JP2010177034A - Method and apparatus for manufacturing display device - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing display device Download PDF

Info

Publication number
JP2010177034A
JP2010177034A JP2009018256A JP2009018256A JP2010177034A JP 2010177034 A JP2010177034 A JP 2010177034A JP 2009018256 A JP2009018256 A JP 2009018256A JP 2009018256 A JP2009018256 A JP 2009018256A JP 2010177034 A JP2010177034 A JP 2010177034A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
donor substrate
light emitting
transfer
donor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009018256A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Ejima
一行 江嶋
Tatsuya Soma
達也 相馬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2009018256A priority Critical patent/JP2010177034A/en
Publication of JP2010177034A publication Critical patent/JP2010177034A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device capable of easily separating a donor substrate from a substrate to be transcribed in a vacuum, and to provide method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: One end of a curved surface 51A in a body 51 is brought into contact with a position close to a side 40A in the backside of a donor substrate 40, in the stacked condition of the donor substrate 40 onto the substrate 11A to be transcribed. The backside of the donor substrate 40 is wound around the curved surface 51A by rotating the body 51 in the direction of an arrow R1 on the backside of the donor substrate 40, and at the same time adheres tightly to the curved surface 51A by an electrostatic chuck 52. Accordingly, the donor substrate 40 is deformed from the side 40A to the curved surface, and synchronously detached from the substrate 11A to be transcribed. The detached position 40C of the donor substrate 40 from the substrate 11A to be transcribed moves towards an opposite side 40D from the side 40A where the deformation is initiated. When the detached position 40C reaches the opposite side 40D, the donor substrate 40 is completely detached from the substrate 11A to be transcribed. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機発光素子(有機EL(Electroluminescence )素子)を備えた表示装置の製造方法およびこれに用いられる製造装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a display device including an organic light emitting element (organic EL (Electroluminescence) element) and a manufacturing apparatus used therefor.

近年、有機発光素子の発光層の形成方法の一つとして、転写法が検討されている(例えば、特許文献1参照。)。転写法では、例えば、発光層を形成するための被転写基板と、転写層を形成したドナーとを重ね合わせ、輻射線の照射などにより転写層を昇華または気化させて被転写基板に転写したのち、ドナーを被転写基板から剥離する。   In recent years, a transfer method has been studied as one method for forming a light emitting layer of an organic light emitting element (see, for example, Patent Document 1). In the transfer method, for example, a transfer substrate for forming a light emitting layer and a donor on which the transfer layer is formed are superposed, and the transfer layer is sublimated or vaporized by irradiation of radiation and transferred to the transfer substrate. The donor is peeled from the transfer substrate.

特開2002−110350号公報JP 2002-110350 A

発光層の特性向上のためには、ドナーと被転写基板との重ね合わせから剥離まで、真空装置内で一貫して行うようにすることが望ましい。しかしながら、真空中でドナーを被転写基板から剥離することは、剥離帯電などの影響もあって困難であった。特に、ドナーの基材としてガラス基板を用いた場合は、基板自身の剛性が高く、真空中での把持が難しいので、剥離がますます困難なものとなっていた。   In order to improve the characteristics of the light emitting layer, it is desirable to perform consistently in the vacuum apparatus from the stacking of the donor and the transfer substrate to the peeling. However, it has been difficult to peel the donor from the substrate to be transferred in vacuum due to the influence of peeling charging and the like. In particular, when a glass substrate is used as a donor base material, the substrate itself has high rigidity and is difficult to grip in a vacuum, so that peeling has become increasingly difficult.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、真空中でドナー基板と被転写基板とを容易に分離することが可能な表示装置の製造方法および製造装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a display device manufacturing method and a manufacturing apparatus capable of easily separating a donor substrate and a transferred substrate in a vacuum. is there.

本発明による表示装置の製造方法は、以下の(A)〜(D)の工程を含むものである。
(A)ガラスよりなる基板の表面に第1電極および複数の有機層の一部を有する被転写基板と、ガラスよりなる基体の表面に有機発光材料よりなる転写層を有するドナー基板とを、真空中で表面どうしを対向させて重ね合わせる工程
(B)真空中で転写法により被転写基板に発光層を形成する工程
(C)真空中でドナー基板および被転写基板の少なくとも一方を湾曲手段により一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形させることにより、ドナー基板と被転写基板との剥離位置を移動させながらドナー基板を被転写基板から剥離する工程
(D)発光層の上に複数の有機層の残部および第2電極を形成する工程
The method for manufacturing a display device according to the present invention includes the following steps (A) to (D).
(A) A substrate to be transferred having a first electrode and a part of a plurality of organic layers on the surface of a substrate made of glass, and a donor substrate having a transfer layer made of an organic light emitting material on the surface of a substrate made of glass are vacuumed. (B) A step of forming a light emitting layer on a transfer substrate in a vacuum by a transfer method in a vacuum (C) At least one of a donor substrate and a transfer substrate in a vacuum by a bending means. A step of peeling the donor substrate from the transferred substrate while moving the peeling position between the donor substrate and the transferred substrate by deforming the curved surface from one or more sides or one or more corners (D) on the light emitting layer Forming the remainder of the plurality of organic layers and the second electrode;

本発明による表示装置の製造装置は、ガラスよりなる基体の表面に有機発光材料よりなる転写層を有するドナー基板と、ガラスよりなる基板の表面に第1電極および複数の有機層の一部を形成した被転写基板とを、表面どうしを対向させて重ね合わせた状態から、分離した状態にする工程に用いられ、ドナー基板および被転写基板の少なくとも一方を一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形させることが可能な湾曲手段を備えたものである。   The display device manufacturing apparatus according to the present invention includes a donor substrate having a transfer layer made of an organic light emitting material on the surface of a substrate made of glass, and a first electrode and a part of the plurality of organic layers formed on the surface of the substrate made of glass. The transfer substrate is used in a process of separating the transferred substrate from a state in which the surfaces are opposed to each other, and at least one of the donor substrate and the transfer substrate is set to one or more sides or one or more corners. It is provided with a bending means that can be deformed into a curved surface.

本発明による表示装置の製造装置では、湾曲手段により、ドナー基板および被転写基板の少なくとも一方が一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形されることにより、その辺または角からドナー基板の剥離が進行する。ドナー基板と被転写基板との剥離位置は、変形を開始した辺または角から対辺または対角に向かって移動し、剥離位置が対辺または対角に到達すると完全にドナー基板が被転写基板から剥離される。   In the display device manufacturing apparatus according to the present invention, at least one of the donor substrate and the substrate to be transferred is deformed from one or more sides or one or more corners into a curved surface by the bending means, and thus the donor from the sides or corners. The peeling of the substrate proceeds. The peeling position between the donor substrate and the transferred substrate moves from the side or corner where deformation started toward the opposite side or the opposite side. When the peeling position reaches the opposite side or the opposite side, the donor substrate is completely peeled from the transferred substrate. Is done.

本発明の表示装置の製造方法によれば、ドナー基板および被転写基板の少なくとも一方を湾曲手段により一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形させることにより、ドナー基板と被転写基板との剥離位置を移動させながらドナー基板を被転写基板から剥離するようにしたので、真空中でドナー基板と被転写基板とを容易に分離することが可能となる。   According to the method for manufacturing a display device of the present invention, at least one of the donor substrate and the transfer substrate is deformed into a curved surface from one or more sides or one or more corners by a bending means, thereby forming the donor substrate and the transfer substrate. Since the donor substrate is peeled from the transfer substrate while moving the peeling position, the donor substrate and the transfer substrate can be easily separated in a vacuum.

本発明による表示装置の製造装置によれば、ドナー基板および被転写基板の少なくとも一方を一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形させることが可能な湾曲手段を備えているので、真空中でドナー基板と被転写基板とを容易に分離することが可能となる。   According to the display device manufacturing apparatus of the present invention, since it comprises a bending means capable of deforming at least one of the donor substrate and the transfer substrate from one or more sides or one or more corners into a curved surface, It is possible to easily separate the donor substrate and the transfer substrate in a vacuum.

本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の製造方法により製造される表示装置の構成を表す図である。It is a figure showing the structure of the display apparatus manufactured by the manufacturing method of the display apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図1に示した画素駆動回路の一例を表す図である。It is a figure showing an example of the pixel drive circuit shown in FIG. 図1に示した表示領域の構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the structure of the display area shown in FIG. 図1に示した表示装置の製造方法を工程順に表す図である。It is a figure showing the manufacturing method of the display apparatus shown in FIG. 1 in order of a process. 図4に続く工程を表す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a process following FIG. 4. 図5に続く工程を表す図である。It is a figure showing the process of following FIG. 図6に続く工程を表す図である。It is a figure showing the process of following FIG. 図7に示した本体の構成を表す斜視図である。It is a perspective view showing the structure of the main body shown in FIG. 図7に続く工程を表す図である。It is a figure showing the process of following FIG. 図9に続く工程を表す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a process following FIG. 9. 図7の変形例を表す図である。It is a figure showing the modification of FIG. 本発明の第2の実施の形態に係る表示装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the display apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図12に示した本体の構成を表す斜視図である。It is a perspective view showing the structure of the main body shown in FIG. 図12に示した粘着シートの全体構成を表す図である。It is a figure showing the whole adhesive sheet structure shown in FIG. 本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の製造装置の全体構成を表す図である。It is a figure showing the whole structure of the manufacturing apparatus of the display apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 図15に示した製造装置を用いた表示装置の製造方法を表す図である。It is a figure showing the manufacturing method of the display apparatus using the manufacturing apparatus shown in FIG. 図16に続く工程を表す図である。It is a figure showing the process of following FIG. 図17に続く工程を表す図である。FIG. 18 is a diagram illustrating a process following FIG. 17. 図18に続く工程を表す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a process following the process in FIG. 18. 上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。It is a top view showing schematic structure of the module containing the display apparatus of the said embodiment. 上記実施の形態の表示装置の適用例1の外観を表す斜視図である。It is a perspective view showing the external appearance of the application example 1 of the display apparatus of the said embodiment. (A)は適用例2の表側から見た外観を表す斜視図であり、(B)は裏側から見た外観を表す斜視図である。(A) is a perspective view showing the external appearance seen from the front side of the application example 2, (B) is a perspective view showing the external appearance seen from the back side. 適用例3の外観を表す斜視図である。12 is a perspective view illustrating an appearance of application example 3. FIG. 適用例4の外観を表す斜視図である。14 is a perspective view illustrating an appearance of application example 4. FIG. (A)は適用例5の開いた状態の正面図、(B)はその側面図、(C)は閉じた状態の正面図、(D)は左側面図、(E)は右側面図、(F)は上面図、(G)は下面図である。(A) is a front view of the application example 5 in an open state, (B) is a side view thereof, (C) is a front view in a closed state, (D) is a left side view, and (E) is a right side view, (F) is a top view and (G) is a bottom view. 図3に示した表示領域の他の構成を表す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating another configuration of the display area illustrated in FIG. 3.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(ドナー基板を本体の曲面に巻きつけて静電チャックにより密着させる例)
2.第2の実施の形態(ドナー基板の裏面に粘着シートを貼り付けると共に粘着シートの端部をクランプで本体に固定し、粘着シートをドナー基板ごと本体の曲面に巻きつける例)
3.第3の実施の形態(粘着パッドを用いる例)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The description will be given in the following order.
1. First embodiment (an example in which a donor substrate is wound around a curved surface of a main body and adhered by an electrostatic chuck)
2. Second embodiment (an example in which an adhesive sheet is attached to the back surface of a donor substrate and the end of the adhesive sheet is fixed to the main body with a clamp, and the adhesive sheet is wound around the curved surface of the main body together with the donor substrate)
3. Third embodiment (example using an adhesive pad)

<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の製造方法によって製造される表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、有機ELテレビなどとして用いられるものであり、例えば、ガラスよりなる駆動用基板11の上に、後述する複数の有機発光素子10R,10G,10Bがマトリクス状に配置されてなる表示領域110が形成されたものである。表示領域110の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路120および走査線駆動回路130が形成されている。
<First Embodiment>
FIG. 1 shows the configuration of a display device manufactured by the method for manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention. This display device is used as an organic EL television or the like. For example, a display in which a plurality of organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B described later are arranged in a matrix on a driving substrate 11 made of glass. Region 110 is formed. Around the display area 110, a signal line driver circuit 120 and a scanning line driver circuit 130, which are drivers for displaying images, are formed.

