JP2010147041A - Substrate manufacture transfer facility - Google Patents
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Description
本発明は基板製造移送設備に関し、より詳細には、基板を搬入、移送、および搬出する移送装置とその移送速度を制御する制御装置に関する。 The present invention relates to a substrate manufacturing transfer facility, and more particularly to a transfer device for carrying in, transferring and unloading a substrate and a control device for controlling the transfer speed.
多数の電子部品が実装された基板を製造するため、所定の製造工程を施す基板製造移送設備を列設して基板製造ラインを構築することが一般的になっている。基板製造移送設備の間は中間移送装置で連結される構成が多いが、設備同士が直結される構成もある。基板製造移送設備には、基板にクリーム状のはんだを塗布するスクリーン印刷機や、基板上に電子部品を載置する部品実装機、はんだを固着させるリフロー機、電子部品の実装状態を検査する検査機などがある。各基板製造移送設備は、製造工程を実施する主たる工程実施装置に加えて、基板を搬入端から工程実施位置を経て搬出端に移送する工程移送装置を備えるのが一般的である。この工程移送装置では、基板を工程実施位置に正確に停止させることが重要であり、本願出願人は特許文献1に基板停止位置制御方法および装置の例を開示している。特許文献1では、基板をその大きさに応じた固有移動距離だけ移送して目標位置に停止させるとともに、基板カメラで位置ズレ量を求めている。
In order to manufacture a substrate on which a large number of electronic components are mounted, it has become common to construct a substrate manufacturing line by arranging substrate manufacturing transfer equipment for performing a predetermined manufacturing process. There are many configurations in which the substrate manufacturing and transfer facilities are connected by an intermediate transfer device, but there are also configurations in which the facilities are directly connected. For board manufacturing and transfer equipment, screen printing machines that apply cream-like solder to boards, component mounting machines that place electronic components on boards, reflow machines that fix solder, inspections that check the mounting status of electronic components There are machines. In general, each substrate manufacturing / transferring facility includes a process transfer device that transfers a substrate from the carry-in end to the carry-out end through the process execution position, in addition to the main process execution device that performs the manufacturing process. In this process transfer apparatus, it is important to accurately stop the substrate at the process execution position, and the applicant of the present application discloses an example of a substrate stop position control method and apparatus in
特許文献1に限らず基板製造移送設備内の工程移送装置では、停止位置を正確に制御しかつ工程所要時間を短縮するために移送速度は可変とされ、さらに、基板の位置に応じて移送速度を制御する制御装置が付属されるのが一般的である。一方、基板製造移送設備の間を連結する中間移送装置には、一定の移送速度での移送と停止のみの切り替えが可能な簡易装置が多用されている。これら設備内外の移送装置には、基板を載置して輪転するコンベア装置が一般的に用いられる。可変速の設備内移送装置と一定速の中間移送装置とが混在する製造ラインにおいては従来、前者の移送速度を後者のそれに一致させ、搬入および搬出に際して基板が乗り移るとき速度差が生じないようにしている。また、中間移送装置を介さない直結構成を含む製造ラインにおいては、最も低速の工程移送装置にあわせて他の工程移送装置を制御している。仮に速度差があると、移送装置間を乗り移る基板にショックが加わり、基板上に載置された電子部品に瞬間的な荷重が加わって位置ずれが生じたりするおそれがあるからである。
ところで、上記の従来の技術では、可変速の設備内移送装置の移送速度は、上流側および下流側の中間移送装置の移送速度に制約されて、低く設定されていた。また、中間移送装置を介さない直結構成においては、最も低速の工程移送装置によって製造ラインの移送速度が制約されていた。したがって、高速の移送速度の機能を有する工程移送装置では、その機能が活かされずに、設備内での基板の移送に多くの所要時間を費やしていた。 By the way, in the above-described conventional technology, the transfer speed of the variable speed in-facility transfer device is set to be low, constrained by the transfer speed of the upstream and downstream intermediate transfer devices. Moreover, in the direct connection configuration without the intermediate transfer device, the transfer speed of the production line is restricted by the slowest process transfer device. Therefore, in the process transfer apparatus having the function of the high transfer speed, the function is not utilized, and much time is required for transferring the substrate in the facility.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、基板を設備内へ搬入および搬出するときに基板にショックが加わることなく、さらに設備内の移送速度を高速として基板の移送に要する時間を短縮した基板製造移送設備を提供することを解決すべき課題とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and when a substrate is carried into and out of the facility, the substrate is not shocked, and the transfer speed in the facility is increased to shorten the time required for substrate transfer. An object to be solved is to provide a substrate manufacturing and transporting facility.
上記課題を解決する請求項1に係る基板製造搬送設備の発明は、基板を搬入する搬入端と、前記搬入端から移送し停止させた基板に所定の製造工程を施す工程実施位置と、前記製造工程を施した基板を前記工程実施位置から移送し搬出する搬出端とを有し、かつ、前記工程実施位置で前記基板に所定の前記製造工程を施す工程実施装置と、前記基板を前記搬入端から前記工程実施位置を経て前記搬出端に可変な工程移送速度で移送可能な工程移送装置と、前記工程移送装置の工程移送速度を制御する制御装置とを備える基板製造搬送設備であって、前記制御装置は、前記搬入端の上流側に直列に配置されて前記基板を移送可能な搬入移送装置の一定の搬入移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を一致させて前記基板を前記搬入移送装置から前記搬入端に搬入させ、前記基板の後端が前記搬入端を通過すると工程移送速度を前記搬入移送速度より高速の高速移送速度に漸増し、その後に工程移送速度を漸減して前記基板を前記工程実施位置に停止させることを特徴とする。
The invention of the substrate manufacturing and transporting facility according to
請求項2に係る発明は、基板を搬入する搬入端と、前記搬入端から移送し停止させた基板に所定の製造工程を施す工程実施位置と、前記製造工程を施した基板を前記工程実施位置から移送し搬出する搬出端とを有し、かつ、前記工程実施位置で前記基板に所定の前記製造工程を施す工程実施装置と、前記基板を前記搬入端から前記工程実施位置を経て前記搬出端に可変な工程移送速度で移送可能な工程移送装置と、前記工程移送装置の工程移送速度を制御する制御装置とを備える基板製造搬送設備であって、前記制御装置は、前記搬出端の下流側に直列に配置されて前記製造工程が施された加工済基板を移送可能な搬出移送装置の一定の搬出移送速度より高速の高速移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を漸増して前記工程実施位置から前記加工済基板を移送させ、その後に前記加工済基板の前端が前記搬出端に到達する前に工程移送速度を前記搬出移送速度に漸減し、工程移送速度を前記搬出移送速度に一致させて前記加工済基板を前記搬出端から前記搬出移送装置に搬出させることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a carry-in end for carrying a substrate, a process execution position for applying a predetermined manufacturing process to the substrate transferred and stopped from the carry-in end, and the substrate subjected to the production process as the process execution position. An unloading end for transferring and unloading the substrate, and a process execution apparatus for applying the predetermined manufacturing process to the substrate at the process execution position; and the unloading end of the substrate from the carry-in end through the process execution position. A substrate manufacturing and transport facility comprising a process transfer device that can be transferred at a variable process transfer speed and a control device that controls the process transfer speed of the process transfer device, wherein the control device is downstream of the carry-out end. The process transfer speed of the process transfer device is gradually increased to a high transfer speed higher than a constant transfer speed of a carry-out transfer apparatus capable of transferring processed substrates that are arranged in series and subjected to the manufacturing process. Implementation location The processed substrate is transferred, and then the process transfer speed is gradually reduced to the unloading transfer speed before the front end of the processed substrate reaches the unloading end, and the process transfer speed is made to coincide with the unloading transfer speed. The processed substrate is carried out from the carry-out end to the carry-out transfer device.
