JP2010127625A - Quartz oscillator holding device and electrode processing system - Google Patents

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Hideaki Matsubara
英明 松原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a quartz oscillator holding device for holding a quartz oscillator, and an electrode processing system which is equipped with the device. <P>SOLUTION: In the electrode processing system for applying predetermined processings on the electrodes of the quartz oscillator 9, where the leads extending to both main surfaces of a quartz piece in parallel to each other from a pair of electrodes are fixed to a fixing member 96; the holder 81 for holding the quartz oscillator 9 is equipped with the second fitting structure 810, fitted to the first fitting structure 960 formed to the fixing member 96 and the fitting state of the first and second fitting structures 960 and 810 is kept, by sucking the openings provided to the second fitting structure 810. According to this constitution, the quartz oscillator 9 can be held firmly with proper position accuracy. Furthermore, since the particles produced by the friction of the first and second fitting structures 960 and 810, when the quartz oscillator 9 is held, are sucked from the openings of the second fitting structure 810, the quartz oscillator 9 can be held, while preventing adhesion of the particles to the quartz oscillator 9. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、水晶振動子を保持する水晶振動子保持装置、および、水晶振動子保持装置を備える電極処理システムに関する。   The present invention relates to a crystal resonator holding device that holds a crystal resonator and an electrode processing system including the crystal resonator holding device.

近年、空気中のアルコール等の微量の化学物質の濃度を検出するセンサ(いわゆる、「匂いセンサ」)が様々な場面で利用されており、このような匂いセンサの1つとして水晶振動子を有するものが知られている。水晶振動子を利用する匂いセンサでは、水晶片に設けられた1対の電極の一方または双方に、アルコール等の検出対象となる分子を吸着する感応膜が形成されており、感応膜に気体分子が吸着することにより、上記1対の電極間における電圧の周波数が変化する。匂いセンサでは、この周波数の変化に基づいて検出対象の濃度が検出される。   In recent years, sensors (so-called “odor sensors”) that detect the concentration of trace amounts of chemical substances such as alcohol in the air have been used in various situations, and have a crystal resonator as one of such odor sensors. Things are known. In an odor sensor using a crystal resonator, a sensitive film that adsorbs molecules to be detected such as alcohol is formed on one or both of a pair of electrodes provided on a quartz piece, and gas molecules are formed on the sensitive film. By adsorbing, the frequency of the voltage between the pair of electrodes changes. The odor sensor detects the concentration of the detection target based on this change in frequency.

特許文献1では、微量の化学物質の検出に利用される化学物質識別膜(すなわち、感応膜)の製造方法として、基板に蒸気状態の金属酸化物前駆体を接触させて基板表面に金属酸化物前駆体の層を形成する工程、金属酸化物前駆体の層を加水分解して金属酸化物層を形成する工程、および、金属酸化物層の表面に所定の化学物質を包接するホスト化合物を固定化して受容層を形成する工程を繰り返すことにより、金属酸化物層と受容層とを交互に積層する方法が開示されている。   In Patent Document 1, as a method for producing a chemical substance identification film (that is, a sensitive film) used for detecting a trace amount of a chemical substance, a metal oxide precursor in a vapor state is brought into contact with the substrate and the metal oxide is deposited on the substrate surface. A step of forming a precursor layer, a step of hydrolyzing a metal oxide precursor layer to form a metal oxide layer, and fixing a host compound that includes a predetermined chemical substance on the surface of the metal oxide layer A method of alternately laminating metal oxide layers and receiving layers by repeating the step of forming a receiving layer by forming a receiving layer is disclosed.

複数種類の層が積層された薄膜を形成する方法として、例えば、特許文献2では、電極等の固体担体を、タンパク質の溶液、および、当該タンパク質とは逆極性の荷電を有する有機高分子イオンの溶液に交互に浸漬することにより、任意の順序で積層化したタンパク質薄膜を形成する方法が提案されている。   As a method for forming a thin film in which a plurality of types of layers are laminated, for example, in Patent Document 2, a solid support such as an electrode is used as a protein solution and an organic polymer ion having a polarity opposite to that of the protein. There has been proposed a method of forming protein thin films laminated in an arbitrary order by immersing them alternately in a solution.

特許文献3では、正電荷を有する物質を含む処理液が貯溜された処理槽や負電荷を有する物質を含む処理液が貯溜された処理槽等の複数の処理槽を直線状に配列し、ロール状の長尺の基材を複数の処理槽の一方側から送り出し、複数の処理槽を順次通過させた後に複数の処理槽の他方側にて巻き取ることにより、有機EL(Electro Luminescence)素子等に利用される交互積層膜を量産する技術が提案されている。また、特許文献4では、環状の繊維材料を循環路に沿って回転移動させ、循環路上に設けられた複数の処理槽内の処理液中を順次通過させることにより、繊維材料の表面上に正の電解質ポリマと負の電解質ポリマとを交互に吸着させてフィルタとして利用される交互吸着膜を量産する技術が提案されている。   In Patent Document 3, a plurality of treatment tanks such as a treatment tank in which a treatment liquid containing a substance having a positive charge is stored and a treatment tank in which a treatment liquid containing a substance having a negative charge is stored are linearly arranged, and a roll An organic EL (Electro Luminescence) element, etc. by feeding a long substrate in a shape from one side of a plurality of treatment tanks, sequentially passing through the plurality of treatment tanks and winding on the other side of the plurality of treatment tanks A technique for mass-producing alternating laminated films used in the field has been proposed. Further, in Patent Document 4, an annular fiber material is rotated and moved along a circulation path, and sequentially passed through treatment liquids in a plurality of treatment tanks provided on the circulation path. A technique for mass-producing alternating adsorption films used as filters by alternately adsorbing an electrolyte polymer and a negative electrolyte polymer has been proposed.

一方、匂いセンサに利用される水晶振動子の製造において、複数の水晶振動子に対する感応膜の形成を同時に行うためには、複数の水晶振動子を保持する保持装置が必要となる。特許文献5では、匂いセンサの製造とは分野が異なるが、半導体装置の実装装置において複数の部品を保持する装置として、複数の発光素子を吸着するための複数の空気吸引孔が所定間隔で設けられた真空吸着部が開示されている。
特開2007−61752号公報 特開平9−107952号公報 特開2007−152247号公報 特開2001−62286号公報 特開2007−201259号公報
On the other hand, in manufacturing a crystal resonator used for an odor sensor, in order to simultaneously form a sensitive film on a plurality of crystal resonators, a holding device that holds the plurality of crystal resonators is required. In Patent Document 5, although the field is different from the manufacturing of an odor sensor, a plurality of air suction holes for adsorbing a plurality of light emitting elements are provided at predetermined intervals as an apparatus for holding a plurality of components in a semiconductor device mounting apparatus. A vacuum suction section is disclosed.
JP 2007-61752 A JP-A-9-107952 JP 2007-152247 A JP 2001-62286 A JP 2007-201259 A

ところで、複数の水晶振動子を保持する装置として、水晶振動子の電極から上方へと伸びる配線に取り付けられた金属製の固定部材を下側から支持することにより水晶振動子を保持するクランプを考えた場合、金属製の固定部材の下面と金属製のクランプの上面との接触によりパーティクルが発生するおそれがある。このようなパーティクルが処理槽内の処理液に混入したり、処理チャンバ内の処理空間に進入して水晶振動子の電極に付着すると、成膜不良が生じてしまう。また、上記クランプによる水晶振動子の保持を解除する際に、例えば、クランプを左右両側に分離して水晶振動子の固定部材から離間させる場合、多数の水晶振動子のそれぞれを保持する各クランプの移動スペースが必要となり、装置が大型化してしまう。   By the way, as a device for holding a plurality of crystal units, a clamp that holds a crystal unit by supporting a metal fixing member attached to a wiring extending upward from the electrodes of the crystal unit from below is considered. In this case, particles may be generated by contact between the lower surface of the metal fixing member and the upper surface of the metal clamp. When such particles are mixed into the processing liquid in the processing tank, or enter the processing space in the processing chamber and adhere to the electrodes of the crystal resonator, film formation defects occur. Further, when releasing the holding of the crystal resonator by the clamp, for example, when separating the clamp on the left and right sides and separating from the fixing member of the crystal resonator, each clamp holding each of the many crystal resonators A moving space is required, and the apparatus becomes large.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、水晶振動子に対するパーティクルの付着を防止しつつ水晶振動子を保持することを主な目的としており、水晶振動子保持装置の大型化を抑制することも目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to hold a crystal resonator while preventing particles from adhering to the crystal resonator, and suppresses the enlargement of the crystal resonator holding device. That is also the purpose.

請求項1に記載の発明は、板状の水晶片の両主面に1対の電極が形成されるとともに前記1対の電極から前記水晶片の前記両主面におよそ平行に伸びる1対の配線が固定部材に固定された水晶振動子を保持する水晶振動子保持装置であって、前記固定部材に形成された凹状または凸状の部位を有する第1嵌合構造と嵌り合う第2嵌合構造と、前記第2嵌合構造に設けられて吸引機構に接続される開口から吸引を行うことにより前記第1嵌合構造と前記第2嵌合構造との嵌合状態を維持するとともに、前記吸引を停止することにより前記嵌合状態を解除する流路とを備える。   According to the first aspect of the present invention, a pair of electrodes are formed on both main surfaces of the plate-shaped crystal piece, and a pair of electrodes extending from the pair of electrodes to the main surfaces of the crystal piece approximately in parallel. A crystal resonator holding device for holding a crystal resonator in which wiring is fixed to a fixing member, and a second fitting that fits with a first fitting structure having a concave or convex portion formed on the fixing member. The structure and the fitting state between the first fitting structure and the second fitting structure are maintained by performing suction from an opening provided in the second fitting structure and connected to the suction mechanism, and A flow path for releasing the fitting state by stopping the suction.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の水晶振動子保持装置であって、前記第1嵌合構造および前記第2嵌合構造のうちの一方が、他方と嵌り合う複数の凸状の部位を有する。   A second aspect of the present invention is the crystal unit holding device according to the first aspect, wherein one of the first fitting structure and the second fitting structure is fitted with a plurality of protrusions. It has a shaped part.

