JP2010158820A - Recording head, method for manufacturing the same, base body for taking large number of articles, and recording apparatus - Google Patents

Recording head, method for manufacturing the same, base body for taking large number of articles, and recording apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recording head with high reliability, a method for manufacturing it, a base body for taking a large number of articles, and a recording apparatus. <P>SOLUTION: A thermal head 10 includes: a substrate 30 having one side extending along main scanning directions D1 and D2; a thermal storing layer 40 provided on the whole upper face including an end part on one side of the substrate 30; a plurality of exothermic parts 51 arranged along the main scanning directions D1 and D2 on the thermal storing layer 40 separated from one side of the substrate 10; and a fourth electrically-conductive layer 64 having a base part 64a extending along the main scanning directions D1 and D2 on the thermal storing layer 40 positioned between one side of the substrate 10 and a plurality of the exothermic part 51, and a plurality of extending parts 64b extending to one side of the substrate 30 from the base part 64a along sub-scanning directions D3 and D4. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、蓄熱層上に複数の発熱部とクラック低減層とを備えている記録ヘッドとその製造方法、ならびに多数個取り基体および記録装置に関する。   The present invention relates to a recording head including a plurality of heat generating portions and a crack reducing layer on a heat storage layer, a method for manufacturing the recording head, a multi-cavity substrate, and a recording apparatus.

ファクシミリやレジスターなどのプリンタとしては、サーマルヘッドおよびプラテンローラを備えるサーマルプリンタが用いられている。このようなサーマルプリンタに搭載されるサーマルヘッドとしては、基板表面上に形成されている蓄熱層上に配列されている複数の発熱部と、この発熱部上に位置するとともに発熱部を保護する機能を有する保護層とを有しているものがある。プラテンローラは、例えば感熱紙などの記録媒体を発熱部上に位置する保護層に対して押し当てる機能を有するものである。このような構成のサーマルプリンタでは、所望の画像に応じて発熱部を発熱させるともに、発熱部上に位置する保護層に対して記録媒体をプラテンローラで略均等に押圧することにより発熱部の発する熱を記録媒体に対して良好に伝達させている。記録媒体に対する所望の印画は、この処理を繰り返すことにより行われている。   As a printer such as a facsimile or a register, a thermal printer including a thermal head and a platen roller is used. As a thermal head mounted on such a thermal printer, there are a plurality of heat generating parts arranged on a heat storage layer formed on the substrate surface, and a function located on the heat generating part and protecting the heat generating part. Some have a protective layer. The platen roller has a function of pressing a recording medium such as thermal paper against a protective layer positioned on the heat generating portion. In the thermal printer having such a configuration, the heat generating portion generates heat according to a desired image, and the heat generating portion emits by pressing the recording medium substantially uniformly with a platen roller against the protective layer positioned on the heat generating portion. Heat is transferred well to the recording medium. Desired printing on the recording medium is performed by repeating this process.

このようなサーマルプリンタでは、搭載されるサーマルヘッドにプラテンローラを押し当てた際に、製造時に生じた亀裂により保護層に剥がれが生じる場合があった。そこで、保護層の形成時の亀裂を低減すべく、発熱部の配列方向に沿って延びているクラック低減層を設けたサーマルヘッドが開発され、例えば特許文献1に開示されている。   In such a thermal printer, when the platen roller is pressed against the thermal head to be mounted, the protective layer may be peeled off due to a crack generated during manufacturing. Therefore, a thermal head provided with a crack reducing layer extending along the arrangement direction of the heat generating parts has been developed in order to reduce cracks during the formation of the protective layer.

しかしながら、特許文献1に記載されたサーマルヘッドでは、発熱部の配列方向に沿って裂ける亀裂を十分に低減することができない場合があった。   However, the thermal head described in Patent Document 1 may not be able to sufficiently reduce cracks that tear along the arrangement direction of the heat generating portions.

特開平10−264427号公報JP-A-10-264427

本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、信頼性の高い記録ヘッドとその製造方法、ならびに多数個取り基体および記録装置を提供することを目的とする。   The present invention has been conceived under such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a highly reliable recording head, a method for manufacturing the recording head, a multi-piece substrate, and a recording apparatus.

本発明の記録ヘッドは、主走査方向に沿って延びている一辺を有している基板と、該基板の少なくとも前記一辺側の端部を含む領域上に設けられている蓄熱層と、前記基板の前記一辺から離間している前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、前記基板の前記一辺と前記複数の発熱部との間に位置する前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って延びている基部、および前記主走査方向と交差する方向に沿って前記基部から前記一辺まで延びている複数の延出部を有しているクラック低減層とを含んで構成されていることを特徴としている。   The recording head of the present invention includes a substrate having one side extending along the main scanning direction, a heat storage layer provided on an area including at least the one end of the substrate, and the substrate. A plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer spaced apart from the one side of the substrate, and the heat storage located between the one side of the substrate and the plurality of heat generating portions. A crack reducing layer having a base portion extending along the main scanning direction and a plurality of extending portions extending from the base portion to the one side along a direction intersecting the main scanning direction on the layer It is characterized by comprising.

本発明の記録ヘッドにおいて、前記クラック低減層は、平面視において前記複数の延出部の間に位置する前記蓄熱層上に第2のクラック低減層を含んで構成されていることが好ましい。   In the recording head according to the aspect of the invention, it is preferable that the crack reducing layer includes a second crack reducing layer on the heat storage layer positioned between the plurality of extending portions in a plan view.

本発明の記録ヘッドは、前記クラック低減層を覆っている保護層を含んで構成されており、該保護層は、残留応力が前記蓄熱層の残留応力に比べて大きいことが好ましい。   The recording head of the present invention includes a protective layer covering the crack reducing layer, and the protective layer preferably has a residual stress larger than that of the heat storage layer.

本発明の記録ヘッドの連結基体は、主走査方向に延びる境界で2つ以上の領域に区画されている素基板と、該素基板上に前記境界を跨って設けられている蓄熱層と、前記区画上に位置する前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、一の前記区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に位置する前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って延びている基部および、該基部から前記境界を超えて前記一の区画に隣接する他の前記区画に延びている複数の延出部を有しているクラック低減層とを含んで構成されていることを特徴としている。   The connection base of the recording head of the present invention includes an element substrate that is divided into two or more regions at a boundary extending in the main scanning direction, a heat storage layer provided on the element substrate across the boundary, and A plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer positioned on the section, and the heat storage layer positioned between the plurality of heat generating sections and the boundary in one section. A crack having a base portion extending along the main scanning direction and a plurality of extending portions extending from the base portion to the other section adjacent to the one section beyond the boundary. It is characterized by including a reduction layer.

本発明の記録ヘッドの連結基体は、前記他の区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に位置する前記蓄熱層上に前記主走査方向に沿って前記延出部と離間して配列されている、当該複数の発熱部に電気的に接続するための複数の導電層を含んで構成されていることが好ましい。   The connection base of the recording head according to the present invention is arranged on the heat storage layer located between the plurality of heat generating portions and the boundary in the other section so as to be separated from the extending portion along the main scanning direction. It is preferable that a plurality of conductive layers for electrically connecting to the plurality of heat generating portions are included.

本発明の形態の記録ヘッドの製造方法は、主走査方向に延びる境界で2つ以上の領域に区画されている素基板を準備する第1の工程と、前記素基板上に前記境界を跨って蓄熱層を設ける第2の工程と、前記区画における前記蓄熱層上に前記主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、一の前記区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に前記主走査方向に沿って延びる基部、および該基部から前記境界を超えて前記一の区画に隣接する他の前記区画に延びる複数の延出部を有するクラック低減層とを形成する第3の工程と、前記素基板を前記境界に沿って分割する第4の工程とを含んでいることを特徴としている。   The manufacturing method of the recording head according to the embodiment of the present invention includes a first step of preparing an element substrate that is partitioned into two or more regions by a boundary extending in the main scanning direction, and straddling the boundary on the element substrate. A second step of providing a heat storage layer; a plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer in the partition; and the plurality of heat generating portions in the one partition and the boundary. And a crack reducing layer having a base extending in the main scanning direction and a plurality of extending portions extending from the base to the other section adjacent to the one section beyond the boundary. And a fourth step of dividing the raw substrate along the boundary.

本発明の形態の記録ヘッドの製造方法は、前記第3の工程の際に、前記他の区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に位置する前記蓄熱層上に前記主走査方向に沿って前記延出部と離間して配列される、当該複数の発熱部に電気的に接続するための複数の導電層を形成することを特徴とする請求項13に記載の記録ヘッドの製造方法。   In the recording head manufacturing method according to the embodiment of the present invention, in the third step, the recording head is formed in the main scanning direction on the heat storage layer positioned between the plurality of heat generating portions and the boundary in the other section. 14. The method of manufacturing a recording head according to claim 13, further comprising: forming a plurality of conductive layers arranged to be electrically connected to the plurality of heat generating portions, which are arranged along the extending portion along the same. .

本発明の記録装置は、上述の記録ヘッドと、記録媒体を搬送する搬送部とを備えることを特徴としている。   A recording apparatus of the present invention includes the above-described recording head and a transport unit that transports a recording medium.

