JP2010100802A - Epoxy-based resin composition, sheet-like molded product, prepreg, cured product, laminated plate, and multilayer laminated plate - Google Patents

Epoxy-based resin composition, sheet-like molded product, prepreg, cured product, laminated plate, and multilayer laminated plate Download PDF

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Junnosuke Murakami
淳之介 村上
Nobuhiro Goto
信弘 後藤
Katsu Heiji
克 瓶子
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy-based resin composition which allows surface roughness of a roughening treated surface of the cured product to be reduced, glass transition temperature of the cured product to be heightened, and coefficient of linear expansion of the cured product to be reduced even when a content of an inorganic material is low, and to provide a cured product thereof. <P>SOLUTION: The epoxy-based resin composition contains an epoxy-based resin, a curing agent, silica, and a maleimide-based compound, wherein the maleimide-based compound is contained in the range of 2-200 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the sum total of the epoxy-based resin and the curing agent, and the silica is contained in the range of 5-50 wt.% in the solid content of 100 wt.% in the epoxy-based resin composition. The cured product 1 is formed by heating and preliminarily curing the epoxy-based resin composition, and subsequently conducting roughening treatment thereof. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、エポキシ系樹脂、硬化剤、シリカ及びマレイミド系化合物を含有するエポキシ系樹脂組成物に関し、より詳細には、例えば、銅めっき層等が表面に形成される硬化体を得るのに用いられるエポキシ系樹脂組成物、並びに該エポキシ系樹脂組成物を用いたシート状成形体、プリプレグ、硬化体、積層板及び多層積層板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, silica, and a maleimide compound, and more specifically, for example, used to obtain a cured body on which a copper plating layer or the like is formed. The present invention relates to an epoxy resin composition, and a sheet-like molded body, prepreg, cured body, laminate and multilayer laminate using the epoxy resin composition.

従来、多層基板又は半導体装置等を形成するために、様々な熱硬化性樹脂組成物が用いられている。   Conventionally, various thermosetting resin compositions have been used to form multilayer substrates or semiconductor devices.

例えば、下記の特許文献1には、フェノール性アミノマレイミドプレポリマー樹脂と、アルキレングリコールアルキルエーテルと、エポキシ樹脂とを含有する熱硬化性樹脂組成物が開示されている。上記フェノール性アミノマレイミドプレポリマー樹脂は、トリアジン環を有するフェノール樹脂組成物とマレイミド化合物とから得られる。   For example, Patent Literature 1 below discloses a thermosetting resin composition containing a phenolic aminomaleimide prepolymer resin, an alkylene glycol alkyl ether, and an epoxy resin. The phenolic aminomaleimide prepolymer resin is obtained from a phenol resin composition having a triazine ring and a maleimide compound.

また、下記の特許文献2には、芳香環を有する絶縁樹脂と、硬化剤とを含む熱硬化性樹脂組成物が開示されている。この熱硬化性樹脂組成物は、積層板を製造するのに用いられる。上記絶縁樹脂のガラス転移温度以上のせん断弾性率から求めた絶縁樹脂の架橋点間分子量は、積層板を製造した後の段階で300〜1000である。また、上記芳香環を有する絶縁樹脂としては、エポキシ樹脂が挙げられている。   Patent Document 2 below discloses a thermosetting resin composition containing an insulating resin having an aromatic ring and a curing agent. This thermosetting resin composition is used for producing a laminated board. The molecular weight between crosslink points of the insulating resin determined from the shear modulus of elasticity of the insulating resin above the glass transition temperature is 300 to 1000 at the stage after the laminate is manufactured. Moreover, as the insulating resin having the aromatic ring, an epoxy resin is cited.

下記の特許文献3には、絶縁性重合体と硬化剤とを含む熱硬化性樹脂組成物が開示されている。また、ここでは、基板上に上記熱硬化性樹脂組成物を硬化させることにより電気絶縁層が形成されており、該電気絶縁層上に金属薄膜層を含む導電体回路層が形成されている多層回路構造が記載されている。   Patent Document 3 below discloses a thermosetting resin composition containing an insulating polymer and a curing agent. Further, here, an electric insulating layer is formed by curing the thermosetting resin composition on a substrate, and a multilayer in which a conductor circuit layer including a metal thin film layer is formed on the electric insulating layer. The circuit structure is described.

特開2006−022179号公報JP 2006-022179 A 特開2007−314782号公報JP 2007-314782 A 特開2003−332738号公報JP 2003-332738 A

特許文献1〜3に記載の熱硬化性樹脂組成物を予備硬化した後、粗化処理することにより硬化体を形成した場合には、硬化体の表面の表面粗さが十分に小さくならないことがあった。このため、硬化体の表面にめっき処理により金属層を形成する際に、微細な配線の形成が困難なことがあった。さらに、硬化体と金属層との接着強度が低くなることがあった。   When the cured body is formed by pre-curing the thermosetting resin composition described in Patent Documents 1 to 3 and then roughening, the surface roughness of the surface of the cured body may not be sufficiently reduced. there were. For this reason, when forming a metal layer on the surface of the cured body by plating, it may be difficult to form fine wiring. Furthermore, the adhesive strength between the cured body and the metal layer may be lowered.

さらに、特許文献1〜3に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化体の線膨張率が高く、かつガラス転移温度が低くなることがあった。   Furthermore, the linear expansion coefficient of the hardened | cured material which hardened the thermosetting resin composition of patent documents 1-3 was high, and the glass transition temperature might become low.

また、特許文献3には、電気絶縁層が粗化処理されている場合には、電気絶縁層上の上記導電体回路層が平坦ではなくなるため、1GHz以上の高周波領域での導電体回路の電気信号伝送特性が、表皮効果の影響により悪化するという問題があることが記載されている。1GHzの場合には、導電体回路の電気信号伝送が、導体回路層の表面から2μm程度の厚さの領域に集中する。このため、上記電気絶縁層の表面の凹凸が大きいと実効的伝送路長が長くなり、電気信号伝送特性が悪化する。   Further, in Patent Document 3, when the electric insulating layer is roughened, the electric conductor circuit layer on the electric insulating layer is not flat, and thus the electric current of the electric conductor circuit in a high frequency region of 1 GHz or more is disclosed. It is described that there is a problem that the signal transmission characteristics deteriorate due to the influence of the skin effect. In the case of 1 GHz, the electrical signal transmission of the conductor circuit is concentrated in a region having a thickness of about 2 μm from the surface of the conductor circuit layer. For this reason, if the unevenness | corrugation of the surface of the said electric insulation layer is large, effective transmission line length will become long and an electric signal transmission characteristic will deteriorate.

本発明の目的は、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化体のガラス転移温度を高くすることができ、さらに無機物の含有量が少なくても硬化体の線膨張率を低くすることができるエポキシ系樹脂組成物、並びに該エポキシ系樹脂組成物を用いたシート状成形体、プリプレグ、硬化体、積層板及び多層積層板を提供することにある。   The object of the present invention is to reduce the surface roughness of the roughened cured body, to increase the glass transition temperature of the cured body, and to cure even if the inorganic content is small. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition capable of lowering the linear expansion coefficient of the body, and a sheet-like molded body, prepreg, cured body, laminate and multilayer laminate using the epoxy resin composition.

本発明の限定的な目的は、硬化体の表面の凹凸を小さくすることができ、従って例えば1GHz以上の高周波領域での回路の電気信号伝送特性を高めることができるエポキシ系樹脂組成物、並びに該エポキシ系樹脂組成物を用いたシート状成形体、プリプレグ、硬化体、積層板及び多層積層板を提供することにある。   A limited object of the present invention is to provide an epoxy resin composition capable of reducing the unevenness of the surface of the cured body and thus improving the electrical signal transmission characteristics of the circuit in a high frequency region of, for example, 1 GHz or more, and the It is providing the sheet-like molded object, prepreg, hardening body, laminated board, and multilayer laminated board which used the epoxy resin composition.

本発明によれば、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカと、マレイミド系化合物とを含有し、前記エポキシ系樹脂と前記硬化剤との合計100重量部に対して、前記マレイミド系化合物を2〜200重量部の範囲内で含み、エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、前記シリカを5〜50重量%の範囲内で含む、エポキシ系樹脂組成物が提供される。   According to the present invention, the epoxy resin, the curing agent, silica, and the maleimide compound are contained, and the maleimide compound is added to 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent in total. There is provided an epoxy resin composition which is contained in the range of ˜200 parts by weight and contains the silica in a range of 5 to 50% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のある特定の局面では、前記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、前記マレイミド系化合物が2〜45重量%の範囲内で含まれている。   In a specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the maleimide compound is contained in the range of 2 to 45% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. .

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の別の特定の局面では、前記マレイミド系化合物は、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−1,3−フェニレンジマレイミド、N,N’−1,4−フェニレンジマレイミド、1,2−ビス(マレイミド)エタン、1,6−ビスマレイミドヘキサン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン及びこれらのオリゴマー、並びにマレイミド骨格含有ジアミン縮合物からなる群から選択された少なくとも1種である。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the maleimide compound includes N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N′-1,3-phenylene dimaleimide, N , N′-1,4-phenylene dimaleimide, 1,2-bis (maleimido) ethane, 1,6-bismaleimide hexane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethane From maleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane and oligomers thereof, and maleimide skeleton-containing diamine condensate At least one selected from the group consisting of:

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の他の特定の局面では、前記マレイミド系化合物は、下記式(11)で表されるマレイミド系化合物である。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the maleimide compound is a maleimide compound represented by the following formula (11).

Figure 2010100802
Figure 2010100802

前記式(11)中、R11〜R13は、水素原子、ハロゲン原子又は有機基を示し、xは0〜1の範囲内の数を表す。   In said formula (11), R11-R13 shows a hydrogen atom, a halogen atom, or an organic group, and x represents the number within the range of 0-1.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、前記マレイミド系化合物は、前記式(11)で表されるマレイミド系化合物の混合物であって、該混合物の前記式(11)中のxの平均値が0.1〜0.5の範囲内にある。   In still another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the maleimide compound is a mixture of maleimide compounds represented by the formula (11), and the formula (11) of the mixture. The average value of x is in the range of 0.1 to 0.5.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、前記マレイミド系化合物と前記シリカとが合計で35〜70重量%の範囲内で含まれている。   In still another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the maleimide compound and the silica are 35 to 70% by weight in total in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. Included within range.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の別の特定の局面では、前記硬化剤は、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、ビフェニル構造を有するフェノール化合物及びアミノトリアジン構造を有するフェノール化合物からなる群から選択された少なくとも1種である。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the curing agent has a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, a phenol compound having a biphenyl structure, and an aminotriazine structure. It is at least one selected from the group consisting of phenolic compounds.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のさらに別の特定の局面では、前記エポキシ系樹脂は、アントラセン骨格を有するエポキシ系樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ系樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ系樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ系樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ系樹脂、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂、ビスフェノールF型エポキシ系樹脂及びビスフェノールS型エポキシ系樹脂からなる群から選択された少なくとも1種である。   In still another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the epoxy resin includes an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, It is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin and a bisphenol S type epoxy resin.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の他の特定の局面では、エポキシ系樹脂組成物の固形分100重量%中に、液状エポキシ系樹脂が20〜50重量%の範囲内で含まれている。   In another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the liquid epoxy resin is contained in the range of 20 to 50% by weight in 100% by weight of the solid content of the epoxy resin composition.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物のさらに他の特定の局面では、エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、フェノキシ樹脂が1〜10重量%の範囲内でさらに含まれている。   In still another specific aspect of the epoxy resin composition according to the present invention, the phenoxy resin is further contained in the range of 1 to 10% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. .

本発明に係るシート状成形体は、本発明に従って構成されたエポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより形成されている。   The sheet-like molded body according to the present invention is formed by molding an epoxy resin composition constituted according to the present invention into a sheet shape.

本発明に係るプリプレグは、本発明に従って構成されたエポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させることにより形成されている。   The prepreg according to the present invention is formed by impregnating a porous base material with an epoxy resin composition constituted according to the present invention.

本発明に係る硬化体は、本発明に従って構成されたエポキシ系樹脂組成物、該エポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより形成されたシート状成形体、又は該エポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させることにより形成されたプリプレグを加熱し、予備硬化させた後、粗化処理されている硬化体であって、粗化処理された表面の算術平均粗さRaが0.3μm以下、十点平均粗さRzが3.0μm以下である。   The cured body according to the present invention includes an epoxy resin composition constituted according to the present invention, a sheet-shaped molded body formed by molding the epoxy resin composition into a sheet, or the epoxy resin composition. A prepreg formed by impregnating a porous substrate is heated and precured, and then a roughened cured body, and the arithmetic average roughness Ra of the roughened surface is 0.00. 3 μm or less and 10-point average roughness Rz is 3.0 μm or less.

本発明に係る積層板は、本発明に従って構成されたシート状成形体を硬化させた硬化体と、該硬化体の少なくとも片面に積層されている金属層とを備える。   The laminated board which concerns on this invention is equipped with the hardening body which hardened the sheet-like molded object comprised according to this invention, and the metal layer laminated | stacked on the at least single side | surface of this hardening body.

本発明に係る積層板のある特定の局面では、前記金属層は回路として形成されている。   On the specific situation with the laminated board which concerns on this invention, the said metal layer is formed as a circuit.

本発明に係る多層積層板は、積層された硬化体と、該硬化体の間に配置された金属層とを備え、前記硬化体が本発明に従って構成されたシート状成形体を硬化させた硬化体である。   The multilayer laminate plate according to the present invention includes a cured body laminated and a metal layer disposed between the cured bodies, and the cured body is a cured sheet-shaped body configured according to the present invention. Is the body.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカと、マレイミド系化合物とを含有し、上記エポキシ系樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対する上記マレイミド系化合物の含有量が上記特定の範囲内にあり、かつエポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記球状シリカの含有量が上記特定の範囲内にあるので、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さを小さくすることができる。さらに、硬化体のガラス転移温度を高くすることができ、かつ無機物の含有量が少なくても硬化体の線膨張率を低くすることができる。   The epoxy resin composition according to the present invention contains an epoxy resin, a curing agent, silica, and a maleimide compound, and the maleimide compound with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent. Since the content of the spherical silica in the epoxy resin composition is in the specific range and the content of the spherical silica in the solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition is in the specific range, a roughened cured body is obtained. The surface roughness of the surface can be reduced. Furthermore, the glass transition temperature of the cured body can be increased, and the linear expansion coefficient of the cured body can be decreased even if the inorganic content is small.

エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、マレイミド系化合物が2〜45重量%の範囲内で含まれている場合には、硬化体の表面の凹凸をより一層小さくすることができる。従って、1GHz以上の高周波領域での回路の電気信号伝送特性を高くすることができる。   When the maleimide compound is contained in the range of 2 to 45% by weight in the solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition, the unevenness of the surface of the cured product can be further reduced. . Therefore, the electric signal transmission characteristics of the circuit in a high frequency region of 1 GHz or higher can be improved.

図1は、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた後に、粗化処理することにより得られた硬化体の表面を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing the surface of a cured body obtained by pre-curing an epoxy resin composition according to an embodiment of the present invention and then roughening the surface. 図2は、図1に示す硬化体の表面に金属層が形成された状態を示す部分切欠正面断面図である。2 is a partially cutaway front sectional view showing a state in which a metal layer is formed on the surface of the cured body shown in FIG. 図3は、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物を用いた多層積層板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 3 is a partially cutaway front cross-sectional view schematically showing a multilayer laminate using the epoxy resin composition according to one embodiment of the present invention.

本願発明者らは、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカと、マレイミド系化合物とを含有し、上記エポキシ系樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対する上記マレイミド系化合物の含有量が上記特定の範囲内にあり、かつエポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記シリカの含有量が上記特定の範囲内にある組成を採用することにより、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さを小さくすることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。さらに、この組成の採用により、硬化体のガラス転移温度を高くすることができ、かつ無機物の含有量が少なくても硬化体の線膨張率を低くすることができることも見出した。   The inventors of the present application include an epoxy resin, a curing agent, silica, and a maleimide compound, and the content of the maleimide compound with respect to 100 parts by weight in total of the epoxy resin and the curing agent is the above. By adopting a composition that is in a specific range and the content of the silica in a solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition is in the specific range, the roughened cured product It has been found that the surface roughness of the surface can be reduced, and the present invention has been completed. Furthermore, it has also been found that by adopting this composition, the glass transition temperature of the cured product can be increased, and the linear expansion coefficient of the cured product can be decreased even if the inorganic content is small.

また、前述のように、特開2003−332738号公報には、粗化処理された絶縁層上の上記導電体回路層は平坦ではなくなるため、1GHz以上の高周波領域での導電体回路の電気信号伝送特性が、表皮効果の影響により悪化するという問題があることが記載されている。1GHzの場合には、導電体回路の電気信号伝送が、導体回路層の表面から2μm程度の厚さの領域に集中する。このため、上記電気絶縁層の表面の凹凸が大きいと実効的伝送路長が長くなり、電気信号伝送特性が悪化する。   Further, as described above, in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-332738, the conductor circuit layer on the roughened insulating layer is not flat, and thus the electrical signal of the conductor circuit in a high frequency region of 1 GHz or higher is disclosed. It is described that there is a problem that transmission characteristics deteriorate due to the effect of the skin effect. In the case of 1 GHz, the electrical signal transmission of the conductor circuit is concentrated in a region having a thickness of about 2 μm from the surface of the conductor circuit layer. For this reason, if the unevenness | corrugation of the surface of the said electric insulation layer is large, effective transmission line length will become long and an electric signal transmission characteristic will deteriorate.

このような観点から、1GHz以上の高周波領域での回路の電気信号伝送特性を改善するためには、導電体回路層が形成される硬化体の表面の凹凸が小さいほうが好ましく、例えば硬化体の表面の凹凸の深部と頂部との高さ平均距離が3μm以下であることが好ましいと考えた。   From such a viewpoint, in order to improve the electric signal transmission characteristics of the circuit in a high frequency region of 1 GHz or more, it is preferable that the surface of the cured body on which the conductor circuit layer is formed has a small unevenness, for example, the surface of the cured body It was considered that the height average distance between the deep part and the top part of the unevenness was preferably 3 μm or less.

さらに、近年、ビルトアップ基板等における配線パターンの微細化が進んでいる。微細な配線パターンを形成する際には、該配線パターンが形成される絶縁層の表面の平滑性が歩留まりに大きく影響する。絶縁層の表面の凹凸が大きいと、絶縁層の傾斜面に配線パターンを形成することになるため、絶縁層と配線パターンとのピール強度が低下し、配線の剥離、導通不良が生じることがある。このような観点から、歩留まりよく微細な配線パターンを絶縁層上に形成するためには、絶縁層の表面の凹凸が小さいほどよいと考えた。   Furthermore, in recent years, miniaturization of wiring patterns on built-up substrates and the like has been progressing. When forming a fine wiring pattern, the smoothness of the surface of the insulating layer on which the wiring pattern is formed greatly affects the yield. If the unevenness of the surface of the insulating layer is large, a wiring pattern is formed on the inclined surface of the insulating layer, so that the peel strength between the insulating layer and the wiring pattern is reduced, and the wiring may be peeled off or poorly connected. . From such a viewpoint, in order to form a fine wiring pattern with high yield on the insulating layer, it was considered that the smaller the surface roughness of the insulating layer, the better.

そこで、本願発明者らは、検討の結果、エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、上記マレイミド系化合物が2〜45重量%の範囲内で含まれている場合に、硬化体の表面の凹凸の深部と頂部との高さ平均距離をより一層小さくすることができ、1GHz以上の高周波領域での回路の電気信号伝送特性を高めることができることも見出した。   Accordingly, the inventors of the present application have found that when the maleimide compound is contained in the range of 2 to 45% by weight in the solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition, the cured product is obtained. It has also been found that the average height distance between the deep part and the top part of the unevenness of the surface can be further reduced, and the electric signal transmission characteristics of the circuit in a high frequency region of 1 GHz or more can be improved.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカと、マレイミド系化合物とを含有する。エポキシ系樹脂と硬化剤との合計100重量部に対して、マレイミド系化合物は2〜200重量部の範囲内で含まれている。エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、シリカは5〜50重量%の範囲内で含まれている。エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、好ましくは、マレイミド系化合物は2〜45重量%の範囲内で含まれている。   The epoxy resin composition according to the present invention contains an epoxy resin, a curing agent, silica, and a maleimide compound. The maleimide compound is contained in the range of 2 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent. Silica is contained in the range of 5 to 50% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. The maleimide compound is preferably contained in the range of 2 to 45% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition.

先ず、本発明に係るエポキシ系樹脂組成物に含まれる各成分を以下説明する。   First, each component contained in the epoxy resin composition according to the present invention will be described below.

(エポキシ系樹脂)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物に含まれている「エポキシ系樹脂」とは、少なくとも1個のエポキシ基(オキシラン環)を有する有機化合物をいう。上記エポキシ系樹脂の1分子当たりのエポキシ基の数は、1以上である。エポキシ基の数は、2以上であることがより好ましい。
(Epoxy resin)
The “epoxy resin” contained in the epoxy resin composition according to the present invention refers to an organic compound having at least one epoxy group (oxirane ring). The number of epoxy groups per molecule of the epoxy resin is one or more. The number of epoxy groups is more preferably 2 or more.

上記エポキシ系樹脂として、従来公知のエポキシ系樹脂を用いることができる。エポキシ系樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、「エポキシ系樹脂」には、エポキシ系樹脂の誘導体又はエポキシ系樹脂の水添物も含まれる。   A conventionally known epoxy resin can be used as the epoxy resin. As for an epoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. The “epoxy resin” includes a derivative of an epoxy resin or a hydrogenated product of an epoxy resin.

上記エポキシ系樹脂としては、例えば、芳香族エポキシ系樹脂、脂環族エポキシ系樹脂、脂肪族エポキシ系樹脂、グリシジルエステル型エポキシ系樹脂、グリシジルアミン型エポキシ系樹脂、グリシジルアクリル型エポキシ系樹脂又はポリエステル型エポキシ系樹脂等が挙げられる。   Examples of the epoxy resin include aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, glycidyl amine type epoxy resins, glycidyl acrylic type epoxy resins, and polyesters. Type epoxy resin and the like.

上記芳香族エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂もしくはビスフェノールS型エポキシ樹脂等などのビスフェノール型エポキシ樹脂、又はフェノールノボラック型エポキシ樹脂もしくはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the aromatic epoxy resin include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin or bisphenol S type epoxy resin, or phenol novolac type epoxy resin or cresol. Examples include novolac type epoxy resins such as novolac type epoxy resins.

上記エポキシ系樹脂として、ビフェニル型エポキシ系樹脂を用いてもよい。該ビフェニル型エポキシ系樹脂としては、フェノール化合物の水酸基の一部をエポキシ基含有基で置換し、残りの水酸基を水酸基以外の水素などの置換基で置換した化合物等が挙げられる。   A biphenyl type epoxy resin may be used as the epoxy resin. Examples of the biphenyl type epoxy resin include compounds in which part of the hydroxyl group of the phenol compound is substituted with an epoxy group-containing group and the remaining hydroxyl group is substituted with a substituent such as hydrogen other than the hydroxyl group.

上記エポキシ系樹脂は、アントラセン骨格を有するエポキシ系樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ系樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ系樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ系樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ系樹脂、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂、ビスフェノールF型エポキシ系樹脂及びビスフェノールS型エポキシ系樹脂からなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。この場合には、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さをより一層小さくすることができる。   The epoxy resin includes an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, and bisphenol A. It is preferably at least one selected from the group consisting of a type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin and a bisphenol S type epoxy resin. In this case, the surface roughness of the roughened cured body can be further reduced.

上記ビフェニル型エポキシ系樹脂は、下記式(8)で表されるビフェニル型エポキシ系樹脂であることも好ましい。この好ましいビフェニル型エポキシ系樹脂の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができる。   The biphenyl type epoxy resin is preferably a biphenyl type epoxy resin represented by the following formula (8). By using this preferable biphenyl type epoxy resin, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced.

Figure 2010100802
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上記式(8)中、tは1〜11の整数を示す。   In said formula (8), t shows the integer of 1-11.

上記エポキシ系樹脂は、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂であることが好ましい。アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができる。また、硬化体のガラス転移温度をより一層高くすることができる。さらに、エポキシ系樹脂組成物をBステージ状態のシートにする場合には、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂と、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂とを併用することがより好ましい。この場合には、Bステージ状態のシートのハンドリングを良好にすることができ、さらにシートを基板上で硬化させた際に表面の凹凸を低減できる。   The epoxy resin is preferably an epoxy resin having an anthracene skeleton. By using an epoxy resin having an anthracene skeleton, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced. In addition, the glass transition temperature of the cured product can be further increased. Furthermore, when making an epoxy resin composition into a B-stage sheet, it is more preferable to use an epoxy resin having an anthracene skeleton and a bisphenol A type epoxy resin in combination. In this case, it is possible to improve the handling of the sheet in the B stage state, and it is possible to reduce the unevenness of the surface when the sheet is cured on the substrate.

上記エポキシ系樹脂は、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂、及びアダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂の内の少なくとも一方であることが好ましい。トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂、または、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができる。また、粗化処理後の硬化体の表面の表面粗さを小さくすることができる。エポキシ系樹脂組成物をBステージ状態のシートにする場合には、トリアジン骨格を有するエポキシ樹脂、または、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂と、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂とを併用することがより好ましい。この場合には、Bステージ状態のシートのハンドリングを良好にすることができ、さらにシートを基板上で硬化させた際に表面の凹凸を低減できる。   The epoxy resin is preferably at least one of an epoxy resin having a triazine skeleton and an epoxy resin having an adamantane skeleton. By using an epoxy resin having a triazine skeleton or an epoxy resin having an adamantane skeleton, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced. Moreover, the surface roughness of the surface of the hardening body after a roughening process can be made small. When the epoxy resin composition is made into a B-stage sheet, it is more preferable to use an epoxy resin having a triazine skeleton or an epoxy resin having an adamantane skeleton and a bisphenol A type epoxy resin in combination. In this case, it is possible to improve the handling of the sheet in the B stage state, and it is possible to reduce the unevenness of the surface when the sheet is cured on the substrate.

エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、液状エポキシ系樹脂は20〜50重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。液状エポキシ系樹脂の含有量が上記範囲内にある場合には、エポキシ系樹脂組成物及び該エポキシ系樹脂組成物を用いたシート状成形体のハンドリング性をより一層高くすることができる。さらに、硬化体の表面の凹凸をより一層小さくすることができる。   The liquid epoxy resin is preferably contained in the range of 20 to 50% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. When the content of the liquid epoxy resin is within the above range, the handling property of the epoxy resin composition and the sheet-like molded body using the epoxy resin composition can be further enhanced. Furthermore, the unevenness of the surface of the cured body can be further reduced.

(硬化剤)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物に含まれる硬化剤として、従来公知の硬化剤を用いることができる。
(Curing agent)
A conventionally well-known hardening | curing agent can be used as a hardening | curing agent contained in the epoxy resin composition which concerns on this invention.

上記硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド、アミン化合物、アミン化合物から合成される化合物、ヒドラジド化合物、メラミン化合物、酸無水物、フェノール化合物、活性エステル化合物、熱潜在性カチオン重合触媒、光潜在性カチオン重合開始剤又はシアネートエステル樹脂等が挙げられる。これらの硬化剤の誘導体を用いてもよい。硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。また、硬化剤に加えて、アセチルアセトン鉄等の硬化触媒を用いてもよい。   Examples of the curing agent include dicyandiamide, amine compounds, compounds synthesized from amine compounds, hydrazide compounds, melamine compounds, acid anhydrides, phenolic compounds, active ester compounds, thermal latent cationic polymerization catalysts, and photolatent cationic polymerization. Examples thereof include an initiator or a cyanate ester resin. Derivatives of these curing agents may be used. As for a hardening | curing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. In addition to a curing agent, a curing catalyst such as acetylacetone iron may be used.