請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の水晶振動子保持装置であって、前記第1嵌合構造が、前記第2嵌合構造に向かって突出する複数の凸部を有し、前記第2嵌合構造が、前記複数の凸部と嵌合する複数の凹部を有する。   The invention according to claim 3 is the crystal resonator holding device according to claim 2, wherein the first fitting structure has a plurality of protrusions protruding toward the second fitting structure. The second fitting structure has a plurality of recesses that fit into the plurality of projections.

請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の水晶振動子保持装置であって、前記複数の凸部のそれぞれが円錐台状である。   The invention according to claim 4 is the crystal resonator holding device according to claim 3, wherein each of the plurality of convex portions has a truncated cone shape.

請求項5に記載の発明は、請求項3または4に記載の水晶振動子保持装置であって、前記水晶振動子の前記固定部材が、前記1対の配線が挿入される1対の貫通穴が形成された金属製のブロックと、前記1対の貫通穴の内部にて前記1対の配線を前記ブロックに固定するとともに前記1対の貫通穴から外部に突出する部位が前記複数の凸部となる絶縁部材とを備える。   The invention according to claim 5 is the crystal resonator holding device according to claim 3 or 4, wherein the fixing member of the crystal resonator is a pair of through holes into which the pair of wires are inserted. And a plurality of convex portions formed by fixing the pair of wires to the block inside the pair of through holes and projecting outward from the pair of through holes. And an insulating member.

請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載の水晶振動子保持装置であって、前記第1嵌合構造および前記第2嵌合構造の一方が金属により形成され、他方がガラスまたは樹脂により形成される。   The invention according to claim 6 is the crystal resonator holding device according to any one of claims 1 to 5, wherein one of the first fitting structure and the second fitting structure is formed of metal, The other is formed of glass or resin.

請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載の水晶振動子保持装置であって、他の水晶振動子の前記固定部材を吸着保持する前記第2嵌合構造および前記流路のもう1つの組み合わせをさらに備える。   The invention according to claim 7 is the crystal resonator holding device according to any one of claims 1 to 6, wherein the second fitting structure that holds the fixing member of another crystal resonator by suction and the It further comprises another combination of flow paths.

請求項8に記載の発明は、板状の水晶片の両主面に1対の電極が形成されるとともに前記1対の電極から前記水晶片の前記両主面におよそ平行に伸びる1対の配線が固定部材に固定された水晶振動子の電極に所定の処理を行う電極処理システムであって、前記水晶振動子を保持する請求項1ないし7のいずれかに記載の水晶振動子保持装置と、それぞれが前記水晶振動子の前記1対の電極のうち少なくとも一方の電極に処理材料を付与することにより前記少なくとも一方の電極に所定の処理を行う複数の処理装置と、前記水晶振動子保持装置を前記複数の処理装置のうち一の処理装置から他の処理装置へと搬送する搬送機構とを備え、前記水晶振動子保持装置が、前記一の処理装置内に設けられた保持部に保持された前記水晶振動子の前記固定部材を吸着することにより前記水晶振動子を前記保持部から受け取り、前記他の処理装置内にて前記固定部材の吸着を解除することにより前記他の処理装置内に設けられた保持部に前記水晶振動子を渡す。   According to an eighth aspect of the present invention, a pair of electrodes are formed on both main surfaces of the plate-shaped crystal piece, and a pair of electrodes extending from the pair of electrodes to the main surfaces of the crystal piece approximately in parallel. A crystal resonator holding device according to any one of claims 1 to 7, which is an electrode processing system for performing predetermined processing on an electrode of a crystal resonator in which wiring is fixed to a fixing member, and holds the crystal resonator. A plurality of processing devices each performing predetermined processing on at least one electrode by applying a processing material to at least one of the pair of electrodes of the crystal resonator, and the crystal resonator holding device And a transport mechanism for transporting from one processing device to another processing device among the plurality of processing devices, and the crystal resonator holding device is held by a holding portion provided in the one processing device. The crystal resonator The quartz crystal unit is received from the holding unit by adsorbing a member, and the quartz crystal is placed in the holding unit provided in the other processing apparatus by releasing the adsorption of the fixing member in the other processing apparatus. Pass the vibrator.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の電極処理システムであって、前記一の処理装置による処理が、前記少なくとも一方の電極上に薄膜を形成する処理である。   The invention according to claim 9 is the electrode processing system according to claim 8, wherein the processing by the one processing apparatus is processing for forming a thin film on the at least one electrode.

本発明では、水晶振動子に対するパーティクルの付着を防止しつつ水晶振動子を保持することができるとともに、水晶振動子保持装置の大型化を抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to hold the crystal resonator while preventing adhesion of particles to the crystal resonator, and it is possible to suppress an increase in size of the crystal resonator holding device.

図1は、本発明の一の実施の形態に係る電極処理システム100を示す平面図である。電極処理システム100は、複数の水晶振動子の電極上にエチルアルコール(COH)を選択的に吸着する薄膜(以下、「エチルアルコール感応膜」という。)を形成する処理を行うシステムであり、電極処理システム100により処理された水晶振動子は、エチルアルコールの濃度を測定するセンサ(いわゆる、「匂いセンサ」)に利用される。 FIG. 1 is a plan view showing an electrode processing system 100 according to an embodiment of the present invention. The electrode processing system 100 performs a process of forming a thin film (hereinafter referred to as “ethyl alcohol-sensitive film”) that selectively adsorbs ethyl alcohol (C 2 H 5 OH) on the electrodes of a plurality of crystal resonators. The crystal resonator processed by the electrode processing system 100 is used as a sensor for measuring the concentration of ethyl alcohol (so-called “odor sensor”).

図1に示すように、電極処理システム100は、処理前の複数の水晶振動子が載置されるトレイ111、複数の水晶振動子を保持するキャリア8、水晶振動子の電極に硫酸系の処理液を付与することにより電極上のゴミや金属、有機物等を除去する前処理を行う前処理装置12、前処理が行われた水晶振動子の電極にチオール結合処理を行うチオール結合処理装置13、前処理が行われた水晶振動子の電極上に無機膜を形成する(より正確には、後工程における加水分解により無機膜となる前駆体の膜を形成する)処理を行う無機膜形成装置14、水晶振動子の電極に形成された無機膜上に有機膜を形成する処理を行う有機膜形成装置16、各処理後の水晶振動子に対して洗浄処理を行う洗浄装置17、洗浄処理後の水晶振動子に対して乾燥処理を行う乾燥装置18、処理済みの複数の水晶振動子が載置されるトレイ112、および、水晶振動子に処理を行うこれらの複数の処理装置のうち一の処理装置から他の処理装置へとキャリア8を搬送する搬送機構19を備える。搬送機構19は、キャリア8を水平方向および上下方向に移動する機構を有する。   As shown in FIG. 1, the electrode processing system 100 includes a tray 111 on which a plurality of crystal resonators before processing are placed, a carrier 8 that holds the plurality of crystal resonators, and a sulfuric acid-based process on the electrodes of the crystal resonators. A pretreatment device 12 that performs a pretreatment to remove dust, metal, organic matter, and the like on the electrode by applying a liquid, a thiol bond treatment device 13 that performs a thiol bond treatment on the electrode of the crystal resonator on which the pretreatment has been performed, An inorganic film forming apparatus 14 for performing a process of forming an inorganic film on the electrode of the crystal resonator on which the pretreatment has been performed (more precisely, forming a precursor film that becomes an inorganic film by hydrolysis in a subsequent process). , An organic film forming device 16 that performs a process of forming an organic film on an inorganic film formed on an electrode of the crystal resonator, a cleaning device 17 that performs a cleaning process on the crystal resonator after each process, Dry against crystal A drying device 18 that performs processing, a tray 112 on which a plurality of processed crystal resonators are placed, and one of the processing devices that performs processing on the crystal resonators, from one processing device to another processing device. And a transport mechanism 19 for transporting the carrier 8. The transport mechanism 19 has a mechanism for moving the carrier 8 in the horizontal direction and the vertical direction.

図2は一の水晶振動子9の一方の主面を示す図であり、図3は水晶振動子9の他方の主面を示す図である。図2および図3に示すように、水晶振動子9は、略円板状の水晶片95を備え、図2に示すように、水晶片95の一方の主面951(以下、「第1主面951」という。)に形成された略円形の第1電極91、および、第1電極91と電気的に接続される略矩形の補助部911を備える。   FIG. 2 is a view showing one main surface of one crystal resonator 9, and FIG. 3 is a view showing the other main surface of the crystal resonator 9. 2 and 3, the crystal resonator 9 includes a substantially disc-shaped crystal piece 95. As shown in FIG. 2, one main surface 951 of the crystal piece 95 (hereinafter referred to as "first main part"). A substantially circular first electrode 91 formed on the surface 951 ”) and a substantially rectangular auxiliary portion 911 electrically connected to the first electrode 91.

