JP2009066854A - Thermal print head and method for manufacturing the same - Google Patents

Thermal print head and method for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2009066854A
JP2009066854A JP2007236664A JP2007236664A JP2009066854A JP 2009066854 A JP2009066854 A JP 2009066854A JP 2007236664 A JP2007236664 A JP 2007236664A JP 2007236664 A JP2007236664 A JP 2007236664A JP 2009066854 A JP2009066854 A JP 2009066854A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
layer
print head
heat generating
thermal print
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007236664A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Reiko Kobayashi
玲子 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Hokuto Electronics Corp
Original Assignee
Toshiba Hokuto Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Hokuto Electronics Corp filed Critical Toshiba Hokuto Electronics Corp
Priority to JP2007236664A priority Critical patent/JP2009066854A/en
Publication of JP2009066854A publication Critical patent/JP2009066854A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermal print head and a method for manufacturing the same in which, in the operation of the thermal print head, high speed and high definition thereof can be easily obtained. <P>SOLUTION: A resistor substrate part 12A and a driving circuit substrate part 12B are formed on a radiation substrate 11; a plurality of separated insulation layers 14 comprising an insulator material separated in an island form are formed on the surface of a supporting substrate 13; and a heating resistor layer 15 covering them is formed. A gap G is formed on the heating resistor layer 15 on the separated insulation layer 14 to form a first electrode 16a and a second electrode 16b, and the gap G portion is used as an exothermic part 17. Then, an overcoat 18 which covers at least the exothermic part 17 is formed. Thus, each exothermic part 17 is formed on one separated insulation layer 14. In addition, a drive IC20 on a driving circuit substrate 19 is electrically connected to the above electrodes by a bonding wire W, and a sealer 21 hermetically seals them. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、感熱方式または熱転写方式等により記録媒体に記録を行うためのサーマルプリントヘッド、特にその動作の高速化および高画質化が容易になるサーマルプリントヘッド、およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a thermal print head for recording on a recording medium by a thermal method or a thermal transfer method, and more particularly to a thermal print head that facilitates high-speed operation and high image quality, and a manufacturing method thereof.

サーマルプリントヘッドは、その発熱部の発熱を利用して感熱記録紙や熱転写インクリボン等の記録媒体に文字などから成る画像を形成する出力用デバイスである。そして、バーコードプリンタや計量機、デジタル製版機、ビデオプリンター、イメージャー、シールプリンター等の各記録機器に広く利用されている。一般的に、サーマルプリントヘッドは、画像形成のための発熱部を設けた抵抗体基板部および駆動ICを搭載した駆動回路基板部などを、放熱基板の一主面上に配置した構造になっている。   The thermal print head is an output device that forms an image made up of characters on a recording medium such as a thermal recording paper or a thermal transfer ink ribbon by utilizing the heat generated by the heat generating portion. It is widely used in recording devices such as barcode printers, weighing machines, digital plate-making machines, video printers, imagers, and seal printers. Generally, a thermal print head has a structure in which a resistor substrate portion provided with a heat generating portion for image formation and a drive circuit substrate portion mounted with a drive IC are arranged on one main surface of a heat dissipation substrate. Yes.

ここで、従来のサーマルプリントヘッドについて図5および図6を参照して説明する。図5はその一部を抜き出した一部切截上面図であり、図6は図5の線分Z−Z、いわゆる記録媒体が搬送される方向(副走査方向)における横断面図である。このサーマルプリントヘッドは、この副走査方向に直交する方向(主走査方向)に沿い所要の長さに延在している。   Here, a conventional thermal print head will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a partially cut-out top view with a part thereof extracted, and FIG. 6 is a cross-sectional view in the direction (sub-scanning direction) in which the segment ZZ in FIG. The thermal print head extends to a required length along a direction (main scanning direction) orthogonal to the sub-scanning direction.

図5,6に示すように、サーマルプリントヘッド100では、例えば放熱基板101の主面上に抵抗体基板部102Aおよび駆動回路基板部102Bが隣接して設けられる。そして、抵抗体基板部102Aでは、放熱基板101の主面上に支持基板103が貼着され、支持基板103上にグレーズ層104が図5に示すようにヘッドの主走査方向に延在して一体に設けられている。このグレーズ層104は、スクリーン印刷法による塗布形成とその焼成とによる厚膜技術で形成される。   As shown in FIGS. 5 and 6, in the thermal print head 100, for example, a resistor substrate portion 102 </ b> A and a drive circuit substrate portion 102 </ b> B are provided adjacent to each other on the main surface of the heat dissipation substrate 101. In the resistor substrate portion 102A, the support substrate 103 is adhered on the main surface of the heat dissipation substrate 101, and the glaze layer 104 extends on the support substrate 103 in the main scanning direction of the head as shown in FIG. It is provided integrally. The glaze layer 104 is formed by a thick film technique based on coating formation by screen printing and firing.

そして、上述したようなグレーズ層104表面および支持基板103表面を被覆して発熱抵抗体層105が形成され、この発熱抵抗体層105上に、第1の電極106aおよび第2の電極106bが間隙Gを挟んで対向して配置されている。ここで、第1の電極106aおよび第2の電極106bからなる一対の電極106は発熱抵抗体層105に重層して電気接続し、これ等の間隙Gで露出する発熱抵抗体層105が発熱部107となる。   Then, the heating resistor layer 105 is formed so as to cover the surface of the glaze layer 104 and the surface of the support substrate 103 as described above, and the first electrode 106a and the second electrode 106b are spaced on the heating resistor layer 105. They are arranged facing each other across G. Here, the pair of electrodes 106 composed of the first electrode 106a and the second electrode 106b are electrically connected to the heating resistor layer 105 so as to overlap with each other, and the heating resistor layer 105 exposed in the gap G is used as the heating part. 107.

図に示されるように、発熱部107の通電用電極となる一対の電極106と上記発熱部107が1つの発熱素子となり、サーマルプリントヘッド100の主走査方向に、例えば素子密度10本/mmの発熱素子アレイとして一列に配設してある。更に、後述するボンディングワイヤー接続のために第1の電極106aの縁端部が露出され全体が保護膜108により被覆されている。   As shown in the figure, the pair of electrodes 106 serving as energization electrodes of the heat generating portion 107 and the heat generating portion 107 form one heat generating element, and in the main scanning direction of the thermal print head 100, for example, an element density of 10 / mm. The heating element arrays are arranged in a row. Further, the edge portion of the first electrode 106a is exposed and entirely covered with a protective film 108 for bonding wire connection described later.

