JP2010169575A - 慣性センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】加速度と角加速度のうち少なくとも一方を検出でき、高感度で共振周波数の最適化を図ることができる慣性センサを提供する。
【解決手段】重り部1を支持梁5によって両側から支持して固定部3に固定する。支持梁5は互いに一直線上に形成し、重り部1よりも肉薄に形成する。支持梁5の少なくとも一方を間隔を介して挟む両側に、重り部1と固定部3とを連結する検出梁6を設ける。検出梁6は、重り部1よりも肉薄で、支持梁5よりも幅狭に形成する。重り部1の周りと上下には重り部1の可動空間を形成し、重り部1の重心と支持梁5の重心とは厚み方向の位置がずれるようにする。支持梁5の伸長方向と交わる水平方向から加えられる加速度に応じて、重り部1が支持梁5を軸として変位し、検出梁6が変位するものとし、検出梁6の変位に伴って検出梁6に生じる応力を検知し、その検知応力に基づいて前記加速度を検知する。
【選択図】図1
【解決手段】重り部1を支持梁5によって両側から支持して固定部3に固定する。支持梁5は互いに一直線上に形成し、重り部1よりも肉薄に形成する。支持梁5の少なくとも一方を間隔を介して挟む両側に、重り部1と固定部3とを連結する検出梁6を設ける。検出梁6は、重り部1よりも肉薄で、支持梁5よりも幅狭に形成する。重り部1の周りと上下には重り部1の可動空間を形成し、重り部1の重心と支持梁5の重心とは厚み方向の位置がずれるようにする。支持梁5の伸長方向と交わる水平方向から加えられる加速度に応じて、重り部1が支持梁5を軸として変位し、検出梁6が変位するものとし、検出梁6の変位に伴って検出梁6に生じる応力を検知し、その検知応力に基づいて前記加速度を検知する。
【選択図】図1
Description
本発明は、加速度センサや角加速度センサとして用いられる慣性センサに関するものである。
図18(a)には、加速度センサの一例が斜視図によって示されている(特許文献1、参照。)。この図の、A−A’断面図は、図18(b)に示されるような断面図となる。この加速度センサは、枠状の固定部43内に配置された一体の重り部41を、4つの梁部42で支持する構成を有し、梁部42にはピエゾ抵抗44を設けている。なお、図18(a)のB−B’断面図は、図18(b)における内側の2つのピエゾ抵抗44を省略した状態となる。
印加された加速度に応じて重り部41と梁部42が変位することにより、梁部42に歪みが生じ、その歪みをピエゾ抵抗44によって検出することにより、加速度を検出する構成と成している。この加速度センサは、図18(b)に示すように、重り部41と梁部42との間に溝を形成し、梁部42の重り部41との接続部位を重り部41の中央部分とすることにより、前記接続部位を重り部41の端部とする場合に比べて重り部41の体積を大きくしている。なお、図18の図中、45は基板、46は電極パッドを示している。
この提案の加速度センサのように、重り部を梁部によって支持する構成を有し、外部から加えられる加速度や角加速度に応じて変位する重り部の変位量や梁部の変位量等を検出することによって、加速度を検出する加速度センサや角加速度を検出する角加速度センサが、様々に提案されている(例えば、特許文献2〜4、非特許文献1、参照)。
しかしながら、前記提案の加速度センサや角加速度センサは、いずれも、高感度化と共振周波数の最適化を共に図ることができるものではなかった。例えば、図18に示した加速度センサは、前記の如く、重り部41の体積を大きくして高感度化を図っているものの、接続部位を重り部41の中央部分とすることにより梁部42が長くなるため、共振周波数が低下し、周波数特性が悪化してしまうといった問題があった。
また、前記非特許文献1に記載された構造は、主となる支持梁の他に変位が大きくなるところに検出梁を形成することにより、効率よく歪みを検出しようとしているが、この構造では、安定した特性を得るためには支持梁に高アスペクト比および高精度の加工が要求されるので、作製が困難であり、小型化にも不利であるといった問題があった。また、この構造では、重りの動きが面内方向のみに限られ、検出部の強度を確保するためには重りの動きを制限するためのストッパ等の構造が必要不可欠であり、その構造を形成するためにも高精度な加工が要求され、作成が困難であった。
本発明は、前記従来の課題を解決するために成されたものであり、その目的は、加速度と角加速度のうち少なくとも一方を検出でき、高感度で共振周波数の最適化を図ることができ、作製が容易な慣性センサを提供することにある。