上記フェノール化合物としては、例えば、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、フェノールアラルキル樹脂、α−ナフトールアラルキル樹脂、β−ナフトールアラルキル樹脂又はアミノトリアジンノボラック樹脂等が挙げられる。フェノール化合物として、これらの誘導体を用いてもよい。フェノール化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the phenol compound include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, phenol aralkyl resin, α-naphthol aralkyl resin, β-naphthol aralkyl resin or aminotriazine novolak. Examples thereof include resins. These derivatives may be used as the phenol compound. As for a phenol compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化剤として上記フェノール化合物が好適に用いられる。上記フェノール化合物の使用により、硬化体の耐熱性及び寸法安定性を高めることができ、さらに硬化体の吸水性を低くすることができる。さらに、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さをより一層小さくすることができる。具体的には、硬化体の表面の算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzをより一層小さくすることができる。   The phenol compound is preferably used as the curing agent. By using the phenol compound, the heat resistance and dimensional stability of the cured body can be increased, and the water absorption of the cured body can be lowered. Furthermore, the surface roughness of the roughened cured body can be further reduced. Specifically, the arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz on the surface of the cured body can be further reduced.

上記硬化剤として、下記式(1)、下記式(2)及び下記式(3)の内のいずれかで表されるフェノール化合物がより好適に用いられる。この好ましい硬化剤の使用により、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さをさらに一層小さくすることができる。   As the curing agent, a phenol compound represented by any one of the following formula (1), the following formula (2), and the following formula (3) is more preferably used. By using this preferable curing agent, the surface roughness of the surface of the roughened cured body can be further reduced.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

上記式(1)中、R1はメチル基又はエチル基を示し、R2は水素又は炭化水素基を示し、nは2〜4の整数を示す。   In said formula (1), R1 shows a methyl group or an ethyl group, R2 shows hydrogen or a hydrocarbon group, n shows the integer of 2-4.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

上記式(2)中、mは0〜5の整数を示す。   In said formula (2), m shows the integer of 0-5.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

上記式(3)中、R3は下記式(4a)又は下記式(4b)で表される基を示し、R4は下記式(5a)、下記式(5b)又は下記式(5c)で表される基を示し、R5は下記式(6a)又は下記式(6b)で表される基を示し、R6は水素又は炭素数1〜20の有機基を示し、pは1〜6の整数を示し、qは1〜6の整数を示し、rは1〜11の整数を示す。   In the above formula (3), R3 represents a group represented by the following formula (4a) or the following formula (4b), and R4 is represented by the following formula (5a), the following formula (5b) or the following formula (5c). R5 represents a group represented by the following formula (6a) or the following formula (6b), R6 represents hydrogen or an organic group having 1 to 20 carbon atoms, and p represents an integer of 1 to 6. , Q represents an integer of 1 to 6, and r represents an integer of 1 to 11.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

Figure 2010100802
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Figure 2010100802
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なかでも、上記式(3)で表されるフェノール化合物であって、上記式(3)中のR4が上記式(5c)で表される基である、ビフェニル構造を有するフェノール化合物が好ましい。この好ましい硬化剤の使用により、硬化体の電気特性及び耐熱性をより一層高くすることができ、かつ、線膨張率及び吸水性をより一層低くすることができる。さらに、熱履歴が与えられた場合の硬化体の寸法安定性をより一層高めることができる。   Among them, a phenol compound represented by the above formula (3), and a phenol compound having a biphenyl structure in which R4 in the above formula (3) is a group represented by the above formula (5c) is preferable. By using this preferable curing agent, the electrical properties and heat resistance of the cured product can be further increased, and the linear expansion coefficient and water absorption can be further decreased. Furthermore, the dimensional stability of the cured body when a thermal history is given can be further enhanced.

上記硬化剤は、下記式(7)で示される構造を有するフェノール化合物であることが特に好ましい。この場合には、硬化体の電気特性及び耐熱性をより一層高くすることができる。さらに、熱履歴が与えられた場合の硬化体の寸法安定性をさらに一層高めることができる。また、上記硬化剤は、上記式(3)で表されるフェノール化合物であって、アミノトリアジン構造を有するフェノール化合物であることが好ましい。この好ましい硬化剤の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができる。   The curing agent is particularly preferably a phenol compound having a structure represented by the following formula (7). In this case, the electrical characteristics and heat resistance of the cured body can be further enhanced. Furthermore, the dimensional stability of the cured body when a thermal history is given can be further enhanced. The curing agent is preferably a phenol compound represented by the above formula (3) and a phenol compound having an aminotriazine structure. By using this preferable curing agent, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

上記式(7)中、sは1〜11の整数を示す。   In said formula (7), s shows the integer of 1-11.

上記活性エステル化合物としては、例えば、芳香族多価エステル化合物等が挙げられる。活性エステル化合物の使用により、誘電率及び誘電正接に優れた硬化体を得ることができる。上記活性エステル化合物の具体例は、例えば、特開2002−12650号公報に開示されている。   As said active ester compound, an aromatic polyvalent ester compound etc. are mentioned, for example. By using the active ester compound, a cured product excellent in dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. Specific examples of the active ester compound are disclosed in, for example, JP-A No. 2002-12650.

上記活性エステル化合物の市販品としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の商品名「EPICLON EXB−9460S」等が挙げられる。   As a commercial item of the said active ester compound, the brand name "EPICLON EXB-9460S" by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. etc. are mentioned, for example.

上記シアネートエステル樹脂として、例えばノボラック型シアネートエステル樹脂、ビスフェノール型シアネートエステル樹脂及び一部をトリアジン化したプレポリマーなどを用いることができる。シアネートエステル樹脂の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができる。   As the cyanate ester resin, for example, a novolak-type cyanate ester resin, a bisphenol-type cyanate ester resin, and a prepolymer partially triazine-modified can be used. By using the cyanate ester resin, the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced.

上記硬化剤は、フェノール化合物又は活性エステル化合物であることが好ましい。活性エステル化合物の使用により、誘電率及び誘電正接により一層優れた硬化体を得ることができる。活性エステル化合物は、芳香族多価エステル化合物であることが好ましい。芳香族多価エステル化合物の使用により、誘電率及び誘電正接にさらに一層優れた硬化体を得ることができる。   The curing agent is preferably a phenol compound or an active ester compound. By using the active ester compound, it is possible to obtain a cured product that is more excellent in dielectric constant and dielectric loss tangent. The active ester compound is preferably an aromatic polyvalent ester compound. By using the aromatic polyvalent ester compound, it is possible to obtain a cured product that is further excellent in dielectric constant and dielectric loss tangent.

上記硬化剤は、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、ビフェニル構造を有するフェノール化合物及びアミノトリアジン構造を有するフェノール化合物からなる群から選択された少なくとも1種であることが特に好ましい。これらの好ましい硬化剤を用いた場合には、エポキシ系樹脂組成物を反応させた後に粗化処理する際に、粗化処理により樹脂成分が悪影響をより一層受け難い。具体的には、上記粗化処理の際に、得られる硬化体の表面が粗くなりすぎることなく、球状シリカを選択的に脱離させて、微細な孔を形成できる。このため、硬化体の表面に、表面粗さが非常に小さい、微細な凹凸を形成できる。なかでも、ビフェニル構造を有するフェノール化合物が好ましい。   In particular, the curing agent is at least one selected from the group consisting of a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, a phenol compound having a biphenyl structure, and a phenol compound having an aminotriazine structure. preferable. When these preferable curing agents are used, when the roughening treatment is carried out after reacting the epoxy resin composition, the resin component is more unlikely to be adversely affected by the roughening treatment. Specifically, fine pores can be formed by selectively detaching the spherical silica without excessively roughening the surface of the resulting cured body during the roughening treatment. For this reason, the fine unevenness | corrugation whose surface roughness is very small can be formed in the surface of a hardening body. Of these, a phenol compound having a biphenyl structure is preferable.

ビフェニル構造を有するフェノール化合物又はナフタレン構造を有するフェノール化合物を用いた硬化体は、電気特性、特に誘電正接に優れている。また、硬化体の強度及び線膨張率にも優れている。   A cured product using a phenolic compound having a biphenyl structure or a phenolic compound having a naphthalene structure is excellent in electrical characteristics, particularly dielectric loss tangent. Moreover, it is excellent also in the intensity | strength and linear expansion coefficient of a hardening body.

エポキシ系樹脂及び硬化剤の分子量が大きいと、硬化体の表面に、微細な粗面を形成しやすい。エポキシ系樹脂の重量平均分子量は、微細な粗面を形成するのに影響することがある。ただし、硬化剤の重量平均分子量の方が、エポキシ系樹脂の重量平均分子量よりも、微細な粗面を形成するのに大きく影響することがある。硬化剤の重量平均分子量は、500以上であることが好ましく、1800以上であることがより好ましい。硬化剤の重量平均分子量の好ましい上限は、15000である。   When the molecular weight of the epoxy resin and the curing agent is large, it is easy to form a fine rough surface on the surface of the cured body. The weight average molecular weight of the epoxy resin may affect the formation of a fine rough surface. However, the weight average molecular weight of the curing agent may have a greater influence on the formation of a fine rough surface than the weight average molecular weight of the epoxy resin. The weight average molecular weight of the curing agent is preferably 500 or more, and more preferably 1800 or more. A preferable upper limit of the weight average molecular weight of the curing agent is 15000.

また、エポキシ系樹脂のエポキシ当量及び硬化剤の当量が大きいと、硬化体の表面に微細な粗面を形成しやすい。さらに、硬化剤が固体であり、かつ硬化剤の軟化温度が60℃以上であると、硬化体の表面に微細な粗面を形成しやすい。   Moreover, when the epoxy equivalent of an epoxy resin and the equivalent of a hardening | curing agent are large, it is easy to form a fine rough surface on the surface of a hardening body. Furthermore, when the curing agent is solid and the softening temperature of the curing agent is 60 ° C. or higher, a fine rough surface is easily formed on the surface of the cured body.

上記エポキシ系樹脂100重量部に対して、上記硬化剤は1〜200重量部の範囲内で含有されることが好ましい。硬化剤の量が少なすぎると、エポキシ系樹脂組成物が充分に硬化しないことがある。硬化剤の量が多すぎると、エポキシ系樹脂を硬化させる効果が飽和することがある。上記硬化剤の含有量の好ましい下限は30重量部であり、好ましい上限は140重量部である。   The curing agent is preferably contained within a range of 1 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount of the curing agent is too small, the epoxy resin composition may not be sufficiently cured. If the amount of the curing agent is too large, the effect of curing the epoxy resin may be saturated. The minimum with preferable content of the said hardening | curing agent is 30 weight part, and a preferable upper limit is 140 weight part.

(硬化促進剤)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は硬化促進剤を含むことが好ましい。本発明では、硬化促進剤は任意成分である。硬化促進剤は特に限定されない。
(Curing accelerator)
The epoxy resin composition according to the present invention preferably contains a curing accelerator. In the present invention, the curing accelerator is an optional component. The curing accelerator is not particularly limited.

上記硬化促進剤は、イミダゾール系硬化促進剤であることが好ましい。該イミダゾール系硬化促進剤は、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール及び2−フェニル−4−メチル−5−ジヒドロキシメチルイミダゾールからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。   The curing accelerator is preferably an imidazole curing accelerator. The imidazole curing accelerator is 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl. Imidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2′- Methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 -[2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-tria 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct It is preferably at least one selected from the group consisting of 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-dihydroxymethylimidazole.

また、上記硬化促進剤としては、トリフェノルホスフィンなどのホスフィン化合物、DBU、DBN、DBUのフェノール塩、DBNのフェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、オルソフタル酸塩又はフェノールノボラック樹脂塩等が挙げられる。   Moreover, as said hardening accelerator, phosphine compounds, such as a triphenyl phosphine, DBU, DBN, the phenol salt of DBU, the phenol salt of DBN, octylate, p-toluenesulfonate, formate, orthophthalate, or phenol A novolak resin salt is exemplified.

上記硬化促進剤は、パーオキサイド系硬化促進剤であることが好ましい。該パーオキサイド系硬化促進剤は、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペロキシ)ヘキサン、及び1,3−ビス(t−ブチルペロキシイソプロピル)ベンゼンからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。   It is preferable that the said hardening accelerator is a peroxide type hardening accelerator. The peroxide-based curing accelerator is dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, and 1, It is preferably at least one selected from the group consisting of 3-bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene.

上記エポキシ系樹脂100重量部に対して、上記硬化促進剤は0.01〜3重量部の範囲内で含まれていることが好ましい。硬化促進剤の量が少なすぎると、エポキシ系樹脂組成物が充分に硬化しないことがある。   The curing accelerator is preferably contained within a range of 0.01 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount of the curing accelerator is too small, the epoxy resin composition may not be cured sufficiently.

本発明では、硬化促進剤を添加しなくても、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さを小さくすることができる。ただし、硬化促進剤を添加しない場合には、エポキシ系樹脂組成物の硬化が十分に進行せずに硬化体のTgが低くなったり、硬化体の強度が充分に高くならなかったりすることがある。従って、エポキシ系樹脂組成物は、硬化促進剤を含有することがより好ましい。上記硬化促進剤の含有量の好ましい下限は0.3重量部であり、好ましい上限は2.0重量部である。   In the present invention, the surface roughness of the surface of the roughened cured body can be reduced without adding a curing accelerator. However, when the curing accelerator is not added, the curing of the epoxy resin composition does not proceed sufficiently, and the Tg of the cured body may be lowered, or the strength of the cured body may not be sufficiently increased. . Therefore, it is more preferable that the epoxy resin composition contains a curing accelerator. The minimum with preferable content of the said hardening accelerator is 0.3 weight part, and a preferable upper limit is 2.0 weight part.