請求項3に係る発明は、基板を搬入する搬入端と、前記搬入端から移送し停止させた基板に所定の製造工程を施す工程実施位置と、前記製造工程を施した基板を前記工程実施位置から移送し搬出する搬出端とを有し、かつ、前記工程実施位置で前記基板に所定の前記製造工程を施す工程実施装置と、前記基板を前記搬入端から前記工程実施位置を経て前記搬出端に可変な工程移送速度で移送可能な工程移送装置と、前記工程移送装置の工程移送速度を制御する制御装置とを備える基板製造移送設備であって、前記制御装置は、前記搬出端の下流側に直列に配置されて前記製造工程が施された加工済基板を移送可能な搬出移送装置の一定の搬出移送速度より高速の高速移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を漸増して前記工程実施位置から前記加工済基板を移送させ、その後に前記加工済基板の前端が前記搬出端に到達する前に工程移送速度を前記搬出移送速度に漸減し、工程移送速度を前記搬出移送速度に一致させて前記加工済基板を前記搬出端から前記搬出移送装置に搬出させてから、前記搬入端の上流側に直列に配置されて前記基板を移送可能な搬入移送装置の一定の搬入移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を一致させて前記基板を前記搬入移送装置から前記搬入端に搬入させ、前記基板の後端が前記搬入端を通過すると工程移送速度を前記搬入移送速度より高速の高速移送速度に漸増し、その後に工程移送速度を漸減して前記基板を前記工程実施位置に停止させることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a carry-in end for carrying a substrate, a process execution position for applying a predetermined manufacturing process to the substrate transferred and stopped from the carry-in end, and the substrate subjected to the production process as the process execution position. An unloading end for transferring and unloading the substrate, and a process execution apparatus for applying the predetermined manufacturing process to the substrate at the process execution position; and the unloading end of the substrate from the carry-in end through the process execution position. A substrate manufacturing transfer facility comprising: a process transfer device capable of transferring at a variable process transfer speed; and a control device for controlling the process transfer speed of the process transfer device, wherein the control device is downstream of the carry-out end. The process transfer speed of the process transfer device is gradually increased to a high transfer speed higher than a constant transfer speed of a carry-out transfer apparatus capable of transferring processed substrates that are arranged in series and subjected to the manufacturing process. Implementation location The processed substrate is transferred, and then the process transfer speed is gradually reduced to the unloading transfer speed before the front end of the processed substrate reaches the unloading end, and the process transfer speed is made to coincide with the unloading transfer speed. After the processed substrate is carried out from the carry-out end to the carry-out transfer device, the process transfer device is arranged at a constant carry-in transfer speed of the carry-in transfer device arranged in series upstream of the carry-in end and capable of transferring the substrate. When the substrate transfer is carried into the carry-in end from the carry-in transfer device, and the rear end of the substrate passes through the carry-in end, the process transfer speed is made higher than the carry-in transfer speed. The substrate is gradually increased and thereafter the process transfer speed is gradually decreased to stop the substrate at the process execution position.
請求項4に係る発明は、請求項1において、前記制御装置は、前記工程移送装置の工程移送速度を前記搬入移送速度に一致させて前記基板を前記搬入移送装置から前記搬入端に搬入させるのに並行して、前記製造工程が施された加工済基板を前記搬出端からその下流側に直列に配置されて前記加工済基板を前記搬入移送速度と同じ搬出移送速度で移送可能な搬出移送装置に搬出させ、前記基板の後端が前記搬入端を通過しかつ前記加工済基板の後端が前記搬出端を通過すると工程移送速度を前記高速移送速度に漸増する、ことを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, the control device causes the process transfer speed of the process transfer device to coincide with the carry-in transfer speed so that the substrate is carried into the carry-in end from the carry-in transfer apparatus. In parallel, the processed substrate subjected to the manufacturing process is arranged in series downstream from the carry-out end so that the processed substrate can be transferred at the same carry-out transfer speed as the carry-in transfer speed. When the rear end of the substrate passes through the carry-in end and the rear end of the processed substrate passes through the carry-out end, the process transfer speed is gradually increased to the high-speed transfer speed.
請求項5に係る発明は、請求項1において、前記制御装置は、前記搬出端の下流側に直列に配置されて前記製造工程が施された加工済基板を移送可能な可変速搬出移送装置の可変な搬出移送速度を前記工程移送装置の工程移送速度に一致させ、あるいは、請求項2において、前記制御装置は、前記搬入端の上流側に直列に配置されて前記基板を移送可能な可変速搬入移送装置の可変な搬入移送速度を前記工程移送装置の工程移送速度に一致させることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect, the control device is a variable-speed unloading and transporting device capable of transporting the processed substrate that is arranged in series downstream of the unloading end and subjected to the manufacturing process. The variable carry-out transfer speed is made to coincide with the process transfer speed of the process transfer device, or the control device according to
請求項1に係る発明によると、工程移送装置の工程移送速度が搬入移送速度に一致した状態で、基板を搬入移送装置から搬入端に搬入することができる。したがって、基板が搬入移送装置から設備内の工程移送装置に乗り移るときの速度差がなく、基板にショックが加わることがない。 According to the first aspect of the present invention, the substrate can be carried from the carry-in transfer device to the carry-in end in a state where the process transfer speed of the process transfer device coincides with the carry-in transfer speed. Therefore, there is no difference in speed when the substrate is transferred from the carry-in transfer device to the process transfer device in the facility, and no shock is applied to the substrate.
