JP2010138422A - Metal foil having functional film, flexible metal covered layered plate, electronic component mounting module, and method for manufacturing the same - Google Patents

Metal foil having functional film, flexible metal covered layered plate, electronic component mounting module, and method for manufacturing the same Download PDF

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Junya Kasahara
純也 笠原
Akihiro Kobayashi
章洋 小林
Tadashi Koike
匡 小池
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal foil member which is formed using a conductive metal foil having a flat surface without any surface roughing treatment, and improved in adhesiveness to an organic base material or an anisotropic conductive film. <P>SOLUTION: In the metal foil with a functional film having an insulating functional film 2 on one side of the conductive metal foil 1, the insulating functional film is formed by using a coating liquid containing a condensation product having a main backbone of a repetitive unit of M-O in which a metal alkoxide compound expressed by a general formula (I) R<SP>1</SP><SB>n</SB>M(OR<SP>2</SP>)<SB>m-n</SB>(wherein R<SP>1</SP>denotes a non-hydrolytic group; R<SP>2</SP>denotes a 1-6C alkyl group; M denotes a metal atom selected from among silicon, titanium, zirconium, and aluminum; m denotes the valency of the metal atom M, i.e. 3 or 4; and n denotes an integer of 0 to 2 when m is 4, and an integer of 0 to 1 when m is 3) is subjected to the hydrolysis and condensation reaction. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、機能膜付き金属箔、それを用いたフレキシブル金属張り積層板、電子部品実装モジュールおよびその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、熱融着性ポリイミドフィルムなどの絶縁性有機基材上に、金属箔を密着性よく積層することができる機能膜付き金属箔、前記絶縁性有機基材の少なくとも片面に、金属箔が密着性よく積層されてなるフレキシブル金属張り積層板、この金属張り積層板と異方導電フィルムを用いて作製された品質の良好な電子部品実装モジュール、およびこのものを効率よく製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a metal foil with a functional film, a flexible metal-clad laminate using the same, an electronic component mounting module, and a method for manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a metal foil with a functional film capable of laminating a metal foil with good adhesion on an insulating organic substrate such as a heat-fusible polyimide film, at least one surface of the insulating organic substrate. In addition, a flexible metal-clad laminate in which metal foils are laminated with good adhesion, a high-quality electronic component mounting module made using this metal-clad laminate and an anisotropic conductive film, and an efficient production of this module It is about how to do.

近年、電子機器の小型化、高度化などの多様化に伴い、フレキシブル配線板の需要が増大している。このフレキシブル配線板は、一般に電気絶縁性フィルムと金属箔を必要により接着剤を介して積層一体化したフレキシブル印刷配線用基板(金属張り積層板)上に回路を作製し、このフレキシブル回路板に、該回路の保護用としてカバーレイを、半硬化状態の接着剤層を介して貼合・硬化させ、一体化してなるものである。   In recent years, with the diversification of electronic devices such as miniaturization and sophistication, the demand for flexible wiring boards is increasing. In this flexible wiring board, a circuit is generally produced on a flexible printed wiring board (metal-clad laminate) in which an electrical insulating film and a metal foil are laminated and integrated via an adhesive if necessary. For protecting the circuit, the cover lay is bonded and cured through a semi-cured adhesive layer and integrated.

このようなフレキシブル配線板は、屈曲性を有するため、電気機器や電子機器などの配線用として使用されており、この要求特性としては、接着性、耐熱性、耐溶剤性、電気特性、寸法安定性、長期耐熱性などに優れることが挙げられる。   Such flexible wiring boards have flexibility and are used for wiring of electrical equipment and electronic equipment. The required characteristics include adhesiveness, heat resistance, solvent resistance, electrical characteristics, and dimensional stability. And excellent long-term heat resistance.

さらに、近年においては、このフレキシブル配線板は、折り畳み型の携帯電話部品のように、繰り返し屈曲、摺動部分の配線に多く使用されるようになり、また、その特徴を活かして、筐体空間への高密度配置のため、そのもの自体の薄さと、使用時における折り曲げなどの信頼性や極狭間隙への組み込みといった要望がますます強くなってきている。したがって、該フレキシブル配線板に対しては、前記の要求特性以外に、それ自体の薄さと共に、折り曲げ特性及び屈曲特性に優れることが要求される。   Furthermore, in recent years, this flexible wiring board has been frequently used for wiring of repeated bending and sliding portions, like a foldable mobile phone component. Due to the high-density arrangement, there is an increasing demand for the thinness itself, reliability such as bending during use, and incorporation into an extremely narrow gap. Therefore, the flexible wiring board is required to have excellent bending characteristics and bending characteristics as well as its own thinness, in addition to the above required characteristics.

一方、近年、電子部品の小型化、薄型化、高性能化が進んでおり、それに伴い、高密度実装技術の開発が活発に行われている。この電子部品の高密度実装には回路電極の微細化は必須であり、最小対応回路ピッチが100μm以上である従来のハンダやゴムコネクターでは対応が困難である。このため、分解能に優れた異方導電性の接着剤が多用されるようになってきた。この方法は、例えば液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display;LCD)のガラス基板とTCP(Tape Carrier Package)またはFPC(Flexible Print Circuit)の微細電極同士を接続する際に、導電性微粒子を所定量含有した接着剤からなる異方導電フィルム(Anisotropic Conductive Film;ACF)を対峙させた電極の間に挟み、加熱および加圧を与えることによって両者の電極同士が電気的に接続されると共に、隣接する電極間には絶縁性を付与して、電子部品と電極とが接着固定されるものである。   On the other hand, in recent years, electronic components have been reduced in size, thickness, and performance, and high-density packaging technology has been actively developed. Miniaturization of circuit electrodes is indispensable for high-density mounting of electronic components, and it is difficult to cope with conventional solders and rubber connectors having a minimum corresponding circuit pitch of 100 μm or more. For this reason, anisotropic conductive adhesives having excellent resolution have been frequently used. In this method, for example, when a glass substrate of a liquid crystal display (LCD) and a fine electrode of a TCP (Tape Carrier Package) or FPC (Flexible Print Circuit) are connected to each other, an adhesive containing a predetermined amount of conductive fine particles is used. An anisotropic conductive film (ACF) made of an agent is sandwiched between opposed electrodes and heated and pressurized to electrically connect the two electrodes, and between adjacent electrodes. Is for providing an insulating property, and the electronic component and the electrode are bonded and fixed.

電子部品のACF実装は転写、位置合わせ、圧着の3つのプロセスから成っている。始めに一方の電子部品もしくは基板にACFを貼り付ける。次にもうひとつの電子部品もしくは基板の電極の位置合わせを行う。最後に150℃〜180℃程度の加熱と2〜3MPa程度の加圧を同時に行うことにより接続する電極間のACF樹脂が排除され、導電性微粒子が電極間に捕捉されることで、電極が電気的に導通する。その後ACF樹脂が硬化することで接続する電極間が物理的に接着される。このとき、樹脂流動、樹脂硬化および電極接続を行う。異方導電性は、向かい合う電極の導通と隣接した電極間の絶縁を導電粒子の直径3〜10μmおよびそれを充填する密度を最適化することにより発現する(非特許文献1参照)。   ACF mounting of electronic components consists of three processes: transfer, alignment, and crimping. First, ACF is attached to one electronic component or substrate. Next, another electronic component or substrate electrode is aligned. Finally, the ACF resin between the electrodes to be connected is eliminated by simultaneously heating at about 150 ° C. to 180 ° C. and pressurizing at about 2 to 3 MPa, and the conductive fine particles are captured between the electrodes, so that the electrodes are electrically Conductive. Thereafter, the electrodes to be connected are physically bonded by curing the ACF resin. At this time, resin flow, resin curing, and electrode connection are performed. The anisotropic conductivity is manifested by optimizing the diameter of the conductive particles and the density of filling the conductive particles with the diameter of 3 to 10 μm for the conduction between the electrodes facing each other and the insulation between the adjacent electrodes (see Non-Patent Document 1).

ところで、このようなフレキシブル配線板に用いられるフレキシブル金属張り積層板としては、一般にポリイミドフィルムと銅箔を積層した銅張り積層板(CCL)が使用されている。この銅張り積層板においては、銅箔とポリイミドフィルムとの強固な密着性が要求されるために、例えば銅箔表面に対して、粗化処理とバリヤ処理を組み合わせた表面処理、あるいは粗化処理とバリヤ処理と防錆処理を組み合わせた表面処理が施されている(特許文献1参照)。このような表面処理により、銅箔とポリイミドフィルムのアンカー効果により密着性が改善され、また、エッチングにより銅を除去した後にも銅箔の粗面化形状がポリイミドフィルム表面に転写され凹凸形状が形成される。この形状により配線形成後に接着して使用される異方導電フィルムとの密着性もアンカー効果により確保され良好な密着性を示す。   By the way, as a flexible metal-clad laminate used for such a flexible wiring board, a copper-clad laminate (CCL) obtained by laminating a polyimide film and a copper foil is generally used. In this copper-clad laminate, since strong adhesion between the copper foil and the polyimide film is required, for example, the copper foil surface is a surface treatment that combines a roughening treatment and a barrier treatment, or a roughening treatment. And surface treatment which combined barrier treatment and rust prevention treatment is performed (refer to patent documents 1). Such surface treatment improves adhesion due to the anchor effect of the copper foil and polyimide film, and even after removing copper by etching, the roughened shape of the copper foil is transferred to the polyimide film surface to form an uneven shape. Is done. Due to this shape, the adhesion with the anisotropic conductive film used after bonding after wiring formation is also secured by the anchor effect and exhibits good adhesion.

