JP2010183443A - 固体撮像装置及びその駆動方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】センサアレイSAと、メモリ部Mと、信号判定部DCとを有し、センサアレイは、第1信号S1と第2信号S2をシーケンシャルに画素出力として出力する画素が半導体基板にアレイ状に複数個集積された構成であり、メモリ部Mは、アレイ状に集積された画素のカラムごとに設けられ、第1信号または第2信号を記憶し、信号判定部DCは、画素からメモリ部Mに第1信号が入力されたとき、第1信号を使用可能か判定し、第1信号を選択すると判定したときに第2信号を廃棄してメモリ部Mに出力せず、第2信号を選択すると判定されたときにメモリ部Mに第2信号を上書きするように、信号を出力する。
【選択図】図4
Description
例えば、特許文献1〜4などに広ダイナミックレンジ化を実現する固体撮像装置が開示されているが、これらの固体撮像装置は高感度高S/N比を維持したままで広ダイナミックレンジ化を達成することが困難であり、この課題を解決するために特許文献5に記載の固体撮像装置が開発された。
特許文献5に記載の固体撮像装置においては、各画素のフォトダイオードから溢れた光電荷をフローティングディフュージョン及び静電容量素子に蓄積する構成となっており、各画素の信号として、光電子がフォトダイオードから溢れなかった場合にはフォトダイオード内の光電子からS1信号を読み出し、溢れた場合にはフォトダイオード内の光電子とフォトダイオードから溢れた光電子を合わせてS2信号を読み出すものである。
複数個の画素がアレイ状に集積されて受光面となるセンサアレイSAに対してアレイの各ラインに接続して2方向にアナログメモリM1,M2が設けられている。
アナログメモリM1には、ライン毎に2つのキャパシタが設けられている。各画素から上記のS1信号に対応するノイズレベルであるN1信号と、N1信号とS1信号の差分を取ったNS1信号(N1−S1に相当)とが、アナログメモリM1の2つのキャパシタで記憶された後、出力される。
一方、アナログメモリM2においてもライン毎に2つのキャパシタが設けられている。各画素から上記のS2信号に対応するノイズレベルであるN2信号と、N2信号とS2信号の差分を取ったNS2信号(N2−S2に相当)とが、アナログメモリM2の2つのキャパシタで記憶された後、出力される。
複数個(図面上は代表して4個)の画素(Pixel)がアレイ状に配置されており、各画素(Pixel)には行シフトレジスタSRVで制御された駆動ライン(φT,φS,φR,φX)と、電源VDDおよびグラウンドGNDなどが接続されている。
各画素(Pixel)から、列シフトレジスタSRHおよび駆動ライン(φNS1,φN1,φNS2,φN2)で制御されて、上述のN1信号と、NS1信号、N2信号及びNS2信号が、キャパシタCAPを有するアナログメモリM1,M2で記憶され、出力される。図面は等価回路を示すのでアナログメモリM1,M2はセンサアレイの一方向において表されているが、実際には図15に示すように、アナログメモリM1とアナログメモリM2の間にセンサアレイSAが配置された構成となっている。
まず、第1ステップST1として、S1信号を読み出す。これは、上記のNS1信号及びN1信号をアナログメモリM1に読み出し、それらの差分演算などにより得られる。
次に、第2ステップST2として、S2信号を読み出す。これは、上記のNS2信号及びN2信号をアナログメモリM2に読み出し、それらの差分演算などにより得られる。
次に、第3ステップST3として、上記のようにして読み出したS1信号とS2信号を出力する。
次に、第4ステップST4として、S1信号を各画素についてチェックする。即ち、第5ステップST5に示すように、S1信号を所定の閾値Tと比較するものである。
S1信号が閾値Tより小さい場合には、第6ステップST6に示すように、画素信号としてS1信号を用いる。
一方、S1信号が閾値T以上である場合には、第7ステップST7に示すように、画素信号としてS2信号を用いる。
次に、第8ステップST8に示すように次の画素について第5ステップST5以降のステップを繰り返す。
特に、キャパシタなどからなるアナログメモリ及びADコンバータはCMOSイメージセンサ全体に対して占有する面積が大きく、CMOSイメージセンサの小型化を阻害する要因となっていた。
センサアレイは、第1信号と第2信号をシーケンシャルに画素出力として出力する画素が半導体基板にアレイ状に複数個集積された構成である。