一方、駆動回路基板部102Bは、放熱基板101に貼着した駆動回路基板109等から構成され、その基板表面に回路パターン(不図示)等が形成され、また駆動IC110等が搭載されている。そして、抵抗体基板部102Aの上記通電用電極と駆動回路基板部102Bの駆動IC110との間、および、駆動IC110と駆動回路基板部102Bの回路パターンとの間などがボンディングワイヤーWで電気的に接続されている。そして、これ等のボンディングワイヤーWおよび駆動IC110は、例えばエポキシ樹脂から成る封止材111によって気密封止されている。   On the other hand, the drive circuit board portion 102B includes a drive circuit board 109 and the like attached to the heat dissipation board 101, a circuit pattern (not shown) and the like are formed on the surface of the board, and a drive IC 110 and the like are mounted. A bonding wire W is used to electrically connect the energizing electrode of the resistor substrate portion 102A and the drive IC 110 of the drive circuit substrate portion 102B and between the drive IC 110 and the circuit pattern of the drive circuit substrate portion 102B. It is connected. These bonding wires W and the driving IC 110 are hermetically sealed by a sealing material 111 made of, for example, an epoxy resin.

上記サーマルプリントヘッド100を用いた記録媒体への画像形成では、感熱記録紙や熱転写インクリボン等(図示せず)が、発熱部107領域上の保護膜108といわゆるプラテンローラとの間で挟圧され、副走査方向に所定の速度で搬送される。この搬送において、例えば感熱記録媒体が発熱部107により加熱され、その熱により記録媒体が印画される。   In image formation on a recording medium using the thermal print head 100, a thermal recording paper, a thermal transfer ink ribbon, or the like (not shown) is sandwiched between the protective film 108 on the heat generating portion 107 area and a so-called platen roller. And conveyed at a predetermined speed in the sub-scanning direction. In this conveyance, for example, the heat-sensitive recording medium is heated by the heat generating unit 107, and the recording medium is printed by the heat.

このようなサーマルプリントヘッド100は、図6に示されるように、凸形状に盛り上がったグレーズ層104の構造であれば、発熱部107に対する記録媒体等の密着性を高めると共に、発熱部107の蓄熱性を良好にしてその低消費電力化を容易にすることができる。また、支持基板103の副走査方向における寸法の縮小化を容易にすることができる。   As shown in FIG. 6, such a thermal print head 100 has a structure of a glaze layer 104 raised in a convex shape, thereby improving the adhesion of a recording medium or the like to the heat generating portion 107 and storing heat of the heat generating portion 107. Therefore, it is possible to easily reduce the power consumption. In addition, the size of the support substrate 103 in the sub-scanning direction can be easily reduced.

なお、上記したような構成のサーマルプリントヘッドは特許文献1などに記載されている。
特開2001−301217号公報
A thermal print head having the above-described configuration is described in Patent Document 1 and the like.
JP 2001-301217 A

しかしながら、上述したようなサーマルプリントヘッド100は、その動作における高速化および高画質化に限界が存在する。これは、上述したようにヘッドの主走査方向に延在し一体に形成された厚膜グレーズ層104にあっては薄くしても10数μmが限界であり、蓄熱効果が大きく発熱素子アレイにおける次の印画や近隣の発熱素子の印画での熱履歴制御が複雑化し、素子を高密度にするほど、グレーズ層104の放熱のためにその無印画時間の短縮が難しくなるからである。   However, the thermal print head 100 as described above has limitations in speeding up and high image quality in its operation. This is because, as described above, the thick film glaze layer 104 extending in the main scanning direction of the head and integrally formed has a limit of a few tens of μm even if it is thin. This is because heat history control in the next printing or printing of neighboring heating elements becomes more complicated, and the higher the density of the elements, the more difficult it is to shorten the non-printing time due to the heat radiation of the glaze layer 104.

通常、サーマルプリントヘッドの動作においては、記録媒体への印画時間と無印画時間が存在する。そして、ヘッド動作の高速化のためには、印画時間と共に無印画時間の短縮が必須になる。ここで、一の発熱素子による印画がなされると、発熱によりその周辺のグレーズ層104の温度が上昇し蓄熱が生じる。そして、グレーズ層104は保温層であることから、一の発熱素子の印画に引き続いて行われる次の印画やそれに隣接する他の発熱素子の印画においてその放熱が充分でないと、印画点の切れが劣化し、副走査方向での画質にじみが顕在化し視認されるようになる。このために、特に隣接する発熱素子の印画に対して、グレーズ層104の熱履歴制御として、その放熱を保証するための適宜な無印画時間の確保が必須になり、その無印画時間の短縮が制限されるようになる。   Usually, in the operation of the thermal print head, there are printing time and non-printing time on the recording medium. In order to increase the speed of the head operation, it is essential to shorten the non-printing time as well as the printing time. Here, when printing is performed by one heating element, the temperature of the surrounding glaze layer 104 rises due to heat generation, and heat storage occurs. Since the glaze layer 104 is a heat insulating layer, if the heat radiation is not sufficient in the next printing performed after the printing of one heating element or the printing of another heating element adjacent thereto, the printing point is cut off. As a result, the image quality blur in the sub-scanning direction becomes obvious and is visually recognized. For this reason, it is essential to secure an appropriate non-printing time for guaranteeing heat dissipation as thermal history control of the glaze layer 104, especially for printing of adjacent heating elements, and shortening the non-printing time. Be restricted.

このように、従来のサーマルプリントヘッド100は、高速化と高画質化が難しい構造になっていた。   Thus, the conventional thermal print head 100 has a structure in which it is difficult to achieve high speed and high image quality.

本発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、サーマルプリントヘッドの動作において熱履歴制御のための無印画時間が低減され、その高速化および高画質化が容易になるサーマルプリントヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a thermal print head in which the non-printing time for thermal history control is reduced in the operation of the thermal print head and its high speed and high image quality can be easily achieved. An object is to provide a manufacturing method.

