JP2010169433A - 三次元計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】三次元計測装置を有する基板検査装置は、クリームハンダの印刷されてなるプリント基板に対し縞状の光パターンを照射する照射装置と、プリント基板上の照射された部分を撮像するCCDカメラと、これにより撮像された画像データに基づき三次元計測を行う制御装置とを備えている。制御装置は、周期2μmの第1光パターンを第1位置にて照射して得られた画像データに基づき各画素毎の第1高さデータを算出する。また、半画素ピッチ斜めにずれた第2位置にて、周期4μmの第2光パターンを照射して得られた画像データに基づき各画素毎の第2高さデータを算出する。そして、第2高さデータを基に、各第1高さデータの縞次数を特定し、当該第1高さデータの値を縞次数を考慮した値に置き換える。
【選択図】 図3
Description
[但し、e:直流光ノイズ(オフセット成分)、f:正弦波のコントラスト(反射率)、φ:物体の凹凸により与えられる位相]
このとき、光パターンを移動させて、位相を例えば4段階(φ+0、φ+π/2、φ+π、φ+3π/2)に変化させ、これらに対応する強度分布I0、I1、I2、I3をもつ画像を取り込み、下記式に基づいて変調分αを求める。
この変調分αを用いて、クリームハンダ等の計測対象上の点Pの3次元座標(X,Y,Z)が求められ、もって計測対象の三次元形状、特に高さが計測される。
前記光パターンの照射された前記被計測物からの反射光を撮像可能な撮像素子を有する撮像手段と、
前記撮像素子と前記被計測物との位置関係を相対変位させる変位手段と、
前記撮像手段により撮像された画像データに基づき三次元計測を行う画像処理手段とを備えた三次元計測装置であって、
前記画像処理手段は、
複数通りに位相変化させた第1周期の第1光パターンを第1位置にて照射して得られた複数通りの画像データに基づき、位相シフト法により画像データの各画素単位毎の高さデータを第1高さデータとして算出する第1演算手段と、
前記第1位置から所定方向へ半画素ピッチ分ずれた第2位置にて、前記第1周期よりも長い第2周期の第2光パターンを複数通りに位相変化させて照射して得られた複数通りの画像データに基づき、位相シフト法により画像データの各画素単位毎の高さデータを第2高さデータとして算出する第2演算手段と、
前記第2高さデータを基に、前記各第1高さデータの縞次数を特定した上で、当該第1高さデータの値を当該縞次数を考慮した値に置き換えるデータ置換え手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。
前記第2演算手段により算出された所定位置の第2高さデータの値が、当該所定位置の周辺部位における前記縞次数を考慮した第1高さデータの平均値と所定の誤差範囲内にあるか否かを判定し、
所定の誤差範囲内にある場合には、前記縞次数を考慮した第1高さデータの平均値を前記所定位置の第2高さデータの値として採用し、
所定の誤差範囲内にない場合には、前記第2演算手段により算出された第2高さデータの値を前記所定位置の第2高さデータの値として採用することを特徴とする手段4に記載の三次元計測装置。
以下、一実施形態について図面を参照しつつ説明する。
次に第2実施形態について説明する。但し、上述した第1実施形態と重複する部分については、同一の部材名称、同一の符号を用いる等してその説明を省略するとともに、以下には第1実施形態と相違する部分を中心として説明することとする。
Claims (5)
- 少なくとも被計測物に対し、縞状の光強度分布を有しかつ周期の異なる複数の光パターンを切換えて照射可能な照射手段と、
前記光パターンの照射された前記被計測物からの反射光を撮像可能な撮像素子を有する撮像手段と、
前記撮像素子と前記被計測物との位置関係を相対変位させる変位手段と、
前記撮像手段により撮像された画像データに基づき三次元計測を行う画像処理手段とを備えた三次元計測装置であって、
前記画像処理手段は、
複数通りに位相変化させた第1周期の第1光パターンを第1位置にて照射して得られた複数通りの画像データに基づき、位相シフト法により画像データの各画素単位毎の高さデータを第1高さデータとして算出する第1演算手段と、
前記第1位置から所定方向へ半画素ピッチ分ずれた第2位置にて、前記第1周期よりも長い第2周期の第2光パターンを複数通りに位相変化させて照射して得られた複数通りの画像データに基づき、位相シフト法により画像データの各画素単位毎の高さデータを第2高さデータとして算出する第2演算手段と、
前記第2高さデータを基に、前記各第1高さデータの縞次数を特定した上で、当該第1高さデータの値を当該縞次数を考慮した値に置き換えるデータ置換え手段とを備えたことを特徴とする三次元計測装置。 - 前記第2位置は、前記第1位置から半画素ピッチ斜めにずれた位置であることを特徴とすることを特徴とする請求項1に記載の三次元計測装置。
- データの欠落部分をその周囲における少なくとも前記縞次数を考慮した第1高さデータに基づき補間する補間手段を備えたことを特徴とする請求項2に記載の三次元計測装置。
- 前記縞次数を考慮した第1高さデータを基に、前記第2高さデータの値を補正する補正手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の三次元計測装置。
- 前記補正手段は、
前記第2演算手段により算出された所定位置の第2高さデータの値が、当該所定位置の周辺部位における前記縞次数を考慮した第1高さデータの平均値と所定の誤差範囲内にあるか否かを判定し、
所定の誤差範囲内にある場合には、前記縞次数を考慮した第1高さデータの平均値を前記所定位置の第2高さデータの値として採用し、
所定の誤差範囲内にない場合には、前記第2演算手段により算出された第2高さデータの値を前記所定位置の第2高さデータの値として採用することを特徴とする請求項4に記載の三次元計測装置。
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