(シリカ)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物に含まれているシリカは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(silica)
As for the silica contained in the epoxy resin composition concerning this invention, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記シリカは球状シリカであることが好ましい。球状シリカの場合には、粗化処理により球状シリカが容易に脱離するので、粗化処理された硬化体の表面により一層微細な粗面を形成できる。   The silica is preferably spherical silica. In the case of spherical silica, since the spherical silica is easily detached by the roughening treatment, a finer rough surface can be formed on the surface of the roughened cured body.

上記球状シリカの平均粒子径は、1μm以下であることが好ましい。平均粒子径が1μm以下であることにより、粗化処理された硬化体の表面に、さらに一層微細な粗面を形成できる。また、粗化処理された硬化体の表面に平均径1μm以下程度の大きさの微細な孔を形成できる。上記球状シリカの平均粒子径は、0.6μm以下であることがさらに好ましい。上記球状シリカの平均粒子径は、100nm以上であることが好ましい。   The average particle diameter of the spherical silica is preferably 1 μm or less. When the average particle diameter is 1 μm or less, an even finer rough surface can be formed on the surface of the roughened cured body. In addition, fine holes having an average diameter of about 1 μm or less can be formed on the surface of the roughened cured body. The average particle diameter of the spherical silica is more preferably 0.6 μm or less. The average particle diameter of the spherical silica is preferably 100 nm or more.

上記球状シリカの平均粒子径が1μmより大きいと、エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた後に粗化処理する際に、球状シリカが脱離し難くなる。また、硬化体の表面に金属層を形成するために、めっき処理した場合に、脱離しなかった球状シリカと樹脂成分との空隙に、めっきが潜り込むことがある。このため、硬化体の表面に金属層が回路として形成されている場合に、回路に不具合が生じるおそれがある。   When the average particle diameter of the spherical silica is larger than 1 μm, the spherical silica is difficult to be detached during the roughening treatment after pre-curing the epoxy resin composition. In addition, when a plating process is performed to form a metal layer on the surface of the cured body, the plating may sink into the gap between the spherical silica that has not been detached and the resin component. For this reason, when the metal layer is formed in the surface of the hardening body as a circuit, there exists a possibility that a malfunction may arise in a circuit.

ナフタレン構造、ジシクロペンタジエン構造、ビフェニル構造及びアミノトリアジン構造の内のいずれかの構造を有するフェノール化合物、又は芳香族多価エステル化合物を硬化剤として用いた場合、粗化処理により球状シリカの周辺の樹脂成分は削れにくい。この場合には、球状シリカの平均粒子径が1μmよりも大きいと、球状シリカがより一層脱離し難くなるので、硬化体と金属層との接着強度が低くなりやすい。   When a phenol compound having one of the naphthalene structure, dicyclopentadiene structure, biphenyl structure and aminotriazine structure, or an aromatic polyvalent ester compound is used as a curing agent, a roughening treatment can be performed around the spherical silica. Resin component is difficult to scrape. In this case, when the average particle diameter of the spherical silica is larger than 1 μm, the spherical silica is more difficult to be detached, and the adhesive strength between the cured body and the metal layer is likely to be lowered.

上記球状シリカの平均粒子径として、50%となるメディアン径(d50)の値を採用できる。上記平均粒子径は、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定できる。   A median diameter (d50) value of 50% can be adopted as the average particle diameter of the spherical silica. The average particle size can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

平均粒子径の異なる複数種類の球状シリカを用いてもよい。細密充填を考慮して、粒度分布の異なる複数種類の球状シリカを用いることが好ましい。この場合には、例えば部品内蔵基板のような流動性の要求される用途に、エポキシ系樹脂組成物を好適に使用できる。また、平均粒子径が数10nmの球状シリカの使用により、エポキシ系樹脂組成物の粘度を高くしたり、チクソトロピー性を制御したりすることができる。   A plurality of types of spherical silica having different average particle diameters may be used. In consideration of fine packing, it is preferable to use a plurality of types of spherical silica having different particle size distributions. In this case, for example, the epoxy resin composition can be suitably used for applications requiring fluidity such as a component-embedded substrate. Further, by using spherical silica having an average particle diameter of several tens of nm, the viscosity of the epoxy resin composition can be increased, and thixotropy can be controlled.

球状シリカの最大粒子径は、5μm以下であることが好ましい。最大粒子径が5μm以下であると、エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた後に粗化処理する際に、球状シリカがより一層脱離しやすくなる。さらに、硬化体の表面に比較的大きな孔が生じ難く、均一かつ微細な凹凸を形成できる。   The maximum particle diameter of the spherical silica is preferably 5 μm or less. When the maximum particle size is 5 μm or less, the spherical silica is more easily detached during the roughening treatment after pre-curing the epoxy resin composition. Furthermore, relatively large holes are hardly formed on the surface of the cured body, and uniform and fine irregularities can be formed.

ナフタレン構造、ジシクロペンタジエン構造、ビフェニル構造及びアミノトリアジン構造の内のいずれかの構造を有するフェノール化合物、又は芳香族多価エステル化合物を硬化剤として用いた場合には、上記エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた予備硬化物の表面から上記予備硬化物内に粗化液が浸透し難く、球状シリカが比較的脱離し難い。しかし、最大粒子径5μm以下の球状シリカの使用により、球状シリカを無理なく脱離させることができる。硬化体の表面にL/Sが15μm/15μm以下の微細配線を形成する場合に、絶縁信頼性を高めることができるので、球状シリカの最大粒子径は2μm以下であることが好ましい。なお、「L/S」とは、配線の幅方向の寸法(L)/配線が形成されていない部分の幅方向の寸法(S)を示す。   When a phenolic compound having any one of naphthalene structure, dicyclopentadiene structure, biphenyl structure and aminotriazine structure, or an aromatic polyvalent ester compound is used as a curing agent, the epoxy resin composition described above is used. The roughening liquid hardly penetrates into the precured product from the surface of the precured precured product, and the spherical silica is relatively difficult to desorb. However, the use of spherical silica having a maximum particle diameter of 5 μm or less makes it possible to remove spherical silica without difficulty. When forming fine wiring with L / S of 15 μm / 15 μm or less on the surface of the cured body, it is possible to improve the insulation reliability. Therefore, the maximum particle diameter of the spherical silica is preferably 2 μm or less. Note that “L / S” indicates the dimension (L) in the width direction of the wiring / the dimension (S) in the width direction of the portion where the wiring is not formed.

エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた後に粗化処理する際に、球状シリカがより一層脱離しやすいため、球状シリカは真球状であることがより好ましい。なお、「球状」とは、例えば、アスペクト比が1〜2の範囲内にあることを意味する。   When the roughening treatment is performed after pre-curing the epoxy resin composition, the spherical silica is more preferably spherical because the spherical silica is more easily detached. “Spherical” means, for example, that the aspect ratio is in the range of 1 to 2.

上記シリカの比表面積は、3m/g以上であることが好ましい。比表面積が3m/g未満であると、硬化体の機械的特性が低下するおそれがある。さらに、例えば硬化体の表面に金属層が形成された場合に、硬化体と金属層との密着性が低下することがある。上記比表面積は、BET法により求めることができる。 The specific surface area of the silica is preferably 3 m 2 / g or more. There exists a possibility that the mechanical characteristic of a hardening body may fall that a specific surface area is less than 3 m < 2 > / g. Furthermore, for example, when a metal layer is formed on the surface of the cured body, the adhesion between the cured body and the metal layer may be reduced. The specific surface area can be determined by the BET method.

上記シリカとしては、天然シリカ原料を粉砕して得られる結晶性シリカ、天然シリカ原料を火炎溶融し、粉砕して得られる破砕溶融シリカ、天然シリカ原料を火炎溶融、粉砕及び火炎溶融して得られる球状溶融シリカ、フュームドシリカ(アエロジル)、又はゾルゲル法シリカなどの合成シリカ等が挙げられる。   As the silica, crystalline silica obtained by pulverizing natural silica raw material, crushed fused silica obtained by flame melting and pulverizing natural silica raw material, and natural silica raw material obtained by flame melting, pulverizing and flame melting Examples include spherical fused silica, fumed silica (Aerosil), and synthetic silica such as sol-gel silica.

純度が高いことから、上記シリカとして、溶融シリカが好適に用いられる。シリカは、溶剤に分散された状態でシリカスラリーとして用いられてよい。シリカスラリーの使用により、エポキシ系樹脂組成物の製造の際に、作業性及び生産性を高めることができる。   Because of its high purity, fused silica is preferably used as the silica. Silica may be used as a silica slurry in a state dispersed in a solvent. By using the silica slurry, workability and productivity can be improved during the production of the epoxy resin composition.

上記シリカは、溶剤に分散された状態でシリカスラリーとして使用されてもよい。また、シリカは、シランカップリング剤により表面処理されていてもよい。   The silica may be used as a silica slurry in a state dispersed in a solvent. Silica may be surface-treated with a silane coupling agent.

上記シランカップリング剤として、一般的なシラン化合物を使用できる。上記シランカップリング剤は、エポキシシラン、アミノシラン、イソシアネートシラン、アクリロキシシラン、メタクリロキシシラン、ビニルシラン、スチリルシラン、ウレイドシラン、スルフィドシラン及びイミダゾールシランからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。また、シラザンのようなアルコキシシランにより、シリカが表面処理されていてもよい。シランカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   As the silane coupling agent, a general silane compound can be used. The silane coupling agent may be at least one selected from the group consisting of epoxy silane, amino silane, isocyanate silane, acryloxy silane, methacryloxy silane, vinyl silane, styryl silane, ureido silane, sulfide silane and imidazole silane. preferable. Further, the silica may be surface-treated with an alkoxysilane such as silazane. As for a silane coupling agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記シリカをシランカップリング剤により表面処理する方法としては、例えば、以下の第1〜第3の方法が挙げられる。   Examples of the method for surface-treating the silica with a silane coupling agent include the following first to third methods.

第1の方法としては、乾式法が挙げられる。乾式法としては、例えば、シリカにシランカップリング剤を直接付着させる方法等が挙げられる。乾式法では、ミキサーにシリカを仕込んで、攪拌しながらシランカップリング剤のアルコール溶液又は水溶液を滴下又は噴霧した後、さらに攪拌し、ふるいにより分級する。その後、加熱によりシランカップリング剤とシリカとを脱水縮合させる。   The first method includes a dry method. Examples of the dry method include a method of directly attaching a silane coupling agent to silica. In the dry method, silica is charged into a mixer, and an alcohol solution or an aqueous solution of a silane coupling agent is added dropwise or sprayed with stirring, followed by further stirring and classification with a sieve. Thereafter, the silane coupling agent and silica are dehydrated and condensed by heating.

第2の方法としては、湿式法が挙げられる。湿式法では、シリカを含むシリカスラリーを攪拌しながらシランカップリング剤を添加し、攪拌した後、濾過、乾燥及びふるいによる分級を行う。次に、加熱によりシランカップリング剤とシリカとを脱水縮合させる。   The second method includes a wet method. In the wet method, a silane coupling agent is added while stirring a silica slurry containing silica, and after stirring, classification is performed by filtration, drying, and sieving. Next, the silane coupling agent and silica are dehydrated and condensed by heating.

第3の方法としては、シリカを含むシリカスラリーを攪拌しながら、シランカップリング剤を添加した後、加熱還流処理により脱水縮合を進行させる方法が挙げられる。   As a third method, there is a method in which dehydration condensation is performed by heating and refluxing after adding a silane coupling agent while stirring a silica slurry containing silica.

シランカップリング剤により表面処理されているシリカの使用により、硬化体のリフロー耐性を高めることができる。また、硬化体の吸水性を低くすることができ、かつ絶縁信頼性を高くすることができる。   By using silica that has been surface-treated with a silane coupling agent, the reflow resistance of the cured product can be increased. Further, the water absorption of the cured body can be lowered and the insulation reliability can be increased.

上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、上記シリカは5〜50重量%の範囲内で含まれている。上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記シリカの含有量の好ましい下限は10重量%であり、より好ましい下限は25重量%である。上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記シリカの含有量の好ましい上限は45重量%であり、より好ましい上限は40重量%である。シリカの量が少なすぎると、エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた後に粗化処理した際に、シリカの脱離により形成される孔の総表面積が小さくなる。このため、硬化体の表面に金属層が形成された場合に、硬化体と金属層との接着強度を充分に高めることができないことがある。シリカの量が多いほど、硬化体の線膨張率が低くなる傾向にある。ただし、シリカの量が多すぎると、硬化体が脆くなりやすく、かつ粗化処理された硬化体の表面の表面粗さが大きくなりやすい。また、上記エポキシ系樹脂組成物を用いて積層板及び多層積層板を作製した場合、ドリルやレーザーを用いてビア開け加工を行う際の加工性が悪化する。   The silica is contained in the range of 5 to 50% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. The minimum with preferable content of the said silica in 100 weight% of solid content in the said epoxy resin composition is 10 weight%, and a more preferable minimum is 25 weight%. The upper limit with preferable content of the said silica in 100 weight% of solid content in the said epoxy resin composition is 45 weight%, and a more preferable upper limit is 40 weight%. If the amount of silica is too small, the total surface area of the pores formed by the desorption of silica is reduced when the epoxy resin composition is precured and then roughened. For this reason, when a metal layer is formed on the surface of the cured body, the adhesive strength between the cured body and the metal layer may not be sufficiently increased. The greater the amount of silica, the lower the linear expansion coefficient of the cured body. However, if the amount of silica is too large, the cured product tends to become brittle and the surface roughness of the roughened cured product tends to increase. Moreover, when a laminated board and a multilayer laminated board are produced using the said epoxy resin composition, the workability at the time of performing a via opening process using a drill or a laser deteriorates.

上記「エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%」とは、エポキシ系樹脂、硬化剤、シリカ及びマレイミド系化合物と、必要に応じて配合される他の固形分との総和をいう。   The “100 wt% solid content in the epoxy resin composition” refers to the total of the epoxy resin, the curing agent, the silica, and the maleimide compound, and other solid contents blended as necessary.