上記目的を達成するために、本発明にかかるサーマルプリントヘッドは、支持基板と、前記支持基板の表面に島状に分離して形成した絶縁体材料から成る複数の保温層と、前記保温層を含む前記支持基板の表面に形成した発熱抵抗体層と、前記発熱抵抗体層上に間隙を設けて形成した電極を複数組配列して成る発熱素子群と、前記電極の間隙部分に露出する前記発熱抵抗体層を前記発熱素子の発熱部とし、該発熱部を少なくとも被覆して前記保温層上および前記支持基板上に積層する保護膜と、を有し、前記発熱部はそれぞれに前記分離した1つの保温層上に形成されている、構成になっている。   In order to achieve the above object, a thermal print head according to the present invention comprises a support substrate, a plurality of heat insulation layers made of an insulating material formed on the surface of the support substrate in an island shape, and the heat insulation layer. A heating resistor layer formed on the surface of the supporting substrate, a heating element group formed by arranging a plurality of electrodes formed with a gap on the heating resistor layer, and the electrode exposed in the gap portion of the electrode The heating resistor layer is used as a heat generating portion of the heat generating element, and includes a protective film that covers at least the heat generating portion and is laminated on the heat insulating layer and the support substrate, and the heat generating portions are separated from each other. The structure is formed on one heat insulating layer.

そして、本発明にかかるサーマルプリントヘッドの製造方法は、支持基板の一主面に絶縁体薄膜を成膜する工程と、前記絶縁体薄膜をエッチングして島状に分離した複数の保温層を形成する工程と、前記保温層および前記支持基板を被覆する発熱抵抗体層および電極膜を重層して堆積させる工程と、前記発熱抵抗体層および前記電極膜を所要のパターンに加工して、それぞれに発熱部を有する複数の発熱素子を形成し、各発熱素子の前記発熱部を前記分離された1つの保温層上に形成する工程と、前記発熱部を少なくとも被覆し、前記保温層上および前記支持基板上に積層する保護膜を形成する工程と、を有する構成になっている。   And the manufacturing method of the thermal print head concerning this invention forms the some heat insulation layer which formed the process of forming an insulator thin film in one main surface of a support substrate, and etched the said insulator thin film into the island shape A step of stacking and depositing a heating resistor layer and an electrode film covering the heat retaining layer and the support substrate, and processing the heating resistor layer and the electrode film into a required pattern, respectively. Forming a plurality of heat generating elements having heat generating parts, and forming the heat generating parts of each heat generating element on the separated one heat insulating layer; covering at least the heat generating parts; and on the heat insulating layer and the support And a step of forming a protective film to be laminated on the substrate.

本発明の構成により、サーマルプリントヘッドの動作において熱履歴制御のための無印画時間が低減され、その高速化および高画質化が容易になるサーマルプリントヘッドおよびその製造方法を提供することができる。   According to the configuration of the present invention, it is possible to provide a thermal print head that can reduce the non-printing time for thermal history control in the operation of the thermal print head, and that can easily increase the speed and improve the image quality, and the manufacturing method thereof.

本発明の実施形態について図1、図2および図3を参照して説明する。ここで、図1はサーマルプリントヘッドの一部を抜き出した一部切截上面図である。図2、図3は、それぞれ図1のX−X矢視およびY−Y矢視の断面図である。以下、互いに同一または類似の部分には共通の符号を付して、重複説明は省略される。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なる。   An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1, FIG. 2, and FIG. Here, FIG. 1 is a partially cut-out top view of a part of the thermal print head extracted. 2 and 3 are cross-sectional views taken along arrows XX and YY in FIG. 1, respectively. Hereinafter, the same or similar parts are denoted by common reference numerals, and redundant description is omitted. However, the drawings are schematic and ratios of dimensions and the like are different from actual ones.

図1,2に示すように、サーマルプリントヘッド10では、放熱基板11の主面上に抵抗体基板部12Aおよび駆動回路基板部12Bが隣接して設けられている。この抵抗体基板部12Aでは、放熱基板11の主面上にAl23(アルミナ)等の耐熱性および熱伝導性のよい支持基板13が貼着されている。そして、薄膜の分離状保温層14が支持基板13上の主走査方向に沿って島状に配設されている。ここで、分離状保温層14は、図1および図3に示されるように、支持基板13上の主走査方向に延在して一体に配設されていた従来の場合のグレーズ層104とは異なり、互いに隣接する発熱素子間において分離するように形成される。この分離状保温層14表面および支持基板13表面を被覆して発熱抵抗体層15が形成されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, in the thermal print head 10, a resistor substrate portion 12 </ b> A and a drive circuit substrate portion 12 </ b> B are provided adjacent to each other on the main surface of the heat dissipation substrate 11. In the resistor substrate portion 12 </ b > A, a support substrate 13 having good heat resistance and thermal conductivity such as Al 2 O 3 (alumina) is attached to the main surface of the heat dissipation substrate 11. A thin film-shaped heat insulating layer 14 is arranged in an island shape along the main scanning direction on the support substrate 13. Here, as shown in FIGS. 1 and 3, the separated heat retaining layer 14 extends in the main scanning direction on the support substrate 13 and is integrated with the conventional glaze layer 104. In contrast, the heating elements adjacent to each other are formed so as to be separated from each other. A heating resistor layer 15 is formed so as to cover the surface of the separated heat insulating layer 14 and the surface of the support substrate 13.