他方で、実際にフレキシブルプリント配線材料として使用する場合、近年、電気信号の高周波化が進められている中で、上記の様な手法による銅箔の粗面化を行う場合、送電信号の遅延が起こり課題となっている。このため、銅箔の表面(ポリイミドフィルムとの界面)を平坦な状態に保ったままで、ポリイミドフィルムとの密着性を確保する必要があるが、この場合は銅箔表面にシランカップリング剤処理などの表面処理を行い、ポリイミドフィルムとの化学的な相互作用を発現させて密着性を向上させる手法が提案されているが、本手法においては銅箔とポリイミドフィルムとの密着性は確保されるが、エッチング処理など施した後の異方導電フィルムとの密着性が充分ではない。   On the other hand, when actually used as a flexible printed wiring material, the frequency of electrical signals has been increased in recent years, and when the copper foil is roughened by the above method, the delay of the transmission signal is reduced. It has become a problem. For this reason, it is necessary to ensure adhesion with the polyimide film while keeping the surface of the copper foil (interface with the polyimide film) in a flat state. In this case, the copper foil surface is treated with a silane coupling agent, etc. Has been proposed to improve the adhesion by developing a chemical interaction with the polyimide film, but in this method, the adhesion between the copper foil and the polyimide film is ensured. The adhesion with the anisotropic conductive film after the etching process is not sufficient.

特開2003−86936号公報JP 2003-86936 A MATERIAL STAGE Vol.7, No.11 2008MATERIAL STAGE Vol. 7, no. 11 2008

本発明は、このような事情のもとで、平坦な表面を有する導電性金属箔を用いる場合であっても、絶縁性有機基材や異方導電フィルムとの密着性が良好な金属箔部材、前記絶縁性有機基材の少なくとも片面に、前記金属箔部材が密着性よく積層されてなるフレキシブル金属張り積層板、異方導電フィルムとの密着性などの品質の良好な電子部品実装モジュールおよびこのものを効率よく製造する方法を提供することを目的とするものである。   Under such circumstances, the present invention is a metal foil member having good adhesion to an insulating organic substrate or anisotropic conductive film even when a conductive metal foil having a flat surface is used. A flexible metal-clad laminate in which the metal foil member is laminated with good adhesion on at least one surface of the insulating organic base material, an electronic component mounting module with good quality such as adhesion with an anisotropic conductive film, and the like An object of the present invention is to provide a method for efficiently manufacturing a product.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、導電性金属箔の表面に、特定の金属アルコキシド化合物を加水分解−縮合反応させて得られた縮合物を含む塗工液を用いて形成されてなる絶縁性機能膜付き金属箔が、金属箔部材としてその目的に適合し得ること、そして、絶縁性有機基材の少なくとも片面に、上記機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層することにより、所望のフレキシブル金属張り積層板が得られることを見出した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors have applied a coating containing a condensate obtained by subjecting a surface of a conductive metal foil to a hydrolysis-condensation reaction of a specific metal alkoxide compound. The metal foil with an insulating functional film formed using a liquid can be adapted to the purpose as a metal foil member, and the metal foil with a functional film is provided on at least one surface of the insulating organic substrate. It has been found that a desired flexible metal-clad laminate can be obtained by laminating via a functional film.

さらに、このフレキシブル金属張り積層板と異方導電フィルムを用い、特定の工程を施して電子部品を実装することにより、品質の良好な電子部品実装モジュールが効率よく得られることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
Furthermore, the present inventors have found that an electronic component mounting module with good quality can be efficiently obtained by using this flexible metal-clad laminate and an anisotropic conductive film to mount an electronic component by performing a specific process.
The present invention has been completed based on such findings.

すなわち、本発明は、
(1) 導電性金属箔の片面に、絶縁性機能膜を有する機能膜付き金属箔であって、前記絶縁性機能膜が、一般式(I)
M(ORm−n …(I)
(式中、Rは非加水分解性基、Rは炭素数1〜6のアルキル基であり、Mはケイ素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、Rが複数ある場合、各Rはたがいに同一であっても異なっていてもよく、ORが複数ある場合、各ORはたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表される金属アルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応してなるM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含む塗工液を用いて形成されてなることを特徴とする、機能膜付き金属箔、
(2) 金属アルコキシドの金属原子Mが2種以上である、上記(1)項に記載の機能膜付き金属箔、
(3) 塗工液がさらに絶縁性粒子を含む、上記(1)または(2)項に記載の機能膜付き金属箔、
(4) 導電性金属箔が銅箔である、上記(1)〜(3)項のいずれか1項に記載の機能膜付き金属箔、
(5) 絶縁性有機基材の少なくとも片面に、上記(1)〜(4)項のいずれか1項に記載の機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層してなることを特徴とする、フレキシブル金属張り積層板、
(6) 絶縁性有機基材が熱融着性ポリイミドフィルムである、上記(5)項に記載のフレキシブル金属張り積層板、
(7) 上記(5)または(6)項に記載のフレキシブル金属張り積層板、および異方導電フィルムを用いて、電子部品を実装してなることを特徴とする、電子部品実装モジュール、および
(8) (a)上記(5)または(6)項に記載のフレキシブル金属張り積層板の金属箔にエッチング処理を施して回路パターンを形成し、フレキシブル配線板を作製する工程、(b)前記フレキシブル配線板の回路パターン上に異方導電フィルムを仮圧着する工程、(c)前記異方導電フィルム上に電子部品を載置し、該電子部品の接続端子とフレキシブル配線板における回路パターンの所定の回路とが接続できるように位置合わせをする工程、および(d)加熱加圧処理により、異方導電フィルムのマトリックス樹脂を硬化させて本圧着させる工程、を含むことを特徴とする、電子部品実装モジュールの製造方法、
を提供するものである。
That is, the present invention
(1) A metal foil with a functional film having an insulating functional film on one side of a conductive metal foil, wherein the insulating functional film has the general formula (I)
R 1 n M (OR 2 ) m−n (I)
Wherein R 1 is a non-hydrolyzable group, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, M is a metal atom selected from silicon, titanium, zirconium and aluminum, and m is a metal atom The valence of M is 3 or 4, and n is an integer of 0 to 2 when m is 4, an integer of 0 to 1 when m is 3, and each R when there are a plurality of R 1 1 may be different even identical to each other, if the OR 2 there are a plurality, each OR 2 may be different even identical to each other.)
A functional film formed by using a coating liquid containing a condensate having a main skeleton of a MO repeating unit obtained by hydrolysis-condensation of a metal alkoxide compound represented by With metal foil,
(2) The metal foil with a functional film according to the above (1), wherein the metal atom M of the metal alkoxide is 2 or more types,
(3) The metal foil with a functional film according to the above (1) or (2), wherein the coating liquid further contains insulating particles,
(4) The metal foil with a functional film according to any one of (1) to (3), wherein the conductive metal foil is a copper foil,
(5) The metal foil with a functional film according to any one of the above (1) to (4) is laminated on at least one surface of the insulating organic base material via the functional film. A flexible metal-clad laminate,
(6) The flexible metal-clad laminate according to (5) above, wherein the insulating organic base material is a heat-fusible polyimide film,
(7) An electronic component mounting module, wherein an electronic component is mounted using the flexible metal-clad laminate and the anisotropic conductive film described in (5) or (6) above, and ( 8) (a) A step of etching the metal foil of the flexible metal-clad laminate described in the above (5) or (6) to form a circuit pattern to produce a flexible wiring board, (b) the flexible A step of temporarily pressing an anisotropic conductive film on a circuit pattern of a wiring board; (c) placing an electronic component on the anisotropic conductive film; and connecting a terminal of the electronic component and a predetermined circuit pattern of the flexible wiring board A step of aligning so that the circuit can be connected, and (d) a step of curing and pressing the matrix resin of the anisotropic conductive film by heat and pressure treatment, Characterized in that it comprises, a manufacturing method of an electronic component mounting module,
Is to provide.

本発明によれば、熱融着性ポリイミドなどの絶縁性有機基材上に、金属箔を密着性よく積層することができる機能膜付き金属箔、前記絶縁性有機基材の少なくとも片面に、金属箔が密着性よく積層されてなるフレキシブル金属張り積層板、この金属張り積層板の金属箔部分をパターニング処理したフレキシブル配線板と異方導電フィルムを用いてなる、品質の良好な電子部品実装モジュール、およびこの電子部品実装モジュールを効率よく製造する方法を提供することができる。   According to the present invention, a metal foil with a functional film capable of laminating a metal foil with good adhesion on an insulating organic substrate such as a heat-fusible polyimide, a metal on at least one surface of the insulating organic substrate. A flexible metal-clad laminate in which foil is laminated with good adhesion, a flexible wiring board obtained by patterning the metal foil part of this metal-clad laminate, and an anisotropic conductive film, and a high-quality electronic component mounting module, And the method of manufacturing this electronic component mounting module efficiently can be provided.