メモリ部は、アレイ状に集積された画素のカラムごとに設けられ、第1信号または第2信号を記憶する。
信号判定部は、画素からメモリ部に第1信号が入力されると、第1信号を画素信号として使用可能かを判定し、第1信号を選択すると判定されると、第2信号はメモリ部に出力されず、第2信号を選択すると判定されると、メモリ部に第2信号が上書きされる。
本実施形態に係る固体撮像装置はCMOSイメージセンサである。
図1は本実施形態に係るCMOSイメージセンサの模式構成図である。本実施形態のCMOSイメージセンサは、広ダイナミックレンジ化されている。即ち、後述するように、各画素のフォトダイオードから溢れた光電荷をフローティングディフュージョン及び静電容量素子に蓄積する構成となっており、各画素の信号として、光電子がフォトダイオードから溢れなかった場合にはフォトダイオード内の光電子からS1信号を読み出し、溢れた場合にはフォトダイオード内の光電子とフォトダイオードから溢れた光電子を合わせてS2信号を読み出すものである。
アナログメモリMには、ライン毎に2つのキャパシタが設けられている。各画素から上記のS1信号に対応するノイズレベルであるN1信号と、N1信号とS1信号の差分を取ったNS1信号(N1−S1に相当)とが、アナログメモリMの2つのキャパシタで記憶された後、出力される。
アレイ状に集積された画素のカラムごとにアナログメモリが設けられ、アナログメモリに接続して信号判定部が設けられている。
信号判定部は、画素からアナログメモリにS1信号が入力されたとき、S1信号を使用可能か判定する。S1信号を選択すると判定したときにS2信号を廃棄してメモリ部に出力せず、S2信号を選択すると判定されたときにアナログメモリにS2信号を上書きするように、信号を出力する。
各画素は、光を受光して光電荷を生成および蓄積するフォトダイオードPD、フォトダイオードPDからの光電荷を転送する転送トランジスタTr1、転送トランジスタTr1を通じて光電荷が転送されるフローティングディフュージョンFD、蓄積動作時に前記フォトダイオードから溢れる光電荷を蓄積する蓄積容量素子CS、フローティングディフュージョンFDと蓄積容量素子CSのポテンシャルを結合または分割する蓄積トランジスタTr2、フローティングディフュージョンFDに蓄積トランジスタを介して接続して形成され、フローティングディフュージョンFD内の光電荷を排出するためのリセットトランジスタTr3、フローティングディフュージョンFD内の光電荷を電圧信号に増幅変換する増幅トランジスタ(ソースフォロワ)Tr4、および、ソースフォロワに接続して形成され、画素を選択するための選択トランジスタTr5から構成されており、いわゆる5トランジスタ型のCMOSイメージセンサである。例えば、上記の5つのトランジスタはいずれもnチャネルMOSトランジスタからなる。
選択トランジスタTr5,駆動ラインφXについては、画素の選択、非選択動作ができるように、フローティングディフュージョンFDの電圧を適宜な値に固定できればよいから、それらを省略することも可能である。
複数個(図面上は代表して4個)の画素(Pixel)がアレイ状に配置されており、各画素(Pixel)には行シフトレジスタSRVで制御された駆動ライン(φT,φS,φR,φX)と、電源VDDおよびグラウンドGNDなどが接続されている。
各画素(Pixel)から、列シフトレジスタSRHおよび駆動ライン(φNS1,φN1)で制御されて、上述のN1信号とNS1信号が、駆動ラインφXCLRによってメモリをクリア可能に構成されたキャパシタCAPを有するアナログメモリMで記憶され、出力される。
また、上述のN1信号とNS1信号は信号判定部に入力され、S1信号を使用可能か判定する。S1信号を選択すると判定したときにS2信号を廃棄してメモリ部に出力せず、S2信号を選択すると判定されたときに、各画素(Pixel)から、上記の列シフトレジスタSRHおよび駆動ライン(φNS2,φN2)で制御されて、N1信号とNS1信号が記憶されたアナログメモリMにN2信号とNS2信号が上書きされ、N1信号とNS1信号とをそれぞれ同一の出力ラインから出力できる構成となっている。
センサアレイSAを構成する各画素カラムPCに対して、キャパシタCAPを有するアナログメモリMが接続されている。ここで、画素カラムPCとアナログメモリMの間にはスイッチSWNSとスイッチSWNが設けられている。アナログメモリMの出力ラインは、上記のNS1信号及びN1信号あるいはNS2信号及びN2信号の出力ラインに接続されているとともに、これらに信号判定部DCが接続されている。信号判定部DCからは信号選択信号SSと選択ビットSBが出力される。