従来の技術で説明したのと同様に、発熱抵抗体層15に重層して電気接続する第1の電極16aおよび第2の電極16bが間隙Gを挟んで対向して配置されている。この間隙Gで露出する発熱抵抗体層15が発熱部17となる。このようにして、発熱素子の発熱部17はそれぞれに分離した分離状保温層14上に形成される。そして、第1の電極16aと第2の電極16bから成る一対の電極16および発熱部17を1つの発熱素子として、サーマルプリントヘッドの主走査方向に、所定数例えば2056個の発熱素子アレイが一列に配置される。ここで、1つの発熱素子はいわゆる1ビット構成の発熱部17を有する。そして、後述するボンディングワイヤー接続のために一対の電極16の縁端部が露出され全体が熱伝導性のよい保護膜18により被覆されている。   Similar to the description in the prior art, the first electrode 16a and the second electrode 16b, which are overlapped and electrically connected to the heating resistor layer 15, are arranged to face each other with the gap G interposed therebetween. The heating resistor layer 15 exposed in the gap G becomes the heating portion 17. In this way, the heat generating portions 17 of the heat generating elements are formed on the separate heat insulating layers 14 separated from each other. A pair of electrodes 16 including the first electrode 16a and the second electrode 16b and the heat generating portion 17 are used as one heat generating element, and a predetermined number, for example, 2056 heat generating element arrays are arranged in a row in the main scanning direction of the thermal print head. Placed in. Here, one heat generating element has a heat generating portion 17 having a so-called 1-bit configuration. And the edge part of a pair of electrode 16 is exposed for the bonding wire connection mentioned later, and the whole is coat | covered with the protective film 18 with good heat conductivity.

駆動回路基板部12Bは、放熱基板11に貼着した駆動回路基板19を有し、その基板表面に回路パターン等が形成され、駆動IC20等が搭載されている。この駆動IC20と上記一対の電極16および上記回路パターンとの間はボンディングワイヤーWで電気的に接続され、ボンディングワイヤーWおよび駆動IC20は例えばエポキシ樹脂から成る封止材21によって気密封止されている。   The drive circuit board portion 12B has a drive circuit board 19 adhered to the heat dissipation board 11, a circuit pattern or the like is formed on the surface of the board, and a drive IC 20 or the like is mounted. The drive IC 20 and the pair of electrodes 16 and the circuit pattern are electrically connected by a bonding wire W, and the bonding wire W and the drive IC 20 are hermetically sealed by a sealing material 21 made of, for example, epoxy resin. .

上記サーマルプリントヘッド10を用いた記録媒体への画像形成では、その記録媒体が、発熱部17領域上の保護膜18といわゆるプラテンローラとの間で挟圧され、副走査方向に所定の速度で搬送される。ここで、特定の発熱素子の第1の電極16aが選択されて接地電位にされ、例えば数十Vに印加されている共通電極の第2の電極16bとの間で通電が行われて、その発熱部17が発熱する。そして、上記搬送において、例えば感熱記録媒体が発熱部17により加熱され、その熱により記録媒体が印画される。   In forming an image on a recording medium using the thermal print head 10, the recording medium is sandwiched between a protective film 18 on the heat generating portion 17 area and a so-called platen roller, and at a predetermined speed in the sub-scanning direction. Be transported. Here, the first electrode 16a of the specific heating element is selected and set to the ground potential, and for example, energization is performed with the second electrode 16b of the common electrode applied to several tens of volts. The heat generating part 17 generates heat. In the conveyance, for example, the heat-sensitive recording medium is heated by the heat generating unit 17, and the recording medium is printed by the heat.

上記サーマルプリントヘッド10において、放熱基板11は例えばAl(アルミニウム)金属から成り、支持基板13は、通常、耐熱性を有する絶縁体材料から成る支持基板であり、アルミナセラミックスの他に、シリコン、石英、炭化珪素等により構成される。そして、この支持基板13は熱伝導性のよい両面テープ、シリコーン等の樹脂製の接着剤により放熱基板11表面に貼着される。   In the thermal print head 10, the heat dissipation substrate 11 is made of, for example, Al (aluminum) metal, and the support substrate 13 is usually a support substrate made of an insulating material having heat resistance, and in addition to alumina ceramics, silicon, quartz And silicon carbide. And this support substrate 13 is affixed on the surface of the thermal radiation board | substrate 11 with resin adhesives, such as a double-sided tape with good heat conductivity, and silicone.

上記分離状保温層14は、発熱部17の発する熱の適度な蓄熱、および熱放散の作用を有し、表面平滑性のある絶縁体材料から成る絶縁体薄膜である。このような分離状保温層14としては、例えばSiO膜(シリコン酸化膜)、SiON膜(シリコン酸窒化膜)あるいはSiN膜(シリコン窒化膜)が挙げられる。ここで、これ等の絶縁体薄膜は10μm以下の膜厚が好ましい。このような膜厚であると熱容量が小さくなり、サーマルプリントヘッドの動作おいても従来技術のような蓄熱の問題は発生せずその高速化が容易になる。なお、分離状保温層14にその熱伝導率を高める金属微粒子のような添加物が微量に混在しても構わない。 The separated heat retaining layer 14 is an insulating thin film made of an insulating material having an appropriate heat storage and heat dissipation action of the heat generated by the heat generating portion 17 and having surface smoothness. Examples of such a separated heat insulating layer 14 include a SiO 2 film (silicon oxide film), a SiON film (silicon oxynitride film), and a SiN film (silicon nitride film). Here, these insulating thin films preferably have a thickness of 10 μm or less. With such a film thickness, the heat capacity is reduced, and even in the operation of the thermal print head, the problem of heat storage as in the prior art does not occur and the speeding up is facilitated. Note that a small amount of an additive such as metal fine particles that increase the thermal conductivity may be mixed in the separated heat insulating layer 14.

上記発熱抵抗体層15は、例えばTaSiO、NbSiO、TaSiNO、TiSiCO系の電気抵抗体材料から成る。そして、第1の電極16aおよび第2の電極16bの通電用電極となる一対の電極16は低抵抗になるほど好ましく、例えば、Al、Cu(銅)あるいはAlCu合金等の金属を主材料に構成される。   The heating resistor layer 15 is made of, for example, a TaSiO, NbSiO, TaSiNO, or TiSiCO based electric resistor material. The pair of electrodes 16 serving as energization electrodes for the first electrode 16a and the second electrode 16b are preferably as low as possible. For example, the main material is a metal such as Al, Cu (copper), or an AlCu alloy. The

そして、保護膜18は、SiO膜、SiN膜、SiON膜あるいはSiC膜(炭化ケイ素膜)等の硬質で緻密な熱伝導性のある絶縁体材料から成る。ここで、保護膜18の最表面に少なくともSi(シリコン)と炭素(C)が含まれていると熱伝導性が高くなり好適である。この保護膜18は、発熱素子アレイの一対の電極16および発熱部17を被覆し記録媒体の圧接あるいは摺接による磨耗、並びに大気中に含まれている水分等の接触による腐食から保護する機能を有する。さらにこの保護層の表面に除電を兼ねるTiN膜などの耐磨耗層を設けることができる。 The protective film 18 is made of a hard and dense insulating material such as a SiO 2 film, a SiN film, a SiON film, or a SiC film (silicon carbide film). Here, when at least Si (silicon) and carbon (C) are contained in the outermost surface of the protective film 18, the thermal conductivity is increased, which is preferable. The protective film 18 covers the pair of electrodes 16 and the heat generating portion 17 of the heat generating element array, and protects against wear caused by pressure contact or sliding contact of the recording medium, and corrosion due to contact with moisture contained in the atmosphere. Have. Furthermore, a wear-resistant layer such as a TiN film that also serves as a static elimination can be provided on the surface of the protective layer.