また、水晶振動子9は、図3に示すように、水晶片95の他方の主面952(以下、「第2主面952」という。)に形成された第2電極92、および、第2電極92と電気的に接続される略矩形の補助部921を備える。本実施の形態では、第1電極91および補助部911、並びに、第2電極92および補助部921は金(Au)により形成される。また、水晶片95の直径は、約9ミリメートル(mm)とされる。   Further, as shown in FIG. 3, the crystal resonator 9 includes a second electrode 92 formed on the other main surface 952 of the crystal piece 95 (hereinafter referred to as “second main surface 952”), and a second electrode 92. A substantially rectangular auxiliary portion 921 electrically connected to the electrode 92 is provided. In the present embodiment, the first electrode 91 and the auxiliary part 911, and the second electrode 92 and the auxiliary part 921 are formed of gold (Au). The diameter of the crystal piece 95 is about 9 millimeters (mm).

水晶振動子9は、さらに、図2および図3に示すように、補助部911を介して第1電極91に接続される引出線であるリード971、および、補助部921を介して第2電極92に接続される引出線であるリード972を備える。水晶振動子9の1対の配線であるリード971,972は、第1電極91および第2電極92から水晶片95の両主面(すなわち、第1主面951および第2主面952)におよそ平行に、図2および図3中の上方に伸びており、図2および図3中の左右方向に並んだ状態で固定部材96に固定される。本実施の形態では、リード971,972の表面は金により被覆されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the crystal resonator 9 further includes a lead 971 that is a lead wire connected to the first electrode 91 via the auxiliary portion 911, and a second electrode via the auxiliary portion 921. A lead 972 that is a lead wire connected to the terminal 92 is provided. Leads 971 and 972, which are a pair of wires of the crystal unit 9, extend from the first electrode 91 and the second electrode 92 to both main surfaces of the crystal piece 95 (that is, the first main surface 951 and the second main surface 952). 2 and 3 extends substantially in parallel and is fixed to the fixing member 96 in a state of being aligned in the left-right direction in FIGS. 2 and 3. In the present embodiment, the surfaces of the leads 971 and 972 are covered with gold.

リード971,972の水晶片95側の端部(以下、「サポータ」という。)9711,9721はそれぞれ、水晶片95を挟持するように二股に分かれており、水晶片95はサポータ9711,9721によりリード971,972および固定部材96(「ベース」と総称される。)に対して固定される。リード971のサポータ9711は、図2に示すように、水晶片95の第1主面951上にて補助部911に導電性接着剤にて接着され、リード972のサポータ9721は、図3に示すように、水晶片95の第2主面952上にて補助部921に導電性接着剤にて接着される。水晶振動子9では、水晶片95の両主面951,952に形成された1対の電極である第1電極91および第2電極92が、リード971,972を介して一の電源に接続される。   The ends of the leads 971 and 972 on the crystal piece 95 side (hereinafter referred to as “supporters”) 9711 and 9721 are divided into two portions so as to sandwich the crystal piece 95, and the crystal pieces 95 are supported by the supporters 9711 and 9721. It is fixed to the leads 971 and 972 and the fixing member 96 (collectively referred to as “base”). As shown in FIG. 2, the supporter 9711 of the lead 971 is bonded to the auxiliary part 911 on the first main surface 951 of the crystal piece 95 with a conductive adhesive, and the supporter 9721 of the lead 972 is shown in FIG. As described above, the second main surface 952 of the crystal piece 95 is bonded to the auxiliary portion 921 with a conductive adhesive. In the crystal unit 9, a first electrode 91 and a second electrode 92, which are a pair of electrodes formed on both main surfaces 951 and 952 of the crystal piece 95, are connected to one power source via leads 971 and 972. The

図2および図3に示すように、固定部材96は、リード971,972が挿入される1対の貫通穴が形成された金属製のブロック961、および、当該1対の貫通穴の内部にてリード971,972をブロック961に固定するとともにリード971,972とブロック961とを電気的に絶縁する1対の絶縁部材962を備える。1対の絶縁部材962の上部は、ブロック961の1対の貫通穴から外部に突出する2つの凸部963となっている。本実施の形態では、絶縁部材962はガラスまたは樹脂により形成される。また、ブロック961の各貫通穴は略円柱状とされ、各絶縁部材962の凸部963は、ブロック961から離れるに従って水平面による断面の面積が漸次減少する略円錐台状とされる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the fixing member 96 includes a metal block 961 in which a pair of through holes into which the leads 971 and 972 are inserted, and the inside of the pair of through holes. A pair of insulating members 962 for fixing the leads 971 and 972 to the block 961 and electrically insulating the leads 971 and 972 and the block 961 are provided. Upper portions of the pair of insulating members 962 are two convex portions 963 projecting outside from the pair of through holes of the block 961. In this embodiment mode, the insulating member 962 is formed of glass or resin. In addition, each through hole of the block 961 has a substantially cylindrical shape, and the convex portion 963 of each insulating member 962 has a substantially truncated cone shape in which the area of the cross section by the horizontal plane gradually decreases as the distance from the block 961 increases.

絶縁部材962がガラスである場合には、ブロック961の1対の貫通穴がブロック961の上側から2つのカップ状の型(カップ状の型の内側の形状は凸部963の形状と対応する。)により覆われるとともにリード971,972がブロック961の1対の貫通穴に挿入された状態で、低融点のガラスペーストがブロック961の下側から貫通穴に充填され、焼成されることにより凸部963が形成される。また、絶縁部材962が樹脂である場合には、上記と同様の状態にて樹脂によるインサート成形が行われることにより、凸部963が形成される。   When the insulating member 962 is glass, the pair of through holes of the block 961 has two cup-shaped molds from the upper side of the block 961 (the inner shape of the cup-shaped mold corresponds to the shape of the convex portion 963. ), And the lead 971 and 972 are inserted into the pair of through holes of the block 961, and the glass paste having a low melting point is filled into the through holes from the lower side of the block 961 and baked to thereby form the convex portion. 963 is formed. In addition, when the insulating member 962 is a resin, the convex portion 963 is formed by performing insert molding with the resin in the same state as described above.

図4および図5はそれぞれ、キャリア8を示す正面図および右側面図である。図4および図5に示すように、キャリア8は、水晶振動子9の主面に略平行な方向に配列された複数の水晶振動子9をそれぞれ保持する複数の水晶振動子保持装置であるホルダ81を備え、複数のホルダ81は、水晶振動子9の主面に略垂直な方向に配列される。各ホルダ81は、複数の水晶振動子9の固定部材96(図2および図3参照)の上側に位置し、固定部材96を吸着することにより複数の水晶振動子9を保持する。   4 and 5 are a front view and a right side view showing the carrier 8, respectively. As shown in FIGS. 4 and 5, the carrier 8 is a holder that is a plurality of crystal resonator holding devices that respectively hold a plurality of crystal resonators 9 arranged in a direction substantially parallel to the main surface of the crystal resonator 9. 81, and the plurality of holders 81 are arranged in a direction substantially perpendicular to the main surface of the crystal unit 9. Each holder 81 is positioned above the fixing members 96 (see FIGS. 2 and 3) of the plurality of crystal resonators 9 and holds the plurality of crystal resonators 9 by attracting the fixing members 96.

図6は、ホルダ81に保持された一の水晶振動子9近傍を拡大して示す図であり、図7は、図6から水晶振動子9を除いたホルダ81の一部を示す図である。図6では、図の理解を容易にするために、固定部材96およびホルダ81を断面にて描いており、図7でも同様に、ホルダ81を断面にて描いている。図6および図7に示すように、ホルダ81は、金属にて形成されたホルダ本体811を備え、ホルダ本体811の内部には、ホルダ81の外部に設けられた吸引機構に接続される主流路812、および、主流路812から下向きに伸びる複数の支流路814が形成される。ホルダ本体811の下面には、複数の水晶振動子9の固定部材96が有する2つの凸部963(図6参照)と嵌合する複数の凹部813が形成されており、各凹部813は、各凹部813の内面(本実施の形態では、各凹部813の上部)に形成された開口にて支流路814に接続される。   6 is an enlarged view showing the vicinity of one crystal resonator 9 held by the holder 81, and FIG. 7 is a view showing a part of the holder 81 excluding the crystal resonator 9 from FIG. . In FIG. 6, in order to facilitate understanding of the drawing, the fixing member 96 and the holder 81 are drawn in a cross section, and similarly in FIG. 7, the holder 81 is drawn in a cross section. As shown in FIGS. 6 and 7, the holder 81 includes a holder main body 811 formed of metal, and a main flow path connected to a suction mechanism provided outside the holder 81 inside the holder main body 811. 812 and a plurality of branch channels 814 extending downward from the main channel 812 are formed. On the lower surface of the holder main body 811, a plurality of recesses 813 are formed that fit into two protrusions 963 (see FIG. 6) included in the fixing members 96 of the plurality of crystal resonators 9. It is connected to the branch channel 814 through an opening formed in the inner surface of the recess 813 (in this embodiment, the upper portion of each recess 813).