本発明の記録ヘッドは、主走査方向に沿って延びている一辺を有している基板と、該基板の少なくとも一辺側の端部を含む領域上に設けられている蓄熱層と、基板の一辺から離間している蓄熱層上に、主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、基板の一辺と複数の発熱部との間に位置する蓄熱層上に、主走査方向に沿って延びている基部、および主走査方向と交差する方向に沿って基部から基板の一辺まで延びている複数の延出部を有しているクラック低減層とを含んで構成されている。そのため、本発明の記録ヘッドでは、蓄熱層に亀裂が生じていたとしても、主走査方向に沿って延びている基部によって、主走査方向と交差する方向に亀裂が進展するのを低減できることは勿論のこと、交差方向に延びている延出部によって、主走査方向に亀裂が進展するのも低減することができる。したがって、本発明の記録ヘッドは、信頼性を高めることができる。   The recording head of the present invention includes a substrate having one side extending in the main scanning direction, a heat storage layer provided on an area including an end portion on at least one side of the substrate, and one side of the substrate A plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer spaced apart from the substrate, and a heat storage layer positioned between one side of the substrate and the plurality of heat generating portions along the main scanning direction. And a crack reducing layer having a plurality of extending portions extending from the base portion to one side of the substrate along a direction intersecting the main scanning direction. For this reason, in the recording head of the present invention, even if a crack has occurred in the heat storage layer, it is possible to reduce the occurrence of the crack in a direction crossing the main scanning direction by the base extending along the main scanning direction. In addition, it is possible to reduce the occurrence of cracks in the main scanning direction by the extending portions extending in the intersecting direction. Therefore, the recording head of the present invention can improve reliability.

本発明の記録ヘッドにおいて、クラック低減層が、平面視において複数の延出部の間に位置する蓄熱層上に第2のクラック低減層を含んで構成されている場合、蓄熱層に亀裂が生じた場合でも亀裂が進展するのをより低減することができる。そのため、この記録ヘッドでは、信頼性をより高めることができる。   In the recording head of the present invention, when the crack reducing layer is configured to include the second crack reducing layer on the heat storage layer located between the plurality of extending portions in plan view, the heat storage layer is cracked. Even in the case of cracking, the progress of cracks can be further reduced. Therefore, this recording head can further improve the reliability.

本発明の記録ヘッドは、クラック低減層を覆っている保護層を含んで構成されており、該保護層が、残留応力が蓄熱層の残留応力に比べて大きい場合でも、蓄熱層に亀裂が生じるのを低減することができる。そのため、この記録ヘッドでは、信頼性をより高めることができる。   The recording head of the present invention includes a protective layer covering the crack reducing layer, and even when the residual stress is larger than the residual stress of the heat storage layer, the heat storage layer cracks. Can be reduced. Therefore, this recording head can further improve the reliability.

本発明の記録ヘッドの連結基体は、主走査方向に延びる境界で2つ以上の領域に区画されている素基板と、該素基板上に境界を跨って設けられている蓄熱層と、区画上に位置する蓄熱層上に、主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、一の区画における複数の発熱部と境界との間に位置する蓄熱層上に、主走査方向に沿って延びている基部および、該基部から境界を超えて一の区画に隣接する他の区画に延びている複数の延出部を有しているクラック低減層とを含んで構成されている。そのため、本発明の記録ヘッドの連結基体では、境界に沿って連結基体を分割する際に、蓄熱層に亀裂が生じたとしても、交差方向に延びている延出部によって、主走査方向に亀裂が進展するのを低減することができる。したがって、本発明の記録ヘッドの連結基体は、信頼性を高めることができる。   The connection base of the recording head of the present invention includes an element substrate that is partitioned into two or more regions at a boundary extending in the main scanning direction, a heat storage layer provided across the boundary on the element substrate, A plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer located in the region, and along the main scanning direction on the heat storage layer located between the plurality of heat generating portions and the boundary in one section And a crack reducing layer having a plurality of extending portions extending from the base to the other section adjacent to the one section beyond the boundary. For this reason, in the connection base of the recording head of the present invention, even if a crack occurs in the heat storage layer when the connection base is divided along the boundary, the extension in the crossing direction causes a crack in the main scanning direction. Can be reduced. Therefore, the connection base of the recording head of the present invention can improve reliability.

本発明の記録ヘッドの連結基体は、他の区画における複数の発熱部と境界との間に位置する蓄熱層上に主走査方向に沿って延出部と離間して配列されている、当該複数の発熱部に電気的に接続するための複数の導電層を含んで構成されている場合、クラック低減層が導電性を有している場合でも基板領域の他方上に設けられている導電層がクラック低減層を介して短絡するのを低減することができる。   The connection base of the recording head of the present invention is arranged on the heat storage layer located between the plurality of heat generating portions and the boundary in other sections, and is separated from the extending portion along the main scanning direction. In the case where a plurality of conductive layers for electrical connection to the heat generating portion are included, the conductive layer provided on the other of the substrate regions is provided even when the crack reducing layer has conductivity. Short circuit through the crack reducing layer can be reduced.

本発明の記録ヘッドの製造方法は、主走査方向に延びる境界で2つ以上の領域に区画されている素基板を準備する第1の工程と、素基板上に境界を跨って蓄熱層を設ける第2の工程と、区画における蓄熱層上に主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、一の区画における複数の発熱部と境界との間に主走査方向に沿って延びる基部、および該基部から境界を超えて一の区画に隣接する他の区画に延びる複数の延出部を有するクラック低減層とを形成する第3の工程と、素基板を境界に沿って分割する第4の工程とを含んでいる。そのため、本発明の記録ヘッドの製造方法は、第4工程で素基板を分割する際に、蓄熱層に亀裂が生じたとしても、交差方向に延びている延出部によって、主走査方向に亀裂が進展するのを低減することができる。したがって、本発明の記録ヘッドの製造方法は、信頼性を高めることができる。   According to the recording head manufacturing method of the present invention, a first step of preparing an element substrate partitioned into two or more regions at a boundary extending in the main scanning direction, and providing a heat storage layer across the boundary on the element substrate A second step, a plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer in the section, and a base extending along the main scanning direction between the plurality of heat generating sections and the boundary in the one section And a third step of forming a crack reducing layer having a plurality of extending portions extending from the base to the other section adjacent to the one section beyond the boundary, and a step of dividing the base substrate along the boundary 4 processes. Therefore, according to the recording head manufacturing method of the present invention, even when a crack is generated in the heat storage layer when the base substrate is divided in the fourth step, the crack is generated in the main scanning direction by the extending portion extending in the intersecting direction. Can be reduced. Therefore, the recording head manufacturing method of the present invention can improve the reliability.

本発明の記録ヘッドの製造方法は、他の区画における複数の発熱部と境界との間に位置する蓄熱層上に主走査方向に沿って延出部と離間して配列される、当該複数の発熱部に電気的に接続するための複数の導電層とを形成する場合、クラック低減層が導電性を有している場合でも基板領域の他方上に設けられている導電層がクラック低減層を介して短絡するのを低減することができる。   According to the recording head manufacturing method of the present invention, the plurality of heat generating portions in other sections are arranged on the heat storage layer positioned between the boundaries and spaced apart from the extending portions along the main scanning direction. In the case of forming a plurality of conductive layers for electrical connection to the heat generating portion, even if the crack reducing layer has conductivity, the conductive layer provided on the other of the substrate regions is replaced with the crack reducing layer. Therefore, it is possible to reduce the short circuit.

本発明の記録装置は、上述の記録ヘッドを備えている。そのため、本発明の記録装置は、上述の記録ヘッドの有する効果を享受することができる。したがって、本発明の記録装置は、信頼性を高めることができる。   The recording apparatus of the present invention includes the above-described recording head. Therefore, the recording apparatus of the present invention can enjoy the effects of the above-described recording head. Therefore, the recording apparatus of the present invention can improve reliability.

本発明の記録ヘッドの実施形態の一例であるサーマルヘッドの概略構成を示す平面図である。1 is a plan view showing a schematic configuration of a thermal head that is an example of an embodiment of a recording head of the invention. 図1に示したサーマルヘッドの要部を拡大した平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part of the thermal head shown in FIG. 1. 図2に示したIII−III線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the III-III line | wire shown in FIG. 本発明の記録ヘッドの実施形態の一例であるサーマルヘッドの連結基体の概略構成を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view illustrating a schematic configuration of a connection base of a thermal head that is an example of an embodiment of a recording head of the present invention. 図4に示したサーマルヘッドの連結基体の要部を拡大した平面図である。It is the top view to which the principal part of the connection base | substrate of the thermal head shown in FIG. 4 was expanded. 図5に示したVI−VI線に沿った断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI shown in FIG. 5. 図1に示したサーマルヘッドの製造工程を示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the thermal head shown in FIG. 1. 図1に示したサーマルヘッドの製造工程を示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the thermal head shown in FIG. 1. 本発明の記録装置の実施形態の一例であるサーマルプリンタの概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of a thermal printer which is an example of an embodiment of a recording apparatus of the present invention. 図1に示したサーマルヘッドの変形例を示した平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a modification of the thermal head shown in FIG. 1. 図4に示したサーマルヘッドの連結基体の変形例を示した平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a modification of the connecting base of the thermal head shown in FIG. 4.