次に、上記サーマルプリントヘッド10の製造方法について述べる。先ず、アルミナからなり副走査方向の幅が数mm程度、板厚が0.5mm〜1mmの細長の支持基板13を用意する。そして、スパッタ装置、真空蒸着装置、CVD装置あるいはその他の成膜装置により、膜厚が1μm〜10μmたとえば5μmのSiO膜、SiON膜あるいはSiN膜等の絶縁体薄膜を支持基板13表面に堆積させる。次に、フォトリソグラフィ技術によるエッチングマスクの作製およびこのエッチングマスクを用いた選択的なエッチング、すなわちフォトエングレービングプロセスにより、成膜した上記絶縁体薄膜を島状に加工し、互いに分離した複数の分離状保温層14を形成する。ここで、絶縁体薄膜はSiO膜、SiON膜あるいはSiN膜から選択された積層構造に形成されていてもよい。 Next, a method for manufacturing the thermal print head 10 will be described. First, an elongated support substrate 13 made of alumina and having a width of about several mm in the sub-scanning direction and a thickness of 0.5 mm to 1 mm is prepared. Then, an insulating thin film such as a SiO 2 film, a SiON film, or a SiN film having a film thickness of 1 μm to 10 μm, for example, 5 μm is deposited on the surface of the support substrate 13 by a sputtering apparatus, a vacuum evaporation apparatus, a CVD apparatus, or other film forming apparatuses. . Next, the insulating thin film thus formed is processed into an island shape by a photolithographic technique and a selective etching using the etching mask, that is, a photo-engraving process. A separate heat insulating layer 14 is formed. Here, the insulator thin film may be formed in a laminated structure selected from a SiO 2 film, a SiON film, or a SiN film.

ここで、上記絶縁体薄膜の選択的エッチングはウェットエッチングで行うと好適である。このウェットエッチングにより分離状保温層14の端部の断面形状がテーパー状に形成される。分離状保温層14の端部がテーパー状であると、その上部に配設される薄い発熱抵抗体層15と一対の電極16の段切れ防止が保証され、サーマルプリントヘッド10の高い製造歩留まりが得られる。   Here, the selective etching of the insulator thin film is preferably performed by wet etching. By this wet etching, the cross-sectional shape of the end portion of the separated heat insulating layer 14 is tapered. If the end portion of the separated heat insulating layer 14 is tapered, the thin heating resistor layer 15 and the pair of electrodes 16 disposed thereon are prevented from being disconnected, and a high manufacturing yield of the thermal print head 10 is achieved. can get.

また、スパッタ装置等の成膜装置により堆積された絶縁体薄膜は、従来技術のようなスクリーン印刷法による成膜と異なり、その表面が平滑であり、しかも、その膜厚が均一に薄く制御できる。このために、この絶縁体薄膜を用いて形成する分離状保温層14の微細なパターニングが容易になる。   In addition, an insulator thin film deposited by a film forming apparatus such as a sputtering apparatus has a smooth surface and can be controlled to have a thin film thickness unlike a film formed by a screen printing method as in the prior art. . For this reason, fine patterning of the separated heat insulating layer 14 formed using this insulator thin film is facilitated.

次に、分離状保温層14表面および支持基板13表面上に、例えばスパッタ法により膜厚が0.08μm程度のTaSiO膜を成膜し、引き続いて、スパッタ法により上記発熱抵抗体層15を被覆して例えば膜厚が0.8μ程度のAl膜、AlCu合金膜等の電極膜を成膜する。そして、フォトリソグラフィプロセスにより、発熱素子アレイの通電用電極になる第1の電極16aおよび第2の電極16bと発熱抵抗体層15をパターニング形成する。更に、フォトリソグラフィプロセスにより、上記電極膜をエッチングして間隙Gを形成し発熱部17を形成する。このようにして、各発熱素子の発熱部17はそれぞれに分離した分離状保温層14上に形成される。 Next, a TaSiO 2 film having a thickness of about 0.08 μm is formed on the surface of the separated heat retaining layer 14 and the surface of the support substrate 13 by, for example, a sputtering method, and then the heating resistor layer 15 is formed by a sputtering method. For example, an electrode film such as an Al film or an AlCu alloy film having a film thickness of about 0.8 μm is formed. Then, the first electrode 16a and the second electrode 16b, which serve as energization electrodes of the heating element array, and the heating resistor layer 15 are patterned by a photolithography process. Further, the electrode film is etched by the photolithography process to form the gap G and the heat generating portion 17 is formed. In this way, the heat generating portions 17 of the respective heat generating elements are formed on the separate heat insulating layers 14 separated from each other.

その後、スパッタ法により全面を被覆する保護膜18を成膜する。ここで、保護膜18は、例えば膜厚が5μm〜10μm程度に堆積される。   Thereafter, a protective film 18 that covers the entire surface is formed by sputtering. Here, the protective film 18 is deposited to a film thickness of, for example, about 5 μm to 10 μm.