本発明は前記課題を解決するために、次に示すような構成を有している。
すなわち、本発明は、
重り部と、該重り部と間隔を介して少なくとも重り部の両側に配置された固定部とを有し、該固定部と前記重り部とが該重り部を両側から支持する支持梁によって連結されており、これらの支持梁は互いに一直線上に形成され、かつ、前記重り部よりも肉薄に形成されており、
前記支持梁の少なくとも一方を間隔を介して挟む両側に、それぞれ前記重り部と固定部とを連結する検出梁が設けられており、該検出梁は、前記重り部よりも肉薄で、かつ、前記支持梁よりも幅狭に形成されており、
前記重り部の周りと上下には該重り部の可動空間が形成され、前記重り部の重心と前記支持梁の重心とは厚み方向の位置がずれており、
前記支持梁の伸長方向と交わる水平方向から加えられる加速度に応じて、前記重り部が前記支持梁を軸として変位し、かつ、前記検出梁が変位するセンサ素子部と、前記検出梁の変位に伴って該検出梁に生じる応力を検知する応力検知部が前記検出梁に設けられ、該応力検知部により検知される応力に基づいて前記加速度を検知する加速度検出手段が設けられている構成をもって課題を解決する手段としている。
すなわち、本発明は、
重り部と、該重り部と間隔を介して少なくとも重り部の両側に配置された固定部とを有し、該固定部と前記重り部とが該重り部を両側から支持する支持梁によって連結されており、これらの支持梁は互いに一直線上に形成され、かつ、前記重り部よりも肉薄に形成されており、
前記支持梁の少なくとも一方を間隔を介して挟む両側に、それぞれ前記重り部と固定部とを連結する検出梁が設けられており、該検出梁は、前記重り部よりも肉薄で、かつ、前記支持梁よりも幅狭に形成されており、
前記重り部の周りと上下には該重り部の可動空間が形成され、前記重り部の重心と前記支持梁の重心とは厚み方向の位置がずれており、
前記支持梁の伸長方向と交わる水平方向から加えられる加速度に応じて、前記重り部が前記支持梁を軸として変位し、かつ、前記検出梁が変位するセンサ素子部と、前記検出梁の変位に伴って該検出梁に生じる応力を検知する応力検知部が前記検出梁に設けられ、該応力検知部により検知される応力に基づいて前記加速度を検知する加速度検出手段が設けられている構成をもって課題を解決する手段としている。
また、前記構成の本発明の慣性センサを構成する第1と第2の2つのセンサ素子部と応力検知部とを有して、該センサ素子部は互いに支持梁が一直線上に配置される態様で配設固定され、
前記2つのセンサ素子部の重り部の重心を結ぶ線が加速度の検出方向と略直交する方向に形成されており、前記重り部の重心を結ぶ線を通る垂直方向の軸回りの角加速度を前記第1のセンサ素子部に設けられた応力検知部と第2のセンサ素子部に設けられた応力検知部とにより検知される応力に基づいて検出する角加速度検出手段が設けられていることも、本発明の課題を解決する手段としている。
前記2つのセンサ素子部の重り部の重心を結ぶ線が加速度の検出方向と略直交する方向に形成されており、前記重り部の重心を結ぶ線を通る垂直方向の軸回りの角加速度を前記第1のセンサ素子部に設けられた応力検知部と第2のセンサ素子部に設けられた応力検知部とにより検知される応力に基づいて検出する角加速度検出手段が設けられていることも、本発明の課題を解決する手段としている。
本発明においては、重り部の周りと上下には該重り部の可動空間が形成され、重り部を両側から支持する支持梁が互いに一直線上に形成されている。そして、この支持梁は重り部よりも肉薄に形成されて、前記重り部の重心と前記支持梁の重心との厚み方向の位置がずらして配置されている。そのため、支持梁の伸長方向と交わる水平方向から加えられる加速度に応じて、重り部が支持梁を軸としてトルクによる大きなねじれの動きを生じるようにすることができる。
また、本発明において、前記支持梁の少なくとも一方を間隔を介して挟む両側には、それぞれ重り部と固定部とを連結する検出梁が設けられ、しかも、その検出梁は、重り部よりも肉薄で、かつ、支持梁よりも幅狭に形成されているので、重り部の動きに応じて検出梁に大きな歪みを生じさせることができる。なお、支持梁を挟む両側の検出梁は、重り部のねじれの動きに応じ、上下の互いに反対方向に変位する。この変位に伴い、支持梁を挟む両側の検出梁には、圧縮と引っ張りの互いに逆の応力を生じる。そのため、前記検出梁に生じる応力を応力検知部により検知し、該応力検知部により検知される応力に基づいて前記加速度を検知することにより、前記水平方向から加えられる加速度を高感度に検出できる。