信号判定部DCは、NS1信号とNS1信号から得られるS1信号をその画素の信号として使用可能か判定する。判定した結果は、信号選択信号SSとして出力する。信号選択信号SSは、例えばHighとLowの信号、+信号と−信号、あるいは「1」と「0」の信号などからなる。
S1信号またはS2信号は、AD変換部によりデジタルデータに変換され、外部に構成された回路などに出力される。
選択ビットSBは、例えばS1信号を使用するときに「0」、S2信号を使用するときに「1」とする。このとき、選択ビットSBをデジタルデータの上位ビットとして出力するようにしてもよい。
上記のゲインは、例えば、α=CFD/(CFD+CS)で示される電荷配分比に応じて設定することができる。ここで、CFDとCSはそれぞれフローティングディフュージョンと蓄積容量素子の容量である。
図5は本実施形態に係るCMOSイメージセンサの動作を説明するフローチャートであり、これは各ラインに対して行われるステップである。
まず、第1ステップST11として、S1信号を読み出す。例えば、上記のNS1信号及びN1信号をアナログメモリMに読み出し、それらの差分演算処理などをして得られる。
上記のようにして、本実施形態のCMOSイメージセンサを駆動することができる。
図6は本実施形態に係るCMOSイメージセンサにおける模式的なポテンシャル図である。フォトダイオードPD、転送トランジスタTr1、フローティングディフュージョンFD、蓄積トランジスタTr2および蓄積容量素子CSに相当する。
フォトダイオードPDは相対的に浅いポテンシャルの容量CPDを構成し、フローティングディフュージョンFDおよび蓄積容量素子CSは相対的に深いポテンシャルの容量(CFD、CS)を構成する。
ここで、転送トランジスタTr1および蓄積トランジスタTr2はトランジスタのオン/オフに応じて2準位を取りうる。
図7は、本実施形態に係るCMOSイメージセンサの駆動ラインに印加する電圧を示したタイミングチャートである。駆動ライン(φT,φS,φR)に印加する電圧を、オン(on)/オフ(off)の2準位、φTについてはさらに(+α)で示す準位を加えた3準位で示している。
駆動ラインφTに印加する電圧はオン準位と(+α)準位の2準位でもよいが、本例の如く3準位とした方がフローティングディフュージョンFDにおける最大信号電圧を大きく取ることができる。φTを2準位で駆動する場合、図7中のオフ準位を(+α)準位とすればよい。
このとき、図8(A)に示すように、φSがオンとなっているのでCFDとCSが結合した状態となっており、リセット直後にはリセット動作に伴ういわゆるkTCノイズがCFD+CSに発生する。
電荷の蓄積が開始すると、光電荷はまずCPDに蓄積していき、光電子がCPDを飽和させる量以上である場合には、図8(B)に示すように、φTを(+α)準位としてわずかに下げられた障壁を乗り越えて光電荷がCPDから溢れ、この画素のCFD+CSに選択的に蓄積されていく。
このようにして、光電子がフォトダイオードPDを飽和させる量以下である場合にはCPDのみに光電荷が蓄積し、光電子がフォトダイオードPDを飽和させる量以上である場合にはCPDに加えてCFDとCSにも光電荷が蓄積する。
図8(B)は、CPDが飽和しており、CPDに飽和前電荷QBが蓄積し、CFDとCSに過飽和電荷QAが蓄積している状態を示す。
ここで、CPDのポテンシャルがCFDよりも浅く、転送トランジスタの準位がCPDより深くなっているので、CPD中にあった飽和前電荷QBを全てCFDに転送する完全電荷転送を実現できる。
次に、時刻T2においてφTをオフに戻し、φNS1をオンとして、CFDに転送された飽和前電荷QBから飽和前電荷信号としてS1信号を読み出す。但し、CFDには飽和前電荷QBと過飽和電荷の一部QA1の和の電荷が存在しており、実際に読みだされるのはNS1信号(N1−S1)となる。図9(D)は、φTをオフに戻す前の状態を示している。
ここで、時刻T3においてφTをオフに戻し、φNS2をオンとして、CFD+CSに広がる飽和前電荷QB+過飽和電荷QAから飽和前電荷信号と過飽和電荷信号の和に相当するS2信号を読み出す。但し、ここではCFD+CSノイズが乗っており、実際に読みだされるのはNS2信号(N2−S2)となる。図9(E)は、φTをオフに戻す前の状態を示している。
上記のようにして、NS1信号、N1信号、NS2信号及びN2信号から、上述のようにしてS1信号あるいはS2信号と選択ビットSBを画素ごとに取得することで、広ダイナミックレンジに対応したCMOSイメージセンサを実現できる。