次に、上記抵抗体基板部12Aおよび例えばベアチップの駆動IC20が予め組み込まれている駆動回路基板部12Bをアルミ板等から成る放熱基板11上に接着剤を介して載置し固着させる。そして、発熱素子アレイの全ての通電用電極を駆動IC20の出力側のボンディンブパッドに例えばAl線あるいはAu線から成るボンディングワイヤーWで電気接続する。また、駆動IC20の入力側のボンディンブパッドを駆動回路基板19の回路パターンにボンディングワイヤーWで電気接続する。最後に、周知の実装技術により駆動IC20およびボンディングワイヤーWを封止材21により気密封止する。このようにして、本実施形態のサーマルプリントヘッド10が出来上がる。   Next, the resistor substrate portion 12A and a drive circuit substrate portion 12B in which, for example, a bare chip drive IC 20 is incorporated in advance are placed and fixed on the heat dissipation substrate 11 made of an aluminum plate or the like via an adhesive. Then, all the energization electrodes of the heating element array are electrically connected to the bonding pads on the output side of the driving IC 20 with bonding wires W made of, for example, Al wires or Au wires. Further, the bonding pad on the input side of the driving IC 20 is electrically connected to the circuit pattern of the driving circuit board 19 by the bonding wire W. Finally, the driving IC 20 and the bonding wire W are hermetically sealed with the sealing material 21 by a known mounting technique. Thus, the thermal print head 10 of this embodiment is completed.

本実施形態では、サーマルプリントヘッド10は、その主走査方向に配置された高密度例えば素子密度20本/mm、2056個の発熱素子アレイの各発熱素子の発熱部17がそれぞれに分離された分離状保温層14上に形成される構造になる。このような構造であると、発熱素子アレイの発熱素子の印画において、隣接する発熱素子による蓄熱の影響がほとんど無くなる。そして、従来技術で説明したような熱履歴制御すなわちその放熱を保証するための適宜な無印画時間の確保が不要になり、隣接する発熱素子を印画する場合の無印画時間の短縮が可能になる。   In this embodiment, the thermal print head 10 is separated in which the heat generating portions 17 of the respective heat generating elements of the high density, for example, element density 20 / mm, 2056 heat generating element arrays arranged in the main scanning direction are separated. The structure is formed on the heat insulating layer 14. With such a structure, in the printing of the heating elements of the heating element array, there is almost no influence of heat storage by the adjacent heating elements. Further, it is not necessary to control the thermal history as described in the prior art, that is, to secure an appropriate non-printing time for guaranteeing the heat dissipation, and it is possible to shorten the non-printing time when printing adjacent heating elements. .

また、本実施形態のサーマルプリントヘッド10では、分離状保温層14は、その膜厚が10μmを超えないように簡便にできることから、その蓄熱容量が従来技術のグレーズ層104の場合よりも例えば1/10程度と大幅に低減する。このために、各発熱素子の発熱部17は短時間で印画のための所要温度に昇温するようになる。また、分離状保温層14の迅速な放熱が容易になる。このようにして、発熱素子における印画時間の短縮が容易になる。   Moreover, in the thermal print head 10 of this embodiment, since the separated heat insulating layer 14 can be simplified so that the film thickness does not exceed 10 μm, the heat storage capacity thereof is, for example, 1 than that of the conventional glaze layer 104. This is a significant reduction to about / 10. For this reason, the heat generating portion 17 of each heat generating element is heated to a required temperature for printing in a short time. Moreover, rapid heat dissipation of the separated heat insulating layer 14 is facilitated. In this way, it is easy to shorten the printing time in the heating element.

そして、分離状保温層14の放熱が充分に行えることから、印画点の切れが向上し、副走査方向での画質にじみが無くなる。以上のようにして、本実施形態のサーマルプリントヘッド10は、その動作における高速化と高画質化が可能になる。   Since the separated heat retaining layer 14 can sufficiently dissipate heat, the cutout of the print points is improved and the image quality blur in the sub-scanning direction is eliminated. As described above, the thermal print head 10 according to the present embodiment can increase the operation speed and improve the image quality.

次に、本発明の他の実施形態について図4を参照して説明する。この実施形態のサーマルプリントヘッド10aでは、その主走査方向に配置された所定数例えば2056個の発熱素子アレイにおいて、一対の発熱素子の発熱部17a,17bに分離状保温層14がそれぞれに形成される。ここで、図4は他の実施形態にかかるサーマルプリントヘッド10aの一部を抜き出した一部切截上面図である。   Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the thermal print head 10a of this embodiment, in a predetermined number, for example, 2056 heating element arrays arranged in the main scanning direction, the separate heat insulating layers 14 are respectively formed in the heating portions 17a and 17b of the pair of heating elements. The Here, FIG. 4 is a partially cut-out top view of a part of the thermal print head 10a according to another embodiment.

図4に示すように、サーマルプリントヘッド10aは、第1の実施形態で説明したのと同様な構造になっているが、1つの発熱素子がいわゆる2ビット構成の発熱部17a、17bを有する点が第1の実施形態の場合の1ビット構成と異なっている。   As shown in FIG. 4, the thermal print head 10a has the same structure as that described in the first embodiment, but one heating element has heating portions 17a and 17b having a so-called 2-bit configuration. Is different from the 1-bit configuration in the first embodiment.

図4に示されるように、サーマルプリントヘッド10aでは、その抵抗体基板部12Aにおいて、放熱基板11の主面上に支持基板13が貼着され、分離状保温層14が支持基板13上の主走査方向に沿って島状に配設されている。ここで、分離状保温層14は、2ビット構成の発熱素子間において分離されるように形成される。   As shown in FIG. 4, in the thermal print head 10 a, in the resistor substrate portion 12 </ b> A, the support substrate 13 is stuck on the main surface of the heat dissipation substrate 11, and the separated heat insulating layer 14 is the main substrate on the support substrate 13. It is arranged in an island shape along the scanning direction. Here, the separated heat retaining layer 14 is formed so as to be separated between the heating elements having a 2-bit configuration.