まず、本発明の機能膜付き金属箔について説明する。
[機能膜付き金属箔]
本発明の機能膜付き金属箔は、導電性金属箔の片面に、絶縁性機能膜を有する機能膜付き金属箔であって、前記絶縁性機能膜が、下記一般式(I)で表される金属アルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応してなるM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含む塗工液を用いて形成されてなることを特徴とする。
First, the metal foil with a functional film of the present invention will be described.
[Metal foil with functional film]
The metal foil with a functional film of the present invention is a metal foil with a functional film having an insulating functional film on one side of the conductive metal foil, and the insulating functional film is represented by the following general formula (I): The metal alkoxide compound is formed by using a coating liquid containing a condensate having a main skeleton of MO repeating units formed by hydrolysis-condensation reaction.

(導電性金属箔)
本発明の機能膜付き金属箔における導電性金属箔としては、特に制限はなく、従来金属張り積層板に用いられている金属箔の中から、任意のものを適宜選択して使用することができる。
(Conductive metal foil)
There is no restriction | limiting in particular as electroconductive metal foil in the metal foil with a functional film of this invention, From the metal foil conventionally used for the metal-clad laminated board, arbitrary things can be selected suitably and can be used. .

金属箔としては、銅箔、アルミニウム箔等を用いることができるが、回路形成など後工程を考慮すると、銅箔であることが好ましく、ここで用いられる銅箔の種類としては圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられ、いずれも使用することができる。   As the metal foil, copper foil, aluminum foil or the like can be used. However, in consideration of subsequent processes such as circuit formation, copper foil is preferable, and the types of copper foil used here are rolled copper foil, electrolytic A copper foil etc. are mentioned and all can be used.

本発明に使用される金属箔の厚さは3〜35μmであることが好ましく、より好ましくは、5〜18μmである。金属箔の厚さが3μmより薄いと金属箔の機械的特性が低下するため、作業効率が著しく低下し、35μmより厚いとエッチング時に金属エッジをシャープにすることが困難になり、100μm以下のファインパターンの回路作製に際しては、目的の回路ピッチに調整するのが極めて難しくなる。   The thickness of the metal foil used in the present invention is preferably 3 to 35 μm, and more preferably 5 to 18 μm. If the thickness of the metal foil is less than 3 μm, the mechanical properties of the metal foil are lowered, so that the working efficiency is remarkably lowered. If the thickness is more than 35 μm, it becomes difficult to sharpen the metal edge during etching, and a fineness of 100 μm or less. In pattern circuit fabrication, it becomes extremely difficult to adjust to a target circuit pitch.

(塗工液)
本発明の機能膜付き金属箔において、機能膜形成に用いられる塗工液は、一般式(I)
M(ORm−n …(I)
で表される金属アルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応してなるM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含む塗工液である。
(Coating fluid)
In the metal foil with a functional film of the present invention, the coating liquid used for forming the functional film is represented by the general formula (I).
R 1 n M (OR 2 ) m−n (I)
It is a coating liquid containing the condensate which has as a main skeleton the repeating unit of MO formed by carrying out hydrolysis-condensation reaction of the metal alkoxide compound represented by these.

上記一般式(I)において、Rは非加水分解性基、例えば炭素数1〜20のアルキル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基若しくはエポキシ基を有する炭素数1〜20のアルキル基やアルケニル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基又は炭素数7〜20のアラルキル基を示す。ここで、炭素数1〜20のアルキル基としては、炭素数1〜10のものが好ましく、またこのアルキル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。この他にも、水酸基やチオール、イミダゾールなどの置換基を含む官能基も挙げることが出来る。 In the general formula (I), R 1 is a non-hydrolyzable group such as an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a (meth) acryloyloxy group, an amino group or an epoxy group, and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. An alkenyl group, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms is shown. Here, as a C1-C20 alkyl group, a C1-C10 thing is preferable, and this alkyl group may be linear, branched, or cyclic. In addition to this, functional groups containing substituents such as hydroxyl groups, thiols, and imidazoles can also be mentioned.

このアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。(メタ)アクリロイルオキシ基、アミノ基若しくはエポキシ基を有する炭素数1〜20のアルキル基としては、上記置換基を有する炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、またこのアルキル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。この置換基を有するアルキル基の例としては、γ−アクリロイルオキシプロピル基、γ−メタクリロイルオキシプロピル基、γ―アミノプロピル基、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピル基、3−フェルアミノプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基などが挙げられる。炭素数2〜20のアルケニル基としては、炭素数2〜10のアルケニル基が好ましく、また、このアルケニル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。このアルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基などが挙げられる。炭素数6〜20のアリール基としては、炭素数6〜10のものが好ましく、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられる。炭素数7〜20のアラルキル基としては、炭素数7〜10のものが好ましく、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。   Examples of this alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, cyclopentyl. Group, cyclohexyl group and the like. As a C1-C20 alkyl group which has a (meth) acryloyloxy group, an amino group, or an epoxy group, the C1-C10 alkyl group which has the said substituent is preferable, and this alkyl group is linear, It may be either branched or annular. Examples of the alkyl group having this substituent include γ-acryloyloxypropyl group, γ-methacryloyloxypropyl group, γ-aminopropyl group, 3- (2-aminoethylamino) propyl group, and 3-feraminopropyl group. , Γ-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group and the like. The alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and the alkenyl group may be linear, branched or cyclic. Examples of the alkenyl group include vinyl group, allyl group, butenyl group, hexenyl group, octenyl group and the like. As a C6-C20 aryl group, a C6-C10 thing is preferable, for example, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group etc. are mentioned. As a C7-20 aralkyl group, a C7-10 thing is preferable, for example, a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group etc. are mentioned.

一方、Rは炭素数1〜6のアルキル基であって、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、その例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。Mは珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数である。Rが複数ある場合、各Rはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよく、またORが複数ある場合、各ORはたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 On the other hand, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, which may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and isopropyl. Group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. M represents a metal atom selected from silicon, titanium, zirconium and aluminum, m is a valence of the metal atom M and is 3 or 4, and n is an integer of 0 to 2 when m is 4, When m is 3, it is an integer of 0-1. When R 1 are a plurality, each R 1 may be mutually identical or different and, where OR 2 there are a plurality, each OR 2 may be the mutually the same, or different It may be.

上記一般式(I)で表されるアルコキシド化合物において、Mが4価のチタン、珪素、ジルコニウムであって、mが4で、nが0〜3の整数である場合のアルコキシド化合物の例としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン、メチルトリメトキシチタン、メチルトリエトキシチタン、メチルトリプロポキシチタン、メチルトリイソプロポキシチタン、エチルトリメトキシチタン、エチルトリエトキシチタン、プロピルトリエトキシチタン、ブチルトリメトキシチタン、フェニルトリメトキシチタン、フェニルトリエトキシチタン、ビニルトリメトキシチタン、ビニルトリエトキシチタン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシチタン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシチタン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシチタン、ジメチルジメトキシチタン、メチルフェニルジメトキシチタンなど、および上記化合物におけるチタンを、シランまたはジルコニウムに置き換えた化合物を挙げることができる。   Examples of the alkoxide compound represented by the above general formula (I), in which M is tetravalent titanium, silicon, zirconium, m is 4, and n is an integer of 0 to 3, , Tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetraisobutoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, methyltrimethoxy Titanium, methyl triethoxy titanium, methyl tripropoxy titanium, methyl triisopropoxy titanium, ethyl trimethoxy titanium, ethyl triethoxy titanium, propyl triethoxy titanium, butyl trimethoxy titanium, phenyl trimethoxy titanium, phenyl triethoxy titanium, vinyl tri Methoxytitanium, vinyltriethoxytitanium, γ-glycidoxypropyltrimethoxytitanium, γ-acryloyloxypropyltrimethoxytitanium, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxytitanium, dimethyldimethoxytitanium, methylphenyldimethoxytitanium, and the like in the above compounds Mention may be made of compounds in which titanium is replaced by silane or zirconium.

また、上記一般式(I)で表されるアルコキシド化合物において、Mが3価のアルミニウムであって、mが3で、nが0〜1の整数である場合のアルコキシド化合物の例としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−n−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−n−ブトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ−tert−ブトキシアルミニウム、メチルジメトキシアルミニウム、メチルジエトキシアルミニウム、メチルジプロポキシアルミニウム、エチルジメトキシアルミニウム、エチルジエトキシアルミニウム、プロピルジエトキシアルミニウムなどを挙げることができる。   Examples of the alkoxide compound represented by the above general formula (I) in which M is trivalent aluminum, m is 3, and n is an integer of 0 to 1 include tri Methoxy aluminum, triethoxy aluminum, tri-n-propoxy aluminum, triisopropoxy aluminum, tri-n-butoxy aluminum, triisobutoxy aluminum, tri-sec-butoxy aluminum, tri-tert-butoxy aluminum, methyl dimethoxy aluminum, methyl Examples include diethoxyaluminum, methyldipropoxyaluminum, ethyldimethoxyaluminum, ethyldiethoxyaluminum, and propyldiethoxyaluminum.

