JP2010102749A

JP2010102749A - ホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ及び光ピックアップ装置

Info

Publication number: JP2010102749A
Application number: JP2008270868A
Authority: JP
Inventors: Nobuji Kawamura; 宜司川村
Original assignee: Fujinon Corp
Current assignee: Fujinon Corp
Priority date: 2008-10-21
Filing date: 2008-10-21
Publication date: 2010-05-06

Abstract

【課題】コストアップを招くことなく、光ディスクに記録されたデータ用の信号とトラッキングエラー検出用の信号とを得られるＰＢＳを提供する。
【解決手段】ＰＢＳ１２は、第１及び第２の２つの透明基板３０、３２と、これらの各透明基板３０、３２に挟まれたスプリッタ層３４とホログラム層３６とで構成されている。スプリッタ層３４は、Ｐ偏光光を透過させ、Ｓ偏光光を反射させる。ホログラム層３６は、Ｐ偏光光が入射した場合、その光を回折させることなく透過させ、Ｓ偏光光が入射した場合、その光を回折させる。ＰＢＳ１２は、第２透明基板３２の上面３２ａからＳ偏光光が入射すると、その反射光をスプリッタ層３４で反射させるとともに、ホログラム層３６で回折させる。これにより、偏光性ホログラム素子を別途設ける必要がなくなるので、コストアップが防止される。
【選択図】図２

Description

本発明は、入射した光を、その偏光方向によって分離するホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ、及びこれを用いた光ピックアップ装置に関する。

ＣＤやＤＶＤなどの光ディスクに記録されたデータを読み取ったり、光ディスクに対してデータを書き込んだりする光ピックアップ装置が普及している。光ピックアップ装置では、光源が照射した読み取り光と、光ディスクで反射した反射光とを偏光ビームスプリッタで分離することにより、フォトダイオードなどの検出器に反射光を入射させている。また、こうした光ピックアップ装置の中には、偏光ビームスプリッタから出射された反射光を偏光性ホログラム素子で回折させ、０次回折光と±１次回折光とを複数の検出器で検出するものがある（例えば、特許文献１参照）。こうすることで、光ディスクに記録されたデータ用の信号とトラッキングエラー検出用の信号とを各検出器の出力から得ることができる。
特開平９−２８８８４４号公報

しかしながら、上記特許文献１のように偏光ビームスプリッタと偏光性ホログラム素子とを設けると、部品点数の増加にともなうコストアップが懸念される。また、偏光ビームスプリッタと偏光性ホログラム素子との位置調整を行わなければならないため、組み立てが煩雑になり、これにともなう組立コストのアップも懸念される。

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、コストアップを招くことなく、簡便な構成で光ディスクに記録されたデータ用の信号とトラッキングエラー検出用の信号とを得られるようにすることを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明のホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタは、光学的に等方性の材料からなり、光が入射する第１光入射面と、所定の角度傾斜した状態で前記第１光入射面と向かい合う第１傾斜面とを有する第１透明基板と、前記第１傾斜面上に設けられ、Ｐ偏光光又はＳ偏光光である第１偏光光を透過させ、前記第１偏光光に対して偏光方向が９０度回転した第２偏光光を反射させるスプリッタ層と、前記スプリッタ層の上に設けられ、入射した光の偏光方向によって回折の度合いが異なるホログラムパターンを有し、前記第１偏光光を回折させることなく透過させるとともに、前記第２偏光光を回折させて複数の光束に分離させるホログラム層と、光学的に等方性の材料からなり、光が入射する第２光入射面と、前記第１傾斜面と略同一の角度傾斜した状態で前記第２光入射面と向かい合う第２傾斜面とを有し、前記各光入射面が略平行になるとともに前記スプリッタ層と前記ホログラム層とを前記各傾斜面で挟むように配置される第２透明基板とを備えたことを特徴とする。

なお、前記スプリッタ層は、屈折率の異なる複数の誘電体膜を交互に積層してなる光学多層膜で構成され、前記ホログラム層は、誘電体膜で構成されていることが好ましい。また、前記ホログラム層は、複屈折性を有する誘電体膜を筋状に形成し、前記誘電体膜をその長手方向と略直交する方向に所定の間隔を開けて複数並べることにより、縞模様状の前記ホログラムパターンを形成していることが好ましい。さらに、前記各傾斜面の傾斜角度は、４５度であることが好ましい。

