JP2010184245A - 塗膜剥離装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】
効率よく塗膜を剥離することができる塗膜剥離装置を提供することにある。
【解決手段】
レーザ光を用いた塗膜剥離装置において、剥離させたい塗膜にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、剥離させたい塗膜を加熱する加熱手段とを備え、また剥離させたい塗膜に風圧を加える吹付手段、剥離させたい塗膜の周囲を覆う飛散防止手段、剥離された塗膜を回収する集塵手段、レーザ光を剥離させたい塗膜に誘導するレーザ光伝達手段等を備えることを特徴とする。
【選択図】図1
効率よく塗膜を剥離することができる塗膜剥離装置を提供することにある。
【解決手段】
レーザ光を用いた塗膜剥離装置において、剥離させたい塗膜にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、剥離させたい塗膜を加熱する加熱手段とを備え、また剥離させたい塗膜に風圧を加える吹付手段、剥離させたい塗膜の周囲を覆う飛散防止手段、剥離された塗膜を回収する集塵手段、レーザ光を剥離させたい塗膜に誘導するレーザ光伝達手段等を備えることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザ光を用いた塗膜剥離装置に関する。
従来より、各種塗膜の剥離には、剥離対象の塗膜にレーザ光を照射する方法が用いられている。例えば、特許文献1に示されるレーザ処理装置では、レーザ光を集光もしくは発散し処理対象物の表面に照射するレンズと、レンズを支持し処理対象物表面からレンズまでの高さを調節可能なレンズ支持機構と、処理対象物の表面のレーザ光照射部分にガスを吹き付けるガス噴出手段と備え、ガスを処理対象物の表面に吹き付けることにより、処理対象物の表面温度の上昇を抑制するようにしている。
また、他の例として特許文献2に示されるレーザ処理装置では、レーザ光を処理対象物の表面に照射し、かつ処理対象物の表面におけるレーザ光のエネルギ密度を変化させることができるエネルギ密度可変光学系を用いて、表面に塗装膜が形成された処理対象物の表面にレーザ光を照射し、塗装膜を除去する工程において、処理対象物の表面のレーザ光照射部もしくはその近傍の温度を観測し、温度を観測する工程で得られた温度を基準温度と比較し、基準温度よりも高い場合には異常処理を実行するようにしている。
しかしながら、従来の塗膜剥離装置であるレーザ処理装置は、温度管理を温度を抑える目的で行っており、塗膜の剥離の効率を向上させることは困難である。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、効率よく塗膜を剥離することができる塗膜剥離装置を提供することにある。
請求項1記載の塗膜剥離装置は、剥離させたい塗膜にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、剥離させたい塗膜を加熱する加熱手段とを備えることを特徴とする。
請求項2記載の塗膜剥離装置は、剥離させたい塗膜に風圧を加える吹付手段を備えることを特徴とする。
請求項3記載の塗膜剥離装置は、剥離させたい塗膜の周囲を覆う飛散防止手段を備えることを特徴とする。
請求項4記載の塗膜剥離装置は、剥離された塗膜を回収する集塵手段を備えることを特徴とする。
請求項5記載の塗膜剥離装置は、レーザ光照射手段で照射されたレーザ光を、剥離させたい塗膜に誘導するレーザ光伝達手段を備えることを特徴とする。
請求項1の発明によれば、剥離させたい塗膜にレーザ光を照射し、且つ剥離させたい塗膜を加熱することで、効率よく塗膜を剥離することができる。
請求項2の発明によれば、剥離させたい塗膜に風圧を加えることで、塗膜の剥離を促すことができる。
請求項3の発明によれば、剥離させたい塗膜の周囲を覆う飛散防止手段を備えることから、レーザ光の照射によって生じる散乱光、融解物、塵等の飛散を防止することができる。
請求項4の発明によれば、剥離された塗膜を回収する集塵手段を備えることから、剥離を促すと共に、融解物、塵等を容易に且つ効率的に回収することができる。
請求項5の発明によれば、レーザ光照射手段で照射されたレーザ光を、剥離させたい塗膜に誘導するレーザ光伝達手段を備えることから、剥離させたい塗膜の近くまでレーザ光を誘導でき、効率的に剥離させたい塗膜にレーザ光を照射することができる。
以下、本発明の形態について図面を参照しながら具体的に説明する。本発明の形態における塗膜剥離装置は、剥離対象の塗膜にレーザ光を照射して、塗膜を剥離させるものである。図1は、本発明に係る塗膜剥離装置の一例を示す説明図である。
図にいて、塗膜剥離装置1は、ファイバレーザ10、吹き付け機20、カバー30、集塵機40等から構成されている。ファイバレーザ10は、剥離したい塗膜fにレーザ光を照射するレーザ光照射手段であり、レーザ光源12,ファイバ14、レーザヘッド16を有している。レーザ光源12のレーザの種類は、例えば、半導体レーザ、半導体励起レーザ、YAGレーザ、炭酸ガスレーザ等である。連続発振レーザでもパルスレーザでもよく、波長は例えば300nm〜11μmである。また、レーザ光のパワーは、約0.01w〜100kWで、パルス幅は、連続発振の他、パルスの場合には約1s〜0.1psである。レーザ光源12から発射されたレーザ光は、ファイバ14を通ってレーザヘッド16に導かれる。レーザヘッド16には、剥離したい塗膜fの照射部f1にレーザ光を照射を誘導するためのレーザ光のビーム径を拡大するエキスパンダや、1軸方向又は多軸方向のレーザ走査光学系であるガルバノやポリゴンミラー等が設けられている。
吹き付け機20は、温風を照射部f1に吹き付けるもので、本実施の形態の吹き付け機20は、剥離させたい塗膜fを加熱する加熱手段と、塗膜fに風圧を加える吹付手段とを兼ねている。吹き付け機20は、約0.1MPa〜10MPaのガス圧で、空気、窒素、アルゴン、ヘリウム等の反応性の低い気体を噴出する。また、吹き付け流量は、約0.1リットル毎分〜30リットル毎分である。さらに、吹き付け温度は、塗膜fを融点近くまで加熱できる温度で、約60度〜100度程度である。