これらのアルコキシド化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   These alkoxide compounds may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

上記一般式(I)で表されるアルコキシド化合物の加水分解−縮合反応は、例えばアルコール系、セロソルブ系、ケトン系、エーテル系などの極性溶媒、特に好ましくはイソプロパノール中において、該アルコキシド化合物を、水又は水と塩酸、硫酸、硝酸などの酸、あるいは固体酸としてのカチオン交換樹脂を用い、通常0〜60℃、好ましくは20〜40℃の温度にて加水分解処理し、固体酸を用いた場合には、それを除去したのち、さらに、所望により溶媒を留去または添加することにより行うことができ、上記反応により、M−O(Mは上記と同じである。)の繰り返し単位を主骨格とする縮合物を所定濃度で含む塗工液を得ることができる。   The hydrolysis-condensation reaction of the alkoxide compound represented by the general formula (I) is carried out by subjecting the alkoxide compound to water in a polar solvent such as an alcohol, cellosolve, ketone, or ether, particularly preferably isopropanol. Or when water and acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, or a cation exchange resin as a solid acid is used, it is hydrolyzed at a temperature of usually 0-60 ° C., preferably 20-40 ° C., and a solid acid is used. Can be carried out by removing the solvent or adding or removing the solvent, if desired, by the reaction described above, and the reaction can be carried out with the repeating unit of M-O (M is the same as above) as the main skeleton. Thus, a coating liquid containing a condensate having a predetermined concentration can be obtained.

上記M−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物は、銅箔などの金属箔に対する接着性に優れると共に、一般式(I)におけるORの加水分解により生じるOH基が残存しているために、ポリイミドフィルムなどの有機基材や、後述の異方導電フィルムにおけるマトリックス樹脂に対する接着性にも優れている。また、一般式(I)において、nが1以上の場合、Rとしてγ−グリシドキシプロピル基や、3,4−エポキシシクロヘキシル基などのエポキシ含有基、γ−アミノプロピル基、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピル基や3−フェルアミノプロピル基を用いると、これらの基が該縮合物中に存在するため、ポリイミドフィルムなどの有機基材や異方導電フィルムに対する密着性がさらに向上する。 The condensate having the above-mentioned MO repeating unit as the main skeleton has excellent adhesion to a metal foil such as copper foil, and the OH group generated by hydrolysis of OR 2 in the general formula (I) remains. Moreover, it is excellent also in the adhesiveness with respect to the matrix resin in organic base materials, such as a polyimide film, and the anisotropic conductive film mentioned later. In the general formula (I), when n is 1 or more, R 1 is an epoxy-containing group such as γ-glycidoxypropyl group or 3,4-epoxycyclohexyl group, γ-aminopropyl group, 3- ( When 2-aminoethylamino) propyl group or 3-feraminopropyl group is used, since these groups are present in the condensate, adhesion to organic substrates such as polyimide films and anisotropic conductive films is further improved. To do.

当該塗工液における上記縮合物の濃度については、金属箔上に塗工可能な濃度であればよく、特に制限はないが、通常50.0〜0.05質量%程度、好ましくは30.0〜0.5質量%である。   About the density | concentration of the said condensate in the said coating liquid, what is necessary is just a density | concentration which can be coated on metal foil, and there is no restriction | limiting in particular, Usually about 50.0-0.05 mass%, Preferably it is 30.0. It is -0.5 mass%.

<絶縁性粒子>
当該塗工液には、金属箔、有機基材、異方導電フィルムなどに対する密着性を向上させる目的で、絶縁性粒子を含有させることができる。
<Insulating particles>
The coating liquid can contain insulating particles for the purpose of improving adhesion to a metal foil, an organic base material, an anisotropic conductive film, and the like.

絶縁性粒子としては、アンカー効果による密着性向上の観点から、平均粒径が、好ましくは10〜2000nm、より好ましくは50〜500nmの範囲にあるシリカ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子、酸化亜鉛粒子、酸化イットリウム粒子、酸化セリウム粒子などを用いることができる。上記絶縁性粒子は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、アンカー効果を増大させるために、比較的平均粒径の小さい粒子が凝集した2次粒子を使用しても良い。   Insulating particles include silica particles, titania particles, zirconia particles, alumina particles, oxidized particles having an average particle diameter of preferably 10 to 2000 nm, more preferably 50 to 500 nm, from the viewpoint of improving adhesion due to the anchor effect. Zinc particles, yttrium oxide particles, cerium oxide particles, and the like can be used. The said insulating particle may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. In order to increase the anchor effect, secondary particles in which particles having a relatively small average particle diameter are aggregated may be used.

このような絶縁性粒子を含む塗工液を、金属箔上に塗工した場合、金属箔上に表面が凹凸形状を有する絶縁性機能膜が形成し、絶縁性有機基材と貼り合せの際にアンカー効果が付与され、密着性よく接合する。また、金属箔と絶縁性有機基材とを熱により圧着する場合、使用する絶縁性有機基材、例えばポリイミドフィルムは表面に熱可塑性樹脂層を有するものが好ましく、熱圧着の際に上記有機基材の表面が可塑化して、金属箔表面に形成された絶縁性機能膜の凹凸粒子が、該有機基材の表面層に埋め込まれる。   When such a coating liquid containing insulating particles is applied onto a metal foil, an insulating functional film having a concavo-convex shape is formed on the metal foil, and when the insulating liquid is bonded to the insulating organic base material. An anchor effect is imparted to the material, and bonding is performed with good adhesion. In addition, when the metal foil and the insulating organic base material are pressure-bonded by heat, the insulating organic base material to be used, for example, a polyimide film preferably has a thermoplastic resin layer on the surface, and the above organic group is used during the thermo-compression bonding. The surface of the material is plasticized, and the irregular particles of the insulating functional film formed on the surface of the metal foil are embedded in the surface layer of the organic base material.

後述のように、配線形成するために前記金属箔のエッチング処理を行う際に、埋め込まれた粒子が有機基材表面に凹凸を形成し、この形成された凹凸が、異方導電フィルムを熱圧着する際にアンカー効果として働き、異方導電フィルムと前記有機基材との密着性を向上させる。凝集した2次粒子を使用する場合、形成される凹凸形状が高次構造となりより効果的である。   As will be described later, when the metal foil is etched to form a wiring, the embedded particles form irregularities on the surface of the organic base material, and the irregularities thus formed thermocompress the anisotropic conductive film. When working, it works as an anchor effect and improves the adhesion between the anisotropic conductive film and the organic substrate. When the aggregated secondary particles are used, the formed uneven shape has a higher order structure and is more effective.

また、より積極的に絶縁性有機基材面に凹凸構造を形成させるためには、塗工液の塗膜形成成分である、前記加水分解−縮合反応による縮合物として、金属箔エッチング時に該金属箔と同時にエッチングされる材料を採用することができる。これにより、エッチング時に有機基材表面に該粒子による凹凸を形成しやすくなる。   Further, in order to more actively form a concavo-convex structure on the surface of the insulative organic substrate, the metal film is etched as a condensate by the hydrolysis-condensation reaction, which is a coating film forming component of the coating liquid. A material that is etched simultaneously with the foil can be employed. Thereby, it becomes easy to form the unevenness | corrugation by this particle | grain on the organic base material surface at the time of an etching.

さらに、添加する絶縁性粒子として、金属箔エッチング時に、該金属箔と同時にエッチングされる粒子を使用してもよい。この場合、添加した絶縁性粒子が、金属箔エッチング時に同時に溶解し、粒子形状とは対称となる凹凸が有機基材表面に形成され、アンカー効果として寄与する。   Further, as the insulating particles to be added, particles etched simultaneously with the metal foil may be used during the etching of the metal foil. In this case, the added insulating particles are simultaneously dissolved during the etching of the metal foil, and irregularities that are symmetrical to the particle shape are formed on the surface of the organic base material, contributing to the anchor effect.

このようなアンカー効果をより良く発揮させるためには、添加する絶縁性粒子は、その平均粒径が、金属箔上に形成された機能膜の厚さよりも大きいものであることが好ましい。   In order to exhibit such an anchor effect better, the insulating particles to be added preferably have an average particle size larger than the thickness of the functional film formed on the metal foil.

当該塗工液における前記絶縁性粒子の含有量は、アンカー効果などの観点から、前記一般式(I)で表される金属アルコキシドの加水分解−縮合物100質量部に対して、通常5〜900質量部程度、好ましくは20〜500質量部である。   The content of the insulating particles in the coating liquid is usually 5 to 900 with respect to 100 parts by mass of the hydrolysis-condensate of the metal alkoxide represented by the general formula (I) from the viewpoint of the anchor effect and the like. About part by mass, preferably 20 to 500 parts by mass.