また、センサの共振周波数は、主に支持梁の長さ、太さ、厚みによって決定されるものであるが、本発明では、この支持梁と、加速度印加によって変位する応力検出用の検出梁とを別々に形成し、機能を分けることにより、最適化設計の自由度を増すことができる。そして、前記の如く、加速度印加に応じて検出梁に生じる大きな歪みを検出して加速度を検出することにより、効率的に加速度検出ができ、高感度と共振周波数の最適化を両立させることができる。
さらに、支持梁を両持ち梁として、重り部を両側から支持することにより、重り部の、支持梁を軸とする以外のねじれの動きを非常に少なくできるので、前記水平方向の他軸の感度を抑制できる。また、外力に対して、主にねじれの動きのみに抑えることができるので、耐衝撃性を高めることができる等、慣性センサの機械的強度を高めることができ、信頼性を向上させることができる。なお、重り部は、前記ねじれの動きによって必ず上下方向に変位するので、上下方向の動きを制限する(動きの範囲を制限する)ストッパ等の機構を設けると、より機械的強度を向上させることができる。
また、支持梁と検出梁の厚みを薄く形成するので、例えば梁を薄い層のみで形成することにより加工の裕度を上げることができ、ばらつき要因を低減でき、かつ、歩留まりを向上させることができる。一方、重り部は、厚みを得るために例えば深堀加工を行って形成されるが、この加工は重りの質量のみに寄与するため、この加工で梁を形成する従来例と比べ、加工の裕度を上げることができる。さらに、この加工裕分を重りの厚みを増すことにあてれば、さらに高感度化が可能となる。
本発明において、応力検知部を、各検出梁に設けられたピエゾ抵抗を有する構成とし、これらのピエゾ抵抗により形成されるブリッジ回路を設けて加速度検出手段を形成することにより、容易に、かつ、高精度に加速度を検出できる加速度センサを実現することができる。
さらに、本発明において、前記の慣性センサの構成を有する第1と第2の2つのセンサ素子部を、互いに支持梁が一直線上に配置される態様で配設固定し、前記2つのセンサ素子部の重り部の重心を結ぶ線を、加速度の検出方向と略直交する方向に形成して、角加速度検知手段を設けることにより、重り部の重心を結ぶ線を通る垂直方向の軸回りの角加速度を検出できる角加速度センサを、容易に形成できる。また、この角加速度センサも、高感度化と共振周波数の最適化を両立できる。
さらに、前記の如く角加速度センサとして機能する本発明において、応力検知部を各検出梁に複数設けられたピエゾ抵抗を有する構成とし、これらのピエゾ抵抗のブリッジ回路により加速度検出手段と角加速度検出手段を形成すれば、これらの加速度検知手段と角加速度検知手段とを選択的に利用して、加速度と角加速度とを、適宜、的確に検出することができる。また、ピエゾ抵抗のブリッジ回路により角加速度検出手段のみを形成すれば、簡単な回路構成で、角加速度を的確に検出できる。
さらに、重り部の両側に設けられた支持梁の少なくとも一方とその両側の検出梁を、弾性部を介して固定部に連結することにより、固定部に外部から加えられる応力の影響を低減でき、加速度や角加速度の検出特性変動を抑制することができる。また、加速度や角加速度の検知方向以外の並進加速度が印加された際にも、支持梁および検知梁に加わる歪みを軽減できる。したがって、耐衝撃性等の機械的強度の向上を図れ、かつ、検出方向以外の他軸感度を低減できる。
さらに、本発明において、検出梁の重り部との連結接続部を支持梁から離れた重り部端部側に設け、固定部との連結接続部を重り部端部側よりも支持梁寄りに設けることにより、より効率的に、外部応力の影響を低減することができる。
以下、本発明の実施例を、図面を参照して説明する。
図1には、本発明に係る慣性センサの一実施例の要部構成が模式的な斜視図により示されている。本実施形態例の慣性センサは、加速度センサであり、下側基板2上に設けられた枠状の固定部3と、該枠状の固定部3の内側に、該固定部3と間隔を介して設けられた重り部1とを有している。言い換えれば、本実施形態例の慣性センサは、重り部1と、該重り部1と間隔を介し、少なくとも重り部1の両側(ここでは、外周側)に配置された固定部3とを有している。なお、図2(a)に、重り部1およびその周辺領域の平面構成が示されている。