ホルダ81では、主流路812に接続された吸引機構により主流路812および各支流路814を介して各凹部813に設けられた開口から吸引が行われることにより、図6に示すように、各凹部813と各凹部813に対応する固定部材96の凸部963との嵌合状態が維持され、吸引機構による吸引が停止されることにより、上記嵌合状態が解除される。以下の説明では、1つの水晶振動子9の固定部材96に形成された2つの凸部963をまとめて「第1嵌合構造960」と呼び、第1嵌合構造960と嵌り合うホルダ81の2つの凹部813をまとめて「第2嵌合構造810」と呼ぶ。図6および図7では描いていないが、ホルダ81は、水晶振動子9の固定部材96を吸着保持する第2嵌合構造810(すなわち、2つの凹部813)と第2嵌合構造810に接続される2つの支流路814との複数の組み合わせを備える。   In the holder 81, suction is performed from the opening provided in each recess 813 through the main channel 812 and each branch channel 814 by the suction mechanism connected to the main channel 812, so that as shown in FIG. 813 and the fitting state of the convex portion 963 of the fixing member 96 corresponding to each concave portion 813 are maintained, and the fitting state is released by stopping the suction by the suction mechanism. In the following description, the two convex portions 963 formed on the fixing member 96 of one crystal resonator 9 are collectively referred to as a “first fitting structure 960” and the holder 81 that fits the first fitting structure 960 is used. The two concave portions 813 are collectively referred to as “second fitting structure 810”. Although not depicted in FIGS. 6 and 7, the holder 81 is connected to the second fitting structure 810 (that is, the two recesses 813) and the second fitting structure 810 that hold the fixing member 96 of the crystal unit 9 by suction. And a plurality of combinations with the two branch flow paths 814.

次に、図1に示す電極処理システム100による水晶振動子9の電極に対する処理の流れを図8.Aおよび図8.Bを参照しつつ説明する。電極処理システム100では、まず、搬送機構19によりキャリア8が水平方向に移動し、処理前の複数の水晶振動子9が予め載置されたトレイ111の上方に位置する。図9はトレイ111の一部を示す図であり、トレイ111では、各水晶振動子9の固定部材96が水晶片95の上方に位置し、第1嵌合構造960の2つの凸部963が上方へと突出するように水晶振動子9が載置されている。水晶片95の下端部は、トレイ111に設けられたスリット113に挿入されてスリット113内にて支持される。   Next, the flow of processing for the electrodes of the crystal unit 9 by the electrode processing system 100 shown in FIG. A and FIG. A description will be given with reference to FIG. In the electrode processing system 100, first, the carrier 8 is moved in the horizontal direction by the transport mechanism 19, and a plurality of crystal resonators 9 before processing are positioned above the tray 111 on which the pretreatment is performed. FIG. 9 is a view showing a part of the tray 111. In the tray 111, the fixing member 96 of each crystal resonator 9 is positioned above the crystal piece 95, and the two convex portions 963 of the first fitting structure 960 are provided. A crystal resonator 9 is placed so as to protrude upward. The lower end portion of the crystal piece 95 is inserted into the slit 113 provided in the tray 111 and supported in the slit 113.

続いて、図1に示す搬送機構19によりキャリア8がトレイ111に向けて下降することにより、各水晶振動子9の固定部材96の上面に設けられた第1嵌合構造960の2つの凸部963が、図6に示すように、キャリア8のホルダ81の下面に設けられた第2嵌合構造810の2つの凹部813に挿入される。同時に、ホルダ81に接続されている吸引機構により、ホルダ81の凹部813に形成された開口から吸引が行われることにより、固定部材96の凸部963が凹部813内においてホルダ81に吸着される。電極処理システム100では、複数のホルダ81の各凹部813内の開口からの吸引が継続されることにより、各水晶振動子9の第1嵌合構造960とホルダ81の第2嵌合構造810との嵌合状態(すなわち、各水晶振動子9がホルダ81に吸着保持された状態)が維持される。   Subsequently, when the carrier 8 is lowered toward the tray 111 by the transport mechanism 19 shown in FIG. 1, the two convex portions of the first fitting structure 960 provided on the upper surface of the fixing member 96 of each crystal resonator 9. As shown in FIG. 6, 963 is inserted into the two recesses 813 of the second fitting structure 810 provided on the lower surface of the holder 81 of the carrier 8. At the same time, suction is performed from the opening formed in the concave portion 813 of the holder 81 by the suction mechanism connected to the holder 81, whereby the convex portion 963 of the fixing member 96 is attracted to the holder 81 in the concave portion 813. In the electrode processing system 100, by continuing the suction from the openings in the recesses 813 of the plurality of holders 81, the first fitting structure 960 of each crystal resonator 9 and the second fitting structure 810 of the holder 81 (That is, a state in which each crystal resonator 9 is sucked and held by the holder 81) is maintained.

図1に示すキャリア8により複数の水晶振動子9がトレイ111から受け取られると、搬送機構19によりキャリア8が上昇し、前処理装置12の上方まで水平方向に移動し、さらに、下降することにより、キャリア8に吸着保持された複数の水晶振動子9が前処理装置12に搬入される。前処理装置12では、処理槽内に硫酸系の処理液が貯溜された処理槽が設けられており、当該処理槽の底部には、図9に示すトレイ111と同様の形状を有する保持部が設けられている。電極処理システム100では、複数の水晶振動子9が前処理装置12の処理槽内の処理液に浸漬され、処理液中の保持部に非常に近接した状態でキャリア8の下降が停止される。このとき、各水晶振動子9の下端部は保持部のスリットにある程度挿入されており、キャリア8は処理槽内の処理液の液面よりも上方に位置している。   When the plurality of crystal resonators 9 are received from the tray 111 by the carrier 8 shown in FIG. 1, the carrier 8 is raised by the transport mechanism 19, moved in the horizontal direction above the pretreatment device 12, and further lowered. A plurality of crystal resonators 9 sucked and held by the carrier 8 are carried into the pretreatment device 12. In the pretreatment device 12, a treatment tank in which a sulfuric acid-based treatment liquid is stored is provided in the treatment tank, and a holding part having the same shape as the tray 111 shown in FIG. 9 is provided at the bottom of the treatment tank. Is provided. In the electrode processing system 100, the plurality of crystal resonators 9 are immersed in the processing liquid in the processing tank of the preprocessing apparatus 12, and the descent of the carrier 8 is stopped in a state of being very close to the holding unit in the processing liquid. At this time, the lower end portion of each crystal resonator 9 is inserted to some extent in the slit of the holding portion, and the carrier 8 is positioned above the liquid level of the processing liquid in the processing tank.

そして、複数のホルダ81の各凹部813(図6参照)に形成された開口からの吸引が停止され、複数の水晶振動子9の固定部材96(図6参照)の吸着が解除されることにより、複数の水晶振動子9がホルダ81から離間して前処理装置12の保持部のスリットの奥まで挿入され、スリット部にて支持される。換言すれば、ホルダ81における吸引が停止されることにより、複数の水晶振動子9がホルダ81から前処理装置12の保持部に渡される。なお、キャリア8では、水晶振動子9が前処理装置12の保持部に渡される際に、各ホルダ81の各凹部813に設けられた開口からエアのブローが行われることにより、ホルダ81からの水晶振動子9の迅速な離間が実現されてもよい。   And the suction from the opening formed in each recessed part 813 (refer FIG. 6) of the some holder 81 is stopped, and adsorption | suction of the fixing member 96 (refer FIG. 6) of the some crystal oscillator 9 is cancelled | released. The plurality of crystal resonators 9 are inserted away from the holder 81 to the back of the slit of the holding portion of the pretreatment device 12 and supported by the slit portion. In other words, when the suction in the holder 81 is stopped, the plurality of crystal resonators 9 are transferred from the holder 81 to the holding unit of the pretreatment device 12. In the carrier 8, when the crystal unit 9 is transferred to the holding unit of the pretreatment device 12, air is blown from the opening provided in each concave portion 813 of each holder 81, so that the carrier 8 A quick separation of the crystal unit 9 may be realized.

図1に示す前処理装置12の保持部により複数の水晶振動子9が保持されると、キャリア8は前処理装置12の外部へと上昇し、複数の水晶振動子9の第1電極91および第2電極92(図2および図3参照)が、前処理装置12の処理槽内において処理液に所定の時間だけ浸漬される(すなわち、第1電極91および第2電極92に処理液に含まれる処理材料が付与される)ことにより、第1電極91および第2電極92に対する前処理が行われる(ステップS11)。第1電極91および第2電極92に対する前処理が終了すると、搬送機構19によりキャリア8が前処理装置12内の処理槽に向けて下降し、前処理装置12内に設けられた保持部に保持された複数の水晶振動子9の第1嵌合構造960とホルダ81の第2嵌合構造810とを嵌合させつつ固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9を保持部から受け取る。   When the plurality of crystal resonators 9 are held by the holding unit of the pretreatment device 12 illustrated in FIG. 1, the carrier 8 rises to the outside of the pretreatment device 12, and the first electrodes 91 of the plurality of crystal resonators 9 and The second electrode 92 (see FIGS. 2 and 3) is immersed in the treatment liquid for a predetermined time in the treatment tank of the pretreatment device 12 (that is, included in the treatment liquid in the first electrode 91 and the second electrode 92). The pretreatment for the first electrode 91 and the second electrode 92 is performed (step S11). When the pretreatment for the first electrode 91 and the second electrode 92 is completed, the carrier 8 is lowered toward the treatment tank in the pretreatment device 12 by the transport mechanism 19 and is held in a holding portion provided in the pretreatment device 12. By adsorbing the fixing member 96 while fitting the first fitting structure 960 of the plurality of crystal resonators 9 and the second fitting structure 810 of the holder 81, the plurality of crystal resonators 9 are removed from the holding portion. receive.