<記録ヘッド>
図1は、本発明の記録ヘッドの実施形態の一例であるサーマルヘッド10の概略構成を示す平面図である。
<Recording head>
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a thermal head 10 which is an example of an embodiment of a recording head of the present invention.

図2は、図1に示したサーマルヘッド10の要部を拡大した平面図である。   FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part of the thermal head 10 shown in FIG.

図3は、図2に示したIII−III線に沿った断面図である。   3 is a cross-sectional view taken along the line III-III shown in FIG.

サーマルヘッド10は、基体20と、駆動IC21と、外部接続用部材22とを含んで構成されている。   The thermal head 10 includes a base 20, a drive IC 21, and an external connection member 22.

基体20は、基板30と、蓄熱層40と、電気抵抗層50と、導電層60と、保護層70とを含んで構成されている。   The base body 20 includes a substrate 30, a heat storage layer 40, an electrical resistance layer 50, a conductive layer 60, and a protective layer 70.

基板30は、蓄熱層40と、電気抵抗層50と、導電層60と、保護層70と、駆動IC21とを支持する機能を有している。この基板30は、平面視において主走査方向D1,D2に延びる矩形状に構成されており、一辺30aが主走査方向D1,D2に沿って延びている。この基板30の厚み方向D5,D6のうちD5方向側の上面には、蓄熱層40が全面に渡って設けられている。   The substrate 30 has a function of supporting the heat storage layer 40, the electric resistance layer 50, the conductive layer 60, the protective layer 70, and the driving IC 21. The substrate 30 is formed in a rectangular shape extending in the main scanning directions D1 and D2 in a plan view, and one side 30a extends along the main scanning directions D1 and D2. A heat storage layer 40 is provided over the entire upper surface of the substrate 30 in the thickness direction D5, D6 on the D5 direction side.

蓄熱層40は、電気抵抗層50の後述する発熱部51において発生する熱の一部を一時的に蓄積する機能を有している。すなわち、蓄熱層40は、発熱部51の温度を上昇させるのに要する時間を短くして、サーマルヘッド10の熱応答特性を高める役割を担っている。この蓄熱層41を形成する材料としては、例えば石英ガラスが挙げられる。本実施形態の蓄熱層40は、厚み方向D5,D6のうちD5方向に部分的に突出している突出部41を有している。   The heat storage layer 40 has a function of temporarily storing a part of heat generated in a heat generating portion 51 described later of the electric resistance layer 50. That is, the heat storage layer 40 plays a role of improving the thermal response characteristics of the thermal head 10 by shortening the time required to raise the temperature of the heat generating portion 51. An example of a material for forming the heat storage layer 41 is quartz glass. The heat storage layer 40 of the present embodiment has a protruding portion 41 that partially protrudes in the D5 direction among the thickness directions D5 and D6.

突出部41は、記録媒体を発熱部51上に位置する保護層70に対して良好に押し当てるのに寄与する部位である。この突出部41は、主走査方向D1,D2に延びる帯状に構成されている。この突出部41は、主走査方向D1,D2に直交する副走査方向D3,D4における断面形状が略半楕円状に構成されている。   The protruding portion 41 is a portion that contributes to pressing the recording medium against the protective layer 70 located on the heat generating portion 51 satisfactorily. The protrusion 41 is configured in a strip shape extending in the main scanning directions D1 and D2. The protrusion 41 has a substantially semi-elliptical cross section in the sub-scanning directions D3 and D4 orthogonal to the main scanning directions D1 and D2.

電気抵抗層50は、電力供給によって発熱する発熱部として機能する発熱部51を有している。この電気抵抗層50は、単位長さ当たりの電気抵抗値が導電層60の単位長さ当たりの電気抵抗値に比べて大きくなるように構成されている。この電気抵抗層50を形成する材料としては、例えばTaN系材料と、TaSiO系材料と、TaSiNO系材料と、TiSiO系材料と、TiSiCO系材料と、NbSiO系材料とが挙げられる。この電気抵抗層50は、蓄熱層40上に設けられており、一部が突出部41上に設けられている。本実施形態では、導電層60から電圧が印加される電気抵抗層50のうち導電層60が上に形成されていない部位が発熱部51として機能している。   The electrical resistance layer 50 has a heat generating portion 51 that functions as a heat generating portion that generates heat when power is supplied. The electrical resistance layer 50 is configured such that the electrical resistance value per unit length is larger than the electrical resistance value per unit length of the conductive layer 60. Examples of the material for forming the electric resistance layer 50 include TaN-based materials, TaSiO-based materials, TaSiNO-based materials, TiSiO-based materials, TiSiCO-based materials, and NbSiO-based materials. The electrical resistance layer 50 is provided on the heat storage layer 40, and a part thereof is provided on the protruding portion 41. In the present embodiment, a portion of the electrical resistance layer 50 to which a voltage is applied from the conductive layer 60 where the conductive layer 60 is not formed functions as the heat generating portion 51.

発熱部51は、電力供給により発熱する発熱部として機能する部位である。この発熱部51は、導電層60からの電力供給による発熱温度が例えば200[℃]以上550[℃]以下の範囲となるように構成されている。この発熱部51は、蓄熱層40の突出部41上に位置しており、主走査方向D1,D2に沿って配列されている。本実施形態では、この発熱部51の配列方向がサーマルヘッド10の主走査方向となる。   The heat generating part 51 is a part that functions as a heat generating part that generates heat by supplying power. The heat generating portion 51 is configured such that the heat generation temperature due to power supply from the conductive layer 60 is in a range of, for example, 200 [° C.] or more and 550 [° C.] or less. The heat generating portion 51 is located on the protruding portion 41 of the heat storage layer 40 and is arranged along the main scanning directions D1 and D2. In the present embodiment, the arrangement direction of the heat generating portions 51 is the main scanning direction of the thermal head 10.

導電層60は、電気抵抗層50上に設けられている。この導電層60を主として形成する材料としては、例えばアルミニウム、金、銀、銅のいずれか一種の金属またはこれらの合金が挙げられる。また、この導電層60は、第1導電層61と、第2導電層62と、第3導電層63と、第4導電層64とを含んで構成されている。本実施形態の導電層64では、アルミニウムを採用している。   The conductive layer 60 is provided on the electric resistance layer 50. As a material for mainly forming the conductive layer 60, for example, any one kind of metal such as aluminum, gold, silver, copper, or an alloy thereof can be used. The conductive layer 60 includes a first conductive layer 61, a second conductive layer 62, a third conductive layer 63, and a fourth conductive layer 64. The conductive layer 64 of this embodiment employs aluminum.

第1導電層61は、発熱部51への電力供給に寄与するものである。この第1導電層61は、各々の副走査方向D3,D4のうちD3方向側の一端部が発熱部51の一端側に位置している。また、この第1導電層61は、IC接続層611と、電源接続層612とを含んで構成されている。このIC接続層611は、各々の副走査方向D3,D4のうちD4方向側の他端部が駆動IC21に電気的に接続されている。また、この電源接続層612は、各々の副走査方向D3,D4のうちD4方向側の他端部が駆動IC21を介して電源に電気的に接続されている。   The first conductive layer 61 contributes to power supply to the heat generating part 51. In the first conductive layer 61, one end portion on the D3 direction side of each of the sub-scanning directions D3 and D4 is located on one end side of the heat generating portion 51. The first conductive layer 61 includes an IC connection layer 611 and a power supply connection layer 612. This IC connection layer 611 is electrically connected to the drive IC 21 at the other end of the sub-scanning directions D3 and D4 on the D4 direction side. The power supply connection layer 612 is electrically connected to the power supply via the drive IC 21 at the other end of the D4 direction in the sub-scanning directions D3 and D4.

第2導電層62は、2つの発熱部51を電気的に接続するものである。この第2導電層62は、副走査方向D3,D4のうちD4方向側の端部が主走査方向D1,D2において隣接する発熱部51の他端側に位置している。   The second conductive layer 62 is for electrically connecting the two heat generating portions 51. The second conductive layer 62 has an end portion on the D4 direction side in the sub-scanning directions D3 and D4 located on the other end side of the heat generating portion 51 adjacent in the main scanning directions D1 and D2.

第3導電層63は、駆動IC21と、外部接続用部材22とを電気的に接続するものである。この第3導電層63は、副走査方向D3,D4のうちD3方向側の一端部が駆動IC21に接続されており、副走査方向D3,D4のうちD4方向側の他端部が外部接続用部材22に接続されている。   The third conductive layer 63 is for electrically connecting the drive IC 21 and the external connection member 22. The third conductive layer 63 has one end portion on the D3 direction side in the sub-scanning directions D3 and D4 connected to the drive IC 21, and the other end portion on the D4 direction side in the sub-scanning directions D3 and D4 is for external connection. It is connected to the member 22.