重り部1と固定部3とは、重り部1を両側から支持する支持梁5によって連結されている。支持梁5は互いに一直線上に形成され、かつ、前記重り部1よりも肉薄に形成されている。また、支持梁5の一方(図1の右側であり、図2(a)の上側に配置されている支持梁5)を間隔を介して挟む両側に、それぞれ、重り部1と固定部3とを連結する検出梁6が設けられており、該検出梁6は、前記重り部1よりも肉薄で、かつ、前記支持梁5よりも幅狭に形成されている。
重り部1は、前記下側基板2から浮いた状態で下側基板2の上側に設けられており、重り部1の周りと上下には、該重り部1の可動空間が形成されている。また、重り部1の重心と前記支持梁5の重心とは厚み方向の位置がずれている。重り部1、支持梁5、弾性梁4、検出梁6、固定部3を有するセンサ素子部は、いずれも、下側基板2上に、フォトリソグラフィ技術を用いて形成されている。
ここで、重り部1、支持梁5、検出梁6の寸法の一例を挙げると、重り部1は、その長さは1000μm程度、幅は700μm程度、厚みは400〜500μm程度に形成できる。また、支持梁5の長さは50〜60μm程度、幅は50〜100μm程度、厚みは3〜5μm程度に形成できる。さらに、検出梁6の長さは100〜150μm程度、幅は8〜15μm程度、厚みは3〜5μm程度に形成できる。なお、これらの値は特に限定されるものではなく、適宜設定されるものであり、支持梁5は、重り部1を支えることができる強度を有する寸法に形成される。また、検出梁6は、製造上、できる限り細く(ただし、応力がかかったときにも破損しない強度をもって)形成されることが好ましい。
本実施形態例では、支持梁5の伸長方向と交わる水平方向(図のX軸方向)から加えられる加速度に応じ、例えば図2の矢印Cに示す方向(−X方向)の加速度が加えられると、図2(b)に示すように、前記重り部1が前記支持梁5を軸として(つまり、図2(a)のB−B線の方向を軸として)変位する。すると、矢印T方向のトルクが生じ、前記検出梁6が、互いに上下の反対方向に変位する。この検出梁6の変位に伴って該検出梁6に生じる応力を検知する応力検知部が、検出梁6に設けられたピエゾ抵抗R1、R2を有して形成されている。また、応力検知部により検知される応力に基づいて前記加速度を検知する加速度検出手段が、図3(a)に示す、ピエゾ抵抗R1、R2を有するブリッジ回路(ハーフブリッジ回路)を有して形成されている。
このブリッジ回路は、例えば図4に示すような配線構造を有して形成されており、ピエゾ抵抗R1、R2は、それぞれ、配線9を介して、Vdd、Vout、Gnd(グランド)の各電極パッド10に、電気的に接続されている。
ここで、図2(b)に示すように、重り部1に矢印C方向の加速度が印加されたときの、重り部1が変位した場合について述べる。検出梁6aが上側に変位し、検出梁6bが下側に変位するので、検出梁6aには圧縮応力(−)が生じ、検出梁6bには引っ張り応力(+)が生じる。この応力変化に伴い、検出梁6aに設けられているピエゾ抵抗R1には、−方向の抵抗値変化が生じ、検出梁6bに設けられているピエゾ抵抗R2には、+方向の抵抗値変化が生じる。この抵抗変化量を図3(a)に示したブリッジ回路によって検出することにより、矢印C方向の加速度が検出される。
なお、本実施形態例においては、支持梁5が重り部1を両側から支持しているために、X軸方向以外から印加される加速度に対しては検出梁6に生じる応力を低減できる。
図5には、本実施形態例の慣性センサの製造方法例が示されている。この図5は、図2の上側の固定部1から図2のB’の線に沿って、つまり、検出梁6aに沿って切り込みを入れた後、重り部1の中心および図の下側に示されている支持梁5を通り、下側の固定部1まで(線Bに沿って)切断する場合の断面図により示されている。検出梁6aに沿って切り込みを入れる代わりに、検出梁6bに沿って切り込みを入れた場合も、ピエゾ抵抗R1がピエゾ抵抗R2となる以外は、同様の断面図になる。
まず、図5(a)のように、SOI(Silicon−On−Insulator)基板11を用意する。なお、SOI基板11は、Si(シリコン)の上部層12(SOI層)とSiO2(酸化シリコン)の中間層13(BOX層)とSiの下部層14(支持層)とが順に積層形成された層形状の多層基板である。このSOI基板11において、図5(b)に示すように、予め定められた設定位置に、ピエゾ抵抗R1、R2を形成する(図5には、ピエゾ抵抗R2は図示されていない)。
次に、図5(c)に示すように、ピエゾ抵抗R1、R2の引き出しのための金属配線9と、保護層18を形成する。また、必要に応じて、低抵抗の活性層配線を形成する。これらの抵抗や配線の形成は、シリコン半導体の製造で通常使用される製造技術を用いて行う。次に、図5(d)に示すように、SOI基板11の上側に、接着層16を形成し、SOI基板11のSOI層12をエッチングして、支持梁5と検出梁6なる部位を形成し、さらに、重り部1の上側に可動空間が形成されるようにして、上側基板17を取り付ける。