当該塗工液を金属箔上に塗工する方法としては特に制限はなく、従来公知の方法、例えばスピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などにより塗工し、成膜したのち、自然乾燥または加熱乾燥することにより、所望の機能膜を形成することができる。機能膜の厚さは、通常0.01〜3.00μm程度、好ましくは0.05〜1.00μmである。   The method for coating the coating liquid on the metal foil is not particularly limited, and conventionally known methods such as spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, A desired functional film can be formed by coating by a die coating method, a gravure coating method, etc., forming a film, and then naturally drying or heat drying. The thickness of the functional film is usually about 0.01 to 3.00 μm, preferably 0.05 to 1.00 μm.

(成分傾斜膜)
本発明の機能膜付き金属箔においては、機能膜として、以下に示すような成分傾斜膜を金属箔上に形成することができる。
(Component gradient film)
In the metal foil with a functional film of the present invention, a component gradient film as shown below can be formed on the metal foil as the functional film.

この成分傾斜膜は金属箔側が実質上金属酸化物成分であり、その反対側(開放面側)が実質上有機高分子化合物成分であって、両者の含有割合が膜厚方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有する機能膜である。   In this component gradient film, the metal foil side is substantially a metal oxide component, and the opposite side (open surface side) is substantially an organic polymer compound component, and the content ratio of both is continuously changed in the film thickness direction. It is a functional film having a component gradient structure.

このような成分傾斜膜は、金属箔との密着性が良好であると共に、絶縁性有機基材との密着性および異方導電フィルムとの密着性も良好である。   Such a component gradient film has good adhesion to the metal foil, and also good adhesion to the insulating organic substrate and adhesion to the anisotropic conductive film.

当該成分傾斜膜は、例えば(A)分子中に加水分解により金属酸化物と結合し得る金属含有基を有する有機高分子化合物と共に、(B)加水分解により金属酸化物を形成し得る金属含有化合物を加水分解処理してなるコーティング剤を用いて形成させることができる。   The component gradient film includes, for example, (A) an organic polymer compound having a metal-containing group capable of binding to a metal oxide by hydrolysis in the molecule, and (B) a metal-containing compound capable of forming a metal oxide by hydrolysis. Can be formed using a coating agent obtained by hydrolyzing.

前記(A)成分の加水分解性金属含有基を有する有機高分子化合物は、例えば(a)加水分解性金属含有基を有するエチレン性不飽和単量体と、(b)金属を含まないエチレン性不飽和単量体を共重合させることにより、得ることができる。   The organic polymer compound having a hydrolyzable metal-containing group as the component (A) includes, for example, (a) an ethylenically unsaturated monomer having a hydrolyzable metal-containing group, and (b) an ethylenic material not containing a metal. It can be obtained by copolymerizing unsaturated monomers.

一方、(B)成分の加水分解により金属酸化物を形成し得る金属含有化合物としては、テトラアルコキシシラン類、テトラアルコキシチタン類、テトラアルコキシジルコニウム類、トリアルコキシアルミニウム類などを挙げることができる。   On the other hand, examples of the metal-containing compound capable of forming a metal oxide by hydrolysis of the component (B) include tetraalkoxysilanes, tetraalkoxytitaniums, tetraalkoxyzirconiums, trialkoxyaluminums and the like.

なお、前記コーティング剤については、特開2000−336281号公報に、その詳細が記載されている。   In addition, about the said coating agent, the detail is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-336281.

このようにして作製された本発明の機能膜付き金属箔は、以下に示す金属箔が密着性よく積層されてなるフレキシブル金属張り積層板および品質の良好な電子部品実装モジュールを作製するための材料として用いることができる。   The metal foil with a functional film of the present invention thus produced is a material for producing a flexible metal-clad laminate obtained by laminating the following metal foils with good adhesion and an electronic component mounting module with good quality. Can be used as

[フレキシブル金属張り積層板]
本発明のフレキシブル金属張り積層板(以下、単に金属張り積層板と称することがある。)は、絶縁性有機基材の少なくとも片面に、前述した本発明の機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層してなることを特徴とする。
[Flexible metal-clad laminate]
The flexible metal-clad laminate of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a metal-clad laminate) is obtained by applying the above-described metal foil with a functional film of the present invention to at least one surface of an insulating organic substrate. It is characterized by being laminated through.

(絶縁性有機基材)
本発明の金属張り積層板に用いられる絶縁性有機基材については特に制限はなく、従来金属張り積層板において慣用されている絶縁性有機基材の中から任意のものを適宜選択して用いることができる。このような絶縁性有機基材としては、例えばポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、アラミドフィルム等が例示され、中でも耐熱性、寸法安定性及び機械特性などの観点からポリイミドフィルムが好ましい。このポリイミドフィルムとしては、表面が熱可塑性である熱融着性ポリイミドフィルムが、本発明の機能膜付き金属箔との密着性の観点から好ましい。
(Insulating organic base material)
There is no particular limitation on the insulating organic substrate used in the metal-clad laminate of the present invention, and any one of the insulating organic substrates conventionally used in metal-clad laminates can be appropriately selected and used. Can do. Examples of such an insulating organic substrate include a polyimide film, a polyester film, a polyparabanic acid film, a polyphenylene sulfide film, an aramid film, and the like. Among them, a polyimide film is used from the viewpoint of heat resistance, dimensional stability, mechanical properties, and the like. preferable. As this polyimide film, the heat-fusible polyimide film whose surface is thermoplastic is preferable from the viewpoint of adhesion to the metal foil with a functional film of the present invention.

前記ポリイミドフィルム表面の熱可塑性ポリイミドとしては、例えば、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル及び、3,3’−ジアミノベンゾフェノンから選ばれた少なくとも1種のジアミンと、3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選ばれた少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物から合成されたポリイミドなどを挙げることができる。   The thermoplastic polyimide on the polyimide film surface is selected from, for example, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, and 3,3′-diaminobenzophenone. At least one diamine, 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride And a polyimide synthesized from at least one tetracarboxylic dianhydride selected from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride.

本発明の金属張り積層板においては、前記絶縁性有機基材の片面に、前述した本発明の機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層した構造を有するものであってもよいし、絶縁性有機基材の両面に、それぞれ機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層した構造を有するものであってもよい。   The metal-clad laminate of the present invention may have a structure in which the above-described metal foil with a functional film of the present invention is laminated on one side of the insulating organic substrate via the functional film. The metal foil with functional film may be laminated on both surfaces of the insulating organic base material via the functional film.

前記絶縁性有機基材と機能膜付き金属箔との積層は、該絶縁性有機基材の接合面と、機能膜付き金属箔の機能膜とを対面させて、例えば該絶縁性有機基材がポリイミドの場合は、加圧下、180〜350℃の温度において接合することにより、片面金属張り積層板、または両面金属張り積層板を作製することができる。   Lamination of the insulating organic base material and the metal foil with a functional film is performed such that the bonding surface of the insulating organic base material faces the functional film of the metal foil with a functional film, for example, the insulating organic base material is In the case of polyimide, a single-sided metal-clad laminate or a double-sided metal-clad laminate can be produced by bonding at a temperature of 180 to 350 ° C. under pressure.

図1および図2は、それぞれ本発明のフレキシブル金属張り積層板の異なる例の断面図であって、図1は、片面金属張り積層板の例を示し、図2は、両面金属張り積層板の例を示す。   1 and 2 are cross-sectional views of different examples of the flexible metal-clad laminate of the present invention. FIG. 1 shows an example of a single-sided metal-clad laminate, and FIG. An example is shown.

図1において、片面金属張り積層板10は、金属箔1と絶縁性有機基材3との間に、機能膜2が介在してなる構造を示している。一方、図2において、両面金属張り積層板20は、絶縁性有機基材13の両面に、それぞれ機能膜12aおよび12bを介して、金属箔11aおよび11bが積層されてなる構造を示している。   In FIG. 1, a single-sided metal-clad laminate 10 shows a structure in which a functional film 2 is interposed between a metal foil 1 and an insulating organic substrate 3. On the other hand, in FIG. 2, the double-sided metal-clad laminate 20 shows a structure in which metal foils 11a and 11b are laminated on both surfaces of an insulating organic base material 13 via functional films 12a and 12b, respectively.

なお、本発明の金属張り積層板においては、前述した本発明の機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層した構造を有するもののほかに、前述した機能膜を有機基材表面側に形成した機能膜付き有機基材を、該機能膜を介して積層した構造を有するものであってもよく、同様の効果が得られる。   In addition, in the metal-clad laminate of the present invention, in addition to the structure in which the above-described metal foil with a functional film of the present invention is laminated via the functional film, the above-described functional film is placed on the organic substrate surface side. It may have a structure in which the formed organic base material with a functional film is laminated via the functional film, and the same effect is obtained.

このような構造を有する本発明のフレキシブル金属張り積層板は、以下に示す電子部品実装モジュール作製用の材料として用いることができる。   The flexible metal-clad laminate of the present invention having such a structure can be used as a material for producing an electronic component mounting module shown below.