また、基板の後端が搬入端を通過すると工程移送速度を搬入移送速度より高速の高速移送速度に漸増し、その後に工程移送速度を漸減して前記基板を前記工程実施位置に停止させることができる。したがって、基板が工程移送装置に完全に乗り移ったのちに工程移送速度は高速となり、設備内の移送の所要時間を短縮することができる。さらに、工程移送速度を漸増および漸減させるので、移送時のショックの発生はごくわずかである。 Further, when the rear end of the substrate passes the carry-in end, the process transfer speed is gradually increased to a high-speed transfer speed higher than the carry-in transfer speed, and then the process transfer speed is gradually reduced to stop the substrate at the process execution position. it can. Therefore, after the substrate is completely transferred to the process transfer device, the process transfer speed becomes high, and the time required for transfer in the facility can be shortened. Furthermore, since the process transfer rate is gradually increased and decreased, the occurrence of shock during transfer is negligible.
請求項2に係る発明によると、工程移送装置の工程移送速度を高速移送速度に漸増して工程実施位置から加工済基板を移送させ、その後に加工済基板の前端が搬出端に到達する前に工程移送速度を搬出移送速度に漸減することができる。したがって、加工済基板が搬出端に到達するまでの工程移送速度を高速として設備内の移送の所要時間を短縮することができる。さらに、工程移送速度を漸増および漸減させるので、移送時のショックの発生はごくわずかである。 According to the second aspect of the invention, the process transfer speed of the process transfer device is gradually increased to a high speed transfer speed to transfer the processed substrate from the process execution position, and then the front end of the processed substrate reaches the unloading end. The process transfer rate can be gradually reduced to the unloading transfer rate. Therefore, it is possible to shorten the time required for transfer in the facility by increasing the process transfer speed until the processed substrate reaches the carry-out end. Furthermore, since the process transfer rate is gradually increased and decreased, the occurrence of shock during transfer is negligible.
また、工程移送装置の工程移送速度が搬出移送速度に一致した状態で、加工済基板を搬出端から搬出移送装置に搬出することができる。したがって、加工済基板が設備内の工程移送装置から搬出移送装置に乗り移るときの速度差がなく、基板にショックが加わることがない。 Further, the processed substrate can be carried out from the carry-out end to the carry-out transfer device in a state where the process transfer speed of the process transfer device coincides with the carry-out transfer speed. Therefore, there is no speed difference when the processed substrate is transferred from the process transfer device in the facility to the carry-out transfer device, and no shock is applied to the substrate.
請求項3による発明では、請求項1および請求項2の両方の効果が得られる。すなわち、工程移送装置の工程移送速度が搬出移送速度に一致した状態で加工済基板を搬出端から搬出移送装置に搬出することができ、その後に工程移送速度が搬入移送速度に一致した状態で基板を搬入移送装置から搬入端に搬入することができる。したがって、搬入および搬出ともに速度差がない状態で基板を乗り移らせることができ、基板にショックが加わることがない。また、設備内での工程移送速度を高速とすることにより移送の所要時間を短縮し、工程移送速度を漸増および漸減させることにより移送時のショックの発生をごくわずかにできる。
In the invention according to
請求項4に係る発明によると、上流側の搬入移送装置の搬入移送速度と下流側の搬出移送装置の搬出移送速度とを一致させ、加工済基板の搬出と次の基板の搬入とを並行して行うことができ、工程の所要時間をさらに短縮することができる。また、次の基板が工程移送装置に完全に乗り移り、かつ加工済基板が搬出移送装置に完全に乗り移ったのちに工程移送速度を高速として、設備内の移送の所要時間を短縮することができる。
According to the invention of
請求項5に係る発明では、搬入移送装置の搬入移送速度および搬出移送装置の搬出移送速度の一方は一定速度で、他方は可変速度となる。この他方の可変な移送速度を工程移送装置の工程移送速度に常に一致させて同期運転することができる。したがって、請求項1あるいは請求項2に係る発明と同様に搬入および搬出移送装置の一方と工程移送装置を移送速度差がない状態とし、他方と工程移送装置とを同期運転することによって移送速度差がない状態として基板を乗り移らせることができ、基板にショックが加わることがない。
In the invention according to
本発明を実施するための最良の実施形態を、図1〜図5を参考にして説明する。図1は、一般的な基板製造ラインを模式的に説明する図である。基板製造ライン9は、上流側から順にストッカー91、スクリーン印刷機92、部品実装機1、リフロー機93、検査機94が基板製造移送設備として列設され、それぞれが中間移送装置95〜99で連結されて構成されている。
The best mode for carrying out the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a general substrate production line. In the board production line 9, a stocker 91, a screen printing machine 92, a
ストッカー91は、回路パターンが形成された基板を一時的に貯留するとともに順次供給位置913へ供給するストック装置911と、基板をストック装置911下方の供給位置913から図中右側の搬出端915に移送する工程移送装置916とを備えている。スクリーン印刷機92は、基板にクリーム状のはんだを塗布する印刷装置921と、図中左側の搬入端922から印刷装置921下方の印刷位置923を経て図中右側の搬出端925に移送する工程移送装置926とを備えている。部品実装機1は、基板に電子部品を載置する部品実装装置3と、図中左側の搬入端21から部品実装装置2下方の実装位置22を経て図中右側の搬出端23に移送する工程移送装置4とを備えている。リフロー機93は、はんだを固着させるリフロー装置931と、図中左側の搬入端932からリフロー装置931下方のリフロー位置933を経て図中右側の搬出端935に移送する工程移送装置936とを備えている。検査機94は、電子部品の実装状態を検査する検査装置941と、図中左側の搬入端942から検査装置941下方の検査位置943を経て図中右側の搬出端945に移送する工程移送装置946とを備えている。