第4導電層64は、蓄熱層40の副走査方向D3,D4のうちD3方向側の端部に生じたクラックがD4方向に進展するのを低減するクラック低減層として機能するものである。本実施形態の第4導電層64としては、蓄熱層40に比べて展性の大きい金属材料を採用して、クラック低減層として機能させている。この第4導電層64は、第2導電層62の副走査方向D3,D4のうちD3方向側に設けられている。この第4導電層64は、基部64aと、延出部64bとを有している。この基部64aは、主走査方向D1,D2に延びており、両端が主走査方向D1,D2における基板30の端まで延びている。また、この延出部64bは、基部64aから副走査方向D3,D4に沿って延びており、端が基板30の副走査方向D3,D4のうちD3方向側の端まで延びている。言い換えると、この第4導電層64は、主走査方向D1,D2において基板30の一端から他端まで延びており、副走査方向D3,D4において基板30の副走査方向D3,D4のうちD3方向側の端まで延びている。また、この第4導電層64は、副走査方向D3,D4のうちD3方向側の端から副走査方向D3,D4のうちD4方向に向かって延びており、副走査方向D3,D4のうちD4方向側の端が閉じている溝64bを有している。この溝64bは、主走査方向D1,D2において隣接する延出部64bの間隙である。さらに、本実施形態の第4導電層64は、基部64aの側面と延出部64bの側面とが曲面状に連なっており、平面視において溝64bの副走査方向D3,D4のうちD4方向側の端部が滑らかな面を形成している。ここで、第4導電層64としてアルミニウムを採用した場合に、クラック低減層として好ましい寸法を例示する。この基部64aの副走査方向D3,D4における長さLとしては、例えば100[μm]以上250[μm]以下の範囲が挙げられる。この延出部64bの副走査方向D3,D4における長さLとしては、例えば100[μm]以上300[μm]以下の範囲が挙げられる。また、この延出部64bの主走査方向D1,D2における幅Wとしては、例えば100[μm]以上250[mm]以下の範囲が挙げられる。さらに、この主走査方向D1,D2において隣り合う延出部64bの主走査方向D1,D2における間隔dとしては、例えば50[μm]以上2.0[mm]以下の範囲が挙げられる。 The 4th conductive layer 64 functions as a crack reduction layer which reduces that the crack produced in the edge part by the side of D3 direction among subscanning directions D3 and D4 of heat storage layer 40 progresses in the D4 direction. As the fourth conductive layer 64 of the present embodiment, a metal material that is more malleable than the heat storage layer 40 is employed and functions as a crack reduction layer. The fourth conductive layer 64 is provided on the D3 direction side in the sub-scanning directions D3 and D4 of the second conductive layer 62. The fourth conductive layer 64 has a base portion 64a and an extension portion 64b. The base 64a extends in the main scanning directions D1 and D2, and both ends extend to the end of the substrate 30 in the main scanning directions D1 and D2. Further, the extending portion 64 b extends from the base portion 64 a along the sub-scanning directions D 3 and D 4, and its end extends to the end on the D 3 direction side in the sub-scanning directions D 3 and D 4 of the substrate 30. In other words, the fourth conductive layer 64 extends from one end of the substrate 30 to the other end in the main scanning directions D1 and D2, and the D3 direction of the sub-scanning directions D3 and D4 of the substrate 30 in the sub-scanning directions D3 and D4. It extends to the side edge. The fourth conductive layer 64 extends from the end on the D3 direction side in the sub-scanning directions D3 and D4 toward the D4 direction in the sub-scanning directions D3 and D4, and D4 in the sub-scanning directions D3 and D4. It has a groove 64b 1 whose end on the direction side is closed. The groove 64b 1 is a gap between the extending portion 64b adjacent in the main scanning direction D1, D2. The fourth conductive layer 64 of the present embodiment, the side surfaces of the base portion 64a and the extending portion 64b are continuous with the curved, D4 directions of the sub-scanning direction D3, D4 of the groove 64b 1 in plan view The end on the side forms a smooth surface. Here, when aluminum is employ | adopted as the 4th conductive layer 64, a dimension preferable as a crack reduction layer is illustrated. As the length L a in the sub-scanning direction D3, D4 of the base 64a, for example, include a range of 100 [[mu] m] or 250 [[mu] m] or less. As the length L b in the sub-scanning direction D3, D4 of the extending portion 64b, for example, include a range of 100 [[mu] m] or 300 [[mu] m] or less. As the width W b in the main scanning direction D1, D2 of the extending portion 64b, for example, it includes 100 [[mu] m] or 250 [mm] or less. Furthermore, as this distance d b in the main scanning direction D1, D2 of the extending portion 64b adjacent in the main scanning direction D1, D2, for example, include a range of 50 [[mu] m] or 2.0 [mm] or less.

保護層70は、発熱部51と、導電層60とを保護する機能を有するものである。この保護層70は、発熱部51と、導電層60の一部とを覆うように設けられている。保護層70を主として形成する材料としては、例えばダイヤモンドライクカーボン材料と、SiC系材料と、SiN系材料と、SiCN系材料と、SiON系材料と、SiONC系材料と、SiAlON系材料と、SiO系材料と、Ta系材料と、TaSiO系材料と、TiC系材料と、TiN系材料と、TiO系材料と、TiB系材料と、AlC系材料と、AlN系材料と、Al系材料と、ZnO系材料と、BC系材料と、BN系材料とが挙げられる。ここで「ダイヤモンドライクカーボン材料」とは、sp混成軌道をとる炭素原子(C原子)の割合が1[原子%]以上100[原子%]未満の範囲である膜をいう。また、ここで「〜系材料」とは、SiC系材料を例に挙げると、Si原子と、C原子とからなる材料であって、化学量論的組成を有する材料は勿論のこと、化学量論的組成からずれた組成比率を有する材料であってもよい。また、「〜系材料を主とする材料」とは、主とする材料が全体に対して50[wt%]以上であるものをいい、例えば添加物を含んでいてもよい。本実施形態の保護層70は、蓄熱層40に比べて大きな残留応力が生じている。 The protective layer 70 has a function of protecting the heat generating portion 51 and the conductive layer 60. The protective layer 70 is provided so as to cover the heat generating portion 51 and a part of the conductive layer 60. As a material for mainly forming the protective layer 70, for example, diamond-like carbon material, SiC-based material, SiN-based material, SiCN-based material, SiON-based material, SiONC-based material, SiAlON-based material, and SiO 2 Material, Ta 2 O 5 material, TaSiO material, TiC material, TiN material, TiO 2 material, TiB 2 material, AlC material, AlN material, Al Examples thereof include 2 O 3 -based materials, ZnO-based materials, B 4 C-based materials, and BN-based materials. Here, the “diamond-like carbon material” refers to a film in which the proportion of carbon atoms (C atoms) taking sp 3 hybrid orbits is in the range of 1 [atomic%] to less than 100 [atomic%]. In addition, here, “˜-based material” is a material composed of Si atoms and C atoms, taking a SiC-based material as an example, and not only a material having a stoichiometric composition, but also a stoichiometric amount. A material having a composition ratio deviating from the theoretical composition may be used. In addition, “a material mainly including a system material” refers to a material whose main material is 50 wt% or more with respect to the whole, and may include, for example, an additive. The protective layer 70 of the present embodiment has a larger residual stress than the heat storage layer 40.

駆動IC21は、複数の発熱部51の発熱を制御する機能を有するものである。この駆動IC21は、第1導電層61を介して発熱部51に電気的に接続されている。このような構成とすることにより、発熱部51に供給される電力を選択的に制御し、発熱を制御することができる。   The drive IC 21 has a function of controlling the heat generation of the plurality of heat generating parts 51. The drive IC 21 is electrically connected to the heat generating part 51 through the first conductive layer 61. With such a configuration, it is possible to selectively control the power supplied to the heat generating unit 51 and control heat generation.

外部接続用部材22は、発熱部51を選択的に発熱させるための電気信号を供給する機能を有するものである。この外部接続用部材22としては、例えばフレキシブルケーブルおよびコネクタの組み合わせが挙げられる。   The external connection member 22 has a function of supplying an electrical signal for selectively causing the heat generating portion 51 to generate heat. Examples of the external connection member 22 include a combination of a flexible cable and a connector.