なお、エッチングは、周知の如く、エッチング部分が開口したフォトレジスト膜を用いて行い、エッチング完了後に、フォトレジスト膜は洗浄により除去する。フォトリソグラフィ技術によるSOI層12の平面上の加工寸法は、例えば2〜200μm程度、深さ方向は例えば1〜10μm程度であり、特別、高アスペクト比や深堀加工を必要とせず、裕度を持った安定した加工条件にて加工できる。また、上側基板17は、シリコン基板またはガラス基板が好ましく、その取り付けは、熱圧着接合、金属接合、陽極接合などで行われ、その方法によって、300〜450℃程度の温度や0.5MPa以上の圧力をかけたり、電圧を印加したりして行われる。
次に、図5(e)に示すように、SOI基板11の支持層14のエッチングを、フォトレジスト膜を用いて行って、重り部1を形成する。なお、このエッチングは、ドライエッチングが好適であり、エッチング完了後に、フォトレジスト膜をアッシング等のドライ処理により取り除く。その後、図5(f)に示すように、SOI基板11のBOX層13を、ドライエッチングまたはウエットエッチングよりエッチングした後、下側基板2を固定する。この下側基板2も、シリコン基板またはガラス基板が好適である。以上のようにして、検知構造体部は完成する。
なお、本実施形態例の慣性センサの製造方法は、図5に示す態様に限定されるものではないが、SOI基板11によって慣性センサを形成し、その際、支持梁5と検出梁6の厚みを薄く形成することにより、加工の裕度が上がり、ばらつき要因を低減でき、歩留まりを向上させることができる。一方、重り部1は、厚みを得るために、深堀加工を行って形成するが、この加工は、重り部1の質量のみに寄与するため、梁部を同様に深堀加工によって形成する場合に比べ、加工の裕度を上げることができる。また、この加工裕度分を重り部1の厚みを増すことにあてれば、さらに慣性センサの高感度化が可能となる。
次に、第2実施形態例の慣性センサについて説明する。なお、第2実施形態例を始めとし、以下の実施形態例の説明において、第1実施形態例と同一名称部分には同一符号を付し、その重複説明は、省略または簡略化する。
第2実施形態例の慣性センサは、図6に示す平面構成を有し、第1実施形態例とほぼ同様に形成された加速度センサである。第2実施形態例が前記第1実施形態例と異なる特徴的なことは、それぞれの検出梁6a,6bに、2つずつピエゾ抵抗を設け、合計4個のピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4を設けたことである。検出梁6aには、固定部3との接続端側にピエゾ抵抗R1が、重り部1との接続端側にピエゾ抵抗R2が、それぞれ設けられている。検出梁6bには、固定部3との接続端側にピエゾ抵抗R3が、重り部1との接続端側にピエゾ抵抗R4が、それぞれ設けられている。
第2実施形態例では、これらのピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4が応力検出手段を形成し、かつ、これらのピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4を有する、図7に示すフルブリッジ回路により加速度検出手段が形成されている。
第2実施形態例において、X軸方向の加速度が印加したときに、検出梁6aに設けられているピエゾ抵抗R1、R2には、圧縮と引っ張りの互いに逆の応力が発生し、同様に、検出梁6bに設けられているピエゾ抵抗R3、R4にも、圧縮と引っ張りの互いに逆の応力が発生する。例えば、重り部1が図2(b)のように動くと、ピエゾ抵抗R1の配設部位には圧縮方向の応力が生じ、それにより、ピエゾ抵抗R1は−方向に抵抗値が変化し、一方、ピエゾ抵抗R2の配設部位には引っ張り応力が生じ、それにより、ピエゾ抵抗R2は+方向に抵抗値が変化する。また、ピエゾ抵抗R3の配設部位には引っ張り応力が生じ、それにより、ピエゾ抵抗R3は+方向に抵抗値が変化し、一方、ピエゾ抵抗R4の配設部位には圧縮応力が生じ、それにより、ピエゾ抵抗R4は−方向に抵抗値が変化する(図7、参照)。
第2実施形態例は、ピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4を用いてフルブリッジ回路を形成し、前記抵抗変化を検出することにより、第1実施形態例のハーフブリッジ回路に比べ、加速度検出出力を2倍にすることができる。