尚、本実施の形態では、吹付手段と加熱手段とが同一の吹き付け機20で構成されているが、別々の手段で構成されている場合にも、吹き付け機20と同等の性能を有しているものであればよい。使用可能な加熱手段としては、例えばランプ(水銀ランプ、キセノンランプ等)、熱風機(ドライヤー等)、ヒーター(赤外線ヒーター、ハロゲンヒーター等)で、塗膜fを融点付近まで加熱可能なものであればよい。また、炭酸ガスレーザのように、レーザ光照射と加熱とを同時に行える種類のレーザ光照射手段を用いることも可能である。
カバー30は、塗膜fの照射部f1周辺を覆うものであり、照射によって発生する散乱光、融解物、塵等の飛散を防止するものである。また、集塵機40は、剥離された塗膜やレーザ光の照射による反応生成物等を吸い取るもので、吸気圧は、例えば約0.03MPa〜0.1MPaである。
具体的には、有機塗膜に、パワー70W程度で、波長が約1μmのパルスレーザを照射し、塗膜fの照射部f1の温度を融点近くの100℃程度まで熱するようにする。尚、カバー30には、タイヤ32が設けられ、実際に塗膜を剥離する場合は、塗膜剥離装置1を移動させながら剥離を行う。
以上のように、本実施の形態の塗膜剥離装置1によれば、剥離させたい塗膜fにレーザ光を照射し、且つ剥離させたい塗膜fを加熱することで、効率よく塗膜fを剥離することができる。また、吹き付け機20で剥離させたい塗膜fに風圧を加えることで、塗膜fの剥離を促すことができる。
さらに、剥離させたい塗膜fの周囲を覆う飛散防止手段であるカバー30を備えることから、レーザ光の照射によって生じる散乱光、融解物、塵等の飛散を防止することができる。さらに。剥離された塗膜fを回収する集塵手段である集塵機40を備えることから、剥離を促すと共に、融解物、塵等を容易に且つ効率的に回収することができる。
さらに、レーザ光照射手段であるレーザ光源から照射されたレーザ光を、剥離させたい塗膜fに誘導するレーザ光伝達手段(ファイバ14及びレーザヘッド16)を備えることから、剥離させたい塗膜fの近くまでレーザ光を誘導でき、効率的に剥離させたい塗膜fにレーザ光を照射することができる。
以上のように、効率よく塗膜を剥離することができる塗膜剥離装置を提供することができる。
1・・・・塗膜剥離装置
10・・・ファイバレーザ
12・・・レーザ光源
14・・・ファイバ
16・・・レーザヘッド
20・・・吹き付け機
30・・・カバー
32・・・タイヤ
40・・・集塵機
f・・・・塗膜
f1・・・照射部
f2・・・下地
10・・・ファイバレーザ
12・・・レーザ光源
14・・・ファイバ
16・・・レーザヘッド
20・・・吹き付け機
30・・・カバー
32・・・タイヤ
40・・・集塵機
f・・・・塗膜
f1・・・照射部
f2・・・下地
Claims (5)
- レーザ光を用いた塗膜剥離装置において、
剥離させたい塗膜にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、
該剥離させたい塗膜を加熱する加熱手段とを備えることを特徴とする塗膜剥離装置。 - 前記剥離させたい塗膜に風圧を加える吹付手段を備えることを特徴とする請求項1記載の塗膜剥離装置。
- 前記剥離させたい塗膜の周囲を覆う飛散防止手段を備えることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の塗膜剥離装置。
- 剥離された塗膜を回収する集塵手段を備えることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の塗膜剥離装置。
- 前記レーザ光照射手段で照射されたレーザ光を、前記剥離させたい塗膜に誘導するレーザ光伝達手段を備えることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の塗膜剥離装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009028039A JP2010184245A (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | 塗膜剥離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2009028039A JP2010184245A (ja) | 2009-02-10 | 2009-02-10 | 塗膜剥離装置 |
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---|---|
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013541464A (ja) * | 2010-11-23 | 2013-11-14 | シー.ロブ.ハマースタイン ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲー | 車両シートの長手方向調整装置の摺動レールを製造する方法及び装置 |
JP2014079664A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Toyokoh Co Ltd | 塗膜除去方法及びレーザー照射装置 |
JP5574354B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2014-08-20 | 株式会社トヨコー | 塗膜除去方法及びレーザー塗膜除去装置 |
WO2018025495A1 (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
JP2018024014A (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-15 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