サーマルヘッド10は、主走査方向D1,D2に沿って延びている一辺を有している基板30と、基板30の一辺側の端部を含む上面全体に設けられている蓄熱層40と、基板10の一辺から離間している蓄熱層40上に、主走査方向D1,D2に沿って配列されている複数の発熱部51と、基板10の一辺と複数の発熱部51との間に位置する蓄熱層40上に、主走査方向D1,D2に沿って延びている基部64a、および副走査方向D3,D4に沿って基部64aから当該一辺まで延びている複数の延出部64bを有している第4導電層64とを含んで構成されている。そのため、サーマルヘッド10では、延出部64b間に位置している蓄熱層40に亀裂が生じていたとしても、主走査方向D1,D2に沿って延びている基部64aによって、副走査方向D3,D4に沿って亀裂が進展するのを低減できることは勿論のこと、副走査方向D3,D4に沿って延びている延出部64bによって、主走査方向D1,D2に亀裂が進展するのも低減することができる。したがって、サーマルヘッド10は、信頼性を高めることができる。   The thermal head 10 includes a substrate 30 having one side extending along the main scanning directions D1 and D2, a heat storage layer 40 provided on the entire upper surface including an end portion on one side of the substrate 30, and a substrate. 10 on the heat storage layer 40 spaced from one side, and is located between the plurality of heat generating parts 51 arranged along the main scanning directions D1 and D2 and between one side of the substrate 10 and the plurality of heat generating parts 51. On the heat storage layer 40, a base portion 64a extending along the main scanning directions D1 and D2 and a plurality of extending portions 64b extending from the base portion 64a to the one side along the sub-scanning directions D3 and D4 are provided. The fourth conductive layer 64 is included. Therefore, in the thermal head 10, even if the heat storage layer 40 located between the extending portions 64b is cracked, the base portion 64a extending along the main scanning directions D1 and D2 causes the sub scanning direction D3. The extension of the cracks in the main scanning directions D1 and D2 can be reduced by the extension part 64b extending along the sub-scanning directions D3 and D4 as well as the progress of the cracks along the D4. be able to. Therefore, the thermal head 10 can improve reliability.

サーマルヘッド10において、溝64bが、厚み方向D5,D6のうちD6方向視において、副走査方向D3,D4のうちD4方向側の端部が滑らかな面を形成しているので、蓄熱層40に亀裂が生じた場合でも亀裂が進展するのをより低減することができる。そのため、サーマルヘッド10では、信頼性をより高めることができる。 In the thermal head 10, a groove 64b 1 is, in the direction D6 view of the thickness direction D5, D6, since the end portion of the D4 side of the sub-scanning direction D3, D4 form a smooth surface, heat storage layer 40 Even when a crack occurs in the film, it is possible to further reduce the progress of the crack. Therefore, the thermal head 10 can further improve reliability.

サーマルヘッド10は、第4導電層64を覆っている保護層70を含んで構成されており、該保護層70は、残留応力が蓄熱層40の残留応力に比べて大きい場合でも、蓄熱層40に亀裂が生じるのを低減することができる。そのため、サーマルヘッド10では、信頼性をより高めることができる。
<記録ヘッドの多数個取り基体>
図4は、本発明の記録ヘッドの連結基体の実施形態の一例である多数個取り基体20Xの概略構成を示す平面図である。
The thermal head 10 includes a protective layer 70 covering the fourth conductive layer 64, and the protective layer 70 has a heat storage layer 40 even when the residual stress is larger than the residual stress of the heat storage layer 40. It is possible to reduce the occurrence of cracks. Therefore, the thermal head 10 can further improve reliability.
<Multiple print head substrate>
FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of a multi-cavity substrate 20X which is an example of an embodiment of a connecting substrate of the recording head of the present invention.

図5は、図4に示した多数個取り基体20Xの要部を拡大した平面図である。   FIG. 5 is an enlarged plan view of a main part of the multi-cavity base 20X shown in FIG.

図6は、図5に示したVI−VI線に沿った断面図である。   FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI shown in FIG.

多数個取り基体20Xは、基体20の一部構成を連結して構成されているものである。この多数個取り基体20Xは、素基板30Xと、連結蓄熱層40Xと、電気抵抗層50と、連結導電層60Xとを含んで構成されている。   The multi-cavity base 20X is configured by connecting a part of the base 20 to each other. The multi-cavity base 20X includes a base substrate 30X, a connected heat storage layer 40X, an electric resistance layer 50, and a connected conductive layer 60X.

素基板30Xは、基板30として機能する複数の基板領域30Xaを有している。この素基板30Xは、基板領域30Xaの他に割り代30Xbを有している。この素基板30Xは、主走査方向D1,D2に延びる矩形状の基板領域30Xaが副走査方向D3,D4に連なっており、各々の基板領域30Xaの主走査方向D1,D2における両端に割り代30Xbを有している。また、この素基板30Xは、基板領域30Xaおよび割り代30Xbの境界に沿って配列している、厚み方向D5,D6のうちD6方向側からD5方向側に向かって形成された略円錐状の分割溝30Xを有している。さらに、この素基板30Xには、厚み方向D5,D6のうちD5方向側の上面全体に渡って連結蓄熱層40Xが設さけられている。 The base substrate 30 </ b> X has a plurality of substrate regions 30 </ b> Xa that function as the substrate 30. The base substrate 30X has a split 30Xb in addition to the substrate region 30Xa. In the base substrate 30X, a rectangular substrate region 30Xa extending in the main scanning directions D1 and D2 is connected to the sub-scanning directions D3 and D4, and a split 30Xb is provided at both ends of each substrate region 30Xa in the main scanning directions D1 and D2. have. Further, the base substrate 30X is arranged along the boundary between the substrate region 30Xa and the split margin 30Xb, and is formed in a substantially conical division formed from the D6 direction side to the D5 direction side in the thickness directions D5 and D6. It has a groove 30X 1. Further, the base substrate 30X is provided with a connected heat storage layer 40X over the entire upper surface on the D5 direction side of the thickness directions D5 and D6.

連結蓄熱層40Xは、蓄熱層40として機能する複数の蓄熱領域40Xaを各基板領域30Xa上に有している。   The connected heat storage layer 40X has a plurality of heat storage regions 40Xa that function as the heat storage layer 40 on each substrate region 30Xa.

多数個取り基体20Xにおける電気抵抗層50は、基板領域30Xaの各々に設けられている。   The electrical resistance layer 50 in the multi-cavity substrate 20X is provided in each of the substrate regions 30Xa.

連結導電層60Xは、第1導電層61と、第2導電層62と、第3導電層63と、第4導電層64として機能する部位を有する第4連結導電層64Xとを含んで構成されている。この第1導電層61、第2導電層62、および第3導電層63は、基板領域30Xaの各々に設けられている。   The connection conductive layer 60 </ b> X includes a first connection layer 61, a second connection layer 62, a third connection layer 63, and a fourth connection layer 64 </ b> X having a portion functioning as the fourth connection layer 64. ing. The first conductive layer 61, the second conductive layer 62, and the third conductive layer 63 are provided in each of the substrate regions 30Xa.

第4連結導電層64Xは、第4導電層64として機能する領域を有している。この第4連結導電層64Xは、隣接する基板領域30Xaの境界を越えて一方から他方に渡って設けられており、基板領域30Xa間の境界を跨っている。この第4連結導電層64Xのうち、一方の基板領域30Xaに設けられている領域が第4導電層64として機能する。この第4導電層64のうち延出部64bとして機能する延出領域64Xbは、他方の基板領域30Xaに延びており、副走査方向D3,D4のうちD3方向側の端が他方の基板領域30Xaに設けられている第3導電層63と対向している。また、第4連結導電層64Xは、主走査方向D1,D2において隣接する割り代30Xbに渡って延びている。この第4導電層64の基部64aとして機能する領域は、素基板30Xの主走査方向D1,D2における両端まで延びている。ここでアルミニウムを第4連結導電層64Xとして採用した場合の延出領域64Xbの副走査方向D3,D4における長さLXbとしては、例えば150[μm]以上500[μm]以下の範囲が挙げられる。 The fourth linking conductive layer 64 </ b> X has a region that functions as the fourth conductive layer 64. The fourth connection conductive layer 64X is provided from one side to the other beyond the boundary between the adjacent substrate regions 30Xa, and straddles the boundary between the substrate regions 30Xa. Of the fourth linking conductive layer 64 </ b> X, a region provided in one substrate region 30 </ b> Xa functions as the fourth conductive layer 64. The extension region 64Xb functioning as the extension part 64b of the fourth conductive layer 64 extends to the other substrate region 30Xa, and the end on the D3 direction side of the sub-scanning directions D3 and D4 is the other substrate region 30Xa. It faces the third conductive layer 63 provided on the surface. Further, the fourth linking conductive layer 64X extends over the adjacent margin 30Xb in the main scanning directions D1 and D2. The region functioning as the base portion 64a of the fourth conductive layer 64 extends to both ends of the base substrate 30X in the main scanning directions D1 and D2. Here, the length L Xb in the sub-scanning directions D3 and D4 of the extended region 64Xb when aluminum is adopted as the fourth connection conductive layer 64X includes, for example, a range of 150 [μm] or more and 500 [μm] or less. .