次に、第3実施形態例について説明する。第3実施形態例の慣性センサは、図8に示す平面構成を有し、第1実施形態例とほぼ同様に形成された加速度センサである。第3実施形態例が前記第1実施形態例と異なる特徴的なことは、両側の支持梁5を挟む両側に、検出梁6を設けたことである。この4本の検出梁6には、それぞれ、対応するピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4が設けられており、第3実施形態例では、これらのピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4が応力検出手段を形成し、かつ、これらのピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4を有する、図9に示すフルブリッジ回路により加速度検出手段が形成されている。
第3実施形態例は、ピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4を用いてフルブリッジ回路を形成することにより、第1実施形態例のハーフブリッジ回路に比べ、加速度検出出力を2倍にすることができる。また、重り部1の周辺構造が、完全対称となるために、より安定した加速度検出を行うことができる。
次に、第4実施形態例の慣性センサについて説明する。第4実施形態例の慣性センサは、図10に示す平面構成を有し、前記第1実施形態例とほぼ同様に形成された加速度センサである。第4実施形態例が前記第1実施形態例と異なる特徴的なことは、支持梁5と検出梁6を、弾性部としての弾性梁4を介して固定部3に固定したことである。
次に、第5実施形態例の慣性センサについて説明する。第5実施形態例の慣性センサは、図11に示す平面構成を有し、前記第4実施形態例とほぼ同様に形成された加速度センサである。第5実施形態例が前記第4実施形態例と異なる特徴的なことは、検出梁6の形成態様を第4実施形態例と異なる態様としたことである。つまり、第5実施形態例において、検出梁6は、重り部1との連結接続部が支持梁5から離れた重り部端部側に設けられ、固定部3との連結接続部が前記重り部端部側よりも支持梁5寄りに設けられている。ピエゾ抵抗R1、R2は、それぞれ、重り部1側の端部に設けられている。なお、ピエゾ抵抗R1、R2は、適切なブリッジ回路が形成できれば、支持梁5側の端部に設けてもよい。
次に、第6実施形態例の慣性センサについて説明する。第6実施形態例の慣性センサは、角加速度センサであり、図12に示すように、第1実施形態例の慣性センサにおける加速度検出手段を除く構成を有する、第1と第2の2つのセンサ構成部21,22を有している。これらのセンサ構成部21,22は、互いに支持梁5が一直線上に配置される態様で、共通の基板上に配設固定されている。
また、前記2つのセンサ構成部21,22の重り部1の重心を結ぶ線Gが、加速度の検出方向(X軸方向)と略直交するY方向に形成されている。そして、重り部1の重心を結ぶ線Gを通る垂直方向のZ軸回り(図12の矢印K方向または、その逆方向)の角加速度を、第1のセンサ構成部21の応力検知部(ピエゾ抵抗R1、R2)と第2のセンサ構成部22の応力検知部(ピエゾ抵抗R3、R4)とにより検知される応力に基づいて検出する角加速度検出手段が設けられている。この角加速度検出手段は、図13に示すような、ピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4のブリッジ回路を有して形成されており、例えば、図14の模式図に示されるような配線9により、ピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4とVdd、V+、V−、Gndの各電極パッド10とが接続されて形成されている。
この例において、センサ構成部21は、図12の矢印K方向の角加速度が印加された場合、第1のセンサ構成部21は、同図の矢印C’方向の加速度を受け、センサ構成部22は、同図の矢印C方向の加速度を受ける。このとき、ピエゾ抵抗R1とR4には引っ張り応力が、ピエゾ抵抗R2とR3には圧縮応力が、それぞれ生じ、それにより抵抗変化が生じ、その変化量を、図13のブリッジ回路により検出することにより、2つのセンサ構成部21,22の差動出力を得ることになり、第1と第2のセンサ構成部21,22の重心間距離および感度に比例した角加速度出力を検出できる。なお、加速度出力は、本実施形態例のような差動出力をとる原理では、回転中心の場所には依存しない。