KR102002014B1 (ko) * | 2019-02-18 | 2019-10-01 | 주식회사 삼성씨앤엠 | 레이져 시스템을 이용한 교량 및 구조물 지지보용 도장층 제거장치 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10309899A (ja) * | 1997-05-12 | 1998-11-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ処理装置及び塗装除去方法 |
JP2002103076A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Yaskawa Electric Corp | レーザマーキング装置およびレーザマーキング方法 |
JP2008213022A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Mitsumi Electric Co Ltd | レーザー加工方法及びこれに用いる集塵装置 |
JP2008215020A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Taisei Corp | 床面加工装置 |
-
2009
- 2009-02-10 JP JP2009028039A patent/JP2010184245A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10309899A (ja) * | 1997-05-12 | 1998-11-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ処理装置及び塗装除去方法 |
JP2002103076A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-09 | Yaskawa Electric Corp | レーザマーキング装置およびレーザマーキング方法 |
JP2008213022A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Mitsumi Electric Co Ltd | レーザー加工方法及びこれに用いる集塵装置 |
JP2008215020A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Taisei Corp | 床面加工装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013541464A (ja) * | 2010-11-23 | 2013-11-14 | シー.ロブ.ハマースタイン ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲー | 車両シートの長手方向調整装置の摺動レールを製造する方法及び装置 |
US11135681B2 (en) | 2012-03-09 | 2021-10-05 | TOYOKOH, Co., Ltd. | Laser irradiation device, laser irradiation system, and method for removing coating or adhering matter |
JP5574354B2 (ja) * | 2012-03-09 | 2014-08-20 | 株式会社トヨコー | 塗膜除去方法及びレーザー塗膜除去装置 |
JP2014210290A (ja) * | 2012-03-09 | 2014-11-13 | 株式会社トヨコー | レーザー照射装置、レーザー照射システム及び塗膜又は付着物除去方法 |
JPWO2013133415A1 (ja) * | 2012-03-09 | 2015-07-30 | 株式会社トヨコー | 塗膜除去方法及びレーザー塗膜除去装置 |
US9868179B2 (en) | 2012-03-09 | 2018-01-16 | TOYOKOH, Co., Ltd. | Laser irradiation device, laser irradiation system, and method for removing coating or adhering matter |
JP2014079664A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Toyokoh Co Ltd | 塗膜除去方法及びレーザー照射装置 |
WO2018025495A1 (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-08 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
CN109562489A (zh) * | 2016-08-04 | 2019-04-02 | 株式会社日本制钢所 | 激光剥离装置、激光剥离方法以及有机el显示器制造方法 |
JP2018024014A (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-15 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
JP6999264B2 (ja) | 2016-08-04 | 2022-01-18 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
US11471974B2 (en) | 2016-08-04 | 2022-10-18 | Jsw Aktina System Co., Ltd. | Laser lift-off apparatus, laser lift-off method, and method for manufacturing organic el display |
KR102002014B1 (ko) * | 2019-02-18 | 2019-10-01 | 주식회사 삼성씨앤엠 | 레이져 시스템을 이용한 교량 및 구조물 지지보용 도장층 제거장치 |
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