(マレイミド系化合物)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物はマレイミド系化合物を含有するため、硬化体の線膨張率を顕著に低くすることができる。さらに、硬化体のガラス転移温度を高くすることができる。これは、マレイミド系化合物に由来する剛直な骨格が硬化体中に導入されるため、硬化体中の分子鎖のミクロブラウン運動が抑制されるためであると考えられる。本発明に係るエポキシ系樹脂組成物を用いて硬化体や積層板を形成することにより、硬化体又は積層板の耐熱衝撃性が大幅に高くなるという効果を期待できる。
(Maleimide compound)
Since the epoxy resin composition according to the present invention contains a maleimide compound, the linear expansion coefficient of the cured product can be remarkably lowered. Furthermore, the glass transition temperature of the cured product can be increased. This is presumably because the rigid skeleton derived from the maleimide compound is introduced into the cured body, and thus the micro-Brownian motion of the molecular chain in the cured body is suppressed. By forming a cured body or a laminate using the epoxy resin composition according to the present invention, an effect that the thermal shock resistance of the cured body or the laminate is significantly increased can be expected.

上記マレイミド系化合物は特に限定されない。マレイミド系化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The maleimide compound is not particularly limited. Only one type of maleimide compound may be used, or two or more types may be used in combination.

上記マレイミド系化合物は、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−1,3−フェニレンジマレイミド、N,N’−1,4−フェニレンジマレイミド、1,2−ビス(マレイミド)エタン、1,6−ビスマレイミドヘキサン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン及びこれらのオリゴマー、並びにマレイミド骨格含有ジアミン縮合物からなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましいマレイミド系化合物の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができ、かつ硬化体のガラス転移温度をより一層高くすることができる。上記オリゴマーは、上述したマレイミド系化合物の内のモノマーであるマレイミド系化合物を縮合させることにより得られたオリゴマーである。   The maleimide compounds include N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N′-1,3-phenylene dimaleimide, N, N′-1,4-phenylene dimaleimide, and 1,2-bis. (Maleimide) ethane, 1,6-bismaleimide hexane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene It is preferably at least one selected from the group consisting of bismaleimide, 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane and oligomers thereof, and maleimide skeleton-containing diamine condensate. By using these preferable maleimide compounds, the linear expansion coefficient of the cured product can be further lowered, and the glass transition temperature of the cured product can be further increased. The said oligomer is an oligomer obtained by condensing the maleimide type compound which is a monomer of the maleimide type compounds mentioned above.

なかでも、上記マレイミド系化合物は、ポリフェニルメタンマレイミド及びビスマレイミドオリゴマーの内の少なくとも一方であることがより好ましい。上記ビスマレイミドオリゴマーは、フェニルメタンビスマレイミドと、4,4−ジアミノジフェニルメタンとの縮合により得られたオリゴマーであることが好ましい。これらの好ましいマレイミド系化合物の使用により、硬化体の線膨張率をさらに一層低くすることができ、かつ硬化体のガラス転移温度をさらに一層高くすることができる。   Among these, the maleimide compound is more preferably at least one of polyphenylmethane maleimide and bismaleimide oligomer. The bismaleimide oligomer is preferably an oligomer obtained by condensation of phenylmethane bismaleimide and 4,4-diaminodiphenylmethane. By using these preferable maleimide compounds, the linear expansion coefficient of the cured product can be further lowered, and the glass transition temperature of the cured product can be further increased.

上記マレイミド系化合物の市販品としては、ポリフェニルメタンマレイミド(大和化成社製、商品名「BMI−2300」)及びビスマレイミドオリゴマー(大和化成社製、商品名「DAIMAID−100H」)等が挙げられる。   Examples of commercially available maleimide compounds include polyphenylmethane maleimide (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd., trade name “BMI-2300”) and bismaleimide oligomer (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd., trade name “DAIMAID-100H”). .

上記大和化成社製のBMI−2300は低分子量のオリゴマーである。上記大和化成社製のDAIMAID−100Hは、ジアミノジフェニルメタンをアミン系硬化剤として使用した縮合物であり、分子量が高い。上記BMI−2300にかえて、上記DAIMAID−100Hを用いた場合、硬化体の破断強度及び破断点伸度を向上させることができる。ただし、上記BMI−2300を用いた場合、上記DAIMAID−100Hを用いた場合と比較して、硬化体の線膨張率が低くなりやすい。   BMI-2300 manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd. is a low molecular weight oligomer. DAIMAID-100H manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd. is a condensate using diaminodiphenylmethane as an amine curing agent, and has a high molecular weight. In the case of using the DAIMAID-100H instead of the BMI-2300, the breaking strength and elongation at break of the cured product can be improved. However, when the BMI-2300 is used, the linear expansion coefficient of the cured body tends to be lower than when the DAIMAID-100H is used.

また、上記マレイミド系化合物は、下記式(11)で表されるマレイミド系化合物であることが好ましい。下記式(11)で表されるマレイミド系化合物の使用により、硬化体の線膨張率をより一層低くすることができる。   The maleimide compound is preferably a maleimide compound represented by the following formula (11). By using the maleimide compound represented by the following formula (11), the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

前記式(11)中、R11〜R13は、水素原子、ハロゲン原子又は有機基を示し、xは0〜1の範囲内の数を表す。   In said formula (11), R11-R13 shows a hydrogen atom, a halogen atom, or an organic group, and x represents the number within the range of 0-1.

硬化体の線膨張率をより一層低くすることができるので、上記式(11)中のR11〜R13は水素原子であることが好ましい。すなわち、上記式(11)で表されるマレイミド系化合物は、下記式(12)で表されるマレイミド系化合物であることが好ましい。   Since the linear expansion coefficient of the cured product can be further reduced, R11 to R13 in the above formula (11) are preferably hydrogen atoms. That is, the maleimide compound represented by the above formula (11) is preferably a maleimide compound represented by the following formula (12).

Figure 2010100802
Figure 2010100802

前記式(12)中、yは0〜1の範囲内の整数を表す。   In said Formula (12), y represents the integer within the range of 0-1.

上記マレイミド系化合物は、上記式(11)及び式(12)で表されるマレイミド系化合物の混合物であって、該混合物の上記式(11)及び式(12)中のx又はyの平均値が0.1〜0.5の範囲内にあることが好ましい。x又はyの平均値が大きいほど、上記混合物の溶解性は高い。上記式(11)及び式(12)中のx又はyの平均値が0.1〜0.5の範囲内にある混合物の使用により、線膨張をより一層低くすることができ、かつ溶解性を高めることができる。上記式(11)及び式(12)中のx又はyの平均値が0.2〜0.3の範囲内にある混合物の使用により、線膨張などの温度による寸法変化をより一層小さくすることができる。   The maleimide compound is a mixture of maleimide compounds represented by the above formulas (11) and (12), and the average value of x or y in the above formulas (11) and (12) of the mixture Is preferably in the range of 0.1 to 0.5. The higher the average value of x or y, the higher the solubility of the mixture. By using a mixture in which the average value of x or y in the above formulas (11) and (12) is in the range of 0.1 to 0.5, the linear expansion can be further reduced and the solubility is increased. Can be increased. By using a mixture in which the average value of x or y in the above formulas (11) and (12) is in the range of 0.2 to 0.3, the dimensional change due to temperature such as linear expansion is further reduced. Can do.

上記エポキシ系樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対して、上記マレイミド系化合物は2〜200重量部の範囲内で含まれている。マレイミド系化合物の量が少なすぎると、硬化体の線膨張率を充分に低くすることができなかったり、硬化体のガラス転移温度を充分に高くすることができなかったりする。上記エポキシ系樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対する上記マレイミド系化合物の含有量の好ましい下限は5重量部であり、より好ましい下限は10重量部である。上記エポキシ系樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対する上記マレイミド系化合物の含有量の好ましい上限は150重量部であり、より好ましい上限は100重量部である。   The maleimide compound is contained in the range of 2 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent. If the amount of the maleimide compound is too small, the linear expansion coefficient of the cured product cannot be sufficiently lowered, or the glass transition temperature of the cured product cannot be sufficiently increased. The minimum with preferable content of the said maleimide type compound with respect to a total of 100 weight part of the said epoxy resin and the said hardening | curing agent is 5 weight part, and a more preferable minimum is 10 weight part. The upper limit with preferable content of the said maleimide type compound with respect to a total of 100 weight part of the said epoxy resin and the said hardening | curing agent is 150 weight part, and a more preferable upper limit is 100 weight part.

上記マレイミド系化合物の量が多いほど、硬化体に剛直な骨格が多く導入されるため、硬化体の線膨張率が低くなり、かつ硬化体のガラス転移温度が高くなる傾向にある。しかし、マレイミド系化合物の量が多すぎると、硬化体の線膨張率を低下させる効果及び硬化体のガラス転移温度を向上させる効果が飽和することがある。さらに、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さが大きくなったり、破断強度が大きく低下したりすることがある。   As the amount of the maleimide compound increases, a larger amount of rigid skeleton is introduced into the cured body, so that the linear expansion coefficient of the cured body decreases and the glass transition temperature of the cured body tends to increase. However, if the amount of the maleimide compound is too large, the effect of reducing the linear expansion coefficient of the cured product and the effect of improving the glass transition temperature of the cured product may be saturated. Furthermore, the surface roughness of the roughened cured body may increase, or the breaking strength may decrease significantly.

上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、上記マレイミド系化合物は2〜45重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記マレイミド系化合物の含有量の好ましい下限は5重量%であり、より好ましい下限は10重量%である。上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記マレイミド系化合物の含有量の好ましい上限は40重量%であり、より好ましい上限は30重量%である。上記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中の上記マレイミド系化合物の含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、硬化体の表面の凹凸を小さくすることができる。従って、1GHz以上の高周波領域での回路の電気信号伝送特性を高めることができる。   The maleimide compound is preferably contained in the range of 2 to 45% by weight in 100% by weight of the solid content in the epoxy resin composition. The minimum with preferable content of the said maleimide-type compound in 100 weight% of solid content in the said epoxy-type resin composition is 5 weight%, and a more preferable minimum is 10 weight%. The upper limit with preferable content of the said maleimide type compound in 100 weight% of solid content in the said epoxy resin composition is 40 weight%, and a more preferable upper limit is 30 weight%. When the content of the maleimide compound in the solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition is within the preferable range, the unevenness of the surface of the cured product can be reduced. Therefore, the electric signal transmission characteristics of the circuit in a high frequency region of 1 GHz or higher can be improved.

また、エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、上記マレイミド系化合物と上記シリカとが合計で35〜70重量%含まれていることが好ましい。上記マレイミド系化合物と上記シリカとの合計の含有量が上記好ましい範囲内にある場合には、エポキシ系樹脂組成物及び該エポキシ系樹脂組成物を用いたシート状成形体のハンドリング性を高くすることができる。さらに、硬化体の表面の凹凸をより一層小さくすることができる。   Moreover, it is preferable that the said maleimide type compound and the said silica are contained in 35 to 70 weight% in total in 100 weight% of solid content in an epoxy resin composition. When the total content of the maleimide compound and the silica is within the preferable range, the handling property of the epoxy resin composition and the sheet-like molded body using the epoxy resin composition should be increased. Can do. Furthermore, the unevenness of the surface of the cured body can be further reduced.

(フェノキシ樹脂)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、フェノキシ樹脂をさらに含有することが好ましい。フェノキシ樹脂の使用により、硬化体の引張強度を高くすることができ、例えば破断点伸度及び破断強度を高くすることができる。これは、フェノキシ樹脂が無機成分と有機成分とを繋ぐ役割を果たすためであると考えられる。
(Phenoxy resin)
The epoxy resin composition according to the present invention preferably further contains a phenoxy resin. By using phenoxy resin, the tensile strength of the cured product can be increased, for example, the elongation at break and the strength at break can be increased. This is considered to be because the phenoxy resin plays a role of connecting the inorganic component and the organic component.

上記フェノキシ樹脂とは、具体的には、例えばエピハロヒドリンと2価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は2価のエポキシ化合物と2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂である。   Specifically, the phenoxy resin is, for example, a resin obtained by reacting an epihalohydrin with a divalent phenol compound, or a resin obtained by reacting a divalent epoxy compound with a divalent phenol compound.

上記エポキシ系樹脂及び上記硬化剤の合計100重量部に対して、上記フェノキシ樹脂は1〜50重量部の範囲内で含まれていることが好ましく、10〜30重量部の範囲内で含まれていることがより好ましい。フェノキシ樹脂の量が少なすぎると、硬化体の破断強度を充分に高めることができないことがある。フェノキシ樹脂の量が多すぎると、硬化体の線膨張率が高くなり、かつガラス転移温度が低下することがある。   The phenoxy resin is preferably contained in the range of 1 to 50 parts by weight, and in the range of 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent. More preferably. If the amount of phenoxy resin is too small, the breaking strength of the cured product may not be sufficiently increased. When there is too much quantity of a phenoxy resin, the linear expansion coefficient of a hardening body may become high and a glass transition temperature may fall.

また、エポキシ系樹脂組成物の固形分100重量%中に、フェノキシ樹脂は1〜10重量%の範囲内で含まれていることが好ましい。フェノキシ樹脂の含有量がこの範囲内にある場合には、硬化体の引張強度を高くすることができ、例えば破断点伸度及び破断強度を高くすることができる。   Moreover, it is preferable that the phenoxy resin is contained within the range of 1 to 10% by weight in the solid content of 100% by weight of the epoxy resin composition. When the content of the phenoxy resin is within this range, the tensile strength of the cured product can be increased, for example, the elongation at break and the strength at break can be increased.

(添加され得る他の成分)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、有機化層状珪酸塩を含んでいてもよい。
(Other ingredients that can be added)
The epoxy resin composition according to the present invention may contain an organic layered silicate.