すなわち、この分離状保温層14表面および支持基板13表面を被覆して発熱抵抗体層15が形成される。また、発熱抵抗体層15に重層して電気接続する折り返し電極構造の第1の電極16a、第2の電極16bおよび第3の電極16cが通電用電極として配置されている。そして、第1の電極16aと第3の電極16cの間隙、第2の電極16bと第3の電極16cの間隙で露出する発熱抵抗体層15が2ビットの発熱部17a、17bを構成する。このようにして、2ビット構成の1つの発熱素子の発熱部17aおよび17bはそれぞれに分離した分離状保温層14上に形成されるようになる。そして、サーマルプリントヘッドの主走査方向に、このような2ビット構成の発熱素子が所定数例えば2056個一列に配置される。なお、その他の構造は第1の実施形態で説明したのと同じである。   That is, the heating resistor layer 15 is formed by covering the surface of the separated heat insulating layer 14 and the surface of the support substrate 13. In addition, a first electrode 16a, a second electrode 16b, and a third electrode 16c having a folded electrode structure that is layered and electrically connected to the heating resistor layer 15 are arranged as energization electrodes. The heating resistor layer 15 exposed in the gap between the first electrode 16a and the third electrode 16c and the gap between the second electrode 16b and the third electrode 16c constitutes the 2-bit heating portions 17a and 17b. In this manner, the heat generating portions 17a and 17b of one heat generating element having a 2-bit configuration are formed on the separate heat insulating layers 14 separated from each other. Then, a predetermined number of, for example, 2056 heating elements having such a 2-bit configuration are arranged in a row in the main scanning direction of the thermal print head. Other structures are the same as those described in the first embodiment.

上記サーマルプリントヘッド10aを用いた記録媒体への画像形成では、特定の発熱素子の第1の電極16aが選択されて接地電位にされ、その第2の電極16bが例えば数十Vに印加され、これ等の一対の電極間で通電が行われて、その発熱部17a、17bが発熱する。そして、第1の実施形態で説明したのと同様に記録媒体が圧送され、上記2ビット構成の発熱部17a、17bにより加熱されて印画される。   In image formation on a recording medium using the thermal print head 10a, the first electrode 16a of a specific heating element is selected and set to the ground potential, and the second electrode 16b is applied to, for example, several tens of volts. Energization is performed between the pair of electrodes, and the heat generating portions 17a and 17b generate heat. Then, the recording medium is pumped in the same manner as described in the first embodiment, and is heated and printed by the heat generating portions 17a and 17b having the 2-bit configuration.

この実施形態のサーマルプリントヘッド10aでは、上述した実施形態の場合と全く同様な分離状保温層14の効果により、その動作の高速化および高画質化が容易になる。   In the thermal print head 10a of this embodiment, the operation speed and image quality can be easily improved by the effect of the separate heat insulating layer 14 which is exactly the same as that of the above-described embodiment.

その他の実施形態として、分離状保温層14は、サーマルプリントヘッド10の主走査方向に配置された所定数例えば2056個の発熱素子アレイにおいて、一組あるいはそれ以上の複数の発熱素子の発熱部17が1つの島状の分離状保温層14上に形成される構造になっていても構わない。このような態様では、異なる分離状保温層14上に発熱部17が形成された発熱素子間における熱履歴制御は不要になるが、同一の分離状保温層14に発熱部17が形成されている発熱素子間の熱履歴制御は必要となる。しかし、この場合であっても、従来技術の場合に較べて、熱履歴制御のための無印画時間は短縮され、ヘッドの動作の高速化および高画質化が容易になる。   As another embodiment, the separated heat insulating layer 14 is a predetermined number of, for example, 2056 heating element arrays arranged in the main scanning direction of the thermal print head 10, and the heating portions 17 of one or more heating elements. May be formed on one island-shaped separated heat insulating layer 14. In such an embodiment, the heat history control between the heat generating elements in which the heat generating portions 17 are formed on the different separated heat retaining layers 14 is not necessary, but the heat generating portions 17 are formed in the same separated heat retaining layer 14. Thermal history control between the heating elements is necessary. However, even in this case, the non-printing time for the thermal history control is shortened as compared with the case of the prior art, and the speeding up of the operation of the head and the high image quality are facilitated.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、上述した実施形態は本発明を限定するものでない。当業者にあっては、具体的な実施態様において本発明の技術思想および技術範囲から逸脱せずに種々の変形・変更を加えることが可能である。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the above-described embodiments do not limit the present invention. Those skilled in the art can make various modifications and changes in specific embodiments without departing from the technical idea and technical scope of the present invention.

例えば、上記駆動回路基板部12Bは、抵抗体基板部12Aと同一の支持基板13上に形成する構造であってもよい。また、上記実施形態にあっては、この駆動回路基板部12Bはサーマルプリントヘッド10,10aとは別のところに配置されても構わない。例えば、記録機器の制御装置に取り付けられて例えば駆動IC20の出力がフレキシブル配線板の回路配線を通って抵抗体基板部12Aに伝送されるようになっていてもよい。   For example, the drive circuit board portion 12B may be formed on the same support substrate 13 as the resistor substrate portion 12A. In the above embodiment, the drive circuit board portion 12B may be arranged at a location different from the thermal print heads 10 and 10a. For example, it may be attached to a control device of a recording device, and for example, the output of the drive IC 20 may be transmitted to the resistor substrate portion 12A through the circuit wiring of the flexible wiring board.

また、放熱基板への支持基板13および駆動回路基板19の貼着は、それぞれ異なる接着剤を用いて行うようにしてもよい。これは、支持基板13および駆動回路基板19が異なる熱膨張係数を有する場合に、クラックによる破損等を防止する上で好ましくなる。   Further, the support substrate 13 and the drive circuit substrate 19 may be attached to the heat dissipation substrate using different adhesives. This is preferable for preventing breakage due to cracks when the support substrate 13 and the drive circuit substrate 19 have different thermal expansion coefficients.

本発明の実施形態を説明するためのサーマルプリントヘッドの一部を抜き出した一部切截上面図。FIG. 2 is a partially cut-out top view of a part of a thermal print head for explaining an embodiment of the present invention. 図1のX−X矢視の拡大横断面図。The expanded cross-sectional view of the XX arrow of FIG. 図1のY−Y矢視の拡大横断面図。The enlarged cross-sectional view of the YY arrow of FIG. 本発明の別の実施形態を説明するためのサーマルプリントヘッドの一部を抜き出した一部切截上面図。The partially cut-out top view which extracted a part of thermal print head for demonstrating another embodiment of this invention. 従来の技術にかかるサーマルプリントヘッドの一部を抜き出した一部切截上面図。The partially cut-out top view which extracted a part of thermal print head concerning the prior art. 図5のZ−Z矢視の拡大横断面図。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view taken along the line ZZ in FIG. 5.