キャリア8に吸着保持された複数の水晶振動子9は、前処理装置12から搬出されて洗浄装置17に搬入され、キャリア8から前処理装置12に対する移載と同様に、洗浄装置17内にてキャリア8による固定部材96の吸着が解除されることにより、洗浄装置17内に設けられた保持部(図9中のトレイ111と同様の形状を有する。以下の説明においても同様。)に複数の水晶振動子9が渡される。そして、水晶振動子9の第1電極91および第2電極92に処理液である純水が付与されることにより、第1電極91および第2電極92に対する洗浄処理が行われる(ステップS12)。洗浄処理が終了すると、キャリア8が、水晶振動子9の固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9を洗浄装置17の保持部から受け取る。   The plurality of crystal resonators 9 sucked and held by the carrier 8 are unloaded from the pretreatment device 12 and loaded into the cleaning device 17. In the same manner as the transfer from the carrier 8 to the pretreatment device 12, the washing is performed in the washing device 17. By releasing the adsorption of the fixing member 96 by the carrier 8, a plurality of holding parts (having the same shape as the tray 111 in FIG. 9, which is the same in the following description) provided in the cleaning device 17. A crystal unit 9 is passed. Then, the first electrode 91 and the second electrode 92 of the crystal resonator 9 are given pure water as a treatment liquid, whereby the first electrode 91 and the second electrode 92 are cleaned (step S12). When the cleaning process is completed, the carrier 8 attracts the fixing member 96 of the crystal resonator 9 to receive the plurality of crystal resonators 9 from the holding unit of the cleaning device 17.

複数の水晶振動子9は、洗浄装置17から搬出されて乾燥装置18に搬入され、キャリア8による固定部材96の吸着が解除されることにより、乾燥装置18内に設けられた保持部に複数の水晶振動子9が渡される。乾燥装置18では、複数の水晶振動子9に向けて窒素(N)ガス等の乾燥したガスが噴射されることにより、水晶振動子9の乾燥処理が行われる(ステップS13)。乾燥処理が終了すると、キャリア8が、水晶振動子9の固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9を乾燥装置18の保持部から受け取る。 The plurality of crystal resonators 9 are unloaded from the cleaning device 17 and loaded into the drying device 18, and the holding member 96 provided in the drying device 18 is released into the holding unit provided in the drying device 18 by releasing the adsorption of the fixing member 96 by the carrier 8. A crystal unit 9 is passed. In the drying device 18, the crystal resonator 9 is dried by injecting a dry gas such as nitrogen (N 2 ) gas toward the plurality of crystal resonators 9 (step S 13). When the drying process is completed, the carrier 8 sucks the fixing member 96 of the crystal unit 9 to receive the plurality of crystal units 9 from the holding unit of the drying device 18.

続いて、複数の水晶振動子9が乾燥装置18から搬出されてチオール結合処理装置13に搬入され、キャリア8による固定部材96の吸着が解除されることにより、チオール結合処理装置13の処理槽内に設けられた保持部に複数の水晶振動子9が渡される。チオール結合処理装置13では、各水晶振動子9の第1電極91および第2電極92が、処理槽内においてチオール化合物を含む処理液に所定の時間だけ浸漬されることにより、第1電極91および第2電極92に対するチオール結合処理が行われる(ステップS14)。チオール結合処理が終了すると、キャリア8が、水晶振動子9の固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9をチオール結合処理装置13の保持部から受け取る。複数の水晶振動子9は、上述のステップS12およびステップS13と同様に、チオール結合処理装置13から洗浄装置17へと搬送されて洗浄処理が施され(ステップS15)、さらに、洗浄装置17から乾燥装置18へと搬送されて乾燥処理が施される(ステップS16)。   Subsequently, the plurality of crystal resonators 9 are unloaded from the drying device 18 and loaded into the thiol bond processing device 13, and the adsorption of the fixing member 96 by the carrier 8 is released, whereby the inside of the processing tank of the thiol bond processing device 13 is released. A plurality of crystal resonators 9 are transferred to the holding portion provided in the. In the thiol bond processing apparatus 13, the first electrode 91 and the second electrode 92 of each crystal resonator 9 are immersed in a processing liquid containing a thiol compound in the processing tank for a predetermined time, whereby the first electrode 91 and A thiol bonding process is performed on the second electrode 92 (step S14). When the thiol bonding process is completed, the carrier 8 attracts the fixing member 96 of the crystal resonator 9 to receive the plurality of crystal resonators 9 from the holding unit of the thiol bond processing device 13. The plurality of crystal resonators 9 are transported from the thiol bond processing device 13 to the cleaning device 17 and subjected to a cleaning process (step S15), and dried from the cleaning device 17 in the same manner as in the above-described step S12 and step S13. It is conveyed to the apparatus 18 and subjected to a drying process (step S16).

次に、複数の水晶振動子9が乾燥装置18から搬出されて無機膜形成装置14に搬入され、キャリア8による固定部材96の吸着が解除されることにより、無機膜形成装置14の処理チャンバ内に設けられた保持部に複数の水晶振動子9が渡される。無機膜形成装置14では、処理チャンバ内に処理材料(本実施の形態では、金属酸化物の前駆体)を含む処理蒸気が供給されることにより、第1電極91および第2電極92に処理材料が付与され、第1電極91および第2電極92上に金属酸化物の前駆体の薄膜(本実施の形態では、金属アルコキシド膜)が形成される(ステップS17)。上記前駆体の薄膜の生成が終了すると、キャリア8が、水晶振動子9の固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9を無機膜形成装置14の保持部から受け取る。   Next, a plurality of crystal resonators 9 are unloaded from the drying device 18 and loaded into the inorganic film forming device 14, and the adsorption of the fixing member 96 by the carrier 8 is released, whereby the inside of the processing chamber of the inorganic film forming device 14 is released. A plurality of crystal resonators 9 are transferred to the holding portion provided in the. In the inorganic film forming apparatus 14, a processing material containing a processing material (a metal oxide precursor in this embodiment) is supplied into the processing chamber, whereby the processing material is supplied to the first electrode 91 and the second electrode 92. Is formed, and a metal oxide precursor thin film (in this embodiment, a metal alkoxide film) is formed on the first electrode 91 and the second electrode 92 (step S17). When the generation of the precursor thin film is completed, the carrier 8 attracts the fixing member 96 of the crystal resonator 9 to receive the plurality of crystal resonators 9 from the holding unit of the inorganic film forming apparatus 14.

さらに、複数の水晶振動子9が無機膜形成装置14から搬出されて洗浄装置17に再度搬入され、キャリア8による固定部材96の吸着が解除されることにより、洗浄装置17内に設けられた保持部に複数の水晶振動子9が渡される。洗浄装置17では、水晶振動子9の第1電極91および第2電極92に純水が付与されることにより、第1電極91および第2電極92に対する洗浄処理が行われる(ステップS18)。このとき、第1電極91および第2電極92上では、薄膜状の金属酸化物の前駆体が加水分解され、金属酸化物の薄膜である無機膜が形成される。   Further, the plurality of crystal resonators 9 are unloaded from the inorganic film forming apparatus 14 and loaded again into the cleaning apparatus 17, and the holding of the fixing member 96 by the carrier 8 is released. A plurality of crystal resonators 9 are passed to the section. In the cleaning device 17, the first electrode 91 and the second electrode 92 are cleaned by applying pure water to the first electrode 91 and the second electrode 92 of the crystal unit 9 (step S <b> 18). At this time, on the first electrode 91 and the second electrode 92, the thin metal oxide precursor is hydrolyzed to form an inorganic film that is a metal oxide thin film.

洗浄処理が終了すると、キャリア8が、水晶振動子9の固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9を洗浄装置17の保持部から受け取り、複数の水晶振動子9は、洗浄装置17から搬出されて乾燥装置18に再度搬入される。そして、上記と同様に、水晶振動子9に対する乾燥処理が施された後(ステップS19)、乾燥装置18から搬出されて有機膜形成装置16に搬入される。   When the cleaning process is completed, the carrier 8 attracts the fixing member 96 of the crystal resonator 9 to receive the plurality of crystal resonators 9 from the holding unit of the cleaning device 17, and the plurality of crystal resonators 9 are connected to the cleaning device. It is carried out from 17 and carried into the drying device 18 again. In the same manner as described above, after the crystal resonator 9 is subjected to a drying process (step S19), it is unloaded from the drying device 18 and loaded into the organic film forming device 16.

電極処理システム100では、キャリア8による固定部材96の吸着が解除されることにより、有機膜形成装置16の処理槽内に設けられた保持部に複数の水晶振動子9が渡され、複数の水晶振動子9の第1電極91および第2電極92が、上記処理槽に貯溜されている処理液に所定の時間だけ浸漬される(すなわち、第1電極91および第2電極92に処理液に含まれる処理材料である有機膜の材料が付与される)ことにより、第1電極91および第2電極92上に形成された無機膜上に、エチルアルコールを選択的に吸着する有機膜(すなわち、有機物の薄膜)が形成される(ステップS20)。   In the electrode processing system 100, by releasing the adsorption of the fixing member 96 by the carrier 8, a plurality of crystal resonators 9 are passed to a holding unit provided in the processing tank of the organic film forming apparatus 16, and a plurality of crystals The first electrode 91 and the second electrode 92 of the vibrator 9 are immersed in the processing liquid stored in the processing tank for a predetermined time (that is, included in the processing liquid in the first electrode 91 and the second electrode 92). An organic film that selectively adsorbs ethyl alcohol on the inorganic film formed on the first electrode 91 and the second electrode 92 (that is, an organic substance). (Thin film) is formed (step S20).

