JP2010153681A5 - - Google Patents

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上記目的は、内部の処理室内に処理用ガスが供給されプラズマが形成されてこの処理室内に配置されたウエハが処理される真空容器と、この真空容器と連結され前記ウエハが減圧された内部の搬送室内を搬送される真空搬送容器とを備えた真空処理装置であって、前記真空搬送容器の蓋の前記搬送室側の表面に貼り付けられた耐プラズマ性を有する樹脂性のフィルムとを備え、前記フィルムは、前記蓋に貼り付けられる前の状態でその貼り付け面にこのフィルムの一端から他端まで延在する複数の溝を備えて、貼り付け後に前記溝の内側面が前記蓋の表面に密着したことにより達成される。

Claims (5)

  1. 内部の処理室内に処理用ガスが供給されプラズマが形成されてこの処理室内に配置されたウエハが処理される真空容器と、この真空容器と連結され前記ウエハが減圧された内部の搬送室内を搬送される真空搬送容器とを備えた真空処理装置であって、
    前記真空搬送容器の蓋の前記搬送室側の表面に貼り付けられた耐プラズマ性を有する樹脂性のフィルムとを備え、
    前記フィルムは、前記蓋に貼り付けられる前の状態でその貼り付け面にこのフィルムの一端から他端まで延在する複数の溝を備えて、貼り付け後に前記溝の内側面が前記蓋の表面に密着した真空処理装置。
  2. 請求項１に記載の真空処理装置であって、前記蓋はその外周縁部が前記真空搬送容器本体と接続されて指示される板状の部材である真空処理装置。
  3. 請求項１または２に記載の真空処理装置であって、前記蓋の中央部の前記搬送室側の表面を前記フィルムが配置された真空処理装置。
  4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の真空処理装置であって、前記フィルムがポリイミドまたはポリエステルを主成分とする樹脂から構成された真空搬送装置。
  5. 請求項１乃至４のいずれかに記載の真空処理装置であって、前記蓋が接地電位にされ、前記フィルムが前記蓋との間で導通性を備えた真空処理装置。
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