サーマルヘッド10の多数個取り基体20Xは、主走査方向D1,D2に延びる境界で隔てられている2つの基板領域30Xaを有している連結基板20Xと、該連結基板20Xの2つの基板領域30Xaの一方から他方に跨って設けられている蓄熱層40と、該蓄熱層40上に設けられている、主走査方向D1,D2に沿って配列されている複数の発熱部51と、一の基板領域30Xaにおける複数の発熱部51と境界との間に位置する蓄熱層40上に設けられている、主走査方向D1,D2に沿って延びている基部64aおよび、該基部64aから一の基板領域30Xaに隣接する他の基板領域30Xaに渡って延びている複数の延出部64bを有している第4導電層64とを含んで構成されている。そのため、サーマルヘッド10の多数個取り基体20Xでは、境界に沿って多数個取り基体20Xを分割する際に、蓄熱層40に亀裂が生じたとしても、主走査方向D1,D2に沿って延びている基部64aによって、副走査方向D3,D4に沿って亀裂が進展するのを低減できることは勿論のこと、副走査方向D3,D4に延びている延出部64bによって、主走査方向D1,D2に亀裂が進展するのも低減することができる。したがって、サーマルヘッド10の多数個取り基体20Xは、信頼性を高めることができる。   The multi-chip base 20X of the thermal head 10 includes a connecting substrate 20X having two substrate regions 30Xa separated by a boundary extending in the main scanning directions D1 and D2, and two substrate regions 30Xa of the connecting substrate 20X. A heat storage layer 40 extending from one to the other, a plurality of heat generating portions 51 arranged on the heat storage layer 40 along the main scanning directions D1 and D2, and one substrate A base portion 64a extending along the main scanning directions D1 and D2 provided on the heat storage layer 40 located between the plurality of heat generating portions 51 and the boundaries in the region 30Xa, and one substrate region from the base portion 64a And a fourth conductive layer 64 having a plurality of extending portions 64b extending over another substrate region 30Xa adjacent to 30Xa. Therefore, in the multi-cavity substrate 20X of the thermal head 10, even when a crack occurs in the heat storage layer 40 when the multi-cavity substrate 20X is divided along the boundary, it extends along the main scanning directions D1 and D2. Of course, the base 64a can reduce the development of cracks along the sub-scanning directions D3 and D4, and the extension 64b extending in the sub-scanning directions D3 and D4 can be used in the main scanning directions D1 and D2. The progress of cracks can also be reduced. Therefore, the multi-cavity base 20X of the thermal head 10 can improve the reliability.

サーマルヘッド10の多数個取り基体20Xは、他の基板領域30Xaにおける複数の発熱部51と境界との間に位置する蓄熱層40上に主走査方向D1,D2に沿って延出部64bとなる領域と離間して配列されている複数の第3導電層63を含んで構成されているので、第4導電層64が基板領域30Xaの他方上に設けられている第3導電層63が導電材を介して外部接続用部材70に接続された場合でも第4導電層64を介して短絡するのを低減することができる。   The multi-cavity base 20X of the thermal head 10 becomes an extended portion 64b along the main scanning directions D1 and D2 on the heat storage layer 40 located between the plurality of heat generating portions 51 and the boundary in the other substrate region 30Xa. Since the third conductive layer 63 includes a plurality of third conductive layers 63 arranged apart from the region, the fourth conductive layer 64 provided on the other side of the substrate region 30Xa is a conductive material. Even when it is connected to the external connection member 70 via, it is possible to reduce a short circuit via the fourth conductive layer 64.

以下に、本実施形態に係るサーマルヘッド10およびその多数個取り基体20Xの製造方法について、図7および図8を参照しつつ、説明する。
<蓄熱層形成工程>
図7(a)に示すように、まず分割溝30Xを有している素基板30Xを準備し、その上に連結蓄熱層40Xを形成する。具体的には、スパッタリングなどの成膜技術により素基板30Xの厚み方向D5,D6のうちD5方向側の上面全体に略平坦状の連結蓄熱膜を成膜する。次に、スパッタリングなどの成膜技術により連続蓄熱膜をエッチングして、突出部41となる領域を有する連結蓄熱層40Xを形成する。
<連結抵抗膜形成工程>
図7(b)に示すように、連結蓄熱層40Xの厚み方向D5,D6のうちD5方向側の上面全体に連結抵抗膜50Yを形成する。具体的には、スパッタリングおよび蒸着などの成膜技術によって、連結蓄熱膜40X上に連結抵抗膜50Yを成膜する。
<連結導電膜形成工程>
図7(c)に示すように、連結抵抗膜50Yの厚み方向D5,D6のうちD5方向側の上面全体に連結導電膜60Yを形成する。具体的には、スパッタリングおよび蒸着などの成膜技術によって、連結抵抗膜50Y上に略平坦状の膜を成膜することによって、連結導電膜60Yを形成する。
<パターニング工程>
図8(a)に示すように、電気抵抗体層50および連結導電層60Xを形成する。具体的には、まず、フォトリソグラフィなどの微細加工技術によって、連結導電層60X上にマスクを形成する。次に、フォトリソグラフィなどの微細加工技術によって、電気抵抗体層50および連結導電層60Xとなる領域を残して当該マスクを剥離する。次に、このマスクから露出した連結抵抗膜50Yおよび連結導電膜60Yの一部をエッチングする。これによって、エッチングされずに残った連結抵抗膜50Yおよび連結導電膜60Yの他の部分が電気抵抗体層50および連結導電層60Xとすることができる。
Hereinafter, a method for manufacturing the thermal head 10 and the multi-cavity substrate 20X according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.
<Heat storage layer formation process>
As shown in FIG. 7 (a), to prepare the element substrate 30X which first has a split groove 30X 1, to form a consolidated heat storage layer 40X thereon. Specifically, a substantially flat connected heat storage film is formed on the entire upper surface on the D5 direction side in the thickness direction D5, D6 of the base substrate 30X by a film forming technique such as sputtering. Next, the continuous heat storage film is etched by a film forming technique such as sputtering to form a connected heat storage layer 40 </ b> X having a region that becomes the protruding portion 41.
<Connected resistance film forming process>
As shown in FIG. 7B, the connection resistance film 50Y is formed on the entire upper surface on the D5 direction side in the thickness directions D5 and D6 of the connection heat storage layer 40X. Specifically, the connection resistance film 50Y is formed on the connection heat storage film 40X by a film formation technique such as sputtering and vapor deposition.
<Connected conductive film forming step>
As shown in FIG. 7C, the connection conductive film 60Y is formed on the entire upper surface on the D5 direction side in the thickness directions D5 and D6 of the connection resistance film 50Y. Specifically, the connection conductive film 60Y is formed by forming a substantially flat film on the connection resistance film 50Y by a film formation technique such as sputtering and vapor deposition.
<Patterning process>
As shown in FIG. 8A, the electric resistor layer 50 and the connecting conductive layer 60X are formed. Specifically, first, a mask is formed on the connection conductive layer 60X by a fine processing technique such as photolithography. Next, the mask is peeled off by leaving a region to be the electrical resistor layer 50 and the connecting conductive layer 60X by a fine processing technique such as photolithography. Next, the connection resistance film 50Y and a part of the connection conductive film 60Y exposed from the mask are etched. As a result, the other portions of the coupling resistance film 50Y and the coupling conductive film 60Y that remain without being etched can be used as the electrical resistor layer 50 and the coupling conductive layer 60X.

このようにして、本実施形態のサーマルヘッド10の多数個取り基体20Xを製造することができる。
<基体分割工程>
図8(b)に示すように、分割溝30Xに沿って多数個取り基体20Xを分割し、基板30を得る。
<保護層形成工程>
図8(c)に示すように、電気抵抗体層50および導電層60を覆う保護層70を形成する。具体的には、まず、フォトリソグラフィなどの微細加工技術によって、保護層70で保護する部位上を露出させるようにマスクを形成する。次に、スパッタリングや蒸着などの成膜技術により保護層70を形成する。
In this manner, the multi-cavity base 20X of the thermal head 10 of this embodiment can be manufactured.
<Substrate dividing step>
As shown in FIG. 8 (b), by dividing the multi-cavity substrate 20X along the dividing groove 30X 1, to obtain a substrate 30.
<Protective layer forming step>
As shown in FIG. 8C, a protective layer 70 that covers the electrical resistor layer 50 and the conductive layer 60 is formed. Specifically, first, a mask is formed so as to expose a portion to be protected by the protective layer 70 by a fine processing technique such as photolithography. Next, the protective layer 70 is formed by a film forming technique such as sputtering or vapor deposition.

以上のようにして基体20を製造する。
<駆動ICの配置工程>
基体20の所定の領域に駆動IC21を配置する。具体的には、基体20と駆動IC21とを例えば導電性バンプおよび異方性導電材などの導電性部材を介して接続する。
<外部接続用部材の配置工程>
基体20の所定の領域に外部接続用部材22を配置する。具体的には、基体20と外部接続用部材22とを例えば導電性バンプおよび異方性導電材などの導電性部材を介して接続する。
The base body 20 is manufactured as described above.
<Drive IC placement process>
A drive IC 21 is disposed in a predetermined region of the base 20. Specifically, the base body 20 and the driving IC 21 are connected via a conductive member such as a conductive bump and an anisotropic conductive material.
<External connection member placement process>
The external connection member 22 is disposed in a predetermined region of the base body 20. Specifically, the base body 20 and the external connection member 22 are connected via a conductive member such as a conductive bump and an anisotropic conductive material.

以上のようにして本実施形態のサーマルヘッド10を製造することができる。   As described above, the thermal head 10 of this embodiment can be manufactured.