図10は、信号判定部DCのより具体的な構成を示す、本実施形態に係るCMOSイメージセンサのアナログメモリ及び出力系統の部分の回路構成を示す等価回路図である。
また、上記のアナログメモリMの出力ラインは、不図示のNS1信号及びN1信号あるいはNS2信号及びN2信号の出力ラインに接続されている。
例えば、信号選択信号SSとして「1」と「0」の信号の場合には、選択ビットSBの出力を信号選択信号SSと同一の信号とすることもできる。
図11(A)は、信号判定部DCのより具体的な構成を示す、本実施形態に係るCMOSイメージセンサのアナログメモリ及び出力系統の部分の回路構成を示す等価回路図である。図11(B)及び図11(C)は各駆動ラインのオン/オフに対応して構成される回路構成を示す等価回路図である。
また、上記のアナログメモリMの出力ラインは、不図示のNS1信号及びN1信号あるいはNS2信号及びN2信号の出力ラインに接続されている。
アナログメモリMの出力ラインが駆動ライン(φNS1,φN1)でオン/オフされるスイッチを介してキャパシタC1に接続されている。
また、2つの参照電圧Vref1,Vref2に接続するラインが駆動ライン(φNS1,φN1)でオン/オフされるスイッチを介してキャパシタC2に接続されている。
上記のキャパシタ(C1,C2)の他方の電極はアンプAMPの入力に接続されている。
アンプAMPは、駆動ラインφN1でオン/オフされるスイッチを介してフィードバックするラインが設けられている。
上記の構成において、アンプAMPの電源電圧−接地電圧をVとすると、キャパシタC1の他方の電極に蓄積する電荷Qは(VN1−V/2)・Cとなる。また、キャパシタC2の他方の電極に蓄積する電荷Qは(Vref1−V/2)・Cとなる。
次に、駆動ラインφN1がオフとなり、駆動ラインφNS1がオンとなると、図11(C)に示すように、アンプAMPの出力のフィードバックがなくなり、キャパシタ(C1,C2)の他方の電極に接続するラインはフローティングFLとなる。また、2個のキャパシタ(C1,C2)の一方の電極への印加電圧は、それぞれVNS1,Vref2となる。
このとき、アンプAMPの出力は上記入力電圧の上昇に応答し、S1とVrefの比較結果が得られる。ここでは、ΔViの電位が+と−のいずれとなるかにより、アンプAMPの出力をHighとLowのいずれかに対応させることができる。
上記の比較は、NS1信号が出力されている間にされなければならない。これは、S1信号の準位とVrefの準位が同程度であった場合、時間が不十分であるために正確に判定できないかもしれないことを意味する。しかし、本実施形態においては、この判定に対して求められる正確さは高くないので、上記の閾値との比較における不確かさはある程度許容可能である。
例えば、N1信号を得る期間としてφN1が700ns間Highとなる。NS1信号も同様にφNS1が700ns間Highとなる。これらのHighとなる期間の間隔は、例えば300nsである。
以降、同様に、300nsの期間をあけて、NS2信号を得る期間としてφNS2が700ns間Highとなり、さらに300nsの期間をあけて、N2信号を得る期間としてφN2が700ns間Highとなる。
図13(A)は、信号判定部DCのより具体的な構成を示す、本実施形態に係るCMOSイメージセンサのアナログメモリ及び出力系統の部分の回路構成を示す等価回路図である。図13(B)〜図13(D)は各駆動ラインのオン/オフに対応して構成される回路構成を示す等価回路図である。
また、上記のアナログメモリMの出力ラインは、不図示のNS1信号及びN1信号あるいはNS2信号及びN2信号の出力ラインに接続されている。
アナログメモリMの出力ラインであって、ここでは特にN1信号とNS1信号を入力するラインと、2つの参照電圧Vref_N1,Vref_NS1に接続するラインが、駆動ライン(φ1,φ2,φ3)でオン/オフされるスイッチを介して、キャパシタ(C1,C2)に接続されている。
上記のキャパシタ(C1,C2)の他方の電極は差分演算回路DIFの入力に接続されている。キャパシタC1の入力が負側であり、キャパシタC2の入力が正側である。
差分演算回路DIFは、駆動ラインφ1でオン/オフされるスイッチを介してC1の入力側にフィードバックするラインが設けられている。
また、C2の入力が駆動ライン(φ1,φ2)でオン/オフされるスイッチで接地するように設けられている。
図14は、画素に照射される光の光量に対するS1信号とS2信号の出力(dB)を示す。