表示領域110内には画素駆動回路140が形成されている。図2は、画素駆動回路140の一例を表したものである。この画素駆動回路140は、後述する第1電極13の下層に形成され、駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2と、その間のキャパシタ(保持容量)Csと、第1の電源ライン(Vcc)および第2の電源ライン(GND)の間において駆動トランジスタTr1に直列に接続された有機発光素子10R(または10G,10B)とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2は、大画面テレビの場合には例えば逆スタガー構造(いわゆるボトムゲート型)のアモルファスシリコンTFTにより構成されていることが望ましいが、特にこれに限定されるものではない。   A pixel drive circuit 140 is formed in the display area 110. FIG. 2 illustrates an example of the pixel driving circuit 140. The pixel driving circuit 140 is formed below the first electrode 13 to be described later, and includes a driving transistor Tr1 and a writing transistor Tr2, a capacitor (holding capacitor) Cs therebetween, a first power supply line (Vcc), and a second power source line (Vcc). This is an active drive circuit having an organic light emitting element 10R (or 10G, 10B) connected in series to the drive transistor Tr1 between power supply lines (GND). In the case of a large-screen television, the drive transistor Tr1 and the write transistor Tr2 are preferably composed of, for example, an amorphous silicon TFT having an inverted stagger structure (so-called bottom gate type), but are not particularly limited thereto.

画素駆動回路140において、列方向には信号線120Aが複数配置され、行方向には走査線130Aが複数配置されている。各信号線120Aと各走査線130Aとの交差点が、有機発光素子10R,10G,10Bのいずれか一つ(サブピクセル)に対応している。各信号線120Aは、信号線駆動回路120に接続され、この信号線駆動回路120から信号線120Aを介して書き込みトランジスタTr2のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線130Aは走査線駆動回路130に接続され、この走査線駆動回路130から走査線130Aを介して書き込みトランジスタTr2のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。   In the pixel driving circuit 140, a plurality of signal lines 120A are arranged in the column direction, and a plurality of scanning lines 130A are arranged in the row direction. An intersection between each signal line 120A and each scanning line 130A corresponds to one of the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B (sub pixel). Each signal line 120A is connected to the signal line drive circuit 120, and an image signal is supplied from the signal line drive circuit 120 to the source electrode of the write transistor Tr2 via the signal line 120A. Each scanning line 130A is connected to the scanning line driving circuit 130, and a scanning signal is sequentially supplied from the scanning line driving circuit 130 to the gate electrode of the writing transistor Tr2 via the scanning line 130A.

図3は表示領域110の断面構成を表したものである。表示領域110には、赤色の光を発生する有機発光素子10Rと、緑色の光を発生する有機発光素子10Gと、青色の光を発生する有機発光素子10Bとが、順に全体としてマトリクス状に形成されている。なお、有機発光素子10R,10G,10Bは短冊形の平面形状を有し、隣り合う有機発光素子10R,10G,10Bの組み合わせが一つの画素(ピクセル)を構成している。   FIG. 3 shows a cross-sectional configuration of the display area 110. In the display area 110, an organic light emitting element 10R that generates red light, an organic light emitting element 10G that generates green light, and an organic light emitting element 10B that generates blue light are sequentially formed in a matrix. Has been. The organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B have a rectangular planar shape, and a combination of adjacent organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B constitutes one pixel.

有機発光素子10R,10G,10Bは、それぞれ、駆動用基板11の側から、上述した画素駆動回路140の駆動トランジスタ(図示せず)および平坦化絶縁膜(図示せず)を間にして、陽極としての第1電極13、絶縁層14、後述する赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CBを含む有機層15、および陰極としての第2電極16がこの順に積層された構成を有している。   The organic light emitting devices 10R, 10G, and 10B are respectively anodes from the side of the driving substrate 11 with the driving transistor (not shown) and the planarization insulating film (not shown) of the pixel driving circuit 140 described above in between. The first electrode 13 as an insulating layer, the insulating layer 14, an organic layer 15 including a red light emitting layer 15CR, a green light emitting layer 15CG, or a blue light emitting layer 15CB, which will be described later, and a second electrode 16 as a cathode are stacked in this order. is doing.

このような有機発光素子10R,10G,10Bは、窒化ケイ素(SiNx )などの保護膜17により被覆され、更にこの保護膜17上に接着層20を間にしてガラスなどよりなる封止用基板30が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。   Such organic light-emitting elements 10R, 10G, and 10B are covered with a protective film 17 such as silicon nitride (SiNx), and further, a sealing substrate 30 made of glass or the like with an adhesive layer 20 in between the protective film 17. Is sealed by being bonded over the entire surface.

第1電極13は、有機発光素子10R,10G,10Bの各々に対応して形成されている。また、第1電極13は、例えば、ITO(インジウム・スズ複合酸化物)またはIZO(インジウム・亜鉛複合酸化物)により構成されている。また、第1電極13は、反射電極により構成してもよい。その場合、第1電極13は、例えば、厚みが100nm以上1000nm以下であり、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。例えば、第1電極13を構成する材料としては、クロム(Cr),金(Au),白金(Pt),ニッケル(Ni),銅(Cu),タングステン(W)あるいは銀(Ag)などの金属元素の単体または合金が挙げられる。   The first electrode 13 is formed corresponding to each of the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B. The first electrode 13 is made of, for example, ITO (indium / tin composite oxide) or IZO (indium / zinc composite oxide). Moreover, you may comprise the 1st electrode 13 with a reflective electrode. In that case, the first electrode 13 has a thickness of, for example, 100 nm or more and 1000 nm or less, and it is desirable that the first electrode 13 has a reflectivity as high as possible in order to increase luminous efficiency. For example, the material constituting the first electrode 13 is a metal such as chromium (Cr), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), copper (Cu), tungsten (W), or silver (Ag). An elemental element or an alloy is mentioned.

絶縁層14は、第1電極13と第2電極16との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものであり、例えば厚みが1μm程度であり、酸化シリコンまたはポリイミドなどの感光性樹脂により構成されている。絶縁層14には、第1電極13に対応して開口部14Aが設けられており、第1電極13の開口部14A内の領域が発光領域となっている。なお、有機層15および第2電極16は、開口部14Aだけでなく絶縁層14の上にも連続して設けられていてもよいが、発光が生じるのは絶縁層14の開口部14Aだけである。   The insulating layer 14 is used to ensure insulation between the first electrode 13 and the second electrode 16 and to accurately form the light emitting region in a desired shape. For example, the insulating layer 14 has a thickness of about 1 μm and is made of silicon oxide or polyimide. It is comprised with photosensitive resin. The insulating layer 14 is provided with an opening 14A corresponding to the first electrode 13, and a region in the opening 14A of the first electrode 13 is a light emitting region. The organic layer 15 and the second electrode 16 may be continuously provided not only on the opening 14A but also on the insulating layer 14, but light emission occurs only in the opening 14A of the insulating layer 14. is there.

有機層15は、第1電極13の側から順に、正孔注入層および正孔輸送層15AB,赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CB、並びに電子輸送層および電子注入層15DEを積層した構成を有するが、これらのうち赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CB以外の層は必要に応じて設ければよい。また、有機層15は、有機発光素子10R,10G,10Bの発光色によってそれぞれ構成が異なっていてもよい。正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層は、赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CBへの正孔輸送効率を高めるためのものである。赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CBは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層は、赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CBへの電子輸送効率を高めるためのものである。電子注入層は、例えば厚みが0.3nm程度であり、LiF,Li2 Oなどにより構成されている。なお、図3では、正孔注入層および正孔輸送層を一層(正孔注入層および正孔輸送層15AB)、電子輸送層および電子注入層を一層(電子輸送層および電子注入層15DE)として表している。 The organic layer 15 includes a hole injection layer and a hole transport layer 15AB, a red light emission layer 15CR, a green light emission layer 15CG or a blue light emission layer 15CB, and an electron transport layer and an electron injection layer 15DE in this order from the first electrode 13 side. Of these, a layer other than the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, or the blue light emitting layer 15CB may be provided as necessary. The organic layer 15 may have a different configuration depending on the emission color of the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B. The hole injection layer is a buffer layer for improving hole injection efficiency and preventing leakage. The hole transport layer is for increasing the efficiency of hole transport to the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, or the blue light emitting layer 15CB. The red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, or the blue light emitting layer 15CB generates light by recombination of electrons and holes by applying an electric field. The electron transport layer is for increasing the efficiency of electron transport to the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, or the blue light emitting layer 15CB. The electron injection layer has a thickness of about 0.3 nm, for example, and is made of LiF, Li 2 O, or the like. In FIG. 3, the hole injection layer and the hole transport layer are one layer (hole injection layer and hole transport layer 15AB), and the electron transport layer and the electron injection layer are one layer (electron transport layer and electron injection layer 15DE). Represents.

有機発光素子10Rの正孔注入層15Aは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)あるいは4,4’,4”−トリス(2−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(2−TNATA)により構成されている。有機発光素子10Rの正孔輸送層15Bは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、ビス[(N−ナフチル)−N−フェニル]ベンジジン(α−NPD)により構成されている。有機発光素子10Rの発光層15Cは、例えば、厚みが10nm以上100nm以下であり、8−キノリノールアルミニウム錯体(Alq3 )に2,6−ビス[4−[N−(4−メトキシフェニル)−N−フェニル]アミノスチリル]ナフタレン−1,5−ジカルボニトリル(BSN−BCN)を40体積%混合したものにより構成されている。有機発光素子10Rの電子輸送層15Dは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、Alq3 により構成されている。 The hole injection layer 15A of the organic light emitting device 10R has, for example, a thickness of 5 nm to 300 nm and is 4,4 ′, 4 ″ -tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine (m-MTDATA) or 4 , 4 ′, 4 ″ -tris (2-naphthylphenylamino) triphenylamine (2-TNATA). The hole transport layer 15B of the organic light emitting device 10R has, for example, a thickness of 5 nm or more and 300 nm or less, and is composed of bis [(N-naphthyl) -N-phenyl] benzidine (α-NPD). The light emitting layer 15C of the organic light emitting element 10R has, for example, a thickness of 10 nm or more and 100 nm or less, and 2,6-bis [4- [N- (4-methoxyphenyl) -N] added to 8-quinolinol aluminum complex (Alq 3 ). -Phenyl] aminostyryl] naphthalene-1,5-dicarbonitrile (BSN-BCN) mixed with 40% by volume. The electron transport layer 15D of the organic light emitting element 10R has, for example, a thickness of 5 nm to 300 nm and is made of Alq 3 .