The stocker 91 temporarily stores a substrate on which a circuit pattern is formed and sequentially supplies the substrate to the
各設備91、92、1、93、94内の工程移送装置916、926、4、936、946は、基板を移送する工程移送速度が可変とされ、工程移送速度を制御する図略の制御装置がそれぞれ設けられている。一方、各中間移送装置95〜99は、基板を移送する移送速度が一定とされ、定速移送と停止の切り替えを制御する図略の制御装置がそれぞれ設けられている。
The
本発明は、上述のいずれの設備91、92、1、93、94にも適用することができ、第1実施形態として部品実装機1を例にして以降で詳細に説明する。図2は、第1実施形態の部品実装機1を模式的に説明する図である。図示されるように、部品実装機1は、基台2、部品実装装置3、工程移送装置4、制御装置5、3つのセンサ61〜63、を主要部材として構成されている。基台2は、各部位を配設するための構造材である。基台2の略中央には部品実装装置3が配設されており、その下方が工程実施位置すなわち実装位置22となっている。また、基台2の実装位置22と同じ高さの図中左端および右端は、基板を搬入および搬出する搬入端21および搬出端23となっている。
The present invention can be applied to any of the above-mentioned
部品実装装置3は、実装位置22に停止された基板Kに電子部品を載置する装置であり、図略の実装ヘッドなどを有する周知の装置が用いられている。また、部品実装装置3に電子部品を供給する図略の部品供給装置なども設けられている。
The
工程移送装置4は、基板Kを搬入端21から実装位置22を経て搬出端23に移送する装置である。工程移送装置4は、搬入端21から搬出端23まで架け渡されて輪転する無端環状のコンベアベルト41と、コンベアベルト41を駆動するサーボモータ42とを備えている。サーボモータ42は回転数可変であり、コンベアベルト41の輪転速度すなわち工程移送速度Vは可変になっている。図2において、コンベアベルト41は通常時計回りに輪転し、載置された基板Kを搬入端21から図中右方の搬出端23に向けて移送する。
The
3つのセンサ61〜63は、コンベアベルト41上における基板Kの有無を検出し、検出信号S1〜S3を出力するものである。検出信号S1〜S3は、基板Kが有るときにオンとなり、無いときにオフとなる。搬入端21の近くに配設された搬入端センサ61では、検出信号S1のオフ状態の継続により基板Kが到着していないことを検出できる。また、検出信号S1のオンからオフへの立下りにより、基板Kの後端KRの通過すなわち搬入完了を検出できる。搬出端23の手前に配設された搬出手前センサ62では、検出信号S2のオフからオンへの立ち上がりにより、基板Kの先端KFの到達を検出できる。搬出端23の近くに配設された搬出端センサ63では、検出信号S3のオンからオフへの立下りにより、基板Kの後端KRの通過すなわち搬出完了を検出できる。
The three
制御装置5は、3つのセンサ61〜63の検出信号S1〜S3を参照しながら、サーボモータ42に駆動制御信号D1を出力して、工程移送速度Vを可変に制御するものである。制御装置5は、CPUや記憶部、入出力部などを有してソフトウェアで動作する電子制御装置を用いて構成することができる。
The
図1に示されるように、部品実装機1の上流側(図中左側)および下流側(図中右側)には、それぞれ中間移送装置96、97が連結配置されている。説明を明瞭化するため以降では、上流側の中間移送装置96を搬入移送装置7と呼び、下流側の中間移送装置97を搬出移送装置8と呼ぶ。搬入移送装置7は、図2に示されるように、時計回りに輪転する無端環状の搬入ベルト71と、搬入ベルト71を駆動する搬入モータ72と、搬入モータ72を制御する搬入制御装置73と、で構成されている。搬入ベルト71の図中右端は、搬入端21で工程移送装置4のコンベアベルト41の図中左端の直近に配置されており、載置された基板がスムーズに乗り移って搬入されるようになっている。搬入モータ72は回転数一定であり、搬入ベルト71の輪転速度すなわち搬入移送速度VLは一定になっている。搬入制御装置73は、基板実装機1の制御装置5と制御情報C2を交換しながら、搬入モータ72に駆動制御信号D2を出力して、定速移送と停止とを切り替えるようになっている。
As shown in FIG. 1,
同様に、搬出移送装置8は、時計回りに輪転する無端環状の搬出ベルト81と、搬出ベルト81を駆動する搬出モータ82と、搬出モータ82を制御する搬出制御装置83と、で構成されている。搬出ベルト81の図中左端は、搬出端23で工程移送装置4のコンベアベルト41の図中右端の直近に配置されており、載置された基板がスムーズに乗り移って搬出されるようになっている。搬出モータ82は回転数一定であり、搬出ベルト81の輪転速度すなわち搬出移送速度VMは一定になっている。搬出制御装置83は、基板実装機1の制御装置5と制御情報C3を交換しながら、搬出モータ82に駆動制御信号D3を出力して、定速移送と停止とを切り替えるようになっている。
Similarly, the carry-out
次に、上述のように構成された第1実施形態の部品実装機1の動作、作用について、図3〜図5を参考にして説明する。なお、搬入移送速度VLが搬出移送速度VMよりも小さい場合について説明するが、大小関係が逆になっていても本発明は適用できる。
Next, the operation and action of the
図3は、部品実装機1における基板Kの移送速度特性図であり、横軸は移送方向における基板Kの先端位置、縦軸は工程移送速度Vを示している。図中で、P1は搬入端21に相当する搬入端位置、P5は実装位置22、P8は搬出端23に相当する搬出端位置を示している。また、P2は工程移送装置4上で搬入端位置P1から基板長さLだけ実装位置22に近付いた位置、すなわち、基板Kの後端KRが搬入端位置P1を通過する搬入完了位置であり、この搬入完了位置P2は搬入端センサ61の検出信号S1の立下りにより検出される。P7は工程移送装置上4で搬出端位置P8の手前の位置であり、この位置P7は基板Kの先端KFが搬出手前センサ62に到来して検出信号S2が立ち上がることにより検出される。P9は搬出移送装置8上で搬出端位置P8から基板長さLだけ離れた位置、すなわち、基板Kの後端KRが搬出端位置P8を通過する搬出完了位置であり、この搬出完了位置P9は搬出端センサ63の検出信号S3の立下りにより検出される。
FIG. 3 is a transfer speed characteristic diagram of the substrate K in the
図示されるように、基板Kは、搬入移送装置7から搬入端位置P1を経て搬入完了位置P2に至るまで搬入移送速度VL(工程移送速度V=VL)で移送される。次に基板Kは、搬入完了位置P2から工程移送速度Vが漸増されて位置P3から位置P4までの間は高速移送速度VH(工程移送速度V=VH)で移送され、その後に位置P4から工程移送速度Vが漸減されて実装位置P5に停止される。実装位置P5で電子部品が実装された基板Kは、工程移送速度Vが漸増されて実装位置P5から移送され、位置P6から位置P7までの間は高速移送速度VH(工程移送速度V=VH)で移送される。次に基板Kは、位置P7から工程移送速度Vが漸減されて搬出端位置P8に到達する前に搬出移送速度VM(工程移送速度V=VM)となり、搬出移送速度VMで搬出端位置P8から搬出完了位置P9に搬出される。
As shown in the drawing, the substrate K is transferred from the carry-in
図3の移送速度特性を実行するために、図4および図5に示される移送速度制御が行われる。図4は、電子部品が実装される前の実装前基板K1を搬入移送装置7から工程移送装置4の実装位置P5まで搬入、移送するときの移送速度制御方法を説明する図である。また、図5は、電子部品が実装された後の実装済基板K10を工程移送装置4の実装位置P5から搬出移送装置8まで移送、搬出するときの移送速度制御方法を説明する図である。
