JP2010169628A - X線回折方法およびx線回折装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】コヒーレントなX線光を2分岐し、一方を、結晶性を有する測定試料に照射して得られたスペックル状の回折光と、他方のX線光を単結晶の参照結晶に照射して得られた回折光とを、二次元の検出器上で干渉させてホログラムパターンを取得し、このホログラムパターンに対してフーリエ変換を行って、該測定試料の結晶性の不均一性などの結晶構造に関する空間分布情報を得るようにする。こうすることで、スペックル状の回折光から直接、オーバーサンプリング法を用いた演算処理に比べ、容易に上記情報を得ることができる。
【選択図】図4
Description
このように、コヒーレントX線を用いたX線回折測定においては、不均一構造を持つ試料からのX線回折パターンの場合、不均一構造からの回折X線の干渉効果により、2次元表示においては、いわゆる、スペックル状(斑点状)の回折パターンとなる。
コヒーレント性を有するX線ビームを2行路に分岐し、
前記2行路の一方の行路の前記X線ビームを少なくとも結晶性を有する材料からなる測定試料に照射して得られる測定試料X線回折パターンと、前記2行路の他方の行路の前記X線ビームを単結晶材料からなる参照結晶に照射して得られる参照結晶X線回折パターンとを、二次元の検出領域面を有するX線検出器の前記検出領域面上で干渉させてホログラムパターンを取得し、
前記ホログラムパターンに対しフーリエ変換処理を行うことによって、前記測定試料の結晶中の不均一構造の空間分布情報を取得することを特徴とする。
コヒーレント性を有するX線ビームを発生するX線発生手段と、
前記X線ビームを2行路に分岐する分岐手段と、
少なくとも結晶性を有する材料からなる測定試料を載置する測定試料ステージと、
単結晶材料からなる参照結晶を載置する参考結晶ステージと、
二次元の検出領域面を有するX線検出器と、
前記分岐手段で分岐された一方の行路の前記X線ビームを前記測定試料に照射して得られる測定試料X線回折パターンと、前記分岐手段で分岐された他方の行路の前記X線ビームを前記参考結晶に照射して得られる参考結晶X線回折パターンとを、前記X線検出器の前期検出領域面上で干渉させてホログラムパターンを得られるように、前記X線発生手段、前記分岐手段、前記測定試料ステージ、前記参考結晶ステージ及び前記X線検出器のそれぞれの相互位置関係及び前記X線ビームに対するそれぞれの入射角度を制御する、個別制御手段または/及び全体系制御手段と、
前記ホログラムパターンをフーリエ変換する変換処理手段とを有することを特徴とする。
本発明のX線回折方法の模式的な構成例は、図4に示すようなものとなる。分光器により単色化されたコヒーレントX線1が回折装置10に入射される。配置の方向軸規定は、図中に示したX−Y−Z軸方向によるものとする。
2 測定試料
3 参照結晶
4 検出器
5 ホログラムパターン
6 参照結晶の並進
10 回折装置
11 測定試料制御部
12 参照結晶制御部
13 検出器制御部
14 測定制御部
15 データ解析部
16 2次元データ
17 実空間像
18 制御部
Claims (5)
- コヒーレント性を有するX線ビームを2行路に分岐し、
前記2行路の一方の行路の前記X線ビームを少なくとも結晶性を有する材料からなる測定試料に照射して得られる測定試料X線回折パターンと、前記2行路の他方の行路の前記X線ビームを単結晶材料からなる参照結晶に照射して得られる参照結晶X線回折パターンとを、二次元の検出領域面を有するX線検出器の前記検出領域面上で干渉させてホログラムパターンを取得し、
前記ホログラムパターンに対しフーリエ変換処理を行うことによって、前記測定試料の結晶中の不均一構造の空間分布情報を取得することを特徴とする、X線回折方法。 - 前記単結晶材料は、半導体結晶材料または絶縁体結晶材料であることを特徴とする請求項1記載のX線回折方法。
- 前記半導体結晶材料は、Si(シリコン)、Ge(ゲルマニウム)、ダイヤモンドのいずれか、前記絶縁体結晶材料は酸化マグネシウムMgOやチタン酸ストロンチウムSrTiO3のいずれかであることを特徴とする請求項2記載のX線回折方法。
- コヒーレント性を有するX線ビームを発生するX線発生手段と、
前記X線ビームを2行路に分岐する分岐手段と、
少なくとも結晶性を有する材料からなる測定試料を載置する測定試料ステージと、
単結晶材料からなる参照結晶を載置する参考結晶ステージと、
二次元の検出領域面を有するX線検出器と、
前記分岐手段で分岐された一方の行路の前記X線ビームを前記測定試料に照射して得られる測定試料X線回折パターンと、前記分岐手段で分岐された他方の行路の前記X線ビームを前記参考結晶に照射して得られる参考結晶X線回折パターンとを、前記X線検出器の前期検出領域面上で干渉させてホログラムパターンを得られるように、前記X線発生手段、前記分岐手段、前記測定試料ステージ、前記参考結晶ステージ及び前記X線検出器のそれぞれの相互位置関係及び前記X線ビームに対するそれぞれの入射角度を制御する、個別制御手段または/及び全体系制御手段と、
前記ホログラムパターンをフーリエ変換する変換処理手段とを有することを特徴とするX線回折装置。 - 前記単結晶材料は、半導体結晶材料または絶縁体結晶材料であることを特徴とする請求項4記載のX線回折装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103487452A (zh) * | 2013-10-14 | 2014-01-01 | 山东大学 | 以x射线单次测量实现对称性微纳米样品三维成像的方法 |
CN112198176A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-01-08 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于光场高阶空间关联的单次曝光x射线衍射成像装置及方法 |
CN113287005A (zh) * | 2018-11-22 | 2021-08-20 | 株式会社理学 | 单晶x射线结构解析装置和方法、用于此的试样保持架以及敷料器 |
CN113287004A (zh) * | 2018-11-22 | 2021-08-20 | 株式会社理学 | 单晶x射线结构解析装置和用于其的方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3381127A (en) * | 1965-04-01 | 1968-04-30 | Philips Corp | Method of producing x-ray interference patterns and x-ray holograms |