[電子部品実装モジュール、その製造方法]
本発明の電子部品実装モジュールは、前述した本発明のフレキシブル金属張り積層板、および異方導電フィルムを用いて、電子部品を実装してなることを特徴とする。
[Electronic component mounting module and its manufacturing method]
The electronic component mounting module of the present invention is characterized in that an electronic component is mounted using the above-described flexible metal-clad laminate of the present invention and an anisotropic conductive film.

また、本発明の電子部品実装モジュールの製造方法は、(a)前述したフレキシブル金属張り積層板の金属箔にエッチング処理を施して回路パターンを形成し、フレキシブル配線板を作製する工程、(b)前記フレキシブル配線板の回路パターン上に異方導電フィルムを仮圧着する工程、(c)前記異方導電フィルム上に電子部品を載置し、該電子部品の接続端子とフレキシブル配線板における回路パターンの所定の回路とが接続できるように位置合わせをする工程、および(d)加熱加圧処理により、異方導電フィルムのマトリックス樹脂を硬化させて本圧着させる工程、を含むことを特徴とする。   In addition, the manufacturing method of the electronic component mounting module according to the present invention includes: (a) a step of etching the metal foil of the above-described flexible metal-clad laminate to form a circuit pattern and producing a flexible wiring board; (b) A step of temporarily crimping an anisotropic conductive film on the circuit pattern of the flexible wiring board; (c) placing an electronic component on the anisotropic conductive film; And (d) a step of curing and subjecting the matrix resin of the anisotropic conductive film to a final press-bonding by a heating and pressurizing process.

次に、図3は、本発明の電子部品実装モジュールの製造方法の1例を示す工程図であり、前記製造方法について、この図3を参照にして説明する。なお、図3は、フレキシブル金属張り積層板として、片面金属張り積層板を用いた例を示す。   Next, FIG. 3 is a process diagram showing an example of a method for manufacturing an electronic component mounting module according to the present invention. The manufacturing method will be described with reference to FIG. FIG. 3 shows an example in which a single-sided metal-clad laminate is used as the flexible metal-clad laminate.

((a)工程)
本発明の電子部品実装モジュールの製造方法において、(a)工程は、前述した、金属箔1と絶縁性有機基材3との間に、機能膜2が介在してなる金属張り積層板10[(a)図参照]の金属箔1にエッチング処理を施して、回路パターン1aを形成しフレキシブル配線板30を作製する工程である[(b)図参照]。
(Step (a))
In the method for manufacturing an electronic component mounting module according to the present invention, the step (a) includes the above-described metal-clad laminate [10] in which the functional film 2 is interposed between the metal foil 1 and the insulating organic substrate 3 [ (A) Refer to FIG.] The metal foil 1 is etched to form a circuit pattern 1a to produce a flexible wiring board 30 [refer to FIG. (B)].

当該(a)工程における金属箔1のエッチング処理方法については特に制限はなく、従来公知の方法を採用することができる。すなわち、まずフォトリソグラフィー技術により、所定のレジストパターンを形成し、次いで、このレジストパターンをマスクとして、金属箔1をエッチング処理して所定の回路パターン1aを形成すればよい。   There is no restriction | limiting in particular about the etching processing method of the metal foil 1 in the said (a) process, A conventionally well-known method is employable. That is, a predetermined resist pattern is first formed by photolithography, and then the metal foil 1 is etched using the resist pattern as a mask to form a predetermined circuit pattern 1a.

((b)工程)
この(b)工程は、前記(a)工程で作製したフレキシブル配線板30の回路パターン1a上に異方導電フィルム4を仮圧着する工程である[(c)図参照]。
((B) Process)
This (b) process is a process of temporarily pressure-bonding the anisotropic conductive film 4 on the circuit pattern 1a of the flexible wiring board 30 produced in the (a) process [see (c) figure].

<異方導電フィルム>
当該(b)工程で用いる異方導電フィルム4に特に制限はなく、従来電子部品をフレキシブル配線板に実装する際に使用されている公知の異方導電フィルムの中から、任意のものを適宜選択して用いることができる。
<Anisotropic conductive film>
There is no restriction | limiting in particular in the anisotropic conductive film 4 used at the said (b) process, Arbitrary things are suitably selected from the well-known anisotropic conductive films currently used when mounting an electronic component on a flexible wiring board. Can be used.

異方導電フィルム4は、接着剤のマトリックス樹脂6中に、直径3〜10μm程度の大きさの導電粒子5を均一に分散した厚さ10〜50μm程度のフィルム状接着剤である。導電粒子5としては、ニッケル粒子やそれを金めっきしたもの、プラスチック核体にニッケル/金めっきした粒子などがあり、被着体の種類に応じて選択される。接着剤のマトリックス樹脂6としては、接続抵抗が低く、かつ耐熱性や接続信頼性に優れるエポキシ樹脂が、現在主流を占めている。   The anisotropic conductive film 4 is a film adhesive having a thickness of about 10 to 50 μm in which conductive particles 5 having a diameter of about 3 to 10 μm are uniformly dispersed in an adhesive matrix resin 6. Examples of the conductive particles 5 include nickel particles, gold-plated particles, and nickel / gold-plated particles on a plastic core, and are selected according to the type of adherend. As the matrix resin 6 of the adhesive, an epoxy resin having a low connection resistance and excellent in heat resistance and connection reliability is currently in the mainstream.

適用する導電粒子5の粒径分布は、異方性発現のメカニズムからシャープなほどよく、材質は、例えばプリント基板(PWB)との接続にはニッケル粒子を、フレキシブルプリント配線板(FPC)とガラス基板電極との接続には、プラスチック核体にニッケル/金めっきした導電粒子を使用するのが有利である。   The particle size distribution of the conductive particles 5 to be applied is preferably as sharp as possible due to the mechanism of anisotropy, and the material is, for example, nickel particles for connection to a printed circuit board (PWB), flexible printed wiring board (FPC) and glass. For connection to the substrate electrode, it is advantageous to use conductive particles of nickel / gold plated on the plastic core.

この導電粒子に用いる核体の材質はプラスチックの方が接続時に偏平し薄膜電極にダメージを与えることなく、接触面積の大きな接続が出来、且つ導電粒子の変形回復力による電極への密着性により、高い接続信頼性が得られることからシリカ等の固い材質よりも良い。   The core material used for the conductive particles is flat when plastic is connected and does not damage the thin film electrode, can be connected with a large contact area, and due to the adhesion to the electrode due to the deformation recovery force of the conductive particles, It is better than hard materials such as silica because high connection reliability is obtained.

((c)工程)
この(c)工程は、異方導電フィルム4上に、電子部品7を載置し、該電子部品7の接続端子8と、フレキシブル配線板における回路パターン1aの所定の回路とが接続できるように位置合わせをする工程である[(d)図参照]。
(Step (c))
In this step (c), the electronic component 7 is placed on the anisotropic conductive film 4 so that the connection terminal 8 of the electronic component 7 can be connected to a predetermined circuit of the circuit pattern 1a in the flexible wiring board. This is a process of positioning [see FIG.

((d)工程)
この(d)工程は、前記(c)工程で位置合わせしたのち、2〜3MPa程度の加圧下、150〜180℃程度で加熱加圧処理を行い、異方導電フィルム4のマトリックス樹脂6を硬化させて本圧着させる工程である。
((D) step)
In the step (d), after the alignment in the step (c), a heat and pressure treatment is performed at about 150 to 180 ° C. under a pressure of about 2 to 3 MPa to cure the matrix resin 6 of the anisotropic conductive film 4. It is the process of making it carry out this pressure bonding.

上記の加熱加圧処理の際に、接着剤のマトリックス樹脂6は溶融し流動するので、導電粒子5は加圧された上下の接続端子8と回路パターン1a間にトラップされ、マトリックス樹脂は接続端子と回路パターン間のスペース部分に濡れ広がりながら充填する。またマトリックス樹脂は、通常熱硬化性があるので、溶融流動した直後から硬化反応を開始し、増粘、固化し、5〜10秒間程度の加熱・加圧を行う接続時間で接続プロセスは完了する[(e)図参照]。   Since the adhesive matrix resin 6 melts and flows during the heating and pressing process, the conductive particles 5 are trapped between the pressurized upper and lower connection terminals 8 and the circuit pattern 1a, and the matrix resin is connected to the connection terminals. Fill the space between the circuit patterns while spreading. In addition, since the matrix resin is usually thermosetting, the curing reaction starts immediately after melting and flowing, and the connection process is completed in a connection time for thickening and solidifying and heating and pressurizing for about 5 to 10 seconds. [See (e) Figure].

接続体は硬化した接着剤によって接着され、接続する電極同士は導電粒子を介して電気的な接続がなされ、隣接する電極間には絶縁性の接着剤が充填されているので絶縁が保持される。   The connection body is bonded by a cured adhesive, and the electrodes to be connected are electrically connected through conductive particles, and insulation is maintained because an insulating adhesive is filled between adjacent electrodes. .