In order to implement the transfer speed characteristics of FIG. 3, the transfer speed control shown in FIGS. 4 and 5 is performed. FIG. 4 is a view for explaining a transfer speed control method for carrying in and transferring the pre-mounting substrate K1 before the electronic component is mounted from the carry-in
図4に示されるように、工程移送装置4上に基板がなくかつ搬入移送装置7上に実装前基板K1が載置されて搬入準備が整うと、工程移送装置4および搬入移送装置7は搬入移送速度VLで駆動される(1)。実装前基板K1は、搬入移送装置7上を移送されその先端KFが搬入端位置P1を越えて工程移送装置4に乗り移り、両移送装置4、7に速度差なしでまたがって載置された状態となる(2)。実装前基板K1の後端FRが搬入端位置P1に到達する(先端KFは搬入完了位置P2に到達)と、工程移送装置4の工程移送速度Vが徐々に加速されて漸増される(3)。この時点で、実装前基板K1は工程移送装置4に完全に乗り移るため、この後搬入移送装置7は続けて動作してもよく、停止してもよい。実装前基板K1は、所定の位置P3と位置P4との間の区間では高速移送速度VHで移送される(4)。この区間は、制御装置5内にあらかじめ制御特性として設定することができ、さらには実際の工程移送速度Vの履歴から算出することもできる。実装前基板K1が所定の位置P4に到達すると、工程移送速度Vは徐々に減速されて高速移送速度VHから漸減される(5)。そして、実装前基板K1の先端KFが実装位置P5に到達して停止される(6)。なお、正確な停止位置は、部品実装装置3に設けられた図略の基板カメラなどで確認される。
As shown in FIG. 4, when there is no substrate on the
実装位置P5で実装前基板K1に所定の実装工程が施されて実装済基板K10ができ上がると、図5に示されるように、工程移送装置4の工程移送速度Vが漸増される(1)。実装済基板K10は、所定の位置P6と位置P7との間の区間では高速移送速度VHで移送される(2)。この区間も前述のように、制御特性として設定、あるいは実際の工程移送速度Vの履歴から算出することができる。実装済基板K10が所定の位置P7に到達すると、工程移送速度Vは高速移送速度VHから搬出移送速度VMに漸減される(3)。実装済基板K10の先端KFが搬出端位置P8に到達した時点で、工程移送装置4の工程移送速度Vは既に搬出移送速度VMになっており、一方搬出移送装置8も始動されて搬出移送速度VMになっている(4)。この時点から、実装済基板K10の先端KFが搬出端位置P8を越えて搬出移送装置8に乗り移り、両移送装置4、8に速度差なしでまたがって載置された状態となる(5)。実装済基板K10の後端FRが搬出端位置P8に到達する(先端KFは搬出完了位置P9に到達)と、実装済基板K10は搬出移送装置8に完全に乗り移り、下流のリフロー機93へと移送される。一方、工程移送装置4の工程移送速度Vは搬入移送速度VLに漸減されて、次の実装前基板K2の搬入を待ち受ける。
When a predetermined mounting process is performed on the pre-mounting board K1 at the mounting position P5 and the mounted board K10 is completed, the process transfer speed V of the
次に、第1実施形態の部品実装機1の効果を、図6の従来構成における基板の移送速度特性図と比較して説明する。従来構成においては、搬入端位置P1で基板Kが移送装置7、4間を乗り移る際の速度差をなくすため、工程移送装置4の工程移送速度Vを搬入移送速度VLに固定して、搬入端位置P1から実装位置P5まで基板Kを移送していた。同様に、工程移送速度Vを搬出移送速度VMに固定して、実装位置P5から搬出端位置P8まで基板Kを移送していた。したがって、高速移送速度VHの機能を有するにもかかわらず、その機能を活かしていなかった。
Next, the effect of the
これに対し、第1実施形態の部品実装機1では、搬入端位置P1および搬出端位置P8での速度差をなくして基板K1、K10を乗り移らせ、かつ部品実装機1内での基板K1、K10の移送を高速移送速度VHで行うようにしている。したがって、基板K1、K10の移送に要する時間を短縮して、工程の所要時間を削減できる。また、工程移送速度Vの変化は、ギヤなどを用いた急峻な加減速操作ではなく、徐々に変化させる漸増および漸減で行うので、移送時のショックの発生はごくわずかである。
On the other hand, in the
なお、搬出手前センサ62および搬出端センサ63は省略することもできる。この場合、制御装置5は、あらかじめ設定した制御特性あるいは実際の工程移送速度Vの履歴から、基板Kの先端KFが搬出端位置P8およびその手前の位置P7に到達するタイミングを推定する。
It should be noted that the unloading
次に、搬入移送速度VLと搬出移送速度VMとが同じである第2実施形態について説明する。第2実施形態の基板実装機10の構成は、搬出移送速度VMが搬入移送速度VLに等しい搬出移送装置80が下流側に連結配置されることを除き、第1実施形態と同一である。この基板実装機10は、図7に示される移送速度制御方法にしたがって、制御装置5が工程移送装置4の工程移送速度Vを制御する。
Next, a second embodiment in which the carry-in transfer speed VL and the carry-out transfer speed VM are the same will be described. The configuration of the
第2実施形態において、工程移送装置4上に基板がない場合、実装前基板は第1実施形態の図4と同様の移送速度制御方法によって、実装位置P5まで搬入、移送される。実装位置P5で実装前基板に所定の実装工程が施されて実装済基板K30ができ上がると、図7に示されるように、工程移送装置4の工程移送速度Vが漸増される(1)。実装済基板K30は、所定の位置P6と位置P7との間の区間では高速移送速度VHで移送される(2)。実装済基板K30が所定の位置P7に到達すると、工程移送速度Vは高速移送速度VHから搬入移送速度VLに漸減される(3)。実装済基板K30の先端KFが搬出端位置P8に到達した時点で、工程移送装置4の工程移送速度Vは既に搬入移送速度VLになっており、一方搬出移送装置80も始動されて搬入移送速度VLになっている。さらに、搬入移送装置7も始動されて搬入移送速度VLで実装前基板K4を搬入端位置P1へと移送する(4)。この時点から、実装済基板K30の先端KFが搬出端位置P8を越えて搬出移送装置80に乗り移り、両移送装置4、80に速度差なしでまたがって載置された状態となる。並行して、実装前基板K4の先端KFが搬入端位置P1を越えて工程移送装置4に乗り移り、両移送装置4、7に速度差なしでまたがって載置された状態となる(5)。実装済基板K30の後端FRが搬出端位置P8に到達すると、実装済基板K30は搬出移送装置8に完全に乗り移る。一方、実装前基板K4は未だ両移送装置4、7にまたがって載置されている(6)。実装前基板K4の後端FRが搬入端位置P1に到達すると、工程移送装置4の工程移送速度Vが漸増される(7)。以降は図3と同様の移送速度制御方法によって、実装前基板K4が実装位置P5まで移送される。
In the second embodiment, when there is no substrate on the
第2実施形態の基板実装機10では、実装済基板K30の搬出と実装前基板K4の搬入とを時間的に並行して行うようになっている。したがって、実装済基板K10を搬出した後に実装前基板K2を搬入する第1実施形態と比較して、より一層工程時間を削減できる。なお、上述の説明では、実装済基板K30の搬出が実装前基板K4の搬入よりも先に完了しているが、搬入が先で搬出が後になってもよい。
In the