符号の説明Explanation of symbols

10,10a…サーマルプリントヘッド,11…放熱基板,12A…抵抗体基板部,12B…駆動回路基板部,13…支持基板,14…分離状保温層,15…発熱抵抗体層,16a…第1の電極,16b…第2の電極,16c…第3の電極,17,17a,17b…発熱部,18…保護膜,19…駆動回路基板,20…駆動IC,21…封止材,G…間隙,W… ボンディングワイヤー   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10a ... Thermal print head, 11 ... Heat dissipation board, 12A ... Resistor board part, 12B ... Drive circuit board part, 13 ... Support board, 14 ... Separate heat insulation layer, 15 ... Heating resistor layer, 16a ... 1st 16b ... second electrode, 16c ... third electrode, 17, 17a, 17b ... heating portion, 18 ... protective film, 19 ... drive circuit board, 20 ... drive IC, 21 ... sealing material, G ... Gap, W ... Bonding wire

Claims (4)

支持基板と、
前記支持基板の表面に島状に分離して形成した絶縁体材料から成る複数の保温層と、
前記保温層を含む前記支持基板の表面に形成した発熱抵抗体層と、
前記発熱抵抗体層上に間隙を設けて形成した電極を複数組配列して成る発熱素子群と、
前記電極の間隙部分に露出する前記発熱抵抗体層を前記発熱素子の発熱部とし、該発熱部を少なくとも被覆して前記保温層上および前記支持基板上に積層する保護膜と、
を有し、
前記発熱部はそれぞれに前記分離した1つの保温層上に形成されていることを特徴とするサーマルプリントヘッド。
A support substrate;
A plurality of heat insulating layers made of an insulating material formed in an island shape on the surface of the support substrate;
A heating resistor layer formed on the surface of the support substrate including the heat retaining layer;
A heating element group formed by arranging a plurality of sets of electrodes formed with a gap on the heating resistor layer;
The heating resistor layer exposed in the gap portion of the electrode is used as a heating part of the heating element, and a protective film that covers at least the heating part and is laminated on the heat retaining layer and the support substrate;
Have
The thermal print head according to claim 1, wherein each of the heat generating portions is formed on the separated heat insulating layer.
前記保温層の端部の断面形状がテーパー状になっていることを特徴とする請求項1に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 1, wherein a cross-sectional shape of an end portion of the heat retaining layer is tapered. 前記保温層の膜厚は10μmを越えないことを特徴とする請求項1又は2に記載のサーマルプリントヘッド。   The thermal print head according to claim 1 or 2, wherein the film thickness of the heat insulating layer does not exceed 10 m. 支持基板の一主面に絶縁体薄膜を成膜する工程と、
前記絶縁体薄膜をエッチングして島状に分離した複数の保温層を形成する工程と、
前記保温層および前記支持基板を被覆する発熱抵抗体層および電極膜を重層して堆積させる工程と、
前記発熱抵抗体層および前記電極膜を所要のパターンに加工して、それぞれに発熱部を有する複数の発熱素子を形成し、各発熱素子の前記発熱部を前記分離された1つの保温層上に形成する工程と、
前記発熱部を少なくとも被覆し、前記保温層上および前記支持基板上に積層する保護膜を形成する工程と、
を有することを特徴とするサーマルプリントヘッドの製造方法。
Forming an insulator thin film on one main surface of the support substrate;
Etching the insulator thin film to form a plurality of heat insulating layers separated into islands;
A step of stacking and depositing a heating resistor layer and an electrode film covering the heat retaining layer and the support substrate;
The heat generating resistor layer and the electrode film are processed into a required pattern to form a plurality of heat generating elements each having a heat generating portion, and the heat generating portions of the heat generating elements are formed on the separated heat insulating layer. Forming, and
Forming a protective film that covers at least the heat generating portion and is laminated on the heat retaining layer and the support substrate;
A method for manufacturing a thermal printhead, comprising:
JP2007236664A 2007-09-12 2007-09-12 Thermal print head and method for manufacturing the same Withdrawn JP2009066854A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007236664A JP2009066854A (en) 2007-09-12 2007-09-12 Thermal print head and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007236664A JP2009066854A (en) 2007-09-12 2007-09-12 Thermal print head and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009066854A true JP2009066854A (en) 2009-04-02

Family

ID=40603636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007236664A Withdrawn JP2009066854A (en) 2007-09-12 2007-09-12 Thermal print head and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009066854A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109484036A (en) * 2017-09-13 2019-03-19 青井电子株式会社 Thermal head
CN113386469A (en) * 2020-03-11 2021-09-14 深圳市博思得科技发展有限公司 Thermal print head and method of manufacturing the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109484036A (en) * 2017-09-13 2019-03-19 青井电子株式会社 Thermal head
CN113386469A (en) * 2020-03-11 2021-09-14 深圳市博思得科技发展有限公司 Thermal print head and method of manufacturing the same
CN113386469B (en) * 2020-03-11 2022-07-01 深圳市博思得科技发展有限公司 Thermal print head and method of manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6181244B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
JP6371529B2 (en) Thermal print head, thermal printer
JP5836825B2 (en) Thermal head and thermal printer equipped with the same
JP6367962B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2012066476A (en) Thermal head
JP5322509B2 (en) Thermal print head
JP5080335B2 (en) Thermal print head
JP2009066854A (en) Thermal print head and method for manufacturing the same
JP6526198B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP5802032B2 (en) Thermal print head
JP5595697B2 (en) Thermal head
JP6219409B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2008001062A (en) Thermal print head
JP6525819B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP5329887B2 (en) Thermal head
JP7444972B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP6208607B2 (en) Thermal head, thermal head manufacturing method, and thermal printer
JP6971870B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2013202862A (en) Thermal print head
JP5260038B2 (en) Thermal print head and manufacturing method thereof
JP4969600B2 (en) Thermal print head
JP2018167439A (en) Thermal head and thermal printer
JP6426541B2 (en) Thermal head and thermal printer
JP2009166339A (en) Thermal printing head
JP4666972B2 (en) Thermal head and thermal printer using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20101207