有機化層状珪酸塩を含むエポキシ系樹脂組成物では、シリカの周囲に、有機化層状珪酸塩が存在する。このため、エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた予備硬化物を膨潤処理及び粗化処理する際に、上記予備硬化物の表面に存在するシリカがより一層脱離しやすくなる。   In the epoxy resin composition containing the organic layered silicate, the organic layered silicate exists around the silica. For this reason, when the precured material obtained by precuring the epoxy resin composition is subjected to swelling treatment and roughening treatment, silica existing on the surface of the precured material is more easily detached.

上記有機化層状珪酸塩としては、例えば、スメクタイト系粘土鉱物、膨潤性マイカ、バーミキュライト又はハロイサイト等の層状珪酸塩が有機化処理された有機化層状珪酸塩が挙げられる。有機化層状珪酸塩は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the organic layered silicate include organic layered silicates obtained by organically treating layered silicates such as smectite clay minerals, swellable mica, vermiculite, and halloysite. As for the organic layered silicate, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記スメクタイト系粘土鉱物としては、モンモリロナイト、ヘクトライト、サポナイト、バイデライト、スティブンサイト又はノントロナイト等が挙げられる。   Examples of the smectite clay mineral include montmorillonite, hectorite, saponite, beidellite, stevensite, and nontronite.

上記有機化層状珪酸塩として、モンモリロナイト、ヘクトライト及び膨潤性マイカからなる群より選択される少なくとも1種の層状珪酸塩が有機化処理された有機化層状珪酸塩が好適に用いられる。   As the organic layered silicate, an organic layered silicate obtained by organically treating at least one layered silicate selected from the group consisting of montmorillonite, hectorite and swellable mica is preferably used.

上記有機化層状珪酸塩の平均粒子径は、500nm以下であることが好ましい。有機化層状珪酸塩の平均粒子径が500nmを超えると、エポキシ系樹脂組成物中での有機化層状珪酸塩の分散性が低下することがある。上記有機化層状珪酸塩の平均粒子径は、100nm以上であることが好ましい。   The average particle diameter of the organically modified layered silicate is preferably 500 nm or less. When the average particle diameter of the organic layered silicate exceeds 500 nm, the dispersibility of the organic layered silicate in the epoxy resin composition may be lowered. The average particle diameter of the organically modified layered silicate is preferably 100 nm or more.

上記有機化層状珪酸塩の平均粒子径として、50%となるメディアン径(d50)の値を採用できる。上記平均粒子径は、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定できる。   The median diameter (d50) value of 50% can be adopted as the average particle diameter of the organically modified layered silicate. The average particle size can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

エポキシ系樹脂及び硬化剤の合計100重量部に対して、上記有機化層状珪酸塩は0.01〜3重量部の範囲内で含有されることが好ましい。上記有機化層状珪酸塩の量が少なすぎると、シリカを脱離しやすくする効果が不足することがある。上記有機化層状珪酸塩の量が多すぎると、硬化体の表面の表面粗さが比較的大きくなりやすい。特に、エポキシ系樹脂組成物が封止剤用途に用いられる場合には、有機化層状珪酸塩の量が多すぎると、粗化処理により硬化体の表面の表面粗さが変化する速度が速すぎて、膨潤処理又は粗化処理の均一性を充分に確保できないことがある。   The organically modified layered silicate is preferably contained within a range of 0.01 to 3 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent. If the amount of the organically modified layered silicate is too small, the effect of facilitating detachment of silica may be insufficient. If the amount of the organically modified layered silicate is too large, the surface roughness of the surface of the cured body tends to be relatively large. In particular, when the epoxy resin composition is used for sealant applications, if the amount of the organically modified layered silicate is too large, the rate at which the surface roughness of the surface of the cured body changes due to the roughening treatment is too fast. Therefore, the uniformity of the swelling treatment or the roughening treatment may not be sufficiently ensured.

なお、エポキシ系樹脂及び硬化剤の合計100重量部に対する有機化層状珪酸塩の含有量が3重量部を超える場合には、粗化処理された硬化体の表面の表面粗さが比較的大きくなりやすい。   In addition, when the content of the organic layered silicate with respect to 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent exceeds 3 parts by weight, the surface roughness of the surface of the roughened cured body becomes relatively large. Cheap.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物には、上記エポキシ系樹脂に加えて、必要に応じて、該エポキシ系樹脂と共重合可能な樹脂が含まれていてもよい。   The epoxy resin composition according to the present invention may contain a resin copolymerizable with the epoxy resin, if necessary, in addition to the epoxy resin.

上記共重合可能な樹脂は特に限定されない。上記共重合可能な樹脂としては、例えば、熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂又はベンゾオキサジン樹脂等が挙げられる。上記共重合可能な樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   The copolymerizable resin is not particularly limited. Examples of the copolymerizable resin include thermosetting modified polyphenylene ether resin or benzoxazine resin. As the copolymerizable resin, only one type may be used, or two or more types may be used in combination.

上記熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂の具体例としては、エポキシ基、イソシアネート基又はアミノ基などの官能基により、ポリフェニレンエーテル樹脂を変性させた樹脂等が挙げられる。上記熱硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   Specific examples of the thermosetting modified polyphenylene ether resin include resins obtained by modifying a polyphenylene ether resin with a functional group such as an epoxy group, an isocyanate group, or an amino group. As for the said thermosetting modified polyphenylene ether resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

エポキシ基によりポリフェニレンエーテル樹脂を変性させた硬化型変性ポリフェニレンエーテル樹脂の市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製の商品名「OPE−2Gly」等が挙げられる。   Examples of commercially available curable modified polyphenylene ether resins obtained by modifying a polyphenylene ether resin with an epoxy group include trade name “OPE-2Gly” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company.

上記ベンゾオキサジン樹脂は特に限定されない。上記ベンゾオキサジン樹脂の具体例としては、メチル基、エチル基、フェニル基、ビフェニル基もしくはシクロヘキシル基などのアリール基骨格を有する置換基がオキサジン環の窒素に結合された樹脂、又はメチレン基、エチレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフタレン基もしくはシクロヘキシレン基などのアリーレン基骨格を有する置換基が2つのオキサジン環の窒素間に結合された樹脂等が挙げられる。上記ベンゾオキサジン樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。ベンゾオキサジン樹脂とエポキシ系樹脂との反応により、硬化体の耐熱性を高くしたり、吸水性及び線膨張率を低くしたりすることができる。   The benzoxazine resin is not particularly limited. Specific examples of the benzoxazine resin include a resin in which a substituent having an aryl group skeleton such as a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group is bonded to nitrogen of the oxazine ring, or a methylene group, an ethylene group And a resin in which a substituent having an arylene skeleton such as a phenylene group, a biphenylene group, a naphthalene group, or a cyclohexylene group is bonded between nitrogen atoms of two oxazine rings. As for the said benzoxazine resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. By the reaction between the benzoxazine resin and the epoxy resin, the heat resistance of the cured product can be increased, and the water absorption and the linear expansion coefficient can be decreased.

なお、ベンゾオキサジンモノマーもしくはオリゴマー、又はベンゾオキサジンモノマーもしくはオリゴマーがオキサジン環の開環重合によって高分子量化された樹脂は、上記ベンゾオキサジン樹脂に含まれる。   A benzoxazine monomer or oligomer, or a resin in which a benzoxazine monomer or oligomer is polymerized by ring-opening polymerization of an oxazine ring is included in the benzoxazine resin.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物には、必要に応じて、熱可塑性樹脂類、エポキシ系樹脂以外の他の熱硬化性樹脂類、熱可塑性エラストマー類、架橋ゴム、オリゴマー類、無機化合物、造核剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、難燃助剤、帯電防止剤、防曇剤、充填剤、軟化剤、可塑剤又は着色剤等の添加剤が添加されてもよい。これらの添加剤は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The epoxy resin composition according to the present invention includes, as necessary, thermoplastic resins, other thermosetting resins other than epoxy resins, thermoplastic elastomers, crosslinked rubber, oligomers, inorganic compounds, Nucleating agent, antioxidant, anti-aging agent, heat stabilizer, light stabilizer, UV absorber, lubricant, flame retardant aid, antistatic agent, anti-fogging agent, filler, softener, plasticizer or colorant, etc. Additives may be added. As for these additives, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱可塑性樹脂類の具体例としては、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリイミド樹脂又はポリエーテルイミド樹脂等が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂類及び上記他の熱硬化性樹脂類はそれぞれ、1種のみが用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。   Specific examples of the thermoplastic resins include polysulfone resins, polyether sulfone resins, polyimide resins, and polyetherimide resins. Moreover, only 1 type may be used for the said thermoplastic resins and said other thermosetting resin, respectively, and 2 or more types may be used together.

(エポキシ系樹脂組成物)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の製造方法は特に限定されない。エポキシ系樹脂組成物の製造方法としては、例えば、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカと、マレイミド系化合物と、必要に応じて配合される成分とを、溶剤に添加した後、乾燥し、溶剤を除去する方法等が挙げられる。本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、溶剤を含んでいてもよい。
(Epoxy resin composition)
The manufacturing method of the epoxy resin composition according to the present invention is not particularly limited. As a method for producing an epoxy resin composition, for example, an epoxy resin, a curing agent, silica, a maleimide compound, and components blended as necessary are added to a solvent, and then dried. Examples include a method for removing the solvent. The epoxy resin composition according to the present invention may contain a solvent.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物は、溶剤に溶解している形態で用いることができる。例えば、多層積層板の最表面に用いることで、本発明に係るエポキシ樹脂組成物を熱硬化性ソルダーレジストとして用いることができる。   The epoxy resin composition according to the present invention can be used in a form dissolved in a solvent. For example, the epoxy resin composition according to the present invention can be used as a thermosetting solder resist by being used on the outermost surface of a multilayer laminate.

本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の用途は、特に限定されない。上記エポキシ系樹脂組成物は、例えば、多層基板のコア層又はビルドアップ層等を形成する基板用材料、接着シート、積層板、樹脂付き銅箔、銅張積層板、TAB用テープ、プリント基板、プリプレグ又はワニス等に好適に用いられる。   The use of the epoxy resin composition according to the present invention is not particularly limited. The epoxy resin composition includes, for example, a substrate material for forming a core layer or a buildup layer of a multilayer substrate, an adhesive sheet, a laminate, a copper foil with resin, a copper clad laminate, a TAB tape, a printed board, It is suitably used for prepreg or varnish.

また、本発明に係るエポキシ系樹脂組成物の使用により、硬化体の表面に微細な孔を形成できる。このため、硬化体の表面に微細な配線を形成でき、かつ該配線における信号伝送速度を速くすることができる。従って、上記エポキシ系樹脂組成物は、樹脂付き銅箔、銅張積層板、プリント基板、プリプレグ、接着シート又はTAB用テープなどの絶縁性を要求される用途に好適に用いられる。   Moreover, a fine hole can be formed in the surface of a hardening body by use of the epoxy-type resin composition which concerns on this invention. For this reason, fine wiring can be formed on the surface of the cured body, and the signal transmission speed in the wiring can be increased. Therefore, the said epoxy resin composition is used suitably for the use as which insulation is requested | required, such as copper foil with resin, a copper clad laminated board, a printed circuit board, a prepreg, an adhesive sheet, or a TAB tape.

硬化体の表面に導電性めっき層を形成した後に回路を形成するアディティブ法、又はセミアディティブ法などによって硬化体と導電性めっき層とを複数積層するビルドアップ基板等に、上記エポキシ系樹脂組成物はより好適に用いられる。この場合には、硬化体と導電性めっき層との接合強度を高めることができる。また、硬化体の表面に形成されたシリカの抜けた穴が小さいため、パターン間の絶縁性を高めることができる。さらに、シリカの抜けた穴の深さが浅いため、層間の絶縁性を高めることができる。   The above epoxy resin composition is applied to a build-up substrate or the like in which a plurality of cured bodies and conductive plating layers are laminated by an additive method or a semi-additive method for forming a circuit after forming a conductive plating layer on the surface of the cured body. Is more preferably used. In this case, the bonding strength between the cured body and the conductive plating layer can be increased. Moreover, since the hole which the silica formed in the surface of the hardening body is small is small, the insulation between patterns can be improved. Furthermore, since the depth of the hole through which the silica is removed is shallow, the insulation between the layers can be improved.

上記エポキシ系樹脂組成物は、封止用材料又はソルダーレジスト等にも用いることができる。また、硬化体の表面に形成された配線の高速信号伝送性能を高めることができるため、高い高周波特性が要求される、パッシブ部品又はアクティブ部品が内蔵される部品内蔵基板等にも、上記エポキシ系樹脂組成物を用いることができる。   The epoxy resin composition can also be used for a sealing material or a solder resist. In addition, since the high-speed signal transmission performance of the wiring formed on the surface of the cured body can be improved, the epoxy-based substrate is also used for a component-embedded substrate or the like in which a passive component or an active component is required, which requires high-frequency characteristics. A resin composition can be used.

(シート状成形体)
本発明に係るシート状成形体は、上記エポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより形成されている。
(Sheet-like molded product)
The sheet-like molded body according to the present invention is formed by molding the epoxy resin composition into a sheet shape.

「シート」は、厚さや幅に限定されず、板状の形状を有するものであり、シートにはフィルムも含まれる。シート状成形体には、接着性シートが含まれる。   The “sheet” is not limited to a thickness or a width, and has a plate shape, and the sheet includes a film. The sheet-like molded body includes an adhesive sheet.

上記エポキシ系樹脂組成物をシート状に成形する方法としては、例えば、押出機を用いて、エポキシ系樹脂組成物を溶融混練し、押出した後、Tダイやサーキュラーダイ等により、フィルム状に成形する押出成形法、エポキシ系樹脂組成物を有機溶剤等の溶媒に溶解又は分散させた後、キャスティングしてフィルム状に成形するキャスティング成形法、又は従来公知のその他のシート成形法等が挙げられる。なかでも、薄型化を進めることができるので、押出成形法又はキャスティング成形法が好ましい。   As a method for forming the epoxy resin composition into a sheet, for example, using an extruder, the epoxy resin composition is melt-kneaded, extruded, and then formed into a film with a T die or a circular die. And an extrusion molding method, a casting molding method in which an epoxy resin composition is dissolved or dispersed in a solvent such as an organic solvent and then cast into a film, or other conventionally known sheet molding methods. Of these, the extrusion molding method or the casting molding method is preferable because the thickness can be reduced.