また、本発明は、搬入移送速度VLと搬出移送速度VMの一方が一定速度で、他方が可変速度とされている構成にも適用できる。この場合、一方側で前述のように工程移送速度Vを一定速度に一致させ、他方側で可変速度を工程移送装置の工程移送速度Vに常に一致させて同期運転することができる。これにより、搬入端位置P1および搬出端位置P8で速度差がない状態として基板を乗り移らせることができる。 The present invention can also be applied to a configuration in which one of the carry-in transfer speed VL and the carry-out transfer speed VM is a constant speed and the other is a variable speed. In this case, as described above, the process transfer speed V can be made to coincide with a constant speed on the one side, and the variable speed can be made to always coincide with the process transfer speed V of the process transfer apparatus on the other side. Thereby, a board | substrate can be transferred as a state with no speed difference in the carrying-in end position P1 and the carrying-out end position P8.
この一例として、搬入移送速度VLが一定で搬出移送速度VVが可変である第3実施形態について、図8および図9を参考にして、第1実施形態と異なる部分を主に説明する。図8は、搬出移送速度VVが可変である第3実施形態の部品実装機11を模式的に説明する図である。第3実施形態の基板実装機11では、可変速搬出移送装置800の搬出ベルト81を駆動する搬出モータ820に速度可変のサーボモータが用いられ、搬出制御装置830は搬出移送速度VVを可変に制御するようになっている。そして、第3実施形態の基板実装機11は、図9に示される移送速度制御方法にしたがって、制御装置5が工程移送装置4の工程移送速度Vを制御し、これに連携して搬出制御装置830が搬出移送装置800の搬出移送速度VVを制御する。
As an example of this, with respect to the third embodiment in which the carry-in transfer speed VL is constant and the carry-out transfer speed VV is variable, the differences from the first embodiment will be mainly described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a diagram schematically illustrating the
図9に示されるように、工程移送装置4上の実装位置P5で実装済基板K50ができ上がりかつ搬入移送装置7上に実装前基板K6が載置されて搬入準備が整うと、搬入移送装置7は搬入移送速度VLで駆動され、工程移送装置4の工程位相速度Vは同じ搬入移送速度VLに漸増される(1)。つまり、実装済基板K50の移送および搬出と、実装前基板K6の搬入および移送とが並行して開始される。実装前基板K6は、搬入移送装置7上を移送されその先端KFが搬入端位置P1を越え、両移送装置4、7に速度差なしでまたがって載置された状態となる。並行して、実装済基板K50は搬出端位置P8に向けて移送される(2)。実装前基板K6の後端FRが搬入端位置P1に到達すると、工程移送装置4の工程移送速度Vが徐々に加速されて漸増される。この時点で、実装済基板K50は搬出端位置P8に近付き、可変速搬出移送装置800の可変な搬出移送速度VVは工程移送速度Vと等速に制御されて、同期運転される(3)。実装前基板K6は、所定の位置P3と位置P4との間の区間では高速移送速度VHで移送される。並行して、実装済基板K50は搬出端位置P8を越え、両移送装置4、800にまたがって載置された状態となる。つまり、高速移送速度VH同士の速度差なしの状態で搬出が行われる(4)。実装前基板K6が所定の位置P4に到達すると、工程移送速度Vは徐々に減速されて高速移送速度VHから漸減される。この間も搬出移送速度VVは工程移送速度Vと等速に制御されて、実装済基板K50の搬出が完了する(5)。そして、実装前基板K6の先端KFが実装位置P5に到達して停止されると、搬出移送速度VVが漸増されて実装済基板K50は下流のリフロー機93へと移送される。(6)。
As shown in FIG. 9, when the mounted substrate K50 is completed at the mounting position P5 on the
第3実施形態においては、実装済基板K50が搬出端位置P8に近付いたときに、可変速搬出移送装置800の搬出移送速度VVを工程移送装置4の工程移送速度Vに一致させて同期運転することができる。したがって、搬入端位置P1側の制約から工程移送速度Vが変化しても、搬出端位置P8側での速度差なしの条件が満たされ、実装済基板K50にショックが加わることがない。
In the third embodiment, when the mounted substrate K50 approaches the carry-out end position P8, the carry-out transfer speed VV of the variable speed carry-out
なお、実装済基板K50の搬出は、搬出端位置P8側での速度差なしの条件が満たされている図9の(3)〜(5)の間であればいつであってもよい。また、図9は一例であり、搬入端位置P1と実装位置P5と搬出端位置P8の距離関係や、移送装置4、800の移送速度V、VVの可変範囲などにより、さまざまなバリエーションの移送速度制御方法を用いることができる。
Note that the mounted board K50 may be carried out at any time as long as it is between (3) and (5) in FIG. 9 where the condition of no speed difference on the carry-out end position P8 side is satisfied. Also, FIG. 9 is an example, and there are various variations of transfer speeds depending on the distance relationship between the carry-in end position P1, the mounting position P5, and the carry-out end position P8 and the variable ranges of the transfer speeds V and VV of the
次に、工程移送装置が複数からなる第4実施形態について、図10を参考にして、第1実施形態と異なる部分を主に説明する。図10は、部品実装装置3前後における基板Kの混雑状況を調整可能な第4実施形態の部品実装機12を模式的に説明する図である。図示されるように、部品実装機12は、基台2、部品実装装置3、工程移送装置40を構成する前置移送装置45と実装移送装置46と後置移送装置47、制御装置50、を主要部材として構成されている。3つの移送装置45〜47は基台2内に直列に配設されており、それぞれがコンベアベルトとサーボモータとを備え、それぞれの工程移送速度V5〜V7は独立して可変になっている。前置移送装置45の図中左端は搬入端21に配置され、実装移送装置46は部品実装装置3の下方の実装位置22を含んで配置され、後置移送装置47の図中右端は搬出端23に配置されている。制御装置50は、駆動制御信号D5〜D7を出力して、各移送装置45〜47の工程移送速度V5〜V7を制御できるようになっている。
Next, with respect to the fourth embodiment having a plurality of process transfer devices, the differences from the first embodiment will be mainly described with reference to FIG. FIG. 10 is a diagram schematically illustrating the
第4実施形態において、制御装置50は、前置移送装置45上および後置移送装置47上に一時的に基板Kを留め置く移送速度制御を行うことができる。この制御の中で、前置移送装置45の工程移送速度V5を搬入移送装置7の搬入移送速度VLに一致させて基板Kを搬入端21に搬入し、搬入が完了した時点で工程移送速度V5を漸増することができる。また、後置移送装置47の工程移送速度V7を搬出移送装置8の搬出移送速度VMに一致させて基板Kを搬出端23から搬出することができる。さらに、3つの移送装置45〜47を適宜同期運転して基板Kが装置45〜47間を乗り移るときの速度差をなくすことができる。一方、基板Kが留め置かれていない場合、前置移送装置45と実装移送装置46とを同期運転して基板Kを搬入端21から実装位置22まで直に取り込み、実装移送装置46と後置移送装置47とを同期運転して基板Kを実装位置22から搬出端23まで直に排出することができる。これらの移送速度制御により、第1実施形態と同様の効果が生じる。