上記の実施形態と同様に、S1信号を使用する領域に対して所定の閾値を設定し、閾値を超えない領域RS1でS1信号を用い、閾値以上の領域RS2でS2信号を用いる。
S1信号が飽和した非常に明るい画素においては、N1信号が接地レベルに近づいてくるので、図14に示すように、N1−NS1で表されるS1信号は光量が高い場合に非現実的に出力が下がってくる領域RULが存在する。これは、実はS1信号が飽和しているのにS2信号ではなくS1信号を用いるように判定してしまうことを誘発する。
まず、N1信号と参照電圧Vref_N1との事前比較を行う。
駆動ラインφ1がオンとなる。このとき図13(A)に示す回路は図13(B)に示す状態になる。即ち、キャパシタC1に参照電圧Vref_N1が入力され、その出力が差分演算回路DIFの負側に入力される。差分演算回路DIFの正側は接地される。差分演算回路DIFは出力が負側の入力にフィードバックする。
また、差分演算回路DIFの正側は接地されているので、キャパシタC2に参照電圧Vref_NS1が入力され、その出力が接地された回路となる。
φ1において、参照電圧Vref_N1のレベルが差分演算回路DIFのオフセットとともにC1に蓄積される。同時に、参照電圧Vref_NS1のレベルがC2に蓄積される。
駆動ラインφ1がオフとなり、駆動ラインφ2がオンとなる。このとき図13(A)に示す回路は図13(C)に示す状態になる。即ち、キャパシタC1にN1信号が入力され、その出力が差分演算回路DIFの負側に入力される。差分演算回路DIFの正側は接地される。差分演算回路DIFのフィードバックが解除される。
また、差分演算回路DIFの正側は接地されているので、キャパシタC2の入力がオープンとなる。キャパシタC2には参照電圧Vref_NS1に対応する電荷蓄積が保持された状態となる。
このとき、Vref_N1−N1が演算処理される。得られた差分が正であるとき、これはN1信号がVref_N1を下回ったことを示し、S1信号は確実に飽和していることになるので、自動的にS2信号が選択される。
この時間帯において、キャパシタのミスマッチを無視すると、差分演算回路DIFの出力は、−[(N1−NS1)−(Vref_N1−Vref_NS1)]=Vref−S1の符号に追従する出力となる。
例えば、1画素あたりのトランジスタが5個のCMOSセンサについて説明しているが、これ以上の数のトランジスタを有するCMOSセンサにも適用可能である。
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を行うことが可能である。
Claims (12)
- 第1信号と第2信号とをシーケンシャルに画素出力として出力する画素が半導体基板にアレイ状に複数個集積されたセンサアレイと、
前記アレイ状に集積された前記画素のカラムごとに設けられ、前記第1信号または前記第2信号を記憶するメモリ部と、
前記第1信号を入力し、前記第1信号を画素信号として選択するかを判定し、当該判定結果を示す信号を出力する信号判定部と、
を含み、
前記画素が、光を受光して光電荷を生成および蓄積するフォトダイオードと、前記フォトダイオードから光電荷を転送する転送トランジスタと、前記転送トランジスタを通じて前記光電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、前記転送トランジスタを介して前記フォトダイオードに接続して設けられ、蓄積動作時に前記フォトダイオードから溢れる光電荷を少なくとも前記転送トランジスタを通じて蓄積する蓄積容量素子と、前記フローティングディフュージョンと前記蓄積容量素子のポテンシャルを結合または分割し、一方のソース・ドレイン領域が前記フローティングディフュージョンとなり、他方のソース・ドレイン領域が前記蓄積容量素子に接続される蓄積トランジスタと、前記フローティングディフュージョンに接続されたゲート電極を有する増幅トランジスタとを有し、
前記第1信号が、前記蓄積トランジスタがオフとされた状態で前記フローティングディフュージョンに蓄積された信号電荷に対応する信号であり、
前記第2信号が、前記蓄積トランジスタがオンとされた状態で前記フローティングディフュージョン及び前記蓄積容量素子に蓄積された信号電荷に対応する信号であり、
前記信号判定部が、前記第1信号を選択すると判定すると、前記第1信号が前記メモリ部に記憶され、
前記信号判定部が、前記第2信号を選択すると判定すると、前記第2信号が前記メモリ部に記憶される、
固体撮像装置。 - 前記信号判定部は、前記メモリ部に入力される第1信号を入力して判定動作を行い、第2の信号を選択すると判定すると、第2の信号が前記メモリ部に上書きされて記憶される、