次に、第7実施形態例の慣性センサについて説明する。第7実施形態例の慣性センサは、X軸方向の加速度とZ軸回りの角加速度を検出可能なセンサであり、図15に示すように、第3実施形態例の慣性センサの構成を有する第1と第2の2つのセンサ構成部21,22を有している。つまり、第7実施形態例の慣性センサは、第6実施形態例の慣性センサにおいて、支持梁5と検出梁6とを、弾性梁4を介して接続した構成を有している。
また、第7実施形態例では、応力検知部は、各検出梁6に複数設けられた(ここでは、検出梁6に2個ずつ設けられた)ピエゾ抵抗Rac1、Rac2、Rac3、Rac4、Rro1、Rro2、Rro3、Rro4を有して形成されている。これらのピエゾ抵抗Rac1〜Rac4、Rro1〜Rro4のうち、図16(a)に示すように、角加速度検知用のピエゾ抵抗Rro1、Rro2、Rro3、Rro4を有して形成されるブリッジ回路によって形成される角加速度検出手段と、図6(b)に示すように、加速度検知用のピエゾ抵抗Rac1、Rac2、Rac3、Rac4、を有して形成されるブリッジ回路によって形成される加速度検出手段とを有している。
なお、本発明は前記各実施形態例に限定されるものではなく、様々な実施の形態を採り得る。例えば、前記第4、第5、第7実施形態例のように、支持梁5と検出梁6を弾性梁4を介して固定部3に固定する構成において、弾性梁4の形態は様々なものが適用できる。図17には、弾性梁4の形態例が示されている。なお、図17においては、図をわかりやすくするために、弾性梁4の形成領域に斜線を引いて示している。
図17(a)に示す例は、弾性梁4を、重り部1をコ字形状に囲む形態に形成した例である。図17(b)に示す例は、弾性梁4をコ字形状に形成し、コ字形状の端部側を固定部に固定した例である。図17(c)に示す例は、弾性梁4をメアンダ状に形成した例である。なお、弾性梁4は、これらの図に示すように、重り部1の両側に設けるとは限らす、片側にのみ設けてもよいし、両側の弾性梁4の形状や配設態様を互いに異なるものとしてもよい。
また、各ピエゾ抵抗部間を接続してブリッジ回路を構成する配線パターンの配線例は、図4、図14のようにするとは限らず、適宜設定されるものである。
さらに、第1実施形態例において、固定部3に、固定の抵抗(R)を設け、図3(b)に示すようなハーフブリッジ回路を形成してもよい。
さらに、第6、第7実施形態例の慣性センサは、センサ構成部21,22を共通の基板上に配置して形成したが、センサ構成部21,22を個別に形成し、それぞれを、加速度検知方向が平行になるように、かつ、2つのセンサ構成部21,22の重心を結ぶ直線が加速度検知方向と直交する(または、ほぼ直交する)態様で配設固定(例えば基板上に実装)してもよい。
この場合も、図12に示したように、ピエゾ抵抗R1、R2、R3、R4を配置し、図13に示したようなブリッジ回路を形成すれば、Z軸周りの角加速度を検出でき、また、図15に示したように、ピエゾ抵抗Rac1〜Rac4、Rro1〜Rro4を配置し、図16に示したようなブリッジ回路を形成すれば、Z軸周りの角加速度とX方向の加速度を検出できる。さらに、このように、センサ構成部21,22を個別に形成して配置すれば、第1のセンサ構成部21の重心と第2のセンサ構成部22の重心との距離の設定自由度が増すため、さらに、角加速度の検出感度を高めることができる。
さらに、前記説明においては、第2実施形態例のみ、重り部1の両側に設けた支持梁5を挟む両側に、検出梁6a,6bを設けたが、第3〜第7実施形態例およびその他の実施形態例においても、重り部1の両側に設けた支持梁5を挟む両側に、検出梁6a,6bを設けてもよい。この際、第2実施形態例のように、4つの検出梁6の形状および配設態様を、支持梁5を結ぶ線(図2の軸B、参照)に対して対称としてもよいし、一方の支持梁5の両側に設ける検出梁6の形状や配設態様と他方の支持梁5の両側に設ける検出梁6の形状や配設態様とを異なるものとしてもよい。
1 重り部
2 下側基板
3 固定部
4 弾性梁
5 支持梁
6 検出梁
9 配線
10 電極パッド
11 SOI基板
21 第1のセンサ構成部
22 第2のセンサ構成部
2 下側基板
3 固定部
4 弾性梁
5 支持梁
6 検出梁
9 配線
10 電極パッド
11 SOI基板
21 第1のセンサ構成部
22 第2のセンサ構成部
Claims (7)