有機膜の成膜が終了すると、キャリア8が、水晶振動子9の固定部材96を吸着することにより、複数の水晶振動子9を有機膜形成装置16の保持部から受け取る。複数の水晶振動子9は、有機膜形成装置16から洗浄装置17へと搬送されて洗浄処理が施され(ステップS21)、さらに、洗浄装置17から乾燥装置18へと搬送されて乾燥処理が施される(ステップS22)。   When the film formation of the organic film is completed, the carrier 8 sucks the fixing member 96 of the crystal resonator 9 to receive the plurality of crystal resonators 9 from the holding unit of the organic film forming apparatus 16. The plurality of crystal resonators 9 are transported from the organic film forming device 16 to the cleaning device 17 and subjected to a cleaning process (step S21), and further transferred from the cleaning device 17 to the drying device 18 and subjected to a drying process. (Step S22).

電極処理システム100の制御部では、ステップS17〜S22の処理の回数がカウントされており、所定回数に到達していないことが確認されると(ステップS23)、上記ステップS17〜S22の処理が繰り返され、第1電極91および第2電極92上に無機膜および有機膜が形成される。このようにして、上記ステップS17〜S22の処理が所定回数(例えば、10回)だけ繰り返されることにより(ステップS23)、図2および図3に示す水晶振動子9の第1電極91および第2電極92上に、無機膜および有機膜が交互に積層されたエチルアルコール感応膜が形成される。エチルアルコール感応膜が形成された処理済みの水晶振動子9は、キャリア8からトレイ112に渡される。なお、水晶振動子9に求められる性能等によっては、ステップS17〜S22の処理は1回のみであってもよい。   In the control unit of the electrode processing system 100, the number of processes in steps S17 to S22 is counted, and when it is confirmed that the predetermined number has not been reached (step S23), the processes in steps S17 to S22 are repeated. Thus, an inorganic film and an organic film are formed on the first electrode 91 and the second electrode 92. In this way, the processes of steps S17 to S22 are repeated a predetermined number of times (for example, 10 times) (step S23), whereby the first electrode 91 and the second electrode 91 of the crystal unit 9 shown in FIGS. An ethyl alcohol sensitive film in which inorganic films and organic films are alternately laminated is formed on the electrode 92. The processed crystal resonator 9 on which the ethyl alcohol sensitive film is formed is transferred from the carrier 8 to the tray 112. Note that depending on the performance required for the crystal unit 9 and the like, the processing in steps S17 to S22 may be performed only once.

水晶振動子9を利用する匂いセンサでは、第1電極91および第2電極92上のエチルアルコール感応膜にエチルアルコールの分子が吸着することにより、第1電極91と第2電極92との間の電圧の周波数が変化し、当該周波数に基づいてエチルアルコールの濃度が求められる。   In the odor sensor using the crystal resonator 9, ethyl alcohol molecules are adsorbed on the ethyl alcohol sensitive film on the first electrode 91 and the second electrode 92, so that the gap between the first electrode 91 and the second electrode 92 is reduced. The frequency of the voltage changes, and the concentration of ethyl alcohol is determined based on the frequency.

電極処理システム100においてキャリア8に同時に吸着保持される複数の水晶振動子9を1セットの水晶振動子9と呼ぶと、電極処理システム100では、実際には、複数セットの水晶振動子9に対して、上述のステップS11〜S23に示す処理が並行して行われる。これにより、水晶振動子9の第1電極91および第2電極92上へのエチルアルコール感応膜の形成を効率良く行うことができる。電極処理システム100では、複数のキャリア8および複数の搬送機構19が設けられてもよく、これにより、エチルアルコール感応膜の形成がより効率良く行われる。   In the electrode processing system 100, a plurality of crystal resonators 9 that are simultaneously attracted and held by the carrier 8 are referred to as one set of crystal resonators 9. Thus, the processes shown in steps S11 to S23 described above are performed in parallel. Thereby, an ethyl alcohol sensitive film can be efficiently formed on the first electrode 91 and the second electrode 92 of the crystal unit 9. In the electrode processing system 100, a plurality of carriers 8 and a plurality of transport mechanisms 19 may be provided, whereby the formation of the ethyl alcohol sensitive film is more efficiently performed.

以上に説明したように、電極処理システム100のキャリア8では、ホルダ81が、水晶振動子9の固定部材96に形成された第1嵌合構造960と嵌り合う第2嵌合構造810を備え、第2嵌合構造810に設けられた開口から吸引が行われることにより第1嵌合構造960と第2嵌合構造810との嵌合状態が維持される。これにより、水晶振動子9を強固かつ位置精度良く保持することができる。また、水晶振動子9を保持する際に第1嵌合構造960と第2嵌合構造810との摩擦により発生するパーティクルが、第2嵌合構造810に設けられた開口から吸引されるため、水晶振動子9に対するパーティクルの付着を防止しつつ水晶振動子9を保持することができる。   As described above, in the carrier 8 of the electrode processing system 100, the holder 81 includes the second fitting structure 810 that fits the first fitting structure 960 formed on the fixing member 96 of the crystal unit 9, By performing suction from the opening provided in the second fitting structure 810, the fitting state between the first fitting structure 960 and the second fitting structure 810 is maintained. Thereby, the crystal unit 9 can be held firmly and with high positional accuracy. Further, since particles generated by friction between the first fitting structure 960 and the second fitting structure 810 are held when holding the crystal unit 9, the particles are sucked from the opening provided in the second fitting structure 810. The crystal unit 9 can be held while preventing the particles from adhering to the crystal unit 9.

さらに、キャリア8では、ホルダ81から電極処理システム100の各処理装置(すなわち、水晶振動子9の電極に所定の処理を行う前処理装置12、チオール結合処理装置13、無機膜形成装置14、有機膜形成装置16、洗浄装置17および乾燥装置18)への水晶振動子9の受け渡しを固定部材96の吸着および吸着解除のみで行うことができるため、固定部材96を下側から支持するような保持装置に比べて、水晶振動子9の受け渡しの際にホルダ81の移動や変形が伴わず、ホルダ81およびキャリア8の大型化を抑制することができる。   Further, in the carrier 8, each processing apparatus of the electrode processing system 100 from the holder 81 (that is, a pretreatment apparatus 12 that performs a predetermined process on the electrode of the crystal unit 9, a thiol bond processing apparatus 13, an inorganic film forming apparatus 14, an organic Since the crystal resonator 9 can be transferred to the film forming device 16, the cleaning device 17 and the drying device 18) only by suction and release of the fixing member 96, the fixing member 96 is supported so as to be supported from below. Compared to the device, the holder 81 and the carrier 8 can be prevented from being enlarged because the holder 81 is not moved or deformed when the crystal unit 9 is delivered.

このように、保持する水晶振動子9の個数が増加しても装置の大型化を抑制することができるホルダ81およびキャリア8は、複数の水晶振動子9の保持に特に適している。したがって、当該ホルダ81およびキャリア8は、複数の水晶振動子9に対して同時に処理を行うことが求められている電極処理システム100に適しており、特に、複数の水晶振動子9に対するバッチ処理に向いている電極への成膜処理が行われる装置を含む電極処理システム100に適している。   As described above, the holder 81 and the carrier 8 that can suppress an increase in the size of the apparatus even when the number of the crystal resonators 9 to be held is increased are particularly suitable for holding a plurality of crystal resonators 9. Therefore, the holder 81 and the carrier 8 are suitable for the electrode processing system 100 that is required to perform processing on a plurality of crystal resonators 9 at the same time. It is suitable for an electrode processing system 100 including an apparatus for performing a film forming process on a facing electrode.

上記実施の形態では、水晶振動子9において、第1嵌合構造960の凸部963が円錐台状とされ、ホルダ81において、第2嵌合構造810の凹部813が凸部963と嵌り合う円錐台状とされる。このように、第1嵌合構造960と第2嵌合構造810との嵌合の際に、凹部813の下部開口を通過する凸部963の水平面による断面の面積が漸次増大する構造とされることにより、凸部963と凹部813とを滑らかに嵌合することができる。また、凸部963の中心と凹部813の中心とが多少ずれている場合であっても、凸部963が凹部813の内側面に沿って凹部813の中心に向かうように移動しつつ吸着されるため、水晶振動子9をより位置精度良く保持することができる。さらに、凸部963および凹部813が簡素な形状とされることにより、水晶振動子9の固定部材96の凸部963、および、ホルダ81の凹部813を容易に形成することができ、水晶振動子9および電極処理システム100の製造コストを削減することができる。   In the above embodiment, in the crystal unit 9, the convex portion 963 of the first fitting structure 960 has a truncated cone shape, and in the holder 81, the concave portion 813 of the second fitting structure 810 fits the convex portion 963. It is a trapezoid. As described above, when the first fitting structure 960 and the second fitting structure 810 are fitted, the area of the cross section of the convex portion 963 passing through the lower opening of the concave portion 813 is gradually increased. Thereby, the convex part 963 and the recessed part 813 can be smoothly fitted. Further, even when the center of the convex portion 963 and the center of the concave portion 813 are slightly shifted, the convex portion 963 is adsorbed while moving toward the center of the concave portion 813 along the inner surface of the concave portion 813. Therefore, the crystal unit 9 can be held with higher positional accuracy. Further, since the convex portion 963 and the concave portion 813 have a simple shape, the convex portion 963 of the fixing member 96 of the crystal resonator 9 and the concave portion 813 of the holder 81 can be easily formed. 9 and the manufacturing cost of the electrode processing system 100 can be reduced.