このようにして、品質の良好な電子部品実装モジュール40を効率よく作製することができる。   In this way, the electronic component mounting module 40 with good quality can be efficiently manufactured.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、異方導電フィルム(ACF)の接着性の評価は、以下に示す方法により行った。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
In addition, evaluation of the adhesiveness of an anisotropic conductive film (ACF) was performed by the method shown below.

(1)銅張り積層板の作製
銅箔と、熱融着性を有するポリイミドフィルム(宇部興産(株)製「ユーピレックスVT」、厚さ15μm)を重ね合わせてダブルベルトプレス装置(設定温度330℃、加圧時間2分)に投入し、銅張積層板を得た。
(1) Production of a copper-clad laminate A double belt press device (set temperature 330 ° C.) is formed by superimposing a copper foil and a polyimide film having heat-fusibility (“UPILEX VT” manufactured by Ube Industries, Ltd., thickness 15 μm). And pressurizing time 2 minutes) to obtain a copper clad laminate.

(2)評価用フィルム基板の作製
上記(1)で得られた銅張積層板を、35質量%塩化第二鉄水溶液に30℃で30分間浸漬して銅箔をエッチング除去し、水洗した。次に日本化学産業(株)製「FLICKER−MH」に30℃で20分間浸漬し、3質量%塩酸水溶液でリンス後、水洗して、評価用フィルム基板を得た。
(2) Production of Film Substrate for Evaluation The copper-clad laminate obtained in (1) above was immersed in a 35% by mass ferric chloride aqueous solution at 30 ° C. for 30 minutes, and the copper foil was removed by etching and washed with water. Next, it was immersed in “FLICKER-MH” manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd. for 20 minutes at 30 ° C., rinsed with a 3 mass% hydrochloric acid aqueous solution, and then washed with water to obtain a film substrate for evaluation.

(3)擬似ACFの作製
エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート1009」)22.5gを、トルエン13.75gとメチルエチルケトン13.75gとの混合溶媒に溶解させ、潜在性硬化剤(旭化成(株)製「HX3941HP」)22.5gとカップリング剤(信越シリコーン社製「KBM−403」)0.45gを加え、擬似ACF前駆体溶液を得た。
(3) Production of pseudo ACF 22.5 g of epoxy resin (“Epicoat 1009” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 13.75 g of toluene and 13.75 g of methyl ethyl ketone, and a latent curing agent (Asahi Kasei) 22.5 g of “HX3941HP” manufactured by Co., Ltd. and 0.45 g of a coupling agent (“KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) were added to obtain a pseudo ACF precursor solution.

離型フィルム(藤森工業(株)製「フィルムバイナ」)上に、擬似ACF前駆体溶液を液膜厚み75μmとなるように流延し、80℃の乾燥炉で9分間乾燥した。得られた塗膜を離型フィルムより剥離して、擬似ACFを得た。   A pseudo ACF precursor solution was cast on a release film (“Film Binner” manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) so as to have a liquid film thickness of 75 μm, and dried in a drying furnace at 80 ° C. for 9 minutes. The obtained coating film was peeled off from the release film to obtain a pseudo ACF.

(4)擬似ACF圧着サンプルの作製
補強用の銅箔(日鉱金属(株)製「BHY−13H−T」、厚さ18μm)のマット面の上に、上記(3)で得た擬似ACFを、さらにその上に評価用フィルム基板を重ね合わせ、プレス機にて170℃、9MPa、5分の条件で圧着し、擬似ACF圧着サンプルを得た。
(4) Preparation of pseudo ACF pressure-bonded sample On the mat surface of the reinforcing copper foil ("BHY-13H-T" manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., thickness 18 μm), the pseudo ACF obtained in the above (3) is applied. Furthermore, a film substrate for evaluation was superimposed thereon, and pressure-bonded by a press machine at 170 ° C., 9 MPa, and 5 minutes to obtain a pseudo ACF pressure-bonded sample.

(5)擬似ACF接着強度の測定
上記(4)で得た擬似ACF圧着サンプルを、(a)初期、(b)リフロー後、(c)PCT後の各状態で接着強度を測定した。ここで、(a)初期は擬似ACF圧着直後の状態であり、(b)リフロー後は最高250℃の温度プロファイルの乾燥炉に入れ、取り出して常温に戻した後の状態を指す。(c)PCT後は、(b)リフロー後のサンプルをさらに105℃/100%RHのプレッシャークッカー試験機に12時間投入し、取り出して常温に戻した後の状態を指す。
(5) Measurement of pseudo ACF adhesive strength The pseudo ACF pressure-bonded sample obtained in (4) above was measured in each state after (a) initial stage, (b) reflow, and (c) PCT. Here, (a) the initial state is the state immediately after the pseudo ACF pressure bonding, and (b) the state after the reflow is put in a drying furnace having a temperature profile of 250 ° C. at maximum, taken out and returned to room temperature. (C) After PCT, (b) refers to the state after the reflowed sample is further put into a 105 ° C./100% RH pressure cooker tester for 12 hours, taken out and returned to room temperature.

擬似ACF圧着サンプルを2mm幅に切り、回転ドラム型支持具を備えた引張試験機にセットし、フィルム基板をチャックに挟み90°方向に引き剥がすことにより、擬似ACF接着強度を測定した。   A pseudo ACF pressure-bonded sample was cut into a width of 2 mm, set in a tensile tester equipped with a rotating drum type support, and the film substrate was sandwiched between chucks and peeled in a 90 ° direction to measure the pseudo ACF adhesive strength.

調製例1 縮合物1溶液の調製
テトライソプロポキシチタン(17.41g)をエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(42.6g)に溶解させた。ここに、水(1.2g)、63質量%濃硝酸(2.8g)及びエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(6.0g)を混合した溶液を滴下して、30℃で4時間縮合反応を行い、縮合物1溶液を調製した。
Preparation Example 1 Preparation of Condensate 1 Solution Tetraisopropoxytitanium (17.41 g) was dissolved in ethylene glycol mono-t-butyl ether (42.6 g). A solution prepared by mixing water (1.2 g), 63 mass% concentrated nitric acid (2.8 g) and ethylene glycol mono-t-butyl ether (6.0 g) was added dropwise thereto, and a condensation reaction was performed at 30 ° C. for 4 hours. The condensate 1 solution was prepared.

調製例2 縮合物2溶液の調製
テトライソプロポキシチタン(7.31g)及びγ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン(3.9g)をエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(50.8g)に溶解させた。ここに、水(0.8g)及びエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(7.3g)を混合した溶液を滴下して、30℃で4時間縮合反応を行い、縮合物2溶液を調製した。
Preparation Example 2 Preparation of Condensate 2 Solution Tetraisopropoxytitanium (7.31 g) and γ-phenylaminopropyltrimethoxysilane (3.9 g) were dissolved in ethylene glycol mono-t-butyl ether (50.8 g). A solution obtained by mixing water (0.8 g) and ethylene glycol mono-t-butyl ether (7.3 g) was added dropwise thereto, and a condensation reaction was performed at 30 ° C. for 4 hours to prepare a condensate 2 solution.

実施例1 アンカー効果なし
縮合物2溶液(2g)に対し、エチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(12g)を混合して塗工液とした。得られた塗工液をマイヤーバー(No.5)で、銅箔(日鉱金属社製「BHYA−13H−HA」、18μm厚)に塗布し、120℃、1.5分間オーブンで乾燥した。得られた銅箔を用いて、『ACF密着性の評価』に従い密着性の評価を行った。結果を表1に示す。
Example 1 No anchor effect Ethylene glycol mono-t-butyl ether (12 g) was mixed with the condensate 2 solution (2 g) to prepare a coating solution. The obtained coating solution was applied to a copper foil (“BHYA-13H-HA” manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., 18 μm thickness) with a Mayer bar (No. 5), and dried in an oven at 120 ° C. for 1.5 minutes. Using the obtained copper foil, the adhesion was evaluated according to “ACF adhesion evaluation”. The results are shown in Table 1.

実施例2 アンカー効果あり
縮合物1溶液(0.6g)、200nmのシリカ微粒子をメタノールに分散(25質量%)させた分散液(1.4g)及びエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(8.0g)を混合して塗工液とした。得られた塗工液をマイヤーバー(No.7)で銅箔(日鉱金属社製「BHYA−13H−HA」、18μm厚)に塗布し、120℃、1.5分間オーブンで乾燥した。得られた銅箔を用いて、『ACF密着性の評価』に従い密着性の評価を行った。結果を表1に示す。
Example 2 Has anchoring effect Condensate 1 solution (0.6 g), dispersion (1.4 g) in which 200 nm silica fine particles are dispersed in methanol (25% by mass) and ethylene glycol mono-t-butyl ether (8.0 g) ) To prepare a coating solution. The obtained coating solution was applied to a copper foil (“BHYA-13H-HA” manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., 18 μm thickness) with a Mayer bar (No. 7), and dried in an oven at 120 ° C. for 1.5 minutes. Using the obtained copper foil, the adhesion was evaluated according to “ACF adhesion evaluation”. The results are shown in Table 1.