US3407296A (en) * | 1966-05-16 | 1968-10-22 | Ibm | X-ray holographic microscope having three diffracting crystals disposed in parallel along the x-ray beam path |
JPS61227991A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-11 | Seiko Epson Corp | コランダム単結剤の製造方法 |
JPH02228687A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Shimadzu Corp | X線ホログラフィ装置 |
JPH10248833A (ja) * | 1996-03-29 | 1998-09-22 | Hitachi Ltd | 位相コントラストx線撮像装置 |
JPH10300694A (ja) * | 1997-04-23 | 1998-11-13 | Hitachi Ltd | X線撮像装置 |
JP2004251866A (ja) * | 2002-09-06 | 2004-09-09 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | X線回折測定装置およびx線回折測定方法 |
-
2009
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3381127A (en) * | 1965-04-01 | 1968-04-30 | Philips Corp | Method of producing x-ray interference patterns and x-ray holograms |
US3407296A (en) * | 1966-05-16 | 1968-10-22 | Ibm | X-ray holographic microscope having three diffracting crystals disposed in parallel along the x-ray beam path |
JPS61227991A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-11 | Seiko Epson Corp | コランダム単結剤の製造方法 |
JPH02228687A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Shimadzu Corp | X線ホログラフィ装置 |
JPH10248833A (ja) * | 1996-03-29 | 1998-09-22 | Hitachi Ltd | 位相コントラストx線撮像装置 |
JPH10300694A (ja) * | 1997-04-23 | 1998-11-13 | Hitachi Ltd | X線撮像装置 |
JP2004251866A (ja) * | 2002-09-06 | 2004-09-09 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | X線回折測定装置およびx線回折測定方法 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
CSNC201008070415; 野村健二他: 'X線フーリエ変換ホログラフィーの開発' 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第2分冊, 20080327, 699 * |
JPN6012039140; Lensless imaging of magnetic nanostructures by X-ray spectro-holography: 'S. Eisebitt他' Nature 432, 20041216, 885-888 * |
JPN6012039141; W. F. Schlotter他: 'Multiple reference Fourier transform holography with soft x rays' Appl. Phys. Lett. 89, 20061016, 163112-1 - 163112-3 * |
JPN6012068930; 野村健二他: 'X線フーリエ変換ホログラフィーの開発' 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集 第2分冊, 20080327, 699 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103487452A (zh) * | 2013-10-14 | 2014-01-01 | 山东大学 | 以x射线单次测量实现对称性微纳米样品三维成像的方法 |
CN103487452B (zh) * | 2013-10-14 | 2015-08-05 | 山东大学 | 以x射线单次测量实现对称性微纳米样品三维成像的方法 |
CN113287005A (zh) * | 2018-11-22 | 2021-08-20 | 株式会社理学 | 单晶x射线结构解析装置和方法、用于此的试样保持架以及敷料器 |
CN113287004A (zh) * | 2018-11-22 | 2021-08-20 | 株式会社理学 | 单晶x射线结构解析装置和用于其的方法 |
CN112198176A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-01-08 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于光场高阶空间关联的单次曝光x射线衍射成像装置及方法 |
CN112198176B (zh) * | 2020-09-24 | 2022-12-02 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于光场高阶空间关联的单次曝光x射线衍射成像装置及方法 |
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