが確認されたが、ラマン分光法によりナノ粒子の多くはダイヤモンド構造を有してはいなかった。
(表1の実験No.38)
また、ラマン分光法によりナノ粒子の多くはダイヤモンド構造を有してはいなかった。(表1の実験No.38)
上記いずれの比較例においても、全周が有機分子に覆われたナノ結晶粒子は得られなかった。
Claims (4)
- ナノ結晶粒子の表面が有機分子膜にて被覆されてなる有機分子膜被覆ナノ結晶粒子であって、前記ナノ結晶粒子の表面全体が有機分子膜にて被覆されていることを特徴とする有機分子膜被覆ナノ結晶粒子。
- 有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法であって、ナノ粒子の母材となるターゲット材料を表面修飾用の有機分子液中に浸漬した状態でレーザー照射して、前記ターゲット材料から前記有機分子液中にナノ粒子を放散させ、その表面に前記有機分子を結合させることを特徴とする有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法。
- 請求項2に記載の製造方法において、前記ターゲット材料が、前記レーザ照射によって放散されたナノ粒子の表面に酸化膜が生じない性質を有することを特徴とする有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法。
- 請求項2に記載の製造方法において、前記ターゲット材料がその表面を水素終端化されてなることを特徴とする有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012167175A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Hiroshima Univ | ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法 |
JP2013095850A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | National Institute For Materials Science | ゲルマニウムナノ粒子蛍光体及びその製造方法 |
JP2016072286A (ja) * | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 京セラ株式会社 | ナノ複合材料およびナノ複合材料分散溶液、ならびに光電変換装置 |
JP2016216579A (ja) * | 2015-05-18 | 2016-12-22 | 国立大学法人群馬大学 | 発光シリコン粒子及び発光シリコン粒子の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003309061A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Japan Science & Technology Corp | シリコンウェハー上の有機単分子膜の光パターニング |
JP2005200643A (ja) * | 2003-12-15 | 2005-07-28 | Rikogaku Shinkokai | ポリマー被覆微粒子の製造方法およびポリマー被覆微粒子 |
JP2007277038A (ja) * | 2006-04-06 | 2007-10-25 | Sony Corp | ポリシラン修飾シリコン微粒子の製造方法およびシリコン膜の形成方法 |
JP2010100061A (ja) * | 2001-01-26 | 2010-05-06 | Nanogram Corp | ポリマー−無機粒子複合物 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010100061A (ja) * | 2001-01-26 | 2010-05-06 | Nanogram Corp | ポリマー−無機粒子複合物 |
JP2003309061A (ja) * | 2002-04-18 | 2003-10-31 | Japan Science & Technology Corp | シリコンウェハー上の有機単分子膜の光パターニング |
JP2005200643A (ja) * | 2003-12-15 | 2005-07-28 | Rikogaku Shinkokai | ポリマー被覆微粒子の製造方法およびポリマー被覆微粒子 |
JP2007277038A (ja) * | 2006-04-06 | 2007-10-25 | Sony Corp | ポリシラン修飾シリコン微粒子の製造方法およびシリコン膜の形成方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6013041757; Akihito Imanishi, et al.: 'Si(111) surface modified with alpha,beta-unsaturated carboxyl groups studied by MIR-FTIR.' Langmuir 24, 20080710, 10755-10761, ACS Publications * |
JPN6013041757; Akihito Imanishi, et al.: 'Si(111) surface modified with alpha,beta-unsaturated carboxyl groups studied by MIR-FTIR.' Langmuir 24, 20080823, 10755-10761, ACS Publications * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012167175A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Hiroshima Univ | ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法 |
JP2013095850A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | National Institute For Materials Science | ゲルマニウムナノ粒子蛍光体及びその製造方法 |
JP2016072286A (ja) * | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 京セラ株式会社 | ナノ複合材料およびナノ複合材料分散溶液、ならびに光電変換装置 |
JP2016216579A (ja) * | 2015-05-18 | 2016-12-22 | 国立大学法人群馬大学 | 発光シリコン粒子及び発光シリコン粒子の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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