有機発光素子10Gの正孔注入層は、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、m−MTDATAあるいは2−TNATAにより構成されている。有機発光素子10Gの正孔輸送層は、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、α−NPDにより構成されている。有機発光素子10Gの緑色発光層15CGは、例えば、厚みが10nm以上100nm以下であり、ADNにクマリン6(Coumarin6)を5体積%混合したものにより構成されている。有機発光素子10Gの電子輸送層は、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、Alq3 により構成されている。 The hole injection layer of the organic light emitting element 10G has a thickness of 5 nm to 300 nm, for example, and is made of m-MTDATA or 2-TNATA. The hole transport layer of the organic light emitting element 10G has, for example, a thickness of 5 nm or more and 300 nm or less, and is configured by α-NPD. The green light emitting layer 15CG of the organic light emitting element 10G has a thickness of 10 nm to 100 nm, for example, and is configured by mixing 5% by volume of coumarin 6 with ADN. The electron transport layer of the organic light emitting element 10G has, for example, a thickness of 5 nm to 300 nm and is made of Alq 3 .

有機発光素子10Bの正孔注入層は、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、m−MTDATAあるいは2−TNATAにより構成されている。有機発光素子10Bの正孔輸送層は、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、α−NPDにより構成されている。有機発光素子10Bの青色発光層15CBは、例えば、厚みが10nm以上100nm以下であり、ADNに4,4´≡ビス[2≡{4≡(N,N≡ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)を2.5重量%混合したものにより構成されている。有機発光素子10Bの電子輸送層は、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、Alq3 により構成されている。 The hole injection layer of the organic light emitting element 10B has, for example, a thickness of 5 nm to 300 nm and is made of m-MTDATA or 2-TNATA. The hole transport layer of the organic light emitting device 10B has, for example, a thickness of 5 nm to 300 nm and is made of α-NPD. The blue light emitting layer 15CB of the organic light emitting element 10B has a thickness of 10 nm or more and 100 nm or less, and is 4,4′≡bis [2≡ {4≡ (N, N≡diphenylamino) phenyl} vinyl] biphenyl (ADN). DPAVBi) is mixed with 2.5% by weight. The electron transport layer of the organic light emitting element 10B has, for example, a thickness of 5 nm to 300 nm and is made of Alq 3 .

第2電極16は、例えば、厚みが5nm以上50nm以下であり、アルミニウム(Al),マグネシウム(Mg),カルシウム(Ca),ナトリウム(Na)などの金属元素の単体または合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金(MgAg合金)、またはアルミニウム(Al)とリチウム(Li)との合金(AlLi合金)が好ましい。また、第2電極16は、ITO(インジウム・スズ複合酸化物)またはIZO(インジウム・亜鉛複合酸化物)により構成されていてもよい。   For example, the second electrode 16 has a thickness of 5 nm or more and 50 nm or less, and is made of a single element or alloy of a metal element such as aluminum (Al), magnesium (Mg), calcium (Ca), or sodium (Na). Among these, an alloy of magnesium and silver (MgAg alloy) or an alloy of aluminum (Al) and lithium (Li) (AlLi alloy) is preferable. The second electrode 16 may be made of ITO (indium / tin composite oxide) or IZO (indium / zinc composite oxide).

保護膜17は、有機層15に水分などが侵入することを防止するためのものであり、透過水性および吸水性の低い材料により構成されると共に十分な厚みを有している。また、保護膜17は、発光層15Cで発生した光に対する透過性が高く、例えば80%以上の透過率を有する材料により構成されている。このような保護膜17は、例えば、厚みが2μmないし3μm程度であり、無機アモルファス性の絶縁性材料により構成されている。具体的には、アモルファスシリコン(α−Si),アモルファス炭化シリコン(α−SiC),アモルファス窒化シリコン(α−Si1-x x )およびアモルファスカーボン(α−C)が好ましい。これらの無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないので透水性が低く、良好な保護膜17となる。また、保護膜17は、ITOのような透明導電材料により構成されていてもよい。 The protective film 17 is for preventing moisture and the like from entering the organic layer 15 and is made of a material having low permeability and water absorption and has a sufficient thickness. Further, the protective film 17 is made of a material having a high transmittance with respect to the light generated in the light emitting layer 15C and having a transmittance of 80% or more, for example. For example, the protective film 17 has a thickness of about 2 μm to 3 μm and is made of an inorganic amorphous insulating material. Specifically, amorphous silicon (α-Si), amorphous silicon carbide (α-SiC), amorphous silicon nitride (α-Si 1-x N x ), and amorphous carbon (α-C) are preferable. Since these inorganic amorphous insulating materials do not constitute grains, the water permeability is low and a good protective film 17 is obtained. The protective film 17 may be made of a transparent conductive material such as ITO.

接着層20は、例えば熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂により構成されている。   The adhesive layer 20 is made of, for example, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.

封止用基板30は、有機発光素子10R,10G,10Bの第2電極16の側に位置しており、接着層20と共に有機発光素子10R,10G,10Bを封止するものであり、有機発光素子10R,10G,10Bで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板30には、例えば、カラーフィルタ(図示せず)が設けられており、有機発光素子10R,10G,10Bで発生した光を取り出すと共に、有機発光素子10R,10G,10B並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっていてもよい。   The sealing substrate 30 is positioned on the second electrode 16 side of the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, and seals the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B together with the adhesive layer 20, and emits organic light. It is made of a material such as glass that is transparent to the light generated by the elements 10R, 10G, and 10B. The sealing substrate 30 is provided with, for example, a color filter (not shown), and extracts light generated in the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, and the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, and a portion therebetween. The external light reflected by the wiring may be absorbed to improve the contrast.

この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。   This display device can be manufactured, for example, as follows.

(被転写基板を形成する工程)
まず、上述した材料よりなる駆動用基板11を用意し、この駆動用基板11の表面に画素駆動回路140を形成する。次いで、全面に感光性樹脂を塗布することにより平坦化絶縁膜(図示せず)を形成し、露光および現像により所定の形状にパターニングすると共に、駆動トランジスタTr1と第1電極13との接続孔(図示せず)を形成し、焼成する。
(Process for forming a transfer substrate)
First, the driving substrate 11 made of the above-described material is prepared, and the pixel driving circuit 140 is formed on the surface of the driving substrate 11. Next, a planarizing insulating film (not shown) is formed by applying a photosensitive resin on the entire surface, patterned into a predetermined shape by exposure and development, and a connection hole (the connection hole between the driving transistor Tr1 and the first electrode 13 ( (Not shown) is formed and fired.

続いて、例えばスパッタ法により、上述した材料よりなる第1電極13を形成し、例えばドライエッチングにより所定の形状に成形する。このとき、駆動用基板11の所定の位置には、後述する転写工程においてドナー基板との位置合わせに使用するアライメントマークを形成してもよい。   Subsequently, the first electrode 13 made of the above-described material is formed by, for example, sputtering, and is formed into a predetermined shape by, for example, dry etching. At this time, an alignment mark used for alignment with the donor substrate may be formed at a predetermined position of the driving substrate 11 in a transfer step described later.

そののち、駆動用基板11の全面にわたり絶縁層14を形成し、例えばフォトリソグラフィ法により、第1電極13に対応して開口部14Aを設ける。   After that, the insulating layer 14 is formed over the entire surface of the driving substrate 11, and the opening 14A is provided corresponding to the first electrode 13 by, for example, photolithography.

絶縁層14を形成したのち、例えばエリアマスクを用いた蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる正孔注入層および正孔輸送層15ABを順次成膜する。これにより、図4に示したように、被転写基板11Aが形成される。   After forming the insulating layer 14, the hole injection layer and the hole transport layer 15AB made of the above-described thickness and material are sequentially formed by, for example, vapor deposition using an area mask. As a result, as shown in FIG. 4, the transfer substrate 11A is formed.

一方、図5に示したように、例えばガラス基板よりなる基体41を用意し、この基体41の表面に、例えばスパッタリング法により、クロム(Cr)等よりなる光熱変換層42を形成し、フォトリソグラフィおよびエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、ドナー基板40を形成する。   On the other hand, as shown in FIG. 5, a base 41 made of, for example, a glass substrate is prepared, and a photothermal conversion layer 42 made of chromium (Cr) or the like is formed on the surface of the base 41 by, for example, sputtering. Then, it is formed into a predetermined shape by etching. Thereby, the donor substrate 40 is formed.

このドナー基板40を複数用意し、同じく図5に示したように、例えば真空蒸着法またはインクジェット等の印刷法により、各ドナー基板40に赤色,緑色または青色のいずれかの転写層43を形成する。   A plurality of donor substrates 40 are prepared, and a red, green or blue transfer layer 43 is formed on each donor substrate 40 by, for example, a vacuum deposition method or a printing method such as inkjet, as shown in FIG. .

被転写基板11Aおよびドナー基板40を形成したのち、同じく図5に示したように、真空装置(図示せず)内で、赤色の転写層43を有するドナー基板40と被転写基板11Aとを表面(第1電極13側、および転写層42側)どうしを対向させて重ね合わせる。   After forming the transfer substrate 11A and the donor substrate 40, as shown in FIG. 5, the donor substrate 40 having the red transfer layer 43 and the transfer substrate 11A are placed on the surface in a vacuum apparatus (not shown). The first electrode 13 side and the transfer layer 42 side are overlapped with each other facing each other.

被転写基板11Aとドナー基板40とを重ね合わせたのち、図6に示したように、真空装置(図示せず)内において、例えば熱転写法により、赤色発光層15CRを形成する。   After superimposing the transfer substrate 11A and the donor substrate 40, as shown in FIG. 6, the red light emitting layer 15CR is formed by, for example, thermal transfer in a vacuum apparatus (not shown).

赤色発光層15CRを形成したのち、真空装置(図示せず)内において、ドナー基板40を被転写基板11Aから剥離する。このとき、ドナー基板40または被転写基板11Aを破損することなく剥離を成功させるための要件は、以下の(1)〜(5)である。
(1)剥離力をドナー基板40の全面に分布させること
(2)剥離力をドナー基板40の裏面から作用させること
(3)剥離力を発生させる手段は、平面状態のドナー基板40を保持したのち、ドナー基板40を曲面状態に曲げて保持可能であること
(4)剥離はドナー基板40を平面状態に維持して全面一括で行うのではなく、ドナー基板40の一辺または一角から開始し、剥離位置を移動させながら進行させること
(5)剥離の開始から終了後までドナー基板40を確実に保持すること
After the red light emitting layer 15CR is formed, the donor substrate 40 is peeled from the transfer substrate 11A in a vacuum device (not shown). At this time, requirements for successful peeling without damaging the donor substrate 40 or the transferred substrate 11A are the following (1) to (5).
(1) Distributing the peeling force over the entire surface of the donor substrate 40 (2) Applying the peeling force from the back surface of the donor substrate 40 (3) The means for generating the peeling force holds the donor substrate 40 in a planar state. After that, the donor substrate 40 can be bent and held in a curved state. (4) The peeling is not performed on the entire surface while keeping the donor substrate 40 in a flat state, but starts from one side or one corner of the donor substrate 40. (5) Reliably hold the donor substrate 40 from the start to the end of peeling.

要件(1)について、一般に、二枚の基板を剥離する方法として、一方の基板の端部をリフトピンで押すことにより剥離することが知られている。しかしながら、ドナー基板40と被転写基板11Aとは真空中で密着した状態になっているので、リフトピンで一気に剥離しようとすると剥離帯電の影響により割れてしまう可能性がある。   Regarding requirement (1), as a method of peeling two substrates, it is generally known to peel the substrate by pushing the end of one substrate with a lift pin. However, since the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A are in close contact with each other in a vacuum, there is a possibility of cracking due to the influence of peeling electrification when an attempt is made to peel off with a lift pin at once.