(プリプレグ)
本発明に係るプリプレグは、上記エポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させることにより形成されている。
(Prepreg)
The prepreg according to the present invention is formed by impregnating a porous base material with the epoxy resin composition.

上記多孔質基材は、上記エポキシ系樹脂組成物を含浸させることができれば、特に限定されない。上記多孔質基材としては、有機繊維又はガラス繊維等が挙げられる。上記有機繊維としては、カーボン繊維、ポリアミド繊維、ポリアラミド繊維又はポリエステル繊維等が挙げられる。また、多孔質基材の形態としては、平織りもしくは綾織りなどの織物の形態、又は不織布の形態等が挙げられる。上記多孔質基材は、ガラス繊維不織布であることが好ましい。   The porous substrate is not particularly limited as long as it can be impregnated with the epoxy resin composition. Examples of the porous substrate include organic fibers or glass fibers. Examples of the organic fiber include carbon fiber, polyamide fiber, polyaramid fiber, and polyester fiber. Moreover, as a form of a porous base material, the form of textiles, such as a plain weave or a twill, or the form of a nonwoven fabric, etc. are mentioned. The porous substrate is preferably a glass fiber nonwoven fabric.

(硬化体)
本発明に係るエポキシ系樹脂組成物、該エポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより形成されたシート状成形体、又は該エポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させることにより形成されたプリプレグを加熱し、予備硬化させた後、粗化処理することにより、硬化体を得ることができる。
(Hardened body)
Formed by impregnating a porous substrate with an epoxy resin composition according to the present invention, a sheet-like molded body formed by molding the epoxy resin composition into a sheet shape, or the epoxy resin composition The cured product can be obtained by heating and pre-curing the prepared prepreg, followed by roughening treatment.

得られた硬化体は、一般に、Bステージと呼ばれる半硬化状態である。「硬化体」には、完全な硬化状態である硬化体だけでなく、半硬化状態にある半硬化体も含まれる。半硬化体とは、完全に硬化していないものである。半硬化体は、硬化がさらに進行され得るものである。   The obtained cured body is generally in a semi-cured state called a B stage. The “cured body” includes not only a completely cured body but also a semi-cured body in a semi-cured state. A semi-cured product is one that is not completely cured. The semi-cured body is one that can be further cured.

本発明に係る硬化体は、具体的には、以下のようにして得られる。   Specifically, the cured body according to the present invention is obtained as follows.

上記エポキシ系樹脂組成物を予備硬化(半硬化)させて、予備硬化物を得る。上記エポキシ系樹脂組成物を反応させる際の加熱温度は特に限定されない。加熱温度の好ましい下限は130℃であり、より好ましい下限は150℃であり、好ましい上限は190℃である。加熱温度が低すぎると、エポキシ系樹脂組成物が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化体の表面粗さが大きくなりやすい。加熱温度が高すぎると、エポキシ系樹脂組成物の硬化反応が急速に進行しやすい。このため、硬化度が部分的に異なりやすく、粗い部分と密な部分とが形成されやすい。この結果、硬化体の表面粗さが大きくなる。   The epoxy resin composition is pre-cured (semi-cured) to obtain a pre-cured product. The heating temperature at the time of making the said epoxy resin composition react is not specifically limited. The minimum with a preferable heating temperature is 130 degreeC, a more preferable minimum is 150 degreeC, and a preferable upper limit is 190 degreeC. If the heating temperature is too low, the epoxy resin composition is not sufficiently cured, so that the surface roughness of the cured body after the roughening treatment tends to increase. If the heating temperature is too high, the curing reaction of the epoxy resin composition tends to proceed rapidly. For this reason, the degree of curing tends to be partially different, and a rough portion and a dense portion are likely to be formed. As a result, the surface roughness of the cured body increases.

上記エポキシ系樹脂組成物を反応させる際の加熱時間は特に限定されない。加熱時間は、30分以上であることが好ましい。加熱時間が30分よりも短いと、エポキシ系樹脂組成物が充分に硬化されないため、粗化処理後の硬化体の表面粗さが大きくなる。加熱時間は、生産性を高めることができるので、1時間以下であることが好ましい。   The heating time for reacting the epoxy resin composition is not particularly limited. The heating time is preferably 30 minutes or more. When the heating time is shorter than 30 minutes, the epoxy resin composition is not sufficiently cured, so that the surface roughness of the cured body after the roughening treatment increases. Since heating time can improve productivity, it is preferable that it is 1 hour or less.

硬化体の表面に微細な凹凸を形成するために、エポキシ系樹脂組成物は予備硬化された後に粗化処理される。エポキシ系樹脂組成物は予備硬化された後、粗化処理される前に、膨潤処理されることが好ましい。ただし、上記膨潤処理は必ずしも行われなくてもよい。   In order to form fine irregularities on the surface of the cured body, the epoxy resin composition is pre-cured and then roughened. The epoxy resin composition is preferably swelled after being precured and before being roughened. However, the swelling treatment is not necessarily performed.

上記膨潤処理方法として、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、上記予備硬化物を処理する方法が用いられる。上記膨潤処理には、40重量%エチレングリコール水溶液が好適に用いられる。   As the swelling treatment method, for example, a method of treating the preliminary-cured product with an aqueous solution or an organic solvent dispersion solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like is used. For the swelling treatment, a 40% by weight ethylene glycol aqueous solution is suitably used.

上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等が用いられる。これらの化学酸化剤は、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。   For the roughening treatment, for example, a chemical oxidizing agent such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfuric acid compound is used. These chemical oxidizers are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after water or an organic solvent is added.

上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム又は過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム又は無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the manganese compound include potassium permanganate and sodium permanganate. Examples of the chromium compound include potassium dichromate and anhydrous potassium chromate. Examples of the persulfate compound include sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate.

上記粗化処理方法は特に限定されない。上記粗化処理には、例えば、30〜90g/L過マンガン酸もしくは過マンガン酸塩溶液、又は30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液が好適に用いられる。   The roughening treatment method is not particularly limited. For the roughening treatment, for example, 30 to 90 g / L permanganic acid or permanganate solution or 30 to 90 g / L sodium hydroxide solution is preferably used.

粗化処理の回数が多いと粗化効果も大きい。しかしながら、粗化処理の回数が3回を超えると、粗化効果が飽和することがあり、又は硬化体の表面の樹脂成分が必要以上に削られて、硬化体の表面にシリカが脱離した形状の孔が形成されにくくなる。このため、粗化処理は、1回又は2回行われることが好ましい。   When the number of roughening treatments is large, the roughening effect is large. However, when the number of roughening treatments exceeds 3, the roughening effect may be saturated, or the resin component on the surface of the cured body is scraped more than necessary, and silica is detached from the surface of the cured body. It becomes difficult to form holes having a shape. For this reason, it is preferable that a roughening process is performed once or twice.

上記予備硬化物は、50〜80℃で5〜30分粗化処理されることが好ましい。上記予備硬化物が上記膨潤処理される場合、上記予備硬化物は、50〜80℃で5〜30分膨潤処理されることが好ましい。粗化処理又は膨潤処理が複数回行われる場合には、上記粗化処理又は膨潤処理の時間は、合計の時間を示す。上記エポキシ系樹脂組成物を予備硬化させた予備硬化物を上記条件で粗化処理又は膨潤処理することにより、硬化体の表面の表面粗さをより一層小さくすることができる。具体的には、粗化処理された表面の算術平均粗さRaが0.3μm以下であり、かつ十点平均粗さRzが3.0μm以下である硬化体をより一層容易に得ることができる。   The preliminary-cured product is preferably roughened at 50 to 80 ° C. for 5 to 30 minutes. When the pre-cured product is subjected to the swelling treatment, the pre-cured product is preferably subjected to a swelling treatment at 50 to 80 ° C. for 5 to 30 minutes. When the roughening treatment or the swelling treatment is performed a plurality of times, the time for the roughening treatment or the swelling treatment indicates the total time. By roughening or swelling the precured product obtained by precuring the epoxy resin composition under the above conditions, the surface roughness of the surface of the cured product can be further reduced. Specifically, a hardened body having an arithmetic average roughness Ra of 0.3 μm or less and a ten-point average roughness Rz of 3.0 μm or less can be obtained more easily. .

図1に、本発明の一実施形態に係る硬化体を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   In FIG. 1, the hardening body which concerns on one Embodiment of this invention is typically shown with a partial notch front sectional drawing.

図1に示すように、硬化体1の表面1aに、球状シリカの脱離により形成された孔1bが形成されている。孔1bは、球状シリカが数個程度、例えば2〜10個程度まとまって脱離した孔であってもよい。   As shown in FIG. 1, holes 1 b formed by detachment of spherical silica are formed on the surface 1 a of the cured body 1. The hole 1b may be a hole in which about several spherical silicas, for example, about 2 to 10 are separated and removed.

上記のようにして得られた硬化体1の粗化処理された表面の算術平均粗さRaは0.3μm以下であり、かつ十点平均粗さRzは3.0μm以下であることが好ましい。上記粗化処理された表面の算術平均粗さRaは、0.2μm以下であることがより好ましい。上記粗化処理された表面の十点平均粗さRzは、2μm以下であることがより好ましい。上記算術平均粗さRaが大きすぎると、硬化体の表面に配線が形成された場合に、該配線における電気信号の伝送速度を高速化できないことがある。上記十点平均粗さRzが大きすぎると、硬化体の表面に配線が形成された場合に、該配線における電気信号の伝送速度を高速化できないことがある。算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzは、ANSI Standard B46.1−1985やJIS B0601−1994に準拠した測定法により求めることができる。   The arithmetic average roughness Ra of the roughened surface of the cured body 1 obtained as described above is preferably 0.3 μm or less, and the ten-point average roughness Rz is preferably 3.0 μm or less. The arithmetic average roughness Ra of the roughened surface is more preferably 0.2 μm or less. The ten-point average roughness Rz of the roughened surface is more preferably 2 μm or less. If the arithmetic average roughness Ra is too large, when the wiring is formed on the surface of the cured body, the transmission speed of the electrical signal in the wiring may not be increased. If the ten-point average roughness Rz is too large, when a wiring is formed on the surface of the cured body, the transmission speed of the electrical signal in the wiring may not be increased. The arithmetic average roughness Ra and the ten-point average roughness Rz can be obtained by a measuring method based on ANSI Standard B46.1-1985 and JIS B0601-1994.

硬化体1の表面に形成された複数の孔の平均径は、5μm以下であることが好ましい。複数の孔の平均径が5μmより大きいと、硬化体の表面にL/Sが小さい配線を形成することが困難なことがあり、かつ形成された配線間が短絡しやすくなる。   The average diameter of the plurality of holes formed on the surface of the cured body 1 is preferably 5 μm or less. When the average diameter of the plurality of holes is larger than 5 μm, it may be difficult to form a wiring having a small L / S on the surface of the cured body, and the formed wirings are easily short-circuited.

硬化体1には、必要に応じて、公知のめっき用触媒を施したり、無電解めっきを施したりした後、電解めっきを施すことができる。これにより、硬化体の表面に金属層としてのめっき層を形成できる。   If necessary, the cured body 1 can be subjected to electroplating after being applied with a known plating catalyst or electroless plating. Thereby, the plating layer as a metal layer can be formed on the surface of the cured body.

図2に、硬化体1の上面1aに、めっき処理により金属層2が形成された状態を示す。図2に示すように、金属層2は、硬化体1の上面1aに形成された微細な孔1b内に至っている。従って、物理的なアンカー効果により、硬化体1と金属層2との接着強度を高めることができる。また、球状シリカの脱離により形成された孔1bの近傍では、樹脂成分が必要以上に多く削られていないため、硬化体1と金属層2との接着強度を高めることができる。   FIG. 2 shows a state in which the metal layer 2 is formed on the upper surface 1a of the cured body 1 by plating. As shown in FIG. 2, the metal layer 2 reaches the fine holes 1 b formed in the upper surface 1 a of the cured body 1. Therefore, the adhesive strength between the cured body 1 and the metal layer 2 can be increased by a physical anchor effect. Further, in the vicinity of the hole 1b formed by the detachment of the spherical silica, the resin component is not removed more than necessary, so that the adhesive strength between the cured body 1 and the metal layer 2 can be increased.

上記球状シリカの平均粒子径が小さいほど、硬化体1の表面に微細な凹凸を形成できる。平均粒子径1μm以下の球状シリカの使用により、孔1bをより一層小さくすることができ、従って硬化体1の表面により一層微細な凹凸を形成できる。このため、回路の配線の微細度合いを示すL/Sを小さくすることができる。   As the average particle diameter of the spherical silica is smaller, fine irregularities can be formed on the surface of the cured body 1. By using spherical silica having an average particle diameter of 1 μm or less, the pores 1b can be further reduced, and therefore finer irregularities can be formed on the surface of the cured body 1. For this reason, L / S which shows the fineness of the wiring of a circuit can be made small.

L/Sが小さい銅等の配線を硬化体1の表面1aに形成した場合には、配線の信号処理速度を高めることができる。例えば、高周波信号が伝達される場合に、硬化体1の表面粗さが小さいので、硬化体1と金属層2との界面での電気信号の損失を小さくすることができる。   When wiring of copper or the like having a small L / S is formed on the surface 1a of the cured body 1, the signal processing speed of the wiring can be increased. For example, when a high-frequency signal is transmitted, since the surface roughness of the cured body 1 is small, the loss of an electrical signal at the interface between the cured body 1 and the metal layer 2 can be reduced.

金属層2を形成する材料として、シールド用もしくは回路形成用などに用いられる金属箔もしくは金属めっき、又は回路保護用に用いるめっき用材料を使用できる。   As a material for forming the metal layer 2, a metal foil or metal plating used for shielding or circuit formation, or a plating material used for circuit protection can be used.