また、水晶振動子9の固定部材96に設けられた第1嵌合構造960が、ホルダ81の第2嵌合構造810に向かって突出する複数の凸部963を有し、ホルダ81の第2嵌合構造810が、当該複数の凸部963と嵌合する複数の凹部813を有することにより、第1嵌合構造960に凹部を設ける場合に比べて、固定部材96のブロック961の厚さを小さくすることができる。   Further, the first fitting structure 960 provided on the fixing member 96 of the crystal unit 9 has a plurality of convex portions 963 projecting toward the second fitting structure 810 of the holder 81, and the second of the holder 81 Since the fitting structure 810 has a plurality of recesses 813 that fit with the plurality of projections 963, the thickness of the block 961 of the fixing member 96 can be made larger than when the first fitting structure 960 is provided with a recess. Can be small.

上述のように、水晶振動子9の固定部材96において、第1嵌合構造960がガラスまたは樹脂により形成され、ホルダ81の第2嵌合構造810が金属により形成されることにより、第1嵌合構造960と第2嵌合構造810との嵌合の際に、両嵌合構造が金属とされる場合に比べてパーティクルの発生が抑制される。また、水晶振動子9の固定部材96が、金属製のブロック961、および、ブロック961の1対の貫通穴にてリード971,972をブロック961に固定する絶縁部材962を備え、絶縁部材962のうち上記1対の貫通穴から外部に突出する部位が第1嵌合構造960の凸部963とされることにより、絶縁部材962とは別に第1嵌合構造の凸部を形成する場合に比べて、固定部材96および水晶振動子9の構造を簡素化することができる。さらに、金属製のブロック961が利用されることにより、比較的小さい部材である固定部材96を容易かつ低コストにてリジッドなものとすることができる。   As described above, in the fixing member 96 of the crystal resonator 9, the first fitting structure 960 is formed of glass or resin, and the second fitting structure 810 of the holder 81 is formed of metal, so that the first fitting structure 960 is formed. When the joint structure 960 and the second fitting structure 810 are fitted, the generation of particles is suppressed as compared with the case where both fitting structures are made of metal. Further, the fixing member 96 of the crystal unit 9 includes a metal block 961 and an insulating member 962 that fixes the leads 971 and 972 to the block 961 through a pair of through holes of the block 961. Of these, the portion projecting to the outside from the pair of through holes is the convex portion 963 of the first fitting structure 960, so that the convex portion of the first fitting structure is formed separately from the insulating member 962. Thus, the structures of the fixing member 96 and the crystal unit 9 can be simplified. Further, by using the metal block 961, the fixing member 96, which is a relatively small member, can be made rigid easily and at low cost.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.

例えば、ホルダ81の第2嵌合構造810は、必ずしも2つの凹部813を有する必要はなく、1つの凹状の部位が第2嵌合構造810としてホルダ81に設けられてもよい。この場合、水晶振動子9の固定部材96の第1嵌合構造960は、上記1つの凹状の部位と嵌合する1つまたは複数の凸状の部位を有する。第1嵌合構造960が有する凸状の部位が1つのみである場合、当該凸状の部位の形状は、円柱状や円錐台状以外の形状(例えば、四角錐台状)とされることが好ましい。これにより、ホルダ81に保持された水晶振動子9が、第1嵌合構造960を中心として回転してしまうことを確実に防止することができる。また、第1嵌合構造960が有する凸状の部位が複数である場合(例えば、第1嵌合構造960が、溝状の凹部に嵌合する凹部の長手方向に配列された2つの凸部を有する場合)、当該凸状の部位のそれぞれの形状に関わらず、ホルダ81に保持された水晶振動子9の向きの変化が確実に防止される。このため、第1嵌合構造960が有する凸状の部位の形状を、円柱状や円錐台状のような簡素なものとすることができ、水晶振動子9やホルダ81の製造コストを低減することができる。   For example, the second fitting structure 810 of the holder 81 is not necessarily required to have the two concave portions 813, and one concave portion may be provided in the holder 81 as the second fitting structure 810. In this case, the first fitting structure 960 of the fixing member 96 of the crystal resonator 9 has one or a plurality of convex portions that are fitted to the one concave portion. When the first fitting structure 960 has only one convex portion, the shape of the convex portion is a shape other than a columnar shape or a truncated cone shape (for example, a truncated pyramid shape). Is preferred. Thereby, it is possible to reliably prevent the quartz crystal vibrator 9 held by the holder 81 from rotating around the first fitting structure 960. Further, when the first fitting structure 960 has a plurality of convex portions (for example, two convex portions in which the first fitting structure 960 is arranged in the longitudinal direction of the concave portion that fits into the groove-shaped concave portion. ), The change in the orientation of the crystal unit 9 held by the holder 81 is reliably prevented regardless of the shape of each of the convex portions. For this reason, the shape of the convex part which the 1st fitting structure 960 has can be made into a simple thing like a column shape or a truncated cone shape, and the manufacturing cost of the crystal oscillator 9 or the holder 81 is reduced. be able to.

ホルダ81の第2嵌合構造810は、3つ以上の凹状の部位を有していてもよく、この場合、水晶振動子9の第1嵌合構造960は、これらの凹状の部位と嵌合する3つ以上の凸状の部位を有する。これにより、上記と同様に、第1嵌合構造960の凸状の部位の形状に関わらず、ホルダ81に保持された水晶振動子9の向きの変化が確実に防止される。このため、第1嵌合構造960が有する凸状の部位の形状を簡素なものとして水晶振動子9やホルダ81の製造コストを低減することができる。   The second fitting structure 810 of the holder 81 may have three or more concave portions. In this case, the first fitting structure 960 of the crystal resonator 9 is fitted to these concave portions. It has three or more convex parts. As a result, similarly to the above, regardless of the shape of the convex portion of the first fitting structure 960, a change in the orientation of the crystal unit 9 held by the holder 81 is reliably prevented. For this reason, the manufacturing cost of the crystal unit 9 and the holder 81 can be reduced by simplifying the shape of the convex portion of the first fitting structure 960.

また、反対に、ホルダ81の第2嵌合構造810として凸状の部位が設けられ、水晶振動子9の第1嵌合構造960として凹状の部位が設けられてもよい。第2嵌合構造810が複数の凸状の部位を有する場合、上記と同様に、第2嵌合構造810の凸状の部位の形状に関わらず、ホルダ81に保持された水晶振動子9の向きの変化が確実に防止されるため、第2嵌合構造810が有する凸状の部位の形状を簡素なものとして水晶振動子9やホルダ81の製造コストを低減することができる。すなわち、第1嵌合構造960および第2嵌合構造810のうちの一方が、他方と嵌り合う複数の凸状の部位を有することにより、当該凸状の部位の形状を簡素なものとすることができ、水晶振動子9やホルダ81の製造コストが低減される。   Conversely, a convex part may be provided as the second fitting structure 810 of the holder 81, and a concave part may be provided as the first fitting structure 960 of the crystal unit 9. When the second fitting structure 810 has a plurality of convex portions, the crystal resonator 9 held by the holder 81 is held regardless of the shape of the convex portion of the second fitting structure 810 as described above. Since the change in direction is reliably prevented, the manufacturing cost of the crystal unit 9 and the holder 81 can be reduced by simplifying the shape of the convex portion of the second fitting structure 810. That is, one of the first fitting structure 960 and the second fitting structure 810 has a plurality of convex portions that fit into the other, thereby simplifying the shape of the convex portion. The manufacturing cost of the crystal unit 9 and the holder 81 can be reduced.

固定部材96の第1嵌合構造960、および、ホルダ81の第2嵌合構造810は、上記実施の形態とは異なる材料により形成されてもよいが、第1嵌合構造960および第2嵌合構造810の一方が金属により形成され、他方がガラスまたは樹脂により形成されることにより、当該一方の嵌合構造を容易かつ低コストにてリジッドなものとすることができるとともに、第1嵌合構造960と第2嵌合構造810との嵌合の際のパーティクルの発生を抑制することができる。   The first fitting structure 960 of the fixing member 96 and the second fitting structure 810 of the holder 81 may be formed of a material different from that of the above embodiment, but the first fitting structure 960 and the second fitting structure 960 may be formed. One of the combined structures 810 is made of metal and the other is made of glass or resin, so that the one fitting structure can be made rigid easily and at low cost, and the first fitting Generation of particles at the time of fitting between the structure 960 and the second fitting structure 810 can be suppressed.

固定部材96の第1嵌合構造960は、必ずしも絶縁部材962の一部として形成される必要はなく、ブロック961の1対の貫通穴から離れた位置において、ブロック961の上面に形成された凸状または凹状の部位が第1嵌合構造960とされてもよい。   The first fitting structure 960 of the fixing member 96 does not necessarily need to be formed as a part of the insulating member 962, and is a protrusion formed on the upper surface of the block 961 at a position away from the pair of through holes of the block 961. A concave or concave portion may be the first fitting structure 960.

電極処理システム100では、水晶振動子9の第1電極91および第2電極92の双方にエチルアルコール感応膜が形成されるが、エチルアルコール感応膜は、第1電極91および第2電極92の少なくとも一方に形成されていればよい。また、エチルアルコール感応膜に代えて、例えば、毒性ガス、可燃性ガス、煙(火災時の煙等)、特定の危険物、環境ホルモン、特定の汚染物質(土壌汚染物質等)、エチルアルコールや薬物の摂取による代謝物、または、疾病による代謝物等を選択的に吸着する薄膜が形成されてもよく、タンパク質等の様々な材料の薄膜が形成されてもよい。   In the electrode processing system 100, an ethyl alcohol sensitive film is formed on both the first electrode 91 and the second electrode 92 of the crystal unit 9, and the ethyl alcohol sensitive film is at least of the first electrode 91 and the second electrode 92. It only has to be formed on one side. In place of the ethyl alcohol sensitive membrane, for example, toxic gas, flammable gas, smoke (smoke in the case of fire), specific dangerous materials, environmental hormones, specific pollutants (soil pollutants, etc.), ethyl alcohol, A thin film that selectively adsorbs a metabolite caused by ingestion of a drug or a metabolite caused by a disease may be formed, or a thin film of various materials such as proteins may be formed.