要件(2)について、従来のリフトピンを用いた従来の剥離方法では、ドナー基板40および被転写基板11Aを大型化した場合、リフトピンをドナー基板40または被転写基板11Aの中央付近に配置する必要がある。しかしながら、ドナー基板40または被転写基板11Aは、転写層42または発光層15Cが形成されている側において密着しているので、ドナー基板40の中央にリフトピンを配置することはできない。   Regarding requirement (2), in the conventional peeling method using the conventional lift pins, when the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A are enlarged, the lift pins need to be arranged near the center of the donor substrate 40 or the transferred substrate 11A. is there. However, since the donor substrate 40 or the transferred substrate 11A is in close contact with the transfer layer 42 or the light emitting layer 15C, a lift pin cannot be disposed at the center of the donor substrate 40.

図7(A)は、これらの要件を満たしうる表示装置の製造装置(基板分離装置)の一例を表したものである。この製造装置50は、例えば、曲面51Aを有する本体51と、例えば樹脂フィルムよりなる静電チャック52と、クランプ53,54とを備えている。ここで、本体51は本発明における「湾曲手段」の一具体例に対応し、静電チャック52は本発明における「密着手段」の一具体例に対応し、クランプ53,54は本発明における「把持手段」の一具体例に対応している。   FIG. 7A illustrates an example of a display device manufacturing apparatus (substrate separation apparatus) that can satisfy these requirements. The manufacturing apparatus 50 includes, for example, a main body 51 having a curved surface 51A, an electrostatic chuck 52 made of, for example, a resin film, and clamps 53 and 54. Here, the main body 51 corresponds to a specific example of the “curving means” in the present invention, the electrostatic chuck 52 corresponds to a specific example of the “contact means” in the present invention, and the clamps 53 and 54 in the present invention. This corresponds to a specific example of “gripping means”.

図8は、本体51の全体構成を表したものである。本体51は、剥離力をドナー基板40の全面に分布させる(要件(1))と共に、剥離力をドナー基板40の裏面から作用させる(要件(2))ためのものである。曲面51Aは、剥離をドナー基板40を平面状態に維持して全面一括で行うのではなく、ドナー基板40の一辺または一角から開始し、剥離位置を移動させながら進行させる(要件(4))ためのものである。曲面51Aの形状は特に限定されないが、簡易的には例えば円筒面とすることができる。   FIG. 8 shows the overall configuration of the main body 51. The main body 51 is for distributing the peeling force over the entire surface of the donor substrate 40 (requirement (1)) and for causing the peeling force to act from the back surface of the donor substrate 40 (requirement (2)). The curved surface 51A does not perform peeling in a batch while maintaining the donor substrate 40 in a flat state, but starts from one side or corner of the donor substrate 40 and proceeds while moving the peeling position (requirement (4)). belongs to. The shape of the curved surface 51A is not particularly limited, but can be simply a cylindrical surface, for example.

図7(A)に示した静電チャック52は、要件(3)にいう剥離力を発生させる機能を有するものであり、本体51の曲面51Aに貼り付けられている。静電チャック52は、平面状態のドナー基板40をチャックしたのち、ドナー基板40を曲面51Aに密着させて曲面状態で保持する(要件(3))ものである。また、静電チャック52は、剥離の開始から終了後までドナー基板40を確実に保持し(要件(5))、ドナー基板40が本体51から脱落するのを抑えることが可能となっている。   The electrostatic chuck 52 shown in FIG. 7A has a function of generating the peeling force referred to in the requirement (3), and is attached to the curved surface 51 </ b> A of the main body 51. The electrostatic chuck 52 chucks the donor substrate 40 in a planar state, and then holds the donor substrate 40 in close contact with the curved surface 51 </ b> A (requirement (3)). Further, the electrostatic chuck 52 can reliably hold the donor substrate 40 from the start to the end of peeling (requirement (5)), and can prevent the donor substrate 40 from dropping from the main body 51.

図7(A)に示したクランプ53,54は、ドナー基板40および被転写基板11Aの端部を固定することにより、静電チャック52と共に、剥離の開始から終了後までドナー基板40を確実に保持する(要件(5))ためのものである。なお、クランプ53,54に代えて、粘着テープなどの他の把持手段を用いるようにしてもよい。   The clamps 53 and 54 shown in FIG. 7A secure the donor substrate 40 from the start to the end of peeling together with the electrostatic chuck 52 by fixing the end portions of the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A. It is for holding (requirement (5)). Instead of the clamps 53 and 54, other gripping means such as an adhesive tape may be used.

この製造装置50を用いたドナー基板40の剥離は、例えば次のようにして行うことができる。   Separation of the donor substrate 40 using the manufacturing apparatus 50 can be performed, for example, as follows.

まず、図7(A)に示したように、ドナー基板40および被転写基板11Aを重ね合わせた状態でステージ(図示せず)に載置する。このとき、ドナー基板40および被転写基板11Aはいずれも平面状態である。ドナー基板40の端部および被転写基板11Aの端部は、クランプ53,54により、剥離の開始から終了後まで固定し続ける。   First, as shown in FIG. 7A, the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A are placed on a stage (not shown) in a state of being overlaid. At this time, both the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A are in a planar state. The end portion of the donor substrate 40 and the end portion of the transferred substrate 11A are continuously fixed by the clamps 53 and 54 from the start to the end of the peeling.

次いで、同じく図7(A)に示したように、ドナー基板40の裏面の辺40A近傍に本体51の曲面51Aの一端を当接させる。   Next, as shown in FIG. 7A, one end of the curved surface 51A of the main body 51 is brought into contact with the vicinity of the side 40A on the back surface of the donor substrate 40.

続いて、図7(B)に示したように、ドナー基板40の裏面の上で本体51を矢印R1方向に回動させることによりドナー基板40の裏面を曲面51Aに巻きつけると共に、静電チャック52によりドナー基板40の裏面を曲面51Aに密着させる。これにより、ドナー基板40は、辺40Aから曲面に変形されると共に被転写基板11Aから剥離される。   Subsequently, as shown in FIG. 7B, the back surface of the donor substrate 40 is wound around the curved surface 51A by rotating the main body 51 in the direction of arrow R1 on the back surface of the donor substrate 40, and the electrostatic chuck. 52, the back surface of the donor substrate 40 is brought into close contact with the curved surface 51A. As a result, the donor substrate 40 is deformed from the side 40A into a curved surface and is peeled off from the transfer substrate 11A.

ドナー基板40と被転写基板11Aとの剥離位置40Cは、変形を開始した辺40Aから対辺40Dに向かって移動する。図7(C)に示したように、剥離位置40Cが対辺40Dに到達すると、完全にドナー基板40が被転写基板11Aから剥離される。一方、被転写基板11Aは、クランプ54により、剥離の開始から終了後まで平面状態に維持される。この製造装置50を用いることにより、真空中でドナー基板40と被転写基板11Aとを容易に分離することが可能となる。   The peeling position 40C between the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A moves from the side 40A where the deformation starts to the opposite side 40D. As shown in FIG. 7C, when the peeling position 40C reaches the opposite side 40D, the donor substrate 40 is completely peeled from the transfer substrate 11A. On the other hand, the transferred substrate 11A is maintained in a flat state by the clamp 54 from the start to the end of the peeling. By using the manufacturing apparatus 50, the donor substrate 40 and the transfer target substrate 11A can be easily separated in a vacuum.

ドナー基板40を剥離したのち、図9に示したように、赤色発光層15CRと同様にして、例えば熱転写法により、緑色発光層15CGを形成する。   After peeling the donor substrate 40, as shown in FIG. 9, the green light emitting layer 15CG is formed by, for example, a thermal transfer method in the same manner as the red light emitting layer 15CR.

緑色発光層15CGを形成したのち、図10に示したように、赤色発光層15CRと同様にして、例えば熱転写法により、青色発光層15CBを形成する。   After forming the green light emitting layer 15CG, as shown in FIG. 10, the blue light emitting layer 15CB is formed by the thermal transfer method, for example, in the same manner as the red light emitting layer 15CR.

赤色発光層15CR,緑色発光層15CGおよび青色発光層15CBを形成したのち、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる電子輸送層15Dおよび第2電極16を順に形成する。以上により、図3に示したような有機発光素子10R,10G,10Bが形成される。   After forming the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, and the blue light emitting layer 15CB, the electron transport layer 15D and the second electrode 16 made of the above-described thickness and material are sequentially formed by, for example, vapor deposition. Thus, the organic light emitting devices 10R, 10G, and 10B as shown in FIG. 3 are formed.

有機発光素子10R,10G,10Bを形成したのち、例えばCVD法により、上述した材料よりなる保護膜17を形成し、有機発光素子10R,10G,10Bを保護膜17で覆う。   After forming the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, the protective film 17 made of the above-described material is formed by, for example, the CVD method, and the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B are covered with the protective film 17.

そののち、保護膜17の上に、上述した材料よりなる接着層20を形成する。そののち、カラーフィルタ等が設けられ、上述した材料よりなる封止用基板30を用意し、駆動用基板11と封止用基板30とを接着層20を間にして貼り合わせる。以上により、図3に示した表示装置が完成する。   After that, the adhesive layer 20 made of the above-described material is formed on the protective film 17. After that, a color filter or the like is provided, a sealing substrate 30 made of the above-described material is prepared, and the driving substrate 11 and the sealing substrate 30 are bonded together with the adhesive layer 20 therebetween. Thus, the display device shown in FIG. 3 is completed.

この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路130から書き込みトランジスタTr2のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路120から画像信号が書き込みトランジスタTr2を介して保持容量Csに保持される。すなわち、この保持容量Csに保持された信号に応じて駆動トランジスタTr1がオンオフ制御され、これにより、各有機発光素子10R,10G,10Bに駆動電流Idが注入されることにより、正孔と電子とが再結合することにより発光が起こる。この光は、第2電極16,保護膜17および封止用基板21を透過して取り出される。ここでは、製造工程において、ドナー基板40と被転写基板11Aを重ね合わせて、転写後にドナー基板40を剥離するまで、一貫して真空中で行われているので、素子特性の低下のおそれがなく、高い特性が維持される。   In this display device, a scanning signal is supplied to each pixel from the scanning line driving circuit 130 via the gate electrode of the writing transistor Tr2, and an image signal is supplied from the signal line driving circuit 120 via the writing transistor Tr2. Held in Cs. That is, the driving transistor Tr1 is controlled to be turned on / off in accordance with the signal held in the holding capacitor Cs, whereby the driving current Id is injected into each of the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, so that holes, electrons, Recombination causes light emission. This light is transmitted through the second electrode 16, the protective film 17 and the sealing substrate 21 and extracted. Here, in the manufacturing process, since the donor substrate 40 and the substrate to be transferred 11A are overlapped, and the donor substrate 40 is peeled off after the transfer, the process is performed in a vacuum. High characteristics are maintained.

このように本実施の形態では、ドナー基板40を一辺40Aから曲面に変形させることにより、ドナー基板40と被転写基板11Aとの剥離位置40Cを移動させながらドナー基板40を被転写基板11Aから剥離するようにしたので、真空中でドナー基板40と被転写基板11Aとを容易に分離することが可能となる。   As described above, in this embodiment, the donor substrate 40 is detached from the transfer substrate 11A while moving the separation position 40C between the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A by deforming the donor substrate 40 from one side 40A to a curved surface. Thus, the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A can be easily separated in a vacuum.