また、本発明は、光ディスクの記録面に向けて光源から読み取り光を照射し、前記記録面で反射した反射光を受光することによって前記光ディスクに記録されたデータを読み取る光ピックアップ装置において、光学的に等方性の材料からなり、前記読み取り光が入射する第１光入射面と、所定の角度傾斜した状態で前記第１光入射面と向かい合う第１傾斜面とを有する第１透明基板と、前記第１傾斜面上に設けられ、Ｐ偏光光又はＳ偏光光である前記読み取り光を透過させ、前記記録面で反射することによって前記読み取り光に対して偏光方向が９０度回転した前記反射光を反射させることにより、前記読み取り光と前記反射光とを分離させるスプリッタ層と、前記スプリッタ層の上に設けられ、入射した光の偏光方向によって回折の度合いが異なるホログラムパターンを有し、前記読み取り光を回折させることなく透過させるとともに、前記反射光を回折させて前記光ディスクに記録されたデータ用の光束とトラッキングエラー検出用の光束とを含む複数の光束に分離させるホログラム層と、光学的に等方性の材料からなり、前記反射光が入射する第２光入射面と、前記第１傾斜面と略同一の角度傾斜した状態で前記第２光入射面と向かい合う第２傾斜面とを有し、前記各光入射面が略平行になるとともに前記スプリッタ層と前記ホログラム層とを前記各傾斜面で挟むように配置される第２透明基板とからなるホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタを設けたことを特徴とする。

さらに、前記ホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタは、前記各光入射面が前記読み取り光の光軸に対して略直交するとともに、前記読み取り光が前記スプリッタ層及び前記ホログラム層に対してＰ偏光光となるように配置されることが好ましい。

本発明では、偏光ビームスプリッタにスプリッタ層とホログラム層とを設け、第２偏光光が入射した際に、スプリッタ層で反射すると同時にホログラム層で回折するようにした。これにより、偏光性ホログラム素子を別途設ける必要がなくなるので、部品点数の増加にともなうコストアップを招く心配がない。また、位置調整を行う必要もないので、組立コストのアップを招く心配もない。

図１に示すように、光ピックアップ装置２は、レーザダイオード１０（以下、ＬＤ１０と称す）、偏光ビームスプリッタ１２（以下、ＰＢＳ１２と称す）、コリメートレンズ１４、λ／４波長板１６、対物レンズ１８、フォトダイオード２０（以下、ＰＤ２０と称す）で構成されている。光ピックアップ装置２は、光ディスク４の記録面４ａに向けて光源であるＬＤ１０から読み取り光を照射する。そして、記録面４ａで反射した反射光をＰＤ２０で受光し、反射光の光強度の強弱を検知することにより、光ディスク４に記録されたデータを読み取る。

ＬＤ１０は、Ｐ偏光光又はＳ偏光光である光を読み取り光として照射し、その読み取り光をＰＢＳ１２に入射させる。

ＰＢＳ１２は、第１及び第２の２つの透明基板３０、３２と、これらの各透明基板３０、３２に挟まれたスプリッタ層３４とホログラム層３６とで構成され、略直方体状に形成されている。スプリッタ層３４及びホログラム層３６は、第１透明基板３０の底面３０ａ、及び第２透明基板３２の上面３２ａに対して略４５度傾斜して設けられている。このＰＢＳ１２は、底面３０ａと上面３２ａとが読み取り光の光軸Ｓ１に対して直交するとともに、読み取り光の偏光方向がスプリッタ層３４及びホログラム層３６に対してＰ偏光となるように配置される。

各透明基板３０、３２には、光学ガラスや光学プラスチックなどの光学的に等方性の材料が用いられている。スプリッタ層３４は、Ｐ偏光光をほぼ１００％透過させ、Ｓ偏光光をほぼ１００％反射させる光学特性を有している。ホログラム層３６には、入射する光の偏光方向によって回折の度合いが異なるホログラムパターンが形成されている。このホログラム層３６は、Ｐ偏光光が入射した場合、その光を回折させることなく透過させ、Ｓ偏光光が入射した場合、その光を回折させる光学特性を有している。また、ホログラム層３６は、０次回折光が透過せず、０次回折光の光軸Ｓ２に対して所定の角度傾斜した±１次回折光、及びそれ以上の高次回折光が透過するように構成されている。