実施例3 アンカー効果あり
縮合物2溶液(0.6g)、200nmのシリカ微粒子をメタノールに分散(25質量%)させた分散液(1.4g)及びエチレングリコールモノ-t-ブチルエーテル(8.0g)を混合して塗工液とした。得られた塗工液をマイヤーバー(No.7)で銅箔(日鉱金属社製「BHYA−13H−HA」、18μm厚)に塗布し、120℃、1.5分間オーブンで乾燥した。得られた銅箔を用いて、『ACF密着性の評価』に従い密着性の評価を行った。結果を表1に示す。
Example 3 Has anchor effect Condensate 2 solution (0.6 g), dispersion (1.4 g) in which 200 nm silica fine particles were dispersed in methanol (25% by mass) and ethylene glycol mono-t-butyl ether (8.0 g) ) To prepare a coating solution. The obtained coating solution was applied to a copper foil (“BHYA-13H-HA” manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., 18 μm thickness) with a Mayer bar (No. 7), and dried in an oven at 120 ° C. for 1.5 minutes. Using the obtained copper foil, the adhesion was evaluated according to “ACF adhesion evaluation”. The results are shown in Table 1.

比較例1
表面処理を施していない銅箔(日鉱金属社製「BHYA−13H−HA」、18μm厚)を用いて、『ACF密着性の評価』に従い密着性の評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 1
Adhesion was evaluated according to “Evaluation of ACF Adhesion” using a copper foil (“BHYA-13H-HA” manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., 18 μm thickness) not subjected to surface treatment. The results are shown in Table 1.

Figure 2010138422
Figure 2010138422

本発明の機能膜付き金属箔は、熱融着性ポリイミドフィルムなどの絶縁性有機基材の少なくとも片面に、金属箔が密着性よく積層されてなるフレキシブル金属張り積層板を与えることができ、さらに、この金属張り積層板を用いて、品質の良好な電子部品実装モジュールを提供することができる。   The metal foil with a functional film of the present invention can provide a flexible metal-clad laminate in which a metal foil is laminated with good adhesion on at least one surface of an insulating organic substrate such as a heat-fusible polyimide film, Using this metal-clad laminate, an electronic component mounting module with good quality can be provided.

本発明のフレキシブル金属張り積層板の1例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one example of the flexible metal clad laminated board of this invention. 本発明のフレキシブル金属張り積層板の異なる例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example from which the flexible metal-clad laminated board of this invention differs. 本発明の電子部品実装モジュールの製造方法の1例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the electronic component mounting module of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、11a、11b 金属箔
1a 回路パターン
2、12a、12b 機能膜
3、13 絶縁性有機基材
4 異方導電フィルム
5 導電粒子
6 マトリックス樹脂
7 電子部品
8 接続端子
10 片面金属張り積層板
20 両面金属張り積層板
30 フレキシブル配線板
40 電子部品実装モジュール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11a, 11b Metal foil 1a Circuit pattern 2, 12a, 12b Functional film 3, 13 Insulating organic base material 4 Anisotropic conductive film 5 Conductive particle 6 Matrix resin 7 Electronic component 8 Connection terminal 10 Single-sided metal-clad laminate 20 Both sides Metal-clad laminate 30 Flexible wiring board 40 Electronic component mounting module

Claims (8)

導電性金属箔の片面に、絶縁性機能膜を有する機能膜付き金属箔であって、前記絶縁性機能膜が、一般式(I)
M(ORm−n …(I)
(式中、Rは非加水分解性基、Rは炭素数1〜6のアルキル基であり、Mはケイ素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、Rが複数ある場合、各Rはたがいに同一であっても異なっていてもよく、ORが複数ある場合、各ORはたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表される金属アルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応してなるM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含む塗工液を用いて形成されてなることを特徴とする、機能膜付き金属箔。
A metal foil with a functional film having an insulating functional film on one side of the conductive metal foil, wherein the insulating functional film has the general formula (I)
R 1 n M (OR 2 ) m−n (I)
Wherein R 1 is a non-hydrolyzable group, R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, M is a metal atom selected from silicon, titanium, zirconium and aluminum, and m is a metal atom The valence of M is 3 or 4, and n is an integer of 0 to 2 when m is 4, an integer of 0 to 1 when m is 3, and each R when there are a plurality of R 1 1 may be different even identical to each other, if the OR 2 there are a plurality, each OR 2 may be different even identical to each other.)
A functional film formed by using a coating liquid containing a condensate having a main skeleton of a MO repeating unit obtained by hydrolysis-condensation of a metal alkoxide compound represented by With metal foil.
金属アルコキシドの金属原子Mが2種以上である、請求項1に記載の機能膜付き金属箔。   The metal foil with a functional film according to claim 1, wherein the metal alkoxide has two or more metal atoms M. 塗工液がさらに絶縁性粒子を含む、請求項1または2に記載の機能膜付き金属箔。   The metal foil with a functional film according to claim 1 or 2, wherein the coating liquid further contains insulating particles. 導電性金属箔が銅箔である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の機能膜付き金属箔。   The metal foil with a functional film according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive metal foil is a copper foil. 絶縁性有機基材の少なくとも片面に、請求項1〜4のいずれか1項に記載の機能膜付き金属箔を、該機能膜を介して積層してなることを特徴とする、フレキシブル金属張り積層板。   A flexible metal-clad laminate, wherein the functional film-attached metal foil according to any one of claims 1 to 4 is laminated on at least one surface of an insulating organic substrate via the functional film. Board. 絶縁性有機基材が熱融着性ポリイミドフィルムである、請求項5に記載のフレキシブル金属張り積層板。   The flexible metal-clad laminate according to claim 5, wherein the insulating organic substrate is a heat-fusible polyimide film. 請求項5または6に記載のフレキシブル金属張り積層板、および異方導電フィルムを用いて、電子部品を実装してなることを特徴とする、電子部品実装モジュール。   An electronic component mounting module comprising an electronic component mounted using the flexible metal-clad laminate according to claim 5 or 6 and an anisotropic conductive film. (a)請求項5または6に記載のフレキシブル金属張り積層板の金属箔にエッチング処理を施して回路パターンを形成し、フレキシブル配線板を作製する工程、(b)前記フレキシブル配線板の回路パターン上に異方導電フィルムを仮圧着する工程、(c)前記異方導電フィルム上に電子部品を載置し、該電子部品の接続端子とフレキシブル配線板における回路パターンの所定の回路とが接続できるように位置合わせをする工程、および(d)加熱加圧処理により、異方導電フィルムのマトリックス樹脂を硬化させて本圧着させる工程、を含むことを特徴とする、電子部品実装モジュールの製造方法。   (A) a step of etching the metal foil of the flexible metal-clad laminate according to claim 5 or 6 to form a circuit pattern to produce a flexible wiring board; (b) on the circuit pattern of the flexible wiring board; (C) placing an electronic component on the anisotropic conductive film so that a connection terminal of the electronic component and a predetermined circuit of a circuit pattern on the flexible wiring board can be connected to each other. And (d) a step of curing the matrix resin of the anisotropic conductive film and subjecting it to a final press-bonding by a heat and pressure treatment, and a method of manufacturing an electronic component mounting module.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012165081A1 (en) * 2011-06-01 2012-12-06 宇部日東化成株式会社 Condensate of amino-bearing silane coupling agent with metal alkoxide compound, material for laminate base comprising same as main component, laminate base and elecroconductive member, and processes for manufacturing same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0641761A (en) * 1992-07-28 1994-02-15 Matsushita Electric Works Ltd Surface treatment for copper foil
JP2000336281A (en) * 1998-10-22 2000-12-05 Ube Nitto Kasei Co Ltd Organic/inorganic composite gradient material, and its preparation and use
JP2003069178A (en) * 2001-08-28 2003-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for connection
JP2005186565A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Kaneka Corp Manufacturing method for flexible laminated sheet
JP2007268917A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Kurabo Ind Ltd Flexible laminate having thermoplastic polyimide layer and method for manufacturing the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0641761A (en) * 1992-07-28 1994-02-15 Matsushita Electric Works Ltd Surface treatment for copper foil
JP2000336281A (en) * 1998-10-22 2000-12-05 Ube Nitto Kasei Co Ltd Organic/inorganic composite gradient material, and its preparation and use
JP2003069178A (en) * 2001-08-28 2003-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method for connection
JP2005186565A (en) * 2003-12-26 2005-07-14 Kaneka Corp Manufacturing method for flexible laminated sheet
JP2007268917A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Kurabo Ind Ltd Flexible laminate having thermoplastic polyimide layer and method for manufacturing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012165081A1 (en) * 2011-06-01 2012-12-06 宇部日東化成株式会社 Condensate of amino-bearing silane coupling agent with metal alkoxide compound, material for laminate base comprising same as main component, laminate base and elecroconductive member, and processes for manufacturing same
JPWO2012165081A1 (en) * 2011-06-01 2015-02-23 宇部興産株式会社 Condensate of amino group-containing silane coupling agent and metal alkoxide compound, laminated substrate material comprising the same, laminated substrate and conductive member, and methods for producing them

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