In the fourth embodiment, the
なお、本発明は図1に示された5種類の基板製造移送設備91、92、1、93、94に限定されるものではなく、例えば基板に接着剤を塗布する接着剤塗布機やその他の設備にも適用できる。また、搬入移送装置7および搬出移送装置8、80、800は中間移送装置96、97に限定されるものではなく、直結された他の基板製造移送設備の工程移送装置であっても、本発明を適用できる。
Note that the present invention is not limited to the five types of substrate manufacturing and
1、10、11、12:部品実装機(基板製造移送設備)
2:基台 21:搬入端 22:実装位置(工程実施位置) 23:搬出端
3:部品実装装置(工程実施装置)
4、40:工程移送装置
41:コンベアベルト 42:サーボモータ
45:前置移送装置 46:実装移送装置 47:後置移送装置
5、50:制御装置
61:搬入端センサ 62:搬出手前センサ 63:搬出端センサ
7:搬入移送装置 71:搬入ベルト 72:搬入モータ 73:搬入制御装置
8:搬出移送装置 81:搬出ベルト 82:搬出モータ 83:搬出制御装置
80:搬出移送装置(第2実施形態)
800:可変速搬出移送装置(第3実施形態)
9:基板製造ライン
91:ストッカー 92:スクリーン印刷機 93:リフロー機
94:検査機 95〜99:中間移送装置
K:基板 K1、K2、K4、K6:実装前基板
K10、K30、K50:実装済基板
L:基板長さ KF:基板の先端 KR:基板の後端
P1:搬入端位置 P2:搬入完了位置 P5:実装位置
P8:搬出端位置 P9:搬出完了位置
V、V5〜V7:工程移送装置の可変な工程移送速度
VL:搬入移送速度(一定速度) VM:搬出移送速度(一定速度)
VV:可変な搬出移送速度 VH:高速移送速度
1, 10, 11, 12: component mounting machine (board manufacturing and transfer equipment)
2: Base 21: Carry-in end 22: Mounting position (process execution position) 23: Carry-out end 3: Component mounting apparatus (process execution apparatus)
4, 40: Process transfer device
41: Conveyor belt 42: Servo motor
45: front transfer device 46: mounting transfer device 47:
800: Variable-speed carry-out transfer device (third embodiment)
9: Board production line
91: Stocker 92: Screen printer 93: Reflow machine
94: Inspection machine 95-99: Intermediate transfer device K: Substrate K1, K2, K4, K6: Substrate before mounting
K10, K30, K50: mounted substrate
L: Board length KF: Board front edge KR: Board rear edge P1: Carry-in end position P2: Carry-in completion position P5: Mounting position P8: Carry-out end position P9: Carry-out completion position V, V5 to V7: Process transfer device Variable process transfer speed VL: Incoming transfer speed (constant speed) VM: Unloading speed (constant speed)
VV: Variable transfer speed VH: High speed transfer speed
Claims (5)
前記制御装置は、前記搬入端の上流側に直列に配置されて前記基板を移送可能な搬入移送装置の一定の搬入移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を一致させて前記基板を前記搬入移送装置から前記搬入端に搬入させ、前記基板の後端が前記搬入端を通過すると工程移送速度を前記搬入移送速度より高速の高速移送速度に漸増し、その後に工程移送速度を漸減して前記基板を前記工程実施位置に停止させることを特徴とする基板製造移送設備。 A carry-in end for carrying in the substrate, a process execution position for applying a predetermined manufacturing process to the substrate transferred and stopped from the carry-in end, and a carry-out end for transferring and carrying out the substrate subjected to the production process from the process execution position; And a process execution apparatus for performing the predetermined manufacturing process on the substrate at the process execution position, and transferring the substrate from the carry-in end to the carry-out end through the process execution position at a variable process transfer speed. A substrate manufacturing transfer facility comprising a possible process transfer device and a control device for controlling a process transfer speed of the process transfer device,
The control device is arranged in series on the upstream side of the carry-in end so that the process transfer speed of the process transfer device coincides with a constant carry-in transfer speed of a carry-in transfer apparatus capable of transferring the substrate, and the substrate is loaded. When the rear end of the substrate passes through the carry-in end from the transfer device, the process transfer speed is gradually increased to a high-speed transfer speed higher than the carry-in transfer speed, and then the process transfer speed is gradually reduced to increase the process transfer speed. A substrate manufacturing / transferring facility, wherein the substrate is stopped at the process execution position.