なお、上記実施の形態では、ドナー基板40を曲面に変形させる場合について説明したが、被転写基板11Aを曲面に変形させることも可能である。また、図11の矢印R1,R2に示したように、ドナー基板40および被転写基板11Aの両方を曲面に変形させることも可能である。このように被転写基板11Aをドナー基板40と対称逆相に湾曲させることにより、分離を更に促進することができる。   In the above embodiment, the case where the donor substrate 40 is deformed into a curved surface has been described. However, the transfer substrate 11A may be deformed into a curved surface. Further, as indicated by arrows R1 and R2 in FIG. 11, both the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A can be deformed into curved surfaces. In this manner, the separation can be further promoted by curving the transfer target substrate 11A in a phase opposite to that of the donor substrate 40.

更に、上記実施の形態では、ドナー基板40の一辺40Aから曲面に変形させる場合について説明したが、互いに対向する二辺から中央に向かって、または、一角から対角に向かって、または、対向する二角から中央に向かって、または、全角から中央に向かって、ドナー基板40を曲面に変形させるようにしてもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the case where the side of the donor substrate 40 is deformed from the one side 40A to the curved surface has been described, but two sides facing each other toward the center, or from one corner to the opposite, or facing each other. The donor substrate 40 may be deformed into a curved surface from two corners toward the center or from all angles toward the center.

加えて、上記実施の形態では、赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CBを形成したのちにドナー基板40を剥離する場合について説明したが、赤色発光層15CR,緑色発光層15CGまたは青色発光層15CBの形成とドナー基板40の剥離とを同時に並行して行うことも可能である。その場合、例えば、ドナー基板40の裏面側からレーザ光を照射して転写を行うと共に、ドナー基板40の転写が完了した部分を剥離していく。   In addition, in the above embodiment, the case where the donor substrate 40 is peeled after the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, or the blue light emitting layer 15CB is formed has been described. However, the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, or It is also possible to simultaneously perform the formation of the blue light emitting layer 15CB and the peeling of the donor substrate 40 in parallel. In that case, for example, the transfer is performed by irradiating laser light from the back side of the donor substrate 40, and the transferred portion of the donor substrate 40 is peeled off.

<第2の実施の形態>
図12ないし図14は本発明の第2の実施の形態に係る表示装置の製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、密着手段としての静電チャック52に代えて、粘着シート62およびクランプ63を用いることにおいて第1の実施の形態で説明した製造方法とは異なるものである。なお、第1の実施の形態と製造工程が重複する部分については、図4ないし図10を参照して説明する。
<Second Embodiment>
12 to 14 show a method of manufacturing a display device according to the second embodiment of the present invention in the order of steps. This manufacturing method is different from the manufacturing method described in the first embodiment in that an adhesive sheet 62 and a clamp 63 are used in place of the electrostatic chuck 52 as the contact means. In addition, the part which 1st Embodiment and a manufacturing process overlap is demonstrated with reference to FIG. 4 thru | or FIG.

まず、第1の実施の形態と同様にして、図4および図5に示した工程により、被転写基板11Aおよびドナー基板40を形成する。   First, similarly to the first embodiment, the transferred substrate 11A and the donor substrate 40 are formed by the steps shown in FIGS.

次いで、第1の実施の形態と同様にして、図5に示した工程により、真空装置(図示せず)内で、ドナー基板40と被転写基板11Aとを表面(第1電極13側、および転写層42側)どうしを対向させて重ね合わせる。   Next, in the same manner as in the first embodiment, the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A are formed on the surface (on the first electrode 13 side, and in the vacuum apparatus (not shown)) by the process shown in FIG. The transfer layer 42 side) is overlapped with each other facing each other.

続いて、第1の実施の形態と同様にして、図6に示した工程により、真空装置(図示せず)内において、例えば熱転写法により、赤色発光層15CRを形成する。   Subsequently, in the same manner as in the first embodiment, the red light emitting layer 15CR is formed by, for example, a thermal transfer method in a vacuum apparatus (not shown) by the process shown in FIG.

赤色発光層15CRを形成したのち、真空装置(図示せず)内において、ドナー基板40を被転写基板11Aから剥離する。図12(A)は、この工程に用いられる表示装置の製造装置(基板分離装置)の一例を表したものである。この製造装置60は、例えば、曲面61Aを有する本体61と、粘着シート62と、クランプ63とを備えている。ここで、本体61は本発明における「湾曲手段」の一具体例に対応し、クランプ63は本発明における「固定手段」の一具体例に対応している。   After the red light emitting layer 15CR is formed, the donor substrate 40 is peeled from the transfer substrate 11A in a vacuum device (not shown). FIG. 12A shows an example of a display device manufacturing apparatus (substrate separation apparatus) used in this process. The manufacturing apparatus 60 includes, for example, a main body 61 having a curved surface 61A, an adhesive sheet 62, and a clamp 63. Here, the main body 61 corresponds to a specific example of “curving means” in the present invention, and the clamp 63 corresponds to a specific example of “fixing means” in the present invention.

図13は、本体61の全体構成を表したものである。本体61は、剥離力をドナー基板40の全面に分布させる(要件(1))と共に、剥離力をドナー基板40の裏面から作用させる(要件(2))ためのものである。曲面61Aは、剥離をドナー基板40を平面状態に維持して全面一括で行うのではなく、ドナー基板40の一辺または一角から開始し、剥離位置を移動させながら進行させる(要件(4))ためのものである。曲面61Aの形状は特に限定されないが、簡易的には例えば円筒面とすることができる。   FIG. 13 shows the overall configuration of the main body 61. The main body 61 is for distributing the peeling force over the entire surface of the donor substrate 40 (requirement (1)) and for causing the peeling force to act from the back surface of the donor substrate 40 (requirement (2)). The curved surface 61A does not perform peeling in a batch while maintaining the donor substrate 40 in a flat state, but starts from one side or corner of the donor substrate 40 and proceeds while moving the peeling position (requirement (4)). belongs to. The shape of the curved surface 61A is not particularly limited, but can be simply a cylindrical surface, for example.

図12(A)に示した粘着シート62およびクランプ63は、要件(3)にいう剥離力を発生させる機能を有するものであり、平面状態のドナー基板40を保持したのち、ドナー基板40を曲面61Aに巻きつけて曲面状態で保持する(要件(3))ものである。また、粘着シート62およびクランプ63は、剥離の開始から終了後までドナー基板40を確実に保持し(要件(5))、ドナー基板40が本体61から脱落するのを抑えることが可能となっている。   The adhesive sheet 62 and the clamp 63 shown in FIG. 12A have a function of generating a peeling force as described in the requirement (3). After holding the donor substrate 40 in a flat state, the donor substrate 40 is curved. It is wound around 61A and held in a curved state (requirement (3)). Moreover, the adhesive sheet 62 and the clamp 63 can reliably hold the donor substrate 40 from the start to the end of peeling (requirement (5)), and can prevent the donor substrate 40 from falling off the main body 61. Yes.

粘着シート62は、片面にドナー基板40の裏面の全面を貼り付けることが可能なものであれば、基材の片面に粘着層を有する片面粘着シートでもよいし、基材の両面に粘着層を有する両面粘着シートでもよい。クランプ63は、粘着シート62の端部を本体61の側面に固定するものである。なお、クランプ63に代えて、粘着テープなどの他の固定手段を用いるようにしてもよい。   The pressure-sensitive adhesive sheet 62 may be a single-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer on one side of the base material as long as the entire back surface of the donor substrate 40 can be pasted on one side, or a pressure-sensitive adhesive layer on both sides of the base material. It may be a double-sided PSA sheet. The clamp 63 fixes the end of the adhesive sheet 62 to the side surface of the main body 61. Instead of the clamp 63, other fixing means such as an adhesive tape may be used.

この製造装置60を用いたドナー基板40の剥離は、例えば次のようにして行うことができる。   Separation of the donor substrate 40 using the manufacturing apparatus 60 can be performed, for example, as follows.

まず、ドナー基板40および被転写基板11Aを重ね合わせた状態でステージ(図示せず)に載置し、図12(A)および図14に示したように、ドナー基板40および被転写基板11Aを平面状態として、ドナー基板40の裏面の全面に粘着シート62を貼り付ける。   First, the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A are placed on a stage (not shown) in a state where the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A are overlapped, and the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A are placed as shown in FIGS. In a planar state, the adhesive sheet 62 is attached to the entire back surface of the donor substrate 40.

次いで、同じく図12(A)に示したように、ドナー基板40の裏面の辺40Aに、粘着シート62を間にして、本体61の曲面61Aの一端を当接させると共に、辺40Aに対応する粘着シート62の端部(ドナー基板40からはみ出した部分)をクランプ63により本体61の側面に固定する。辺40Aに対応する粘着シート62の端部は、剥離の開始から終了後まで例えばクランプ63により本体61の側面に固定し続ける。   Next, as shown in FIG. 12A, one end of the curved surface 61A of the main body 61 is brought into contact with the side 40A on the back surface of the donor substrate 40 with the adhesive sheet 62 therebetween, and corresponds to the side 40A. An end portion (a portion protruding from the donor substrate 40) of the adhesive sheet 62 is fixed to the side surface of the main body 61 by a clamp 63. The end portion of the adhesive sheet 62 corresponding to the side 40A continues to be fixed to the side surface of the main body 61 by, for example, the clamp 63 from the start to the end of peeling.

続いて、図12(B)に示したように、ドナー基板40の裏面の上で本体61を矢印R1方向に回動させることにより、片面にドナー基板40を貼り付けた粘着シート62を、ドナー基板40ごと曲面61Aに巻きつけていく。これにより、ドナー基板40は、辺40Aから曲面に変形されると共に被転写基板11Aから剥離される。なお、粘着シート62が両面粘着シートの場合、粘着シート62の他方の粘着面を用いてドナー基板40の裏面を曲面61Aに密着させてもよい。   Subsequently, as shown in FIG. 12B, the main body 61 is rotated in the direction of the arrow R1 on the back surface of the donor substrate 40, whereby the adhesive sheet 62 with the donor substrate 40 attached on one side thereof is bonded to the donor. The substrate 40 is wound around the curved surface 61A. As a result, the donor substrate 40 is deformed from the side 40A into a curved surface and is peeled off from the transfer substrate 11A. In addition, when the adhesive sheet 62 is a double-sided adhesive sheet, you may stick the back surface of the donor substrate 40 to the curved surface 61A using the other adhesive surface of the adhesive sheet 62.

ドナー基板40と被転写基板11Aとの剥離位置40Cは、変形を開始した辺40Aから対辺40Dに向かって移動する。図12(C)に示したように、剥離位置40Cが対辺40Dに到達し、粘着シート62をドナー基板40ごと曲面61Aに巻きつけたら、対辺40Dに対応する粘着シート62の端部をクランプ63で本体61に固定する。これにより、完全にドナー基板40が被転写基板11Aから剥離される。一方、被転写基板11Aは、クランプ(図示せず)により、剥離の開始から終了後まで平面状態に維持される。この製造装置60を用いることにより、真空中でドナー基板40と被転写基板11Aとを容易に分離することが可能となる。   The peeling position 40C between the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A moves from the side 40A where the deformation starts to the opposite side 40D. As shown in FIG. 12C, when the peeling position 40C reaches the opposite side 40D and the adhesive sheet 62 is wound around the curved surface 61A together with the donor substrate 40, the end of the adhesive sheet 62 corresponding to the opposite side 40D is clamped 63 To fix to the main body 61. Thereby, the donor substrate 40 is completely peeled from the transfer substrate 11A. On the other hand, the substrate 11A to be transferred is maintained in a flat state from the start to the end of peeling by a clamp (not shown). By using the manufacturing apparatus 60, the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A can be easily separated in a vacuum.