前述のように、ＬＤ１０は、Ｐ偏光の読み取り光をＰＢＳ１２に入射させる。ＰＢＳ１２は、読み取り光が入射すると、スプリッタ層３４及びホログラム層３６を透過させ、その読み取り光をコリメートレンズ１４に入射させる。なお、図１では、便宜上、スプリッタ層３４及びホログラム層３６に厚みを持たせて記載しているが、スプリッタ層３４の膜厚は、約０．５５μｍであり、ホログラム層３６の膜厚は、約０．１μｍである。

コリメートレンズ１４は、光軸Ｓを中心に±１０度程度の広がりを持ってＬＤ１０から照射される読み取り光を平行光束に変換し、λ／４波長板１６に入射させる。λ／４波長板１６は、直線偏光の読み取り光を円偏光に変換し、対物レンズ１８に入射させる。対物レンズ１８は、円偏光に変換された読み取り光を記録面４ａ上に集光させ、読み取り光を記録面４ａに照射する。

記録面４ａに照射された読み取り光は、記録面４ａで反射し、反射光となって再び対物レンズ１８に入射する。この際、反射光は、ピットの有無や結晶化による反射率の変化などといった記録面４ａの状態に応じて光強度が変化する。また、反射光は、記録面４ａで反射することにより、読み取り光とは逆向きに回転する円偏光になる。

対物レンズ１８は、入射した反射光を平行光束に変換し、λ／４波長板１６に入射させる。λ／４波長板１６は、円偏光の反射光を直線偏光の光に変換し、コリメートレンズ１４に入射させる。この際、反射光は、読み取り光と回転方向が逆向きの円偏光であるため、読み取り光に対して９０度回転した直線偏光、すなわちスプリッタ層３４及びホログラム層３６に対するＳ偏光光に変換される。コリメートレンズ１４は、反射光を集光し、ＰＢＳ１２に入射させる。

ＰＢＳ１２は、Ｓ偏光の反射光が入射すると、その反射光をスプリッタ層３４で反射させ、第２透明基板３２の側面３２ｂから出射させる。ＰＢＳ１２は、上面３２ａが光軸Ｓ１と略直交するように配置され、且つスプリッタ層３４が上面３２ａに対して略４５度傾斜して設けられているため、略４５度の反射角度（光軸Ｓ１と光軸Ｓ２との角度）で反射光を反射させる。また、ＰＢＳ１２は、スプリッタ層３４で反射させるとともに、ホログラム層３６で反射光を回折させ、反射光を複数の光束に分離させる。

ところで、ＰＢＳ１２が図１とは反対に、スプリッタ層３４が光ディスク４側を向くように配置されていると、ホログラム層３６での回折が起きずに反射光が反射してしまうことになる。このため、ＰＢＳ１２は、図１に示すように、必ずホログラム層３６が光ディスク４側を向くように配置される。

ＰＤ２０は、側面３２ｂと対面し、側面３２ｂから出射される１次回折光が入射するように配置されている。ＰＤ２０は、入射した１次回折光を光電変換し、その光強度に応じた電気信号を出力する。これにより、ＰＤ２０の受光面上の位置に応じて、光ディスク４に記録されたデータ用の信号とトラッキングエラー検出用の信号とが得られる。

図２は、ＰＢＳ１２の構成を概略的に示す分解斜視図である。第１透明基板３０は、直角二等辺三角形状の断面を有する三角柱に形成されており、ＬＤ１０からの読み取り光が入射する光入射面である底面３０ａと、この底面３０ａと略直交する側面３０ｂと、略４５度傾斜した状態で底面３０ａ及び側面３０ｂと向かい合う傾斜面３０ｃとを有している。

第２透明基板３２は、第１透明基板３０と略同一の形状に形成されており、記録面４ａからの反射光が入射する光入射面である上面３２ａと、この上面３２ａと略直交し、スプリッタ層３４で反射した反射光が出射する光出射面である側面３２ｂと、略４５度傾斜した状態で上面３２ａ及び側面３２ｂと向かい合う傾斜面３２ｃとを有している。