サーマルヘッド10の製造方法は、主走査方向D1,D2に延びる境界で2つ以上の基板領域30Xaに区画されている素基板30Xを準備する工程と、素基板30X上に境界を跨って蓄熱層40を設ける工程と、蓄熱層40上に主走査方向D1,D2に沿って配列されている複数の発熱部51と、一の基板領域30Xaにおける複数の発熱部51と境界との間に主走査方向D1,D2に沿って延びる基部64a、および該基部64aから境界を超えて一の基板領域30Xaに隣接する他の基板領域30Xaの区画に延びる複数の延出部64bを有する第4導電層64とを形成する工程と、素基板30Xを境界に沿って分割する工程とを含んでいる。そのため、サーマルヘッド10の製造方法は、第4工程で連結基板20Xを分割する際に、蓄熱層40に亀裂が生じたとしても、主走査方向D1,D2に沿って延びている基部64aによって、副走査方向D3,D4に沿って亀裂が進展するのを低減できることは勿論のこと、副走査方向D3,D4に延びている延出部64bによって、主走査方向D1,D2に亀裂が進展するのも低減することができる。したがって、サーマルヘッド10の製造方法は、信頼性を高めることができる。   The manufacturing method of the thermal head 10 includes a step of preparing a base substrate 30X that is partitioned into two or more substrate regions 30Xa by boundaries extending in the main scanning directions D1 and D2, and a heat storage layer across the boundaries on the base substrate 30X. 40, a plurality of heat generating portions 51 arranged on the heat storage layer 40 along the main scanning directions D1 and D2, and a plurality of heat generating portions 51 in one substrate region 30Xa and a main scan. A fourth conductive layer 64 having a base portion 64a extending along the directions D1 and D2 and a plurality of extending portions 64b extending from the base portion 64a to a section of another substrate region 30Xa adjacent to the one substrate region 30Xa beyond the boundary. And a step of dividing the base substrate 30X along the boundary. Therefore, in the manufacturing method of the thermal head 10, even when the heat storage layer 40 is cracked when the connection substrate 20 </ b> X is divided in the fourth step, the base 64 a extending along the main scanning directions D <b> 1 and D <b> 2 is used. Of course, it is possible to reduce the progress of cracks along the sub-scanning directions D3 and D4, and the extension 64b extending in the sub-scanning directions D3 and D4 causes the cracks to propagate in the main scanning directions D1 and D2. Can also be reduced. Therefore, the manufacturing method of the thermal head 10 can improve reliability.

サーマルヘッド10の製造方法は、他の基板領域30Xaの区画における複数の発熱部51と境界との間に主走査方向D1,D2に沿って延出部64bと離間して配列される複数の第3導電層63とを形成するので、第4導電層64が基板領域30Xaの他方上に設けられている第3導電層63が導電材を介して外部接続用部材70に接続された場合でも第4導電層64を介して短絡するのを低減することができる。
<記録装置>
図9は、本発明の記録装置の実施形態の一例であるサーマルプリンタ1の概略構成を示す図である。
The manufacturing method of the thermal head 10 includes a plurality of second heads arranged in the main scanning directions D1 and D2 and spaced apart from the extending portions 64b between the plurality of heat generating portions 51 and the boundaries in the section of the other substrate region 30Xa. Since the third conductive layer 63 is formed, the fourth conductive layer 64 is provided on the other side of the substrate region 30Xa even when the third conductive layer 63 is connected to the external connection member 70 through the conductive material. Short circuit through the four conductive layers 64 can be reduced.
<Recording device>
FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of a thermal printer 1 which is an example of an embodiment of a recording apparatus of the present invention.

サーマルプリンタ1は、サーマルヘッド10と、搬送機構11と、制御装置12とを有している。   The thermal printer 1 includes a thermal head 10, a transport mechanism 11, and a control device 12.

搬送機構11は、記録媒体Pを副走査方向D3,D4のうちD3方向に搬送しつつ、記録媒体Pをサーマルヘッド10の発熱部51上に位置する保護層70に接触させる機能を有するものである。この搬送機構11は、プラテンローラ111と、搬送ローラ112,113,114,115とを含んで構成されている。   The transport mechanism 11 has a function of bringing the recording medium P into contact with the protective layer 70 located on the heat generating portion 51 of the thermal head 10 while transporting the recording medium P in the D3 direction of the sub-scanning directions D3 and D4. is there. The transport mechanism 11 includes a platen roller 111 and transport rollers 112, 113, 114, and 115.

プラテンローラ111は、記録媒体Pを発熱部51上の保護層70に対して押し付ける機能を有するものである。このプラテンローラ111は、発熱部51上に位置する保護層70に接触した状態で回転可能に支持されている。このプラテンローラ111は、円柱状の素管の外表面を弾性部材により被覆して構成されている。この素管は、例えばステンレスなどの金属により形成されている。この弾性部材は、例えばブタジエンゴムにより形成されており、厚みの寸法が3[mm]以上15[mm]以下の範囲に設定されている。   The platen roller 111 has a function of pressing the recording medium P against the protective layer 70 on the heat generating portion 51. The platen roller 111 is rotatably supported in contact with the protective layer 70 located on the heat generating portion 51. The platen roller 111 is configured by covering the outer surface of a cylindrical raw tube with an elastic member. This elementary tube is made of a metal such as stainless steel. This elastic member is made of, for example, butadiene rubber, and has a thickness dimension set in a range of 3 [mm] to 15 [mm].

搬送ローラ112,113,114,115は、記録媒体Pを副走査方向D3,D4のうちD3方向に搬送する機能を有するものである。すなわち、搬送ローラ112,113,114,115は、サーマルヘッド10の発熱部51とプラテンローラ111との間に記録媒体Pを供給するとともに、サーマルヘッド10の発熱部51とプラテンローラ111との間から記録媒体Pを引き抜く役割を担うものである。これらの搬送ローラ112,113,114,115は、例えば金属製の円柱状部材により形成してもよいし、例えばプラテンローラ111と同様に円柱状の基体の外表面を弾性部材により被覆した構成であってもよい。   The conveyance rollers 112, 113, 114, and 115 have a function of conveying the recording medium P in the D3 direction among the sub-scanning directions D3 and D4. That is, the transport rollers 112, 113, 114, and 115 supply the recording medium P between the heat generating portion 51 of the thermal head 10 and the platen roller 111, and between the heat generating portion 51 of the thermal head 10 and the platen roller 111. It plays a role of pulling out the recording medium P from the recording medium. These transport rollers 112, 113, 114, and 115 may be formed of, for example, a metal columnar member. For example, like the platen roller 111, the outer surface of the columnar substrate is covered with an elastic member. There may be.

制御装置12は、駆動IC21に画像情報を供給する機能を有するものである。つまり、制御装置12は、外部接続用部材22を介して発熱部51を選択的に駆動する画像情報を駆動IC21に供給する役割を担うものである。   The control device 12 has a function of supplying image information to the drive IC 21. That is, the control device 12 plays a role of supplying image information for selectively driving the heat generating portion 51 to the drive IC 21 via the external connection member 22.

サーマルプリンタ1は、サーマルヘッド10を備えている。そのため、サーマルプリンタ1は、サーマルヘッド10の有する効果を享受することができる。したがって、サーマルプリンタ1は、サーマルヘッド10の保護層70の保護層としての機能が良好に維持されることにより、サーマルプリンタ1の長期信頼性を高めることができる。   The thermal printer 1 includes a thermal head 10. Therefore, the thermal printer 1 can enjoy the effects of the thermal head 10. Therefore, the thermal printer 1 can improve the long-term reliability of the thermal printer 1 by maintaining the function as the protective layer of the protective layer 70 of the thermal head 10 well.

以上、本発明の具体的な実施形態を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、発明の要旨から逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。   While specific embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention.

本実施形態の蓄熱層40は、基板30の上面全体に設けられているが、このような構成に限るものではなく、少なくとも副走査方向D3,D4のうちD3方向側の端部を含む領域上に設けられていればよい。   The heat storage layer 40 of the present embodiment is provided on the entire upper surface of the substrate 30, but is not limited to such a configuration, and is on a region including at least the end portion on the D3 direction side in the sub-scanning directions D3 and D4. As long as it is provided.

本実施形態の電気抵抗層50は、蓄熱層40上に直接設けられているが、このような構成に限るものではなく、例えば製造の際のエッチングから蓄熱層40を保護すべく、蓄熱層40と電気抵抗層50と間に他の層を形成していてもよい。   Although the electrical resistance layer 50 of this embodiment is directly provided on the heat storage layer 40, it is not restricted to such a structure, For example, in order to protect the heat storage layer 40 from the etching at the time of manufacture, the heat storage layer 40 is provided. Another layer may be formed between the first and second electric resistance layers 50.

本実施形態の第4導電層64は、図10に示したように、さらに基部64Aaおよび延出部64Abと電気的に独立している独立部64Acを延出部64Ab間の領域に有していてもよい。この場合、蓄熱層40に亀裂が生じた場合でも亀裂が進展するのをより低減することができ、信頼性をより高めることができる。   As shown in FIG. 10, the fourth conductive layer 64 of the present embodiment further has an independent portion 64Ac that is electrically independent from the base portion 64Aa and the extending portion 64Ab in the region between the extending portions 64Ab. May be. In this case, even when a crack occurs in the heat storage layer 40, the progress of the crack can be further reduced, and the reliability can be further increased.