このようにしてドナー基板40を被転写基板11Aから剥離したのち、粘着シート62が片面粘着シートである場合は、ドナー基板40に粘着シート62を貼ったまま搬送することが可能である。粘着シート62が両面粘着シートである場合は、加熱または紫外線照射により粘着シート62を本体61またはドナー基板40から剥離する。   After the donor substrate 40 is peeled from the transfer substrate 11A in this way, when the adhesive sheet 62 is a single-sided adhesive sheet, the donor substrate 40 can be transported with the adhesive sheet 62 attached. When the adhesive sheet 62 is a double-sided adhesive sheet, the adhesive sheet 62 is peeled from the main body 61 or the donor substrate 40 by heating or ultraviolet irradiation.

そののち、図9に示した工程により、赤色発光層15CRと同様にして、例えば熱転写法により、緑色発光層15CGを形成する。   After that, the green light emitting layer 15CG is formed by the thermal transfer method, for example, in the same manner as the red light emitting layer 15CR by the process shown in FIG.

緑色発光層15CGを形成したのち、図10に示した工程により、赤色発光層15CRと同様にして、例えば熱転写法により、青色発光層15CBを形成する。   After forming the green light emitting layer 15CG, the blue light emitting layer 15CB is formed by, for example, a thermal transfer method in the same manner as the red light emitting layer 15CR by the process shown in FIG.

赤色発光層15CR,緑色発光層15CGおよび青色発光層15CBを形成したのち、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる電子輸送層15Dおよび第2電極16を順に形成する。以上により、図3に示したような有機発光素子10R,10G,10Bが形成される。   After forming the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, and the blue light emitting layer 15CB, the electron transport layer 15D and the second electrode 16 made of the above-described thickness and material are sequentially formed by, for example, vapor deposition. Thus, the organic light emitting devices 10R, 10G, and 10B as shown in FIG. 3 are formed.

有機発光素子10R,10G,10Bを形成したのち、例えばCVD法により、上述した材料よりなる保護膜17を形成し、有機発光素子10R,10G,10Bを保護膜17で覆う。   After forming the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, the protective film 17 made of the above-described material is formed by, for example, the CVD method, and the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B are covered with the protective film 17.

そののち、保護膜17の上に、上述した材料よりなる接着層20を形成する。そののち、カラーフィルタ等が設けられ、上述した材料よりなる封止用基板30を用意し、駆動基板11と封止用基板30とを接着層20を間にして貼り合わせる。以上により、図3に示した表示装置が完成する。   After that, the adhesive layer 20 made of the above-described material is formed on the protective film 17. After that, a color filter or the like is provided, a sealing substrate 30 made of the above-described material is prepared, and the driving substrate 11 and the sealing substrate 30 are bonded together with the adhesive layer 20 in between. Thus, the display device shown in FIG. 3 is completed.

本実施の形態の効果は、第1の実施の形態と同様である。   The effect of this embodiment is the same as that of the first embodiment.

なお、上記実施の形態では、ドナー基板40を曲面に変形させる場合について説明したが、被転写基板11Aを曲面に変形させることも可能である。また、図11の矢印R1,R2に示したように、ドナー基板40および被転写基板11Aの両方を曲面に変形させることも可能である。このように被転写基板11Aをドナー基板40と対称逆相に湾曲させることにより、分離を更に促進することができる。   In the above embodiment, the case where the donor substrate 40 is deformed into a curved surface has been described. However, the transfer substrate 11A may be deformed into a curved surface. Further, as indicated by arrows R1 and R2 in FIG. 11, both the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A can be deformed into curved surfaces. In this manner, the separation can be further promoted by curving the transfer target substrate 11A in a phase opposite to that of the donor substrate 40.

<第3の実施の形態>
図15ないし図19は本発明の第3の実施の形態に係る表示装置の製造方法を工程順に表したものである。この製造方法は、湾曲手段として複数の粘着パッドおよび駆動部を備えた粘着ユニットを用いることにおいて第1の実施の形態で説明した製造方法とは異なるものである。なお、第1の実施の形態と製造工程が重複する部分については、図4ないし図10を参照して説明する。
<Third Embodiment>
15 to 19 show a manufacturing method of a display device according to the third embodiment of the present invention in the order of steps. This manufacturing method is different from the manufacturing method described in the first embodiment in that an adhesive unit including a plurality of adhesive pads and a drive unit is used as the bending means. In addition, the part which 1st Embodiment and a manufacturing process overlap is demonstrated with reference to FIG. 4 thru | or FIG.

まず、第1の実施の形態と同様にして、図4および図5に示した工程により、被転写基板11Aおよびドナー基板40を形成する。   First, similarly to the first embodiment, the transferred substrate 11A and the donor substrate 40 are formed by the steps shown in FIGS.

次いで、第1の実施の形態と同様にして、図5に示した工程により、真空装置(図示せず)内で、ドナー基板40と被転写基板11Aとを表面(第1電極13側、および転写層42側)どうしを対向させて重ね合わせる。   Next, in the same manner as in the first embodiment, the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A are formed on the surface (on the first electrode 13 side, and in the vacuum apparatus (not shown)) by the process shown in FIG. The transfer layer 42 side) is overlapped with each other facing each other.

続いて、第1の実施の形態と同様にして、図6に示した工程により、真空装置(図示せず)内において、例えば熱転写法により、赤色発光層15CRを形成する。   Subsequently, in the same manner as in the first embodiment, the red light emitting layer 15CR is formed by, for example, a thermal transfer method in a vacuum apparatus (not shown) by the process shown in FIG.

赤色発光層15CRを形成したのち、真空装置(図示せず)内において、ドナー基板40を被転写基板11Aから剥離する。図15は、この工程に用いる表示装置の製造装置(基板分離装置)の一例を表したものである。この製造装置70は、長方形の本体フレーム71と、基板保持部72と、粘着ユニット73と、基板収納カセット74とを備えている。   After the red light emitting layer 15CR is formed, the donor substrate 40 is peeled from the transfer substrate 11A in a vacuum device (not shown). FIG. 15 shows an example of a display device manufacturing apparatus (substrate separation apparatus) used in this process. The manufacturing apparatus 70 includes a rectangular main body frame 71, a substrate holding part 72, an adhesive unit 73, and a substrate storage cassette 74.

基板保持部72は、被転写基板11Aを保持するためのものであり、本体フレーム71の長手方向の一方の側に固定されている。基板保持部72は、複数のパッド支持部材72Aと、複数の粘着パッド72Bとを有している。パッド支持部材72Aの各々には、二つの粘着パッド72Bが配置されている。   The substrate holding portion 72 is for holding the transfer substrate 11A and is fixed to one side of the main body frame 71 in the longitudinal direction. The substrate holding part 72 has a plurality of pad support members 72A and a plurality of adhesive pads 72B. Two adhesive pads 72B are disposed on each of the pad support members 72A.

粘着ユニット73は、複数列(例えば五列)の粘着ヘッド80(No.1,No.2,No.3,No.4,No.5)を共通の架台80Aに取り付けた構成を有している。この架台80Aは、下端に設けられた車輪80Bにより、本体フレーム71の長手方向において、基板保持部72と基板収納カセット74との間を往復移動可能となっている。ここで、粘着ユニット73は本発明における「湾曲手段」の一具体例に対応している。   The adhesive unit 73 has a configuration in which multiple rows (for example, five rows) of adhesive heads 80 (No. 1, No. 2, No. 3, No. 4, No. 5) are attached to a common base 80A. Yes. The gantry 80A can reciprocate between the substrate holder 72 and the substrate storage cassette 74 in the longitudinal direction of the main body frame 71 by a wheel 80B provided at the lower end. Here, the adhesive unit 73 corresponds to a specific example of “curving means” in the present invention.

複数の粘着ヘッド80は、剥離力をドナー基板40の全面に分布させる(要件(1))と共に、剥離力をドナー基板40の裏面から作用させる(要件(2))ためのものである。また、複数の粘着ヘッド80は、剥離をドナー基板40を平面状態に維持して全面一括で行うのではなく、ドナー基板40の一辺または一角から開始し、剥離位置を移動させながら進行させる(要件(4))ためのものである。複数の粘着ヘッド80の各々は、複数(例えば六つ)の粘着パッド81と、一つの駆動部82とを備えている。   The plurality of adhesive heads 80 distribute the peeling force over the entire surface of the donor substrate 40 (requirement (1)) and allow the peeling force to act from the back surface of the donor substrate 40 (requirement (2)). In addition, the plurality of adhesive heads 80 does not perform the separation in a batch while maintaining the donor substrate 40 in a flat state, but starts from one side or one corner of the donor substrate 40 and proceeds while moving the separation position (requirement) (4)). Each of the plurality of adhesive heads 80 includes a plurality of (for example, six) adhesive pads 81 and one drive unit 82.

複数の粘着パッド81は、要件(3)にいう剥離力を発生させる機能を有するものであり、共通の取付ベース83に取り付けられている。複数の粘着パッド81は、平面状態のドナー基板40に粘着したのち、ドナー基板40を曲面に変形させながら剥離して保持する(要件(3))ものである。また、複数の粘着パッド81は、剥離の開始から終了後までドナー基板40を確実に保持し(要件(5))、ドナー基板40が脱落するのを抑えることが可能となっている。粘着パッド81の粘着方式は、粘着パッドが好ましいが、静電チャック式、磁力式、吸着式などでもよい。   The plurality of adhesive pads 81 have a function of generating the peeling force referred to in the requirement (3), and are attached to a common attachment base 83. The plurality of adhesive pads 81 are adhered to the donor substrate 40 in a flat state, and then peeled and held while deforming the donor substrate 40 into a curved surface (requirement (3)). The plurality of adhesive pads 81 can reliably hold the donor substrate 40 from the start to the end of peeling (requirement (5)), and can prevent the donor substrate 40 from falling off. The adhesive system of the adhesive pad 81 is preferably an adhesive pad, but may be an electrostatic chuck type, a magnetic type, an adsorption type, or the like.

駆動部82は、例えば昇降用シリンダにより構成されている。駆動部82は、一対のガイドプッシュ84と共に支持板85に取り付けられており、これら駆動部82および一対のガイドプッシュ84により取付ベース83を昇降させることで、複数の粘着パッド81を列ごとに昇降させるようになっている。支持板84は架台80Aの短手方向に固定されている。   The drive part 82 is comprised by the cylinder for raising / lowering, for example. The drive unit 82 is attached to the support plate 85 together with a pair of guide pushes 84. By moving the attachment base 83 up and down by the drive unit 82 and the pair of guide pushes 84, the plurality of adhesive pads 81 are moved up and down for each row. It is supposed to let you. The support plate 84 is fixed in the short direction of the gantry 80A.

この製造装置70を用いたドナー基板40の剥離は、例えば次のようにして行うことができる。   Separation of the donor substrate 40 using the manufacturing apparatus 70 can be performed, for example, as follows.

まず、図16に示したように、粘着ユニット73を基板収納カセット74側に待避させた状態で、ドナー基板40および被転写基板11Aを重ね合わせた状態で基板保持部72にセットし、被転写基板11Aの裏面に粘着パッド72Bを粘着させる。   First, as shown in FIG. 16, in a state where the adhesive unit 73 is retracted to the substrate storage cassette 74 side, the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A are set on the substrate holding unit 72 in a state of being overlapped, and the transfer target is transferred. An adhesive pad 72B is adhered to the back surface of the substrate 11A.