請求項1に記載の固体撮像装置。 - 前記信号判定部は、前記第1信号を所定の閾値と比較して、前記第1信号が前記所定の閾値未満であれば前記第1信号を選択すると判定し、前記第1信号が前記閾値以上であれば前記第2信号を選択すると判定する、
請求項1または2に記載の固体撮像装置。 - 前記信号判定部が、前記第1信号と前記第2信号のいずれを選択したのか示す選択ビットを生成し、前記選択ビットを出力する、
請求項1〜3のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 前記画素が、前記蓄積容量素子または前記フローティングディフュージョンに接続され、前記蓄積容量素子及び/または前記フローティングディフュージョン内の光電荷を排出するためのリセットトランジスタをさらに有する、
請求項2〜4のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 前記画素が、前記増幅トランジスタに直列に接続され、前記画素を選択するための選択信号がゲート電極に供給される選択トランジスタをさらに有する、
請求項2〜5のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 複数の画素が半導体基板にアレイ状に集積されたセンサアレイの前記画素から第1信号と第2信号とをシーケンシャルに画素出力として出力する固体撮像装置の駆動方法であって、
前記アレイ状に集積された前記画素のカラムごとに設けられたメモリ部に前記第1信号を記憶する工程と、
前記画素から前記メモリ部に前記第1信号が入力されると、前記第1信号を画素信号として選択するかを判定する工程と、
前記第1信号を選択すると判定すると、前記第1信号が前記メモリ部に記憶され、前記第2信号を選択すると判定すると、前記メモリ部に前記第2信号が記憶される工程と、
前記メモリ部から前記第1信号または前記第2信号を画素信号として出力する工程と、
を有する固体撮像装置の駆動方法。 - 前記画素が、
光を受光して光電荷を生成および蓄積するフォトダイオードと、
前記フォトダイオードから光電荷を転送する転送トランジスタと、
前記転送トランジスタを通じて前記光電荷が転送されるフローティングディフュージョンと、
前記転送トランジスタを介して前記フォトダイオードに接続して設けられ、蓄積動作時に前記フォトダイオードから溢れる光電荷を少なくとも前記転送トランジスタを通じて蓄積する蓄積容量素子と、
前記フローティングディフュージョンと前記蓄積容量素子のポテンシャルを結合または分割し、一方のソース・ドレイン領域が前記フローティングディフュージョンとなり、他方のソース・ドレイン領域が前記蓄積容量素子に接続される蓄積トランジスタと、
前記フローティングディフュージョンに接続されたゲート電極を有する増幅トランジスタと、
を有しており、
前記蓄積トランジスタがオフとされた状態で前記フローティングディフュージョンに蓄積された信号電荷に対応する信号を前記第1信号として出力し、前記蓄積トランジスタがオンとされた状態で前記フローティングディフュージョン及び前記蓄積容量素子に蓄積された信号電荷に対応する信号を前記第2信号として出力する、
請求項7に記載の固体撮像装置の駆動方法。 - 前記第1信号を画素信号として選択するかを判定する工程において、前記第1信号を所定の閾値と比較して、前記第1信号が前記所定の閾値未満であれば前記第1信号を選択すると判定し、前記第1信号が前記閾値以上であれば前記第2信号を選択すると判定する、
請求項7または8に記載の固体撮像装置の駆動方法。 - 前記第1信号を画素信号として選択するかを判定する工程において、前記第1信号と前記第2信号のいずれを選択したのか示す選択ビットを生成し、前記選択ビットを出力する、
請求項7〜9のいずれかに記載の固体撮像装置の駆動方法。 - 前記画素が、前記蓄積容量素子または前記フローティングディフュージョンに接続され、前記蓄積容量素子及び/または前記フローティングディフュージョン内の光電荷を排出するためのリセットトランジスタをさらに有する、
請求項8〜10のいずれかに記載の固体撮像装置の駆動方法。 - 前記画素が、前記増幅トランジスタに直列に接続され、選択トランジスタ用ゲート電極を有し、前記画素を選択するための選択トランジスタをさらに有する、
請求項8〜11のいずれかに記載の固体撮像装置の駆動方法。
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