前記制御装置は、前記搬出端の下流側に直列に配置されて前記製造工程が施された加工済基板を移送可能な搬出移送装置の一定の搬出移送速度より高速の高速移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を漸増して前記工程実施位置から前記加工済基板を移送させ、その後に前記加工済基板の前端が前記搬出端に到達する前に工程移送速度を前記搬出移送速度に漸減し、工程移送速度を前記搬出移送速度に一致させて前記加工済基板を前記搬出端から前記搬出移送装置に搬出させることを特徴とする基板製造移送設備。 A carry-in end for carrying in the substrate, a process execution position for applying a predetermined manufacturing process to the substrate transferred and stopped from the carry-in end, and a carry-out end for transferring and carrying out the substrate subjected to the production process from the process execution position; And a process execution apparatus for performing the predetermined manufacturing process on the substrate at the process execution position, and transferring the substrate from the carry-in end to the carry-out end through the process execution position at a variable process transfer speed. A substrate manufacturing transfer facility comprising a possible process transfer device and a control device for controlling a process transfer speed of the process transfer device,
The control device transfers the process to a high speed transfer speed higher than a constant carry-out transfer speed of a carry-out transfer apparatus that is arranged in series downstream of the carry-out end and can transfer the processed substrate subjected to the manufacturing process. The process transfer speed of the apparatus is gradually increased to transfer the processed substrate from the process execution position, and then the process transfer speed is gradually decreased to the unloading transfer speed before the front end of the processed substrate reaches the unloading end. A substrate manufacturing and transporting facility, wherein the processed substrate is unloaded from the unloading end to the unloading / transferring device with a process transfer rate matched with the unloading / transferring rate.
前記制御装置は、前記搬出端の下流側に直列に配置されて前記製造工程が施された加工済基板を移送可能な搬出移送装置の一定の搬出移送速度より高速の高速移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を漸増して前記工程実施位置から前記加工済基板を移送させ、その後に前記加工済基板の前端が前記搬出端に到達する前に工程移送速度を前記搬出移送速度に漸減し、工程移送速度を前記搬出移送速度に一致させて前記加工済基板を前記搬出端から前記搬出移送装置に搬出させてから、前記搬入端の上流側に直列に配置されて前記基板を移送可能な搬入移送装置の一定の搬入移送速度に前記工程移送装置の工程移送速度を一致させて前記基板を前記搬入移送装置から前記搬入端に搬入させ、前記基板の後端が前記搬入端を通過すると工程移送速度を前記搬入移送速度より高速の高速移送速度に漸増し、その後に工程移送速度を漸減して前記基板を前記工程実施位置に停止させることを特徴とする基板製造移送設備。 A carry-in end for carrying in the substrate, a process execution position for applying a predetermined manufacturing process to the substrate transferred and stopped from the carry-in end, and a carry-out end for transferring and carrying out the substrate subjected to the production process from the process execution position; And a process execution apparatus for performing the predetermined manufacturing process on the substrate at the process execution position, and transferring the substrate from the carry-in end to the carry-out end through the process execution position at a variable process transfer speed. A substrate manufacturing transfer facility comprising a possible process transfer device and a control device for controlling a process transfer speed of the process transfer device,
The control device transfers the process to a high speed transfer speed higher than a constant carry-out transfer speed of a carry-out transfer apparatus that is arranged in series downstream of the carry-out end and can transfer the processed substrate subjected to the manufacturing process. The process transfer speed of the apparatus is gradually increased to transfer the processed substrate from the process execution position, and then the process transfer speed is gradually decreased to the unloading transfer speed before the front end of the processed substrate reaches the unloading end. The process transfer speed is made to coincide with the carry-out transfer speed, the processed substrate is carried out from the carry-out end to the carry-out transfer device, and then the substrate can be transferred in series on the upstream side of the carry-in end. A step of bringing the substrate into the carry-in end from the carry-in transfer device by causing the process transfer speed of the process transfer device to coincide with a constant carry-in transfer speed of the carry-in transfer device, and passing the rear end of the substrate through the carry-in end Transfer Gradually increasing the speed to high-speed transfer rate faster than the carry transfer rate, then the substrate manufacturing transfer facility by decreasing the process transport speed, wherein the stopping the substrate to the process carried out position.
前記制御装置は、前記工程移送装置の工程移送速度を前記搬入移送速度に一致させて前記基板を前記搬入移送装置から前記搬入端に搬入させるのに並行して、前記製造工程が施された加工済基板を前記搬出端からその下流側に直列に配置されて前記加工済基板を前記搬入移送速度と同じ搬出移送速度で移送可能な搬出移送装置に搬出させ、前記基板の後端が前記搬入端を通過しかつ前記加工済基板の後端が前記搬出端を通過すると工程移送速度を前記高速移送速度に漸増することを特徴とする基板製造移送設備。 In claim 1,
The control device is a process in which the manufacturing process is performed in parallel with bringing the substrate from the carry-in transfer device into the carry-in end by making the process transfer speed of the process transfer device coincide with the carry-in transfer speed. The finished substrate is arranged in series downstream from the carry-out end, and the processed substrate is carried out to a carry-out transfer device that can be transferred at the same carry-out transfer speed as the carry-in transfer speed, and the rear end of the substrate is the carry-in end And the rear end of the processed substrate passes the unloading end, the process transfer speed is gradually increased to the high speed transfer speed.
あるいは、請求項2において、前記制御装置は、前記搬入端の上流側に直列に配置されて前記基板を移送可能な可変速搬入移送装置の可変な搬入移送速度を前記工程移送装置の工程移送速度に一致させることを特徴とする基板製造移送設備。 2. The control device according to claim 1, wherein the control device sets a variable carry-out transfer speed of a variable-speed carry-out transfer device that is arranged in series on the downstream side of the carry-out end and that can transfer a processed substrate subjected to the manufacturing process. Match the process transfer speed of the transfer device,
Alternatively, the control device according to claim 2, wherein the control device is arranged in series upstream of the carry-in end, and the variable carry-in transfer speed of the variable-speed carry-in transfer device capable of transferring the substrate is set to the process transfer speed of the process transfer device. A substrate manufacturing and transporting facility characterized by conforming to
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