次いで、図17に示したように、粘着ユニット73を基板保持部72側に移動し、駆動部82により複数の粘着パッド81を下降させて、ドナー基板40の裏面に粘着パッド81を粘着させる。このとき、ドナー基板40および被転写基板11Aはいずれも平面状態である。   Next, as illustrated in FIG. 17, the adhesive unit 73 is moved to the substrate holding unit 72 side, and the plurality of adhesive pads 81 are lowered by the driving unit 82 to adhere the adhesive pads 81 to the back surface of the donor substrate 40. At this time, both the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A are in a planar state.

続いて、図18(A)および図18(B)に示したように、ドナー基板40の辺40Aに位置する一番右端の粘着ヘッド80(No.1)から順に、駆動部82により複数の粘着パッド81を列ごとに上昇させ、基板保持部72に保持された被転写基板11Aから離間する方向に移動させる。これにより、ドナー基板40は、辺40Aから曲面に変形されると共に被転写基板11Aから剥離される。   Subsequently, as shown in FIG. 18A and FIG. 18B, a plurality of driving units 82 sequentially drive the plurality of driving units 82 from the rightmost adhesive head 80 (No. 1) located on the side 40 </ b> A of the donor substrate 40. The adhesive pads 81 are raised for each row and moved in a direction away from the transfer substrate 11A held by the substrate holding part 72. As a result, the donor substrate 40 is deformed from the side 40A into a curved surface and is peeled off from the transfer substrate 11A.

ドナー基板40と被転写基板11Aとの剥離位置40Cは、変形を開始した辺40Aから対辺40Dに向かって移動する。図18(C)に示したように、剥離位置40Cが対辺40Dに到達すると、完全にドナー基板40が被転写基板11Aから剥離される。一方、被転写基板11Aは、基板保持部72により、剥離の開始から終了後まで平面状態に維持される。最後に、図19に示したように、粘着ユニット73を基板収納カセット74側に待避させ、ドナー基板40を基板収納カセット74に収納する。この製造装置70を用いることにより、真空中でドナー基板40と被転写基板11Aとを容易に分離することが可能となる。   The peeling position 40C between the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A moves from the side 40A where the deformation starts to the opposite side 40D. As shown in FIG. 18C, when the peeling position 40C reaches the opposite side 40D, the donor substrate 40 is completely peeled from the transfer substrate 11A. On the other hand, the transferred substrate 11A is maintained in a planar state by the substrate holding portion 72 from the start to the end of the peeling. Finally, as shown in FIG. 19, the adhesive unit 73 is retracted to the substrate storage cassette 74 side, and the donor substrate 40 is stored in the substrate storage cassette 74. By using this manufacturing apparatus 70, the donor substrate 40 and the transfer substrate 11A can be easily separated in a vacuum.

そののち、図9に示した工程により、赤色発光層15CRと同様にして、例えば熱転写法により、緑色発光層15CGを形成する。   After that, the green light emitting layer 15CG is formed by the thermal transfer method, for example, in the same manner as the red light emitting layer 15CR by the process shown in FIG.

緑色発光層15CGを形成したのち、図10に示した工程により、赤色発光層15CRと同様にして、例えば熱転写法により、青色発光層15CBを形成する。   After forming the green light emitting layer 15CG, the blue light emitting layer 15CB is formed by, for example, a thermal transfer method in the same manner as the red light emitting layer 15CR by the process shown in FIG.

赤色発光層15CR,緑色発光層15CGおよび青色発光層15CBを形成したのち、例えば蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる電子輸送層15Dおよび第2電極16を順に形成する。以上により、図3および図4に示したような有機発光素子10R,10G,10Bが形成される。   After forming the red light emitting layer 15CR, the green light emitting layer 15CG, and the blue light emitting layer 15CB, the electron transport layer 15D and the second electrode 16 made of the above-described thickness and material are sequentially formed by, for example, vapor deposition. Thus, the organic light emitting devices 10R, 10G, and 10B as shown in FIGS. 3 and 4 are formed.

有機発光素子10R,10G,10Bを形成したのち、図15に示した工程により、例えばCVD法により、上述した材料よりなる保護膜17を形成し、有機発光素子10R,10G,10Bを保護膜17で覆う。   After forming the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B, the protective film 17 made of the above-described material is formed by, for example, the CVD method by the process shown in FIG. Cover with.

そののち、保護膜17の上に、上述した材料よりなる接着層20を形成する。そののち、カラーフィルタ等が設けられ、上述した材料よりなる封止用基板30を用意し、駆動用基板11と封止用基板30とを接着層20を間にして貼り合わせる。以上により、図3に示した表示装置が完成する。   After that, the adhesive layer 20 made of the above-described material is formed on the protective film 17. After that, a color filter or the like is provided, a sealing substrate 30 made of the above-described material is prepared, and the driving substrate 11 and the sealing substrate 30 are bonded together with the adhesive layer 20 therebetween. Thus, the display device shown in FIG. 3 is completed.

本実施の形態の効果は、第1の実施の形態と同様である。   The effect of this embodiment is the same as that of the first embodiment.

なお、上記実施の形態では、粘着パッド81を各粘着ヘッド80の列ごとに上昇させることにより、ドナー基板40の一辺40Aから曲面に変形させる場合について説明したが、互いに対向する二辺から中央に向かって、ドナー基板40を曲面に変形させるようにしてもよい。また、粘着パッド81を一つずつ上昇させることにより、ドナー基板40の一角から対角に向かって、または、対向する二角から中央に向かって、または、全角から中央に向かって、曲面に変形させるようにしてもよい。   In the above embodiment, the case where the adhesive pad 81 is deformed from one side 40A of the donor substrate 40 to a curved surface by raising the adhesive pad 81 for each column of the adhesive heads 80 has been described. The donor substrate 40 may be deformed into a curved surface. Further, by raising the adhesive pad 81 one by one, it is deformed into a curved surface from one corner of the donor substrate 40 toward the diagonal, from two opposite corners toward the center, or from all angles toward the center. You may make it make it.

また、複数の粘着パッド81は、列ごとに限らず、一つずつ独立に、または複数個の粘着パッド81からなる区画ごとに独立に上昇させることも可能である。   Further, the plurality of adhesive pads 81 are not limited to each row, and can be raised independently one by one or independently for each section composed of the plurality of adhesive pads 81.

更に、上記実施の形態では、ドナー基板40を曲面に変形させる場合について説明したが、被転写基板11Aを曲面に変形させることも可能である。また、図11の矢印R1,R2に示したように、ドナー基板40および被転写基板11Aの両方を曲面に変形させることも可能である。このように被転写基板11Aをドナー基板40と対称逆相に湾曲させることにより、分離を更に促進することができる。   Furthermore, although the case where the donor substrate 40 is deformed into a curved surface has been described in the above embodiment, the transfer substrate 11A can be deformed into a curved surface. Further, as indicated by arrows R1 and R2 in FIG. 11, both the donor substrate 40 and the transferred substrate 11A can be deformed into curved surfaces. In this manner, the separation can be further promoted by curving the transfer target substrate 11A in a phase opposite to that of the donor substrate 40.

(モジュールおよび適用例)
以下、上記実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
(Modules and application examples)
Hereinafter, application examples of the display device described in the above embodiment will be described. The display device according to the above embodiment is an image signal that is input from the outside or is generated internally, such as a television device, a digital camera, a notebook personal computer, a mobile terminal device such as a mobile phone, or a video camera. Alternatively, the present invention can be applied to display devices for electronic devices in various fields that display images.

(モジュール)
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図20に示したようなモジュールとして、後述する適用例1〜5などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、駆動基板11の一辺に、封止用基板30および接着層20から露出した領域210を設け、この露出した領域210に、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130の配線を延長して外部接続端子(図示せず)を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)220が設けられていてもよい。
(module)
The display device according to the above-described embodiment is incorporated into various electronic devices such as application examples 1 to 5 described later, for example, as a module as illustrated in FIG. In this module, for example, a region 210 exposed from the sealing substrate 30 and the adhesive layer 20 is provided on one side of the drive substrate 11, and wiring of the signal line drive circuit 120 and the scanning line drive circuit 130 is provided in the exposed region 210. And an external connection terminal (not shown) is formed. The external connection terminal may be provided with a flexible printed circuit (FPC) 220 for signal input / output.

(適用例1)
図21は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル310およびフィルターガラス320を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部300は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
(Application example 1)
FIG. 21 illustrates an appearance of a television device to which the display device of the above embodiment is applied. The television apparatus has, for example, a video display screen unit 300 including a front panel 310 and a filter glass 320, and the video display screen unit 300 is configured by the display device according to each of the above embodiments. .

(適用例2)
図22は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、その表示部420は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
(Application example 2)
FIG. 22 shows the appearance of a digital camera to which the display device of the above embodiment is applied. The digital camera includes, for example, a flash light emitting unit 410, a display unit 420, a menu switch 430, and a shutter button 440. The display unit 420 is configured by the display device according to each of the above embodiments. Yes.

(適用例3)
図23は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510,文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、その表示部530は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
(Application example 3)
FIG. 23 shows the appearance of a notebook personal computer to which the display device of the above embodiment is applied. The notebook personal computer has, for example, a main body 510, a keyboard 520 for inputting characters and the like, and a display unit 530 for displaying an image. The display unit 530 is a display according to each of the above embodiments. It is comprised by the apparatus.

(適用例4)
図24は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部610,この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有しており、その表示部640は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
(Application example 4)
FIG. 24 shows the appearance of a video camera to which the display device of the above embodiment is applied. This video camera has, for example, a main body 610, a subject photographing lens 620 provided on the front side surface of the main body 610, a start / stop switch 630 at the time of photographing, and a display 640. Reference numeral 640 denotes the display device according to each of the above embodiments.

(適用例5)
図25は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部(ヒンジ部)730で連結したものであり、ディスプレイ740,サブディスプレイ750,ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そのディスプレイ740またはサブディスプレイ750は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
(Application example 5)
FIG. 25 illustrates an appearance of a mobile phone to which the display device of the above embodiment is applied. For example, the mobile phone is obtained by connecting an upper housing 710 and a lower housing 720 with a connecting portion (hinge portion) 730, and includes a display 740, a sub-display 750, a picture light 760, and a camera 770. Yes. The display 740 or the sub-display 750 is configured by the display device according to each of the above embodiments.

以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、ガラスよりなる基体41を用いたドナー基板40を被転写基板11Aから剥離する場合について説明したが、本発明は、蒸着マスクなどの全面接触型のパターニングマスクを剥離する場合、またはフィルムを用いたラミネートの場合あるいはフィルムよりなる基体を用いたドナー基板を剥離する場合などにも適用可能である。   While the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the case where the donor substrate 40 using the glass substrate 41 is peeled from the transfer substrate 11A has been described. However, the present invention peels the entire contact patterning mask such as an evaporation mask. The present invention can also be applied to the case of laminating using a film or the case of peeling a donor substrate using a substrate made of a film.