電極処理システム100では、キャリア8により保持されて搬送される水晶振動子9の第1電極91および第2電極92に対して、前処理、チオール結合処理、無機膜形成処理、有機膜形成処理、洗浄処理および乾燥処理が行われるが、キャリア8は、水晶振動子9に対して他の様々な処理を行う装置と共に使用されてもよい。   In the electrode processing system 100, pretreatment, thiol bonding treatment, inorganic film formation treatment, organic film formation treatment are performed on the first electrode 91 and the second electrode 92 of the crystal resonator 9 held and transported by the carrier 8. Although the cleaning process and the drying process are performed, the carrier 8 may be used together with a device that performs various other processes on the crystal unit 9.

電極処理システムを示す平面図である。It is a top view which shows an electrode processing system. 水晶振動子の一方の主面を示す図である。It is a figure which shows one main surface of a crystal oscillator. 水晶振動子の他方の主面を示す図である。It is a figure which shows the other main surface of a crystal oscillator. キャリアの正面図である。It is a front view of a carrier. キャリアの側面図である。It is a side view of a carrier. 水晶振動子近傍を示す図である。It is a figure which shows the crystal oscillator vicinity. ホルダの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of holder. 水晶振動子の電極に対する処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the process with respect to the electrode of a crystal oscillator. 水晶振動子の電極に対する処理の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of the process with respect to the electrode of a crystal oscillator. 水晶振動子が載置されたトレイの一部を示す側面図である。It is a side view which shows a part of tray which mounted the crystal oscillator.

符号の説明Explanation of symbols

9 水晶振動子
12 前処理装置
13 チオール結合処理装置
14 無機膜形成装置
16 有機膜形成装置
17 洗浄装置
18 乾燥装置
19 搬送機構
81 ホルダ
91 第1電極
92 第2電極
95 水晶片
96 固定部材
100 電極処理システム
810 第2嵌合構造
812 主流路
813 凹部
814 支流路
951 第1主面
952 第2主面
960 第1嵌合構造
961 ブロック
962 絶縁部材
963 凸部
971,972 リード
S11〜S23 ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 Crystal oscillator 12 Pre-processing apparatus 13 Thiol bond processing apparatus 14 Inorganic film forming apparatus 16 Organic film forming apparatus 17 Cleaning apparatus 18 Drying apparatus 19 Transport mechanism 81 Holder 91 1st electrode 92 2nd electrode 95 Crystal piece 96 Fixing member 100 Electrode Processing system 810 Second fitting structure 812 Main flow path 813 Concavity 814 Branch flow path 951 First main surface 952 Second main surface 960 First fitting structure 961 Block 962 Insulating member 963 Protruding portion 971, 972 Lead S11-S23 Step

Claims (9)

板状の水晶片の両主面に1対の電極が形成されるとともに前記1対の電極から前記水晶片の前記両主面におよそ平行に伸びる1対の配線が固定部材に固定された水晶振動子を保持する水晶振動子保持装置であって、
前記固定部材に形成された凹状または凸状の部位を有する第1嵌合構造と嵌り合う第2嵌合構造と、
前記第2嵌合構造に設けられて吸引機構に接続される開口から吸引を行うことにより前記第1嵌合構造と前記第2嵌合構造との嵌合状態を維持するとともに、前記吸引を停止することにより前記嵌合状態を解除する流路と、
を備えることを特徴とする水晶振動子保持装置。
A crystal in which a pair of electrodes are formed on both main surfaces of the plate-shaped crystal piece and a pair of wires extending from the pair of electrodes to the main surfaces of the crystal piece in parallel with each other are fixed to a fixing member. A crystal resonator holding device for holding a resonator,
A second fitting structure fitted with a first fitting structure having a concave or convex portion formed on the fixing member;
The suction is stopped while maintaining the fitting state between the first fitting structure and the second fitting structure by performing suction from an opening provided in the second fitting structure and connected to the suction mechanism. A flow path for releasing the fitting state by
A crystal resonator holding device comprising:
請求項1に記載の水晶振動子保持装置であって、
前記第1嵌合構造および前記第2嵌合構造のうちの一方が、他方と嵌り合う複数の凸状の部位を有することを特徴とする水晶振動子保持装置。
The crystal resonator holding device according to claim 1,
One of said 1st fitting structure and said 2nd fitting structure has a some convex-shaped site | part which fits the other, The crystal oscillator holding | maintenance apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項2に記載の水晶振動子保持装置であって、
前記第1嵌合構造が、前記第2嵌合構造に向かって突出する複数の凸部を有し、
前記第2嵌合構造が、前記複数の凸部と嵌合する複数の凹部を有することを特徴とする水晶振動子保持装置。
The crystal resonator holding device according to claim 2,
The first fitting structure has a plurality of protrusions protruding toward the second fitting structure;
The crystal resonator holding device, wherein the second fitting structure has a plurality of recesses that fit into the plurality of projections.
請求項3に記載の水晶振動子保持装置であって、
前記複数の凸部のそれぞれが円錐台状であることを特徴とする水晶振動子保持装置。
The crystal resonator holding device according to claim 3,
Each of the plurality of convex portions has a truncated cone shape.
請求項3または4に記載の水晶振動子保持装置であって、
前記水晶振動子の前記固定部材が、
前記1対の配線が挿入される1対の貫通穴が形成された金属製のブロックと、
前記1対の貫通穴の内部にて前記1対の配線を前記ブロックに固定するとともに前記1対の貫通穴から外部に突出する部位が前記複数の凸部となる絶縁部材と、
を備えることを特徴とする水晶振動子保持装置。
The crystal resonator holding device according to claim 3 or 4,
The fixing member of the crystal resonator is
A metal block formed with a pair of through holes into which the pair of wirings are inserted;
An insulating member that fixes the pair of wires to the block inside the pair of through holes and that protrudes to the outside from the pair of through holes becomes the plurality of convex portions;
A crystal resonator holding device comprising:
請求項1ないし5のいずれかに記載の水晶振動子保持装置であって、
前記第1嵌合構造および前記第2嵌合構造の一方が金属により形成され、他方がガラスまたは樹脂により形成されることを特徴とする水晶振動子保持装置。
A crystal resonator holding device according to any one of claims 1 to 5,
One of the first fitting structure and the second fitting structure is formed of metal, and the other is formed of glass or resin.
請求項1ないし6のいずれかに記載の水晶振動子保持装置であって、
他の水晶振動子の前記固定部材を吸着保持する前記第2嵌合構造および前記流路のもう1つの組み合わせをさらに備えることを特徴とする水晶振動子保持装置。
The crystal resonator holding device according to any one of claims 1 to 6,
The crystal resonator holding device, further comprising another combination of the second fitting structure for sucking and holding the fixing member of another crystal resonator and the flow path.
板状の水晶片の両主面に1対の電極が形成されるとともに前記1対の電極から前記水晶片の前記両主面におよそ平行に伸びる1対の配線が固定部材に固定された水晶振動子の電極に所定の処理を行う電極処理システムであって、
前記水晶振動子を保持する請求項1ないし7のいずれかに記載の水晶振動子保持装置と、
それぞれが前記水晶振動子の前記1対の電極のうち少なくとも一方の電極に処理材料を付与することにより前記少なくとも一方の電極に所定の処理を行う複数の処理装置と、
前記水晶振動子保持装置を前記複数の処理装置のうち一の処理装置から他の処理装置へと搬送する搬送機構と、
を備え、
前記水晶振動子保持装置が、前記一の処理装置内に設けられた保持部に保持された前記水晶振動子の前記固定部材を吸着することにより前記水晶振動子を前記保持部から受け取り、前記他の処理装置内にて前記固定部材の吸着を解除することにより前記他の処理装置内に設けられた保持部に前記水晶振動子を渡すことを特徴とする電極処理システム。
A crystal in which a pair of electrodes are formed on both main surfaces of the plate-shaped crystal piece and a pair of wires extending from the pair of electrodes to the main surfaces of the crystal piece in parallel with each other are fixed to a fixing member. An electrode processing system for performing predetermined processing on electrodes of a vibrator,
A crystal resonator holding device according to any one of claims 1 to 7, which holds the crystal resonator;
A plurality of processing devices each performing a predetermined process on the at least one electrode by applying a processing material to at least one of the pair of electrodes of the crystal resonator;
A transport mechanism for transporting the quartz crystal holding device from one processing device to another processing device among the plurality of processing devices;
With
The crystal unit holding device receives the crystal unit from the holding unit by adsorbing the fixing member of the crystal unit held by a holding unit provided in the one processing apparatus, and the other An electrode processing system in which the quartz crystal vibrator is transferred to a holding portion provided in the other processing apparatus by releasing the suction of the fixing member in the processing apparatus.
請求項8に記載の電極処理システムであって、
前記一の処理装置による処理が、前記少なくとも一方の電極上に薄膜を形成する処理であることを特徴とする電極処理システム。
The electrode processing system according to claim 8,
The electrode processing system characterized in that the processing by the one processing apparatus is processing for forming a thin film on the at least one electrode.
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