各透明基板３０、３２は、底面３０ａと上面３２ａとが略平行になるとともに、スプリッタ層３４とホログラム層３６とを各傾斜面３０ｃ、３２ｃで挟むように組み合わされる。これにより、前述のように、ＰＢＳ１２が略直方体状に形成されるとともに、スプリッタ層３４及びホログラム層３６が略４５度傾斜して設けられる。なお、底面３０ａ、及び上面３２ａには、これらの面における光の反射を防止するＡＲ（Anti-Reflection）コート層を設けることが好ましい。

図３に示すように、スプリッタ層３４は、第１誘電体膜４０と、この第１誘電体膜４０よりも低い屈折率の第２誘電体膜４２とを交互に積層してなる光学多層膜で構成されている。本実施形態では、５層の第１誘電体膜４０と、４層の第２誘電体膜４２とからなる９層構造の光学多層膜をスプリッタ層３４として示している。第１誘電体膜４０には、例えば、五酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）が用いられる。また、第２誘電体膜４２には、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ_２）が用いられる。なお、各誘電体膜４０、４２の層数、及び材料は、上記に限定されるものではない。

光学多層膜からなるスプリッタ層３４は、Ｐ偏光光に対応する屈折率と、Ｓ偏光光に対応する屈折率とを持つ複屈折性を有している。Ｐ偏光光に対応する屈折率は、各透明基板３０、３２の屈折率と略同一になっている。これにより、底面３０ａ又は上面３２ａからＰＢＳ１２に入射したＰ偏光光は、スプリッタ層３４で反射することなく透過する。一方、Ｓ偏光光に対応する屈折率は、各透明基板３０、３２の屈折率よりも低くなっている。これにより、底面３０ａ又は上面３２ａからＰＢＳ１２に入射したＳ偏光光は、スプリッタ層３４の表面で全反射する。

図２、及び図３に示すように、ホログラム層３６は、筋状に形成され、その長手方向と略直交する方向（矢線Ａ方向）に所定の間隔を開けて複数並べられた誘電体膜４４からなる。ホログラム層３６は、この誘電体膜４４によって縞模様状のホログラムパターンを形成している。誘電体膜４４には、例えば、酸化シリコンが用いられる。なお、誘電体膜４４の材料は、これに限定されるものではない。また、誘電体膜４４は、単層構造のものに限らず、例えば、スプリッタ層３４と同様の光学多層膜で形成してもよい。

誘電体膜４４は、光学多層膜と同様に、Ｐ偏光光に対応する屈折率と、Ｓ偏光光に対応する屈折率とを持つ複屈折性を有している。Ｐ偏光光に対応する屈折率は、各透明基板３０、３２の屈折率と略同一になっている。これにより、底面３０ａ又は上面３２ａからＰＢＳ１２に入射したＰ偏光光は、ホログラム層３６で回折することなく透過する。一方、Ｓ偏光光に対応する屈折率は、各透明基板３０、３２の屈折率よりも高くなっている。これにより、底面３０ａ又は上面３２ａからＰＢＳ１２に入射したＳ偏光光は、誘電体膜４４が形成されている部分と形成されていない部分との屈折率差によって回折する。

前述のように、スプリッタ層３４の膜厚ｔ１は、約０．５５μｍであり、ホログラム層３６の膜厚ｔ２は、約０．１μｍである。また、誘電体膜４４の配列ピッチＰｔは、４．０〜５．０μｍである。なお、各膜厚ｔ１、ｔ２、及び配列ピッチＰｔは、これに限定されるものではない。

上記構成のＰＢＳ１２を製造するには、先ず、蒸着によって第２透明基板３２の傾斜面３２ｃの全体に酸化シリコンの薄膜を製膜し、周知のフォトリソグラフィ技術によって各誘電体膜４４を成形することにより、ホログラム層３６を形成する。この後、蒸着によってホログラム層３６の上に光学多層膜を製膜することにより、スプリッタ層３４を形成する。光学多層膜の製膜方法については、例えば、特開２００７−１０２１１１号公報に詳細に説明されている。そして、各傾斜面３０ｃ、３２ｃでスプリッタ層３４及びホログラム層３６を挟むように、スプリッタ層３４及びホログラム層３６が形成された第２透明基板３２と第１透明基板３０とを接着することにより、ＰＢＳ１２が完成する。なお、ＰＢＳ１２の製造手順は、上記に限定されるものではない。