また、上記実施の形態では、R,G,Bすべての発光層15Cを転写法により形成する場合について説明したが、図26に示したように、赤色発光層15CRおよび緑色発光層15CGのみを転写法により形成したのち、青色発光層15CBを蒸着法により全面成膜するようにしてもよい。このとき、有機発光素子10Rでは、赤色発光層15CRと、青色発光層15CBとが形成されているが、最もエネルギー準位の低い赤色にエネルギー移動が起こり、赤色発光が支配的となる。有機発光素子10Gでは、緑色発光層15CGと、青色発光層15CBとが形成されているが、よりエネルギー準位の低い緑色にエネルギー移動が起こり、緑色発光が支配的となる。有機発光素子10Bでは、青色発光層15CBのみを有するので、青色発光が生じる。   Further, in the above embodiment, the case where all the R, G, and B light emitting layers 15C are formed by the transfer method has been described. However, as shown in FIG. 26, only the red light emitting layer 15CR and the green light emitting layer 15CG are transferred. After forming by the method, the blue light emitting layer 15CB may be formed over the entire surface by the vapor deposition method. At this time, in the organic light emitting element 10R, the red light emitting layer 15CR and the blue light emitting layer 15CB are formed, but energy transfer occurs in red having the lowest energy level, and red light emission becomes dominant. In the organic light emitting device 10G, the green light emitting layer 15CG and the blue light emitting layer 15CB are formed, but energy transfer occurs in green having a lower energy level, and green light emission becomes dominant. Since the organic light emitting element 10B has only the blue light emitting layer 15CB, blue light emission occurs.

更に、例えば、上記実施の形態および実施例において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法,成膜条件および転写条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法,成膜条件および転写条件としてもよい。   Furthermore, for example, the material and thickness of each layer described in the above embodiment and examples, or the film formation method, film formation conditions, and transfer conditions are not limited, and may be other materials and thicknesses, or Other film forming methods, film forming conditions, and transfer conditions may be used.

加えて、上記実施の形態では、有機発光素子10R,10G,10Bの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、第1電極13と有機層15との間に、酸化クロム(III)(Cr2 3 ),ITO(Indium-Tin Oxide:インジウム(In)およびスズ(Sn)の酸化物混合膜)などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。また、例えば第1電極13は、誘電体多層膜とすることもできる。 In addition, in the above-described embodiment, the configuration of the organic light emitting elements 10R, 10G, and 10B has been specifically described. However, it is not necessary to include all layers, and other layers may be further included. . For example, between the first electrode 13 and the organic layer 15, chromium oxide (III) (Cr 2 O 3 ), ITO (Indium-Tin Oxide: mixed oxide film of indium (In) and tin (Sn)), etc. A hole injecting thin film layer may be provided. For example, the first electrode 13 may be a dielectric multilayer film.

更にまた、上記実施の形態では、アクティブマトリクス駆動方式の場合について説明したが、本発明は単純マトリクス駆動方式への適用も可能である。加えてまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路120や走査線駆動回路130のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。   Furthermore, although the case of the active matrix driving method has been described in the above embodiment, the present invention can also be applied to a simple matrix driving method. In addition, the configuration of the pixel driving circuit for active matrix driving is not limited to that described in the above embodiment, and a capacitor or a transistor may be added as necessary. In that case, a necessary driving circuit may be added in addition to the signal line driving circuit 120 and the scanning line driving circuit 130 described above in accordance with the change of the pixel driving circuit.

10R,10G,10B…有機発光素子、11…駆動用基板、11A…被転写基板、13…第1電極、14…絶縁層、15…有機層、15AB…正孔注入層および正孔輸送層、15C…発光層、15DE…電子輸送層および電子注入層、16…第2電極、17…保護膜、20…接着層、30…封止用基板、40…ドナー基板、41…基体、42…転写層、43…光熱変換層、50,60,70…表示装置の製造装置   10R, 10G, 10B ... organic light emitting element, 11 ... driving substrate, 11A ... transferred substrate, 13 ... first electrode, 14 ... insulating layer, 15 ... organic layer, 15AB ... hole injection layer and hole transport layer, 15C ... Light emitting layer, 15DE ... Electron transport layer and electron injection layer, 16 ... Second electrode, 17 ... Protective film, 20 ... Adhesive layer, 30 ... Substrate for sealing, 40 ... Donor substrate, 41 ... Base, 42 ... Transfer Layer, 43... Photothermal conversion layer, 50, 60, 70... Display device manufacturing apparatus

Claims (7)

ガラスよりなる基板の表面に第1電極および複数の有機層の一部を有する被転写基板と、ガラスよりなる基体の表面に有機発光材料よりなる転写層を有するドナー基板とを、真空中で前記表面どうしを対向させて重ね合わせる工程と、
真空中で転写法により前記被転写基板に発光層を形成する工程と、
真空中で前記ドナー基板および前記被転写基板の少なくとも一方を湾曲手段により一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形させることにより、前記ドナー基板と前記被転写基板との剥離位置を移動させながら前記ドナー基板を前記被転写基板から剥離する工程と、
前記発光層の上に前記複数の有機層の残部および第2電極を形成する工程と
を含む表示装置の製造方法。
A substrate to be transferred having a first electrode and part of a plurality of organic layers on the surface of a substrate made of glass, and a donor substrate having a transfer layer made of an organic light emitting material on the surface of a substrate made of glass, in vacuum A process of superimposing the surfaces facing each other;
Forming a light emitting layer on the substrate to be transferred by a transfer method in vacuum;
By deforming at least one of the donor substrate and the transferred substrate into a curved surface from one or more sides or one or more corners by a bending means in a vacuum, the peeling position between the donor substrate and the transferred substrate is changed. Peeling the donor substrate from the transferred substrate while moving;
Forming a remaining portion of the plurality of organic layers and a second electrode on the light emitting layer.
前記湾曲手段は、曲面を有する本体を備え、
前記ドナー基板および前記被転写基板の少なくとも一方の裏面の上で前記本体を回動させることにより、前記裏面を前記曲面に巻きつける
請求項1記載の表示装置の製造方法。
The bending means includes a main body having a curved surface,
The display device manufacturing method according to claim 1, wherein the back surface is wound around the curved surface by rotating the main body on at least one back surface of the donor substrate and the transfer substrate.
前記曲面に密着手段を設け、前記密着手段により前記裏面を前記曲面に密着させる
請求項2記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to claim 2, wherein a close contact unit is provided on the curved surface, and the back surface is closely contacted with the curved surface by the close contact unit.
把持手段により前記ドナー基板または前記被転写基板の端部を押さえる
請求項3記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to claim 3, wherein an end portion of the donor substrate or the transfer substrate is pressed by a gripping unit.
前記裏面の全面に粘着シートを貼り付けると共に前記粘着シートの端部を固定手段により前記本体に固定し、
前記裏面の上で前記本体を回動させることにより、前記粘着シートを前記ドナー基板または前記被転写基板ごと前記曲面に巻きつけて前記固定手段で前記本体に固定する
請求項2記載の表示装置の製造方法。
Affixing an adhesive sheet to the entire back surface and fixing the end of the adhesive sheet to the main body by a fixing means,
The display device according to claim 2, wherein the adhesive sheet is wound around the curved surface together with the donor substrate or the transfer target substrate by rotating the main body on the back surface, and fixed to the main body by the fixing means. Production method.
前記湾曲手段として、複数の粘着パッドと、前記複数の粘着パッドを一つずつまたは複数個ずつ独立に昇降可能な複数の駆動部とを備えた吸着ユニットを用い、
前記ドナー基板および前記被転写基板の一方の裏面に前記複数の粘着パッドを粘着させた状態で、前記複数の駆動部により前記複数の粘着パッドを、一つずつまたは複数個ずつ順に上昇させる
請求項1記載の表示装置の製造方法。
As the bending means, using a suction unit comprising a plurality of adhesive pads and a plurality of drive units capable of independently raising and lowering the plurality of adhesive pads one by one or a plurality of each,
The plurality of adhesive pads are raised one by one or a plurality in order by the plurality of driving units in a state where the plurality of adhesive pads are adhered to one back surface of the donor substrate and the transfer target substrate. A manufacturing method of the display device according to 1.
ガラスよりなる基体の表面に有機発光材料よりなる転写層を有するドナー基板と、ガラスよりなる基板の表面に第1電極および複数の有機層の一部を形成した被転写基板とを、前記表面どうしを対向させて重ね合わせた状態から、分離した状態にする工程に用いられ、
前記ドナー基板および前記被転写基板の少なくとも一方を一つ以上の辺または一つ以上の角から曲面に変形させることが可能な湾曲手段を備えた
表示装置の製造装置。
A donor substrate having a transfer layer made of an organic light emitting material on the surface of a substrate made of glass, and a transfer substrate having a first electrode and a part of a plurality of organic layers formed on the surface of the substrate made of glass, Is used in the process of separating from the state of facing and overlapping,
An apparatus for manufacturing a display device, comprising: bending means capable of deforming at least one of the donor substrate and the transfer substrate from one or more sides or one or more corners into a curved surface.
JP2009018256A 2009-01-29 2009-01-29 Method and apparatus for manufacturing display device Pending JP2010177034A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009018256A JP2010177034A (en) 2009-01-29 2009-01-29 Method and apparatus for manufacturing display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009018256A JP2010177034A (en) 2009-01-29 2009-01-29 Method and apparatus for manufacturing display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010177034A true JP2010177034A (en) 2010-08-12

Family

ID=42707768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009018256A Pending JP2010177034A (en) 2009-01-29 2009-01-29 Method and apparatus for manufacturing display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010177034A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130131163A (en) * 2012-05-23 2013-12-03 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device
JP2014235279A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 株式会社ジャパンディスプレイ Display device and production method thereof
JP2014235433A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Substrate attachment/detachment device, and method for manufacturing flat panel display using the same
CN110634389A (en) * 2019-08-30 2019-12-31 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 Preparation method of substrate

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130131163A (en) * 2012-05-23 2013-12-03 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device
KR101970553B1 (en) * 2012-05-23 2019-08-13 엘지디스플레이 주식회사 Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device
JP2014235279A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 株式会社ジャパンディスプレイ Display device and production method thereof
JP2014235433A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド Substrate attachment/detachment device, and method for manufacturing flat panel display using the same
CN110634389A (en) * 2019-08-30 2019-12-31 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 Preparation method of substrate
CN110634389B (en) * 2019-08-30 2021-10-12 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 Preparation method of substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4340982B2 (en) Manufacturing method of display device
JP5217949B2 (en) Method for manufacturing reflector and method for manufacturing display device
US9231037B2 (en) Display unit and electronic apparatus
JP5126545B2 (en) Manufacturing method of display device
JP4600569B2 (en) Method for manufacturing donor substrate and display device
JP4957375B2 (en) Organic EL display device manufacturing equipment
JP4957929B2 (en) Method for manufacturing donor substrate and display device
JP2009041054A (en) Mask for vapor deposition, its manufacturing method, and manufacturing method of display device
JP2008288075A (en) Method of manufacturing display device, and display device
US20080233827A1 (en) Method for manufacturing display device
JP4396864B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
JP2010140896A (en) Manufacturing method for display and display
TW201411831A (en) Donor substrates and methods of manufacturing organic light emitting display devices using donor substrates
JP2011040269A (en) Electro-optic apparatus and manufacturing method therefor, and electronic device
KR20190035103A (en) Flexible Electroluminescent Display Device
KR102624508B1 (en) Flexible Electroluminescent Display Device
JP2009110785A (en) Organic el element panel and its manufacturing method
JP2010196091A (en) Mask for vapor deposition and method of manufacturing the same
JP2009146715A (en) Donor substrate, and manufacturing method for display device
JP2007273400A (en) Method of manufacturing optical device, and optical device
JP2009146716A (en) Display device and donor substrate
JP2010177034A (en) Method and apparatus for manufacturing display device
JP5470813B2 (en) Reflector, display device, and manufacturing method thereof
TW201037830A (en) Substrate board for display device and method for making the substrate board
JP2008311103A (en) Manufacturing method of display device, and the display device