本実施形態では、クラック低減層として金属またはこれらの合金からなる第4導電層64を例に挙げたが、このような材料に限るものではない。他の材料としては、例えば蓄熱層40に比べて延性の高い材料と、蓄熱層40に比べて靱性の高い材料とが挙げられる。ここで延性の高い材料としては、上述の金属またはこれらの合金の他に、例えばシリコン樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂が挙げられる。また、靱性の高い材料としては、上述の金属またはこれらの合金の他に、例えばウレタンアクリレート系樹脂と、エポキシ系樹脂と、オキセタン系樹脂とが挙げられる。上述の樹脂材料をクラック低減層として採用する場合、パターニング工程と基体分割工程との間に形成することが好ましい。   In the present embodiment, the fourth conductive layer 64 made of a metal or an alloy thereof is taken as an example of the crack reducing layer, but is not limited to such a material. Examples of other materials include a material having higher ductility than the heat storage layer 40 and a material having higher toughness than the heat storage layer 40. Here, examples of the material having high ductility include a silicon resin, a urethane resin, and a fluorine resin in addition to the above-described metals or alloys thereof. Moreover, as a material with high toughness, for example, a urethane acrylate resin, an epoxy resin, and an oxetane resin can be cited in addition to the above-described metals or alloys thereof. When the above-described resin material is employed as the crack reducing layer, it is preferably formed between the patterning step and the substrate dividing step.

本実施形態の多数個取り基体20Xは、第3導電層63と第4連結導電層64Xが別々に設けられているが、このような構成に限るものではない。例えば、図11に示したように第3導電層63および第4導電層64となる領域を有する第5連結導電層65BXを有していてもよい。   The multi-cavity substrate 20X of the present embodiment is provided with the third conductive layer 63 and the fourth connection conductive layer 64X separately, but is not limited to such a configuration. For example, as shown in FIG. 11, you may have 5th connection conductive layer 65BX which has the area | region used as the 3rd conductive layer 63 and the 4th conductive layer 64. As shown in FIG.

1 サーマルプリンタ
10 サーマルヘッド
11 搬送機構(搬送部)
111 プラテンローラ
112,113,114,115 搬送ローラ
12 制御装置
20 基体
20X 多数個取り基体
21 駆動IC
22 外部接続用部材
30 基板
30a 主走査方向に沿って延びている一辺
30X 素基板
30Xa 基板領域
30Xb 割り代
40 蓄熱層
40X 連結蓄熱層
50 電気抵抗層
51 発熱部
60 導電層
60X 連結導電層
61 第1導電層
62 第2導電層
63 第3導電層
64 第4導電層(クラック低減層)
64a 基部
64b 延出部
64X 第4連結導電層
64Xb 延出領域
65 第5導電層(第2のクラック低減層)
70 保護層
P 記録媒体
D1,D2 主走査方向
D3,D4 副走査方向
D5,D6 厚み方向
副走査方向における基部の長さ
副走査方向における延出部の長さ
Xb 副走査方向における延出領域の長さ
主走査方向における延出部の幅
主走査方向において隣り合う延出部の間隔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thermal printer 10 Thermal head 11 Conveyance mechanism (conveyance part)
111 Platen Rollers 112, 113, 114, 115 Conveying Roller 12 Controller 20 Base 20X Multi-Piece Base 21 Drive IC
22 External connection member 30 Substrate 30a One side 30X extending along the main scanning direction Substrate 30Xa Substrate region 30Xb Split 40 Heat storage layer 40X Linked heat storage layer 50 Electrical resistance layer 51 Heat generating part 60 Conductive layer 60X Linked conductive layer 61 1 conductive layer 62 2nd conductive layer 63 3rd conductive layer 64 4th conductive layer (crack reduction layer)
64a Base portion 64b Extension portion 64X Fourth connection conductive layer 64Xb Extension region 65 Fifth conductive layer (second crack reduction layer)
70 protective layer P recording medium D1, D2 main scanning direction D3, D4 sub-scanning direction D5, D6 of the extending portion of the base in the thickness direction L a sub-scanning direction in the length L b sub-scanning direction length L Xb subscanning direction extending portion spacing adjacent in the width d b main scanning direction of the extending portion in the length W b main scanning direction of the extending region in

Claims (8)

主走査方向に沿って延びている一辺を有している基板と、
該基板の少なくとも前記一辺側の端部を含む領域上に設けられている蓄熱層と、
前記基板の前記一辺から離間している前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、
前記基板の前記一辺と前記複数の発熱部との間に位置する前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って延びている基部、および前記主走査方向と交差する方向に沿って前記基部から前記一辺まで延びている複数の延出部を有しているクラック低減層とを含んで構成されていることを特徴とする記録ヘッド。
A substrate having one side extending along the main scanning direction;
A heat storage layer provided on an area including at least the one side edge of the substrate;
A plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer spaced from the one side of the substrate;
A base extending along the main scanning direction on the heat storage layer located between the one side of the substrate and the plurality of heat generating units, and from the base along a direction intersecting the main scanning direction A recording head comprising: a crack reducing layer having a plurality of extending portions extending to the one side.
前記クラック低減層は、平面視において前記複数の延出部の間に位置する前記蓄熱層上に第2のクラック低減層を含んで構成されていることを特徴とする請求項1に記載の記録ヘッド。   2. The recording according to claim 1, wherein the crack reducing layer is configured to include a second crack reducing layer on the heat storage layer located between the plurality of extending portions in a plan view. head. 前記クラック低減層を覆っている保護層を含んで構成されており、
該保護層は、残留応力が前記蓄熱層の残留応力に比べて大きいことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の記録ヘッド。
Comprising a protective layer covering the crack reducing layer,
The recording head according to claim 1, wherein the protective layer has a residual stress larger than that of the heat storage layer.
主走査方向に延びる境界で2つ以上の領域に区画されている素基板と、
該素基板上に前記境界を跨って設けられている蓄熱層と、
前記区画上に位置する前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、
一の前記区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に位置する前記蓄熱層上に、前記主走査方向に沿って延びている基部および、該基部から前記境界を超えて前記一の区画に隣接する他の前記区画に延びている複数の延出部を有しているクラック低減層とを含んで構成されていることを特徴とする記録ヘッドの多数個取り基体。
A base substrate partitioned into two or more regions at a boundary extending in the main scanning direction;
A heat storage layer provided across the boundary on the substrate;
A plurality of heat generating portions arranged along the main scanning direction on the heat storage layer located on the section;
A base portion extending along the main scanning direction on the heat storage layer located between the plurality of heat generating portions and the boundary in the one partition, and the one partition beyond the boundary from the base And a crack reducing layer having a plurality of extending portions extending to the other section adjacent to the recording section.
前記他の区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に位置する前記蓄熱層上に前記主走査方向に沿って前記延出部と離間して配列されている、当該複数の発熱部に電気的に接続するための複数の導電層を含んで構成されていることを特徴とする請求項4に記載の記録ヘッドの多数個取り基体。   In the plurality of heat generating portions arranged apart from the extending portion along the main scanning direction on the heat storage layer located between the plurality of heat generating portions and the boundary in the other section. 5. The multiple-printing substrate of a recording head according to claim 4, wherein the substrate is configured to include a plurality of conductive layers for electrical connection. 主走査方向に延びる境界で2つ以上の領域に区画されている素基板を準備する第1の工程と、
前記素基板上に前記境界を跨って蓄熱層を設ける第2の工程と、
前記区画における前記蓄熱層上に前記主走査方向に沿って配列されている複数の発熱部と、一の前記区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に前記主走査方向に沿って延びる基部、および該基部から前記境界を超えて前記一の区画に隣接する他の前記区画に延びる複数の延出部を有するクラック低減層とを形成する第3の工程と、
前記素基板を前記境界に沿って分割する第4の工程とを含んでいることを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
A first step of preparing a base substrate partitioned into two or more regions at a boundary extending in the main scanning direction;
A second step of providing a heat storage layer across the boundary on the substrate;
A plurality of heat generating sections arranged along the main scanning direction on the heat storage layer in the section, and extending along the main scanning direction between the plurality of heat generating sections and the boundary in one section. A third step of forming a base and a crack reducing layer having a plurality of extending portions extending from the base to the other section adjacent to the one section beyond the boundary;
And a fourth step of dividing the base substrate along the boundary.
前記第3の工程の際に、前記他の区画における前記複数の発熱部と前記境界との間に位置する前記蓄熱層上に前記主走査方向に沿って前記延出部と離間して配列される、当該複数の発熱部に電気的に接続するための複数の導電層を形成することを特徴とする請求項6に記載の記録ヘッドの製造方法。   In the third step, the heat storage layer located between the plurality of heat generating portions and the boundary in the other section is arranged apart from the extending portion along the main scanning direction. The method of manufacturing a recording head according to claim 6, further comprising: forming a plurality of conductive layers to be electrically connected to the plurality of heat generating portions. 請求項1から請求項3のいずれかに記載の記録ヘッドと、記録媒体を搬送する搬送部とを備えることを特徴とする記録装置。   A recording apparatus comprising: the recording head according to claim 1; and a transport unit that transports a recording medium.
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