［実施例］
次に、上記構成のＰＢＳ１２の実施例について説明する。各透明基板３０、３２には、屈折率１．７７８１３の光学ガラスを用いた。第２透明基板３２の傾斜面３２ｃ全体に、屈折率１．４６０８５の酸化シリコンの薄膜を９８ｎｍの膜厚で製膜し、この薄膜をエッチングして複数の誘電体膜４４からなるホログラム層３６を形成した。この後、下表１に示す９層構造の光学多層膜からなるスプリッタ層３４をホログラム層３６の上に形成した。そして、スプリッタ層３４及びホログラム層３６が形成された第２透明基板３２と第１透明基板３０とを接着し、ＰＢＳ１２を完成させた。

完成したＰＢＳ１２に対し、光軸を中心に±１２度の広がり角を持つ波長４０５ｎｍのＳ偏光光を上面３２ａと光軸とが略直交するように照射し、上面３２ａから入射させた。ＰＢＳ１２に入射したＳ偏光光は、スプリッタ層３４で反射するとともに、ホログラム層３６で回折し、回折光となって側面３２ｂから出射した。

図４、５は、上記のようにＳ偏光光を入射させた際の透過率を示すグラフである。各グラフの横軸は、上面３２ａに入射する光の入射角度（光の広がり角度）であり、各グラフの縦軸は、ＰＢＳ１２を透過した回折光の透過率である。また、図４は、Ｓ偏光光を入射させた際の０次回折光の透過率を示し、図５は、Ｓ偏光光を入射させた際の±１次回折光の透過率を示している。

図４に示すように、上記のようにＳ偏光光を入射させた際の０次回折光の透過率は、±１２度の入射角度にわたって、ほぼ０％であった。一方、図５に示すように、±１次回折光の透過率（すなわち回折効率）は、±１２度の入射角度の範囲で、約４０％であった。また、この際、±１次回折光の回折角は、約１１度であった。このように、本実施例によれば、波長４０５ｎｍの青紫光に対し、約４０％の高い回折効率、及び約１１度の良好な回折角を得ることができる。

上記実施形態では、０次回折光が出射されないようにホログラム層３６を構成したが、これに限ることなく、０次回折光と±１次回折光とが出射されるようにホログラム層３６を構成してもよい。なお、０次回折光を出射させるか否かは、ホログラム層３６の膜厚や材料を変えることによって調整することができる。

上記実施形態では、ほぼ１００％のＰ偏光光が透過するようにスプリッタ層３４を構成したが、これに限ることなく、例えば、８５％は透過させ、残りの１５％は反射させるといったように、Ｐ偏光光の一部が反射するようにスプリッタ層３４を構成してもよい。このように構成し、反射した一部のＰ偏光光をＰＤなどの検出器で検出するようにすれば、その検出信号をＡＰＣ（Auto Power Control）信号として利用することができる。

上記実施形態では、Ｐ偏光光が透過し、Ｓ偏光光が反射するようにスプリッタ層３４を構成したが、これとは反対に、Ｓ偏光光が透過し、Ｐ偏光光が反射するようにスプリッタ層３４を構成してもよい。なお、Ｐ偏光光が反射するようにスプリッタ層３４を構成する場合には、Ｓ偏光光が回折せず、Ｐ偏光光が回折するようにホログラム層３６を構成すればよい。

また、上記実施形態では、スプリッタ層３４及びホログラム層３６の傾斜角度を４５度としたが、傾斜角度は、これに限定することなく、任意の角度でよい。さらに、上記実施形態では、光ピックアップ装置２に本発明のＰＢＳ１２を適用したが、本発明のＰＢＳ１２は、これに限ることなく、他の光学装置に適用してよい。