- 重り部と、該重り部と間隔を介して少なくとも重り部の両側に配置された固定部とを有し、該固定部と前記重り部とが該重り部を両側から支持する支持梁によって連結されており、これらの支持梁は互いに一直線上に形成され、かつ、前記重り部よりも肉薄に形成されており、
前記支持梁の少なくとも一方を間隔を介して挟む両側に、それぞれ前記重り部と固定部とを連結する検出梁が設けられており、該検出梁は、前記重り部よりも肉薄で、かつ、前記支持梁よりも幅狭に形成されており、
前記重り部の周りと上下には該重り部の可動空間が形成され、前記重り部の重心と前記支持梁の重心とは厚み方向の位置がずれており、
前記支持梁の伸長方向と交わる水平方向から加えられる加速度に応じて、前記重り部が前記支持梁を軸として変位し、かつ、前記検出梁が変位するセンサ素子部と、前記検出梁の変位に伴って該検出梁に生じる応力を検知する応力検知部が前記検出梁に設けられ、該応力検知部により検知される応力に基づいて前記加速度を検知する加速度検出手段が設けられていることを特徴とする慣性センサ。 - 応力検知部は、各検出梁に設けられたピエゾ抵抗を有して形成され、これらのピエゾ抵抗により形成されるブリッジ回路を有して加速度検出手段が形成されていることを特徴とする請求項1記載の慣性センサ。
- 請求項1記載の慣性センサを構成する第1と第2の2つのセンサ素子部と応力検知部とを有して、前記センサ素子部は互いに支持梁が一直線上に配置される態様で配設固定され、
前記2つのセンサ素子部の重り部の重心を結ぶ線が加速度の検出方向と略直交する方向に形成されており、前記重り部の重心を結ぶ線を通る垂直方向の軸回りの角加速度を前記第1のセンサ素子部に設けられた応力検知部と第2のセンサ素子部に設けられた応力検知部とにより検知される応力に基づいて検出する角加速度検出手段が設けられていることを特徴とする慣性センサ。 - 応力検知部は、各検出梁に設けられたピエゾ抵抗を有して形成され、これらのピエゾ抵抗により形成されるブリッジ回路を有して角加速度検出手段が形成されていることを特徴とする請求項3記載の慣性センサ。
- 応力検知部は、各検出梁に複数設けられたピエゾ抵抗を有して形成され、これらのピエゾ抵抗のうち加速度検知用のピエゾ抵抗を有して形成されるブリッジ回路によって形成される加速度検出手段と、前記ピエゾ抵抗のうち角加速度検知用のピエゾ抵抗を有して形成されるブリッジ回路によって形成される角加速度検出手段とを有していることを特徴とする請求項3記載の慣性センサ。
- 重り部の両側に設けられた支持梁の少なくとも一方とその両側の検出梁は、重り部の変位に応じて弾性変形する弾性部を介して固定部に連結されていることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一つに記載の慣性センサ。
- 検出梁は、重り部との連結接続部が支持梁から離れた重り部端部側に設けられ、固定部との連結接続部が前記重り部端部側よりも支持梁寄りに設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一つに記載の慣性センサ。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101461335B1 (ko) | 2013-08-29 | 2014-11-13 | 삼성전기주식회사 | 관성센서용 마스킹 패턴 및 이에 의해 제조된 관성센서 |
CN107796955A (zh) * | 2017-09-30 | 2018-03-13 | 西安交通大学 | 多梁式单质量块面内双轴加速度传感器芯片及其制备方法 |
CN107817364A (zh) * | 2017-09-30 | 2018-03-20 | 西安交通大学 | 一种mems直拉直压式两轴加速度计芯片及其制备方法 |
CN109596859A (zh) * | 2019-01-18 | 2019-04-09 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 压阻式加速度传感器 |
CN117607489A (zh) * | 2024-01-17 | 2024-02-27 | 中国工程物理研究院电子工程研究所 | 压阻式加速度传感器的敏感结构及加速度传感器 |
-
2009
- 2009-01-23 JP JP2009013212A patent/JP2010169575A/ja active Pending
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