光ピックアップ装置の構成を概略的に示す説明図である。偏光性ホログラム素子の構成を概略的に示す分解斜視図である。偏光性ホログラム素子の構成を概略的に示す部分断面図である。ＰＢＳにＳ偏光光を入射させた際の０次回折光の透過率を示すグラフである。ＰＢＳにＳ偏光光を入射させた際の±１次回折光の透過率を示すグラフである。

符号の説明

２光ピックアップ装置
４光ディスク
４ａ記録面
１０ＬＤ（光源）
１２偏光ビームスプリッタ（ホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ）
３０第１透明基板
３０ａ底面（第１光入射面）
３０ｃ傾斜面（第１傾斜面）
３２第２透明基板
３２ａ上面（第２光入射面）
３２ｃ傾斜面（第２傾斜面）
３４スプリッタ層
３６ホログラム層
４０第１誘電体膜
４２第２誘電体膜
４４誘電体膜

Claims

光学的に等方性の材料からなり、光が入射する第１光入射面と、所定の角度傾斜した状態で前記第１光入射面と向かい合う第１傾斜面とを有する第１透明基板と、
前記第１傾斜面上に設けられ、Ｐ偏光光又はＳ偏光光である第１偏光光を透過させ、前記第１偏光光に対して偏光方向が９０度回転した第２偏光光を反射させるスプリッタ層と、
前記スプリッタ層の上に設けられ、入射した光の偏光方向によって回折の度合いが異なるホログラムパターンを有し、前記第１偏光光を回折させることなく透過させるとともに、前記第２偏光光を回折させて複数の光束に分離させるホログラム層と、
光学的に等方性の材料からなり、光が入射する第２光入射面と、前記第１傾斜面と略同一の角度傾斜した状態で前記第２光入射面と向かい合う第２傾斜面とを有し、前記各光入射面が略平行になるとともに前記スプリッタ層と前記ホログラム層とを前記各傾斜面で挟むように配置される第２透明基板とを備えたことを特徴とするホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ。
前記スプリッタ層は、屈折率の異なる複数の誘電体膜を交互に積層してなる光学多層膜で構成され、前記ホログラム層は、誘電体膜で構成されていることを特徴とする請求項１記載のホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ。
前記ホログラム層は、複屈折性を有する誘電体膜を筋状に形成し、前記誘電体膜をその長手方向と略直交する方向に所定の間隔を開けて複数並べることにより、縞模様状の前記ホログラムパターンを形成していることを特徴とする請求項１又は２記載のホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ。
前記各傾斜面の傾斜角度が、４５度であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ。
光ディスクの記録面に向けて光源から読み取り光を照射し、前記記録面で反射した反射光を受光することによって前記光ディスクに記録されたデータを読み取る光ピックアップ装置において、
光学的に等方性の材料からなり、前記読み取り光が入射する第１光入射面と、所定の角度傾斜した状態で前記第１光入射面と向かい合う第１傾斜面とを有する第１透明基板と、前記第１傾斜面上に設けられ、Ｐ偏光光又はＳ偏光光である前記読み取り光を透過させ、前記記録面で反射することによって前記読み取り光に対して偏光方向が９０度回転した前記反射光を反射させることにより、前記読み取り光と前記反射光とを分離させるスプリッタ層と、前記スプリッタ層の上に設けられ、入射した光の偏光方向によって回折の度合いが異なるホログラムパターンを有し、前記読み取り光を回折させることなく透過させるとともに、前記反射光を回折させて前記光ディスクに記録されたデータ用の光束とトラッキングエラー検出用の光束とを含む複数の光束に分離させるホログラム層と、光学的に等方性の材料からなり、前記反射光が入射する第２光入射面と、前記第１傾斜面と略同一の角度傾斜した状態で前記第２光入射面と向かい合う第２傾斜面とを有し、前記各光入射面が略平行になるとともに前記スプリッタ層と前記ホログラム層とを前記各傾斜面で挟むように配置される第２透明基板とからなるホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタを設けたことを特徴とする光ピックアップ装置。
前記ホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタは、前記各光入射面が前記読み取り光の光軸に対して略直交するとともに、前記読み取り光が前記スプリッタ層及び前記ホログラム層に対してＰ偏光光となるように配置されることを特徴とする請求項５記載の光ピックアップ装置。