上記めっき材料としては、例えば、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又は錫などが挙げられる。これらの2種類以上の合金を用いてもよく、また、2種類以上のめっき材料により複数層の金属層を形成してもよい。さらに、目的に応じて、めっき材料には、上記金属以外の他の金属又は物質が含有されてもよい。金属層2は、銅めっき処理により形成された銅めっき層であることが好ましい。   Examples of the plating material include gold, silver, copper, rhodium, palladium, nickel, and tin. Two or more kinds of these alloys may be used, and a plurality of metal layers may be formed of two or more kinds of plating materials. Furthermore, depending on the purpose, the plating material may contain other metals or substances other than the above metals. The metal layer 2 is preferably a copper plating layer formed by a copper plating process.

硬化体1と金属層2との接着強度は0.5kgf/cm以上であることが好ましい。硬化体1と金属層2との接着強度は0.7kgf/cm以上であることがより好ましい。   The adhesive strength between the cured body 1 and the metal layer 2 is preferably 0.5 kgf / cm or more. The adhesive strength between the cured body 1 and the metal layer 2 is more preferably 0.7 kgf / cm or more.

また、硬化体1の平均線膨張率α1(23〜150℃)は50ppm/℃以下であることが好ましい。上記平均線膨張率α1は、40ppm/℃以下であることがより好ましい。上記平均線膨張率α1が大きすぎると耐熱衝撃性が低下し、エポキシ系樹脂組成物をプリント基板用材料などに使用した場合、熱サイクル時の膨張及び収縮により基板の割れなどが発生する可能性がある。   Moreover, it is preferable that average linear expansion coefficient (alpha) 1 (23-150 degreeC) of the hardening body 1 is 50 ppm / degrees C or less. The average linear expansion coefficient α1 is more preferably 40 ppm / ° C. or less. If the average linear expansion coefficient α1 is too large, the thermal shock resistance is lowered, and when an epoxy resin composition is used as a printed circuit board material, there is a possibility that the substrate will crack due to expansion and contraction during thermal cycling. There is.

また、硬化体1のガラス転移温度Tgは190℃以上であることが好ましく、220℃以上であることがより好ましい。上記ガラス転移温度が高くなると、耐熱性が向上し、エポキシ系樹脂組成物をプリント基板用材料などに用いた場合、半田リフロー時の寸法安定性の向上、めっき層のふくれの抑制などが期待できる。また、高温時での硬化体の引張強度が向上する。   Moreover, it is preferable that the glass transition temperature Tg of the hardening body 1 is 190 degreeC or more, and it is more preferable that it is 220 degreeC or more. When the glass transition temperature is increased, heat resistance is improved, and when an epoxy resin composition is used as a printed circuit board material, it can be expected to improve dimensional stability during solder reflow and to suppress plating layer swelling. . In addition, the tensile strength of the cured body at high temperatures is improved.

(積層板及び多層積層板)
本発明に係る積層板は、上記シート状成形体を硬化させた硬化体と、該硬化体の少なくとも片面に積層されている金属層とを備える。
(Laminated board and multilayer laminated board)
The laminated board which concerns on this invention is equipped with the hardening body which hardened the said sheet-like molded object, and the metal layer laminated | stacked on the at least single side | surface of this hardening body.

本発明に係る多層積層板は、積層された硬化体と、該硬化体の間に配置された少なくとも1つの金属層とを備える。該硬化体は、上記シート状成形体を硬化させた硬化体である。多層積層板は、最表層の硬化体の外側の表面に積層された金属層をさらに備えていてもよい。   The multilayer laminated board which concerns on this invention is equipped with the laminated | stacked hardening body and the at least 1 metal layer arrange | positioned between this hardening body. The cured body is a cured body obtained by curing the sheet-like molded body. The multilayer laminate may further include a metal layer laminated on the outer surface of the outermost cured body.

上記積層板の硬化体には、少なくとも一部の領域に接着層が配置されていてもよい。また、上記多層積層板の積層された硬化体には、少なくとも一部の領域に接着層が配置されていてもよい。   An adhesive layer may be disposed in at least a part of the cured body of the laminate. Moreover, the adhesive body may be arrange | positioned at least in one part area | region in the hardening body laminated | stacked on the said multilayer laminated board.

上記積層板又は上記多層積層板の金属層は、回路として形成されていることが好ましい。この場合には、硬化体と金属層との接着強度が高いため、回路の信頼性を高めることができる。   The metal layer of the laminate or the multilayer laminate is preferably formed as a circuit. In this case, since the adhesive strength between the cured body and the metal layer is high, the reliability of the circuit can be increased.

硬化体の表面に、金属層として、例えばL/Sが15μm/15μmの配線パターンを形成する場合には、下層パターンに由来する硬化体の表面の凹凸の隣り合う深部と頂部との高さ平均距離が3μm以下であることが好ましく、2.5μm以下であることが好ましく、2.0μm以下であることが好ましい。エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中のマレイミド系化合物の含有量が2〜45重量%の範囲内であるエポキシ系樹脂組成物を用いて上記硬化体を形成することにより、硬化体の表面の凹凸を小さくすることができ、例えば表面の凹凸の深部と頂部との高さ平均距離を3μm以下にすることができる。   For example, when a wiring pattern having an L / S of 15 μm / 15 μm is formed as a metal layer on the surface of the cured body, the average height between adjacent deep portions and top portions of the surface of the cured body derived from the lower layer pattern The distance is preferably 3 μm or less, preferably 2.5 μm or less, and preferably 2.0 μm or less. By forming the cured body using the epoxy resin composition in which the content of the maleimide compound in the solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition is in the range of 2 to 45% by weight, a cured body is obtained. The surface unevenness can be reduced, and for example, the height average distance between the deep part and the top part of the surface unevenness can be 3 μm or less.

図3に本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物を用いた多層積層板を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   FIG. 3 schematically shows a multilayer laminate using the epoxy resin composition according to one embodiment of the present invention in a partially cutaway front sectional view.

図3に示す多層積層板11では、基板12の上面12aに、複数の硬化体13〜16が積層されている。最上層の硬化体16以外の硬化体13〜15には、上面の一部の領域に金属層17が形成されている。すなわち、積層された硬化体13〜16の各層間に、金属層17がそれぞれ配置されている。下方の金属層17と上方の金属層17とは、図示しないビアホール接続及びスルーホール接続の内の少なくとも一方により互いに接続されている。   In the multilayer laminated plate 11 shown in FIG. 3, a plurality of cured bodies 13 to 16 are laminated on the upper surface 12 a of the substrate 12. In the cured bodies 13 to 15 other than the uppermost cured body 16, a metal layer 17 is formed in a partial region of the upper surface. That is, the metal layer 17 is arrange | positioned between each layer of the laminated | stacked hardening bodies 13-16, respectively. The lower metal layer 17 and the upper metal layer 17 are connected to each other by at least one of via hole connection and through hole connection (not shown).

多層積層板11では、硬化体13〜16が、本発明の一実施形態に係るエポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより得られたシート状成形体を、硬化させることにより形成されている。このため、硬化体13〜16の表面には、図示しない微細な孔が形成されている。また、微細な孔の内部に金属層17が至っている。従って、硬化体13〜16と金属層17との接着強度を高めることができる。また、多層積層板11では、金属層17の幅方向寸法(L)と、金属層17が形成されていない部分の幅方向寸法(S)とを小さくすることができる。   In the multilayer laminate 11, the cured bodies 13 to 16 are formed by curing a sheet-like molded body obtained by molding the epoxy resin composition according to one embodiment of the present invention into a sheet shape. Yes. For this reason, fine holes (not shown) are formed on the surfaces of the cured bodies 13 to 16. Further, the metal layer 17 reaches the inside of the fine hole. Therefore, the adhesive strength between the cured bodies 13 to 16 and the metal layer 17 can be increased. Moreover, in the multilayer laminated board 11, the width direction dimension (L) of the metal layer 17 and the width direction dimension (S) of the part in which the metal layer 17 is not formed can be made small.

なお、搬送の補助、ごみの付着又は傷の防止等を目的として、上述したシート状成形体又は積層板の表面には、フィルムが積層されてもよい。   In addition, a film may be laminated | stacked on the surface of the sheet-like molded object or laminated board mentioned above for the purpose of conveyance assistance, prevention of adhesion of a refuse, or a damage | wound.

上記フィルムとしては、樹脂コート紙、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリブチレンテレフタレート(PBT)フィルム又はポリプロピレン(PP)フィルム等が挙げられる。これらのフィルムは、必要に応じて、離型性を高めるために離型処理されていてもよい。   Examples of the film include resin-coated paper, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polybutylene terephthalate (PBT) film, and polypropylene (PP) film. These films may be subjected to a release treatment in order to improve the release properties as necessary.

上記離型処理の方法としては、シリコン系化合物、フッ素系化合物もしくは界面活性剤等を上記フィルム中に含有させる方法、上記フィルムの表面に凹凸を付与する方法、又はシリコン系化合物、フッ素系化合物もしくは界面活性剤等の離型性を有する物質を上記フィルムの表面に塗布する方法等が挙げられる。上記フィルムの表面に凹凸を付与する方法としては、上記フィルムの表面にエンボス加工などを施す方法等が挙げられる。   As a method for the release treatment, a method for containing a silicon compound, a fluorine compound or a surfactant in the film, a method for imparting irregularities to the surface of the film, a silicon compound, a fluorine compound or Examples thereof include a method of applying a releasable substance such as a surfactant to the surface of the film. Examples of a method for providing irregularities on the surface of the film include a method of embossing the surface of the film.

上記フィルムを保護するために、樹脂コート紙、ポリエステルフィルム、PETフィルム、PPフィルムなどの保護フィルムが上記フィルムに積層されていてもよい。   In order to protect the film, a protective film such as a resin-coated paper, a polyester film, a PET film, or a PP film may be laminated on the film.

以下、実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by giving examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

実施例及び比較例では、以下に示す材料を用いた。   In the examples and comparative examples, the following materials were used.

(エポキシ系樹脂)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂1(DIC社製、商品名「850S」、液状エポキシ樹脂)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂2(JER社製、商品名「828US」、液状エポキシ樹脂)
アントラセン型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YX8800」、固型エポキシ樹脂)
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(DIC社製、商品名「830−S」、液状エポキシ樹脂)
(Epoxy resin)
Bisphenol A type epoxy resin 1 (manufactured by DIC, trade name “850S”, liquid epoxy resin)
Bisphenol A type epoxy resin 2 (trade name “828US”, liquid epoxy resin, manufactured by JER)
Anthracene type epoxy resin (made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “YX8800”, solid type epoxy resin)
Bisphenol F type epoxy resin (manufactured by DIC, trade name “830-S”, liquid epoxy resin)

(硬化剤)
ビフェニル構造を有するフェノール系硬化剤(明和化成社製、商品名「MEH7851−4H」、上記式(7)で表されるフェノール化合物に相当する)
アミノトリアジン構造を有するフェノール系硬化剤(DIC社製、商品名「LA−1356」、固形分60重量%MEK(メチルエチルケトン)溶液)
(Curing agent)
A phenolic curing agent having a biphenyl structure (Madewa Kasei Co., Ltd., trade name “MEH7851-4H”, corresponding to the phenol compound represented by the above formula (7))
Phenolic curing agent having aminotriazine structure (manufactured by DIC, trade name “LA-1356”, solid content 60 wt% MEK (methyl ethyl ketone) solution)

(硬化促進剤)
イミダゾール系硬化促進剤(四国化成工業社製、商品名「2PZ−CN」、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール)
パーオキサイド系硬化促進剤(化薬アクゾ社製、商品名「PERKADOX BC−FF」、ジクミルパーオキサイド)
(Curing accelerator)
Imidazole-based curing accelerator (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “2PZ-CN”, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole)
Peroxide curing accelerator (trade name “PERKADOX BC-FF”, dicumyl peroxide, manufactured by Kayaku Akzo)

(マレイミド系化合物)
ポリフェニルメタンマレイミド(大和化成社製、商品名「BMI−2300」、上記式(11)で表されるマレイミド系化合物の混合物に相当し、該混合物の上記式(11)中のxの平均値が0.2〜0.3)
(Maleimide compound)
Polyphenylmethane maleimide (trade name “BMI-2300”, manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd.), which corresponds to a mixture of maleimide compounds represented by the above formula (11), and an average value of x in the above formula (11) of the mixture 0.2-0.3)

ビスマレイミドオリゴマー(大和化成社製、商品名「DAIMAID−100H」、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミドと4,4−ジアミノジフェニルメタンとの縮合物)
ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン(大和化成社製、商品名「BMI−5100」)
Bismaleimide oligomer (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd., trade name “DAIMAID-100H”, condensate of N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide and 4,4-diaminodiphenylmethane)
Bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd., trade name “BMI-5100”)

(シリカスラリー)
球状シリカ50重量%含有スラリー1:
球状シリカ(平均粒子径0.3μm、BET法での比表面積18m/g)50重量%と、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)50重量%とを含む球状シリカ50重量%含有スラリー
(Silica slurry)
Slurry containing 50% by weight of spherical silica 1:
A slurry containing 50% by weight of spherical silica (average particle size 0.3 μm, specific surface area 18 m 2 / g by BET method) and 50% by weight of DMF (N, N-dimethylformamide)

球状シリカ50重量%含有スラリー2:
エポキシシラン(KBM−403、信越シリコーン社製)で表面処理された球状シリカ(平均粒子径0.3μm、BET法での比表面積18m/g)50重量%と、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)50重量%とを含む球状シリカ50重量%含有スラリー
Slurry 2 containing 50% by weight of spherical silica:
50% by weight of spherical silica (average particle size 0.3 μm, specific surface area 18 m 2 / g by BET method) surface-treated with epoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Silicone) and DMF (N, N-dimethyl) 50% by weight of spherical silica containing 50% by weight of formamide)

(溶剤)
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF、特級、和光純薬社製)
(solvent)
N, N-dimethylformamide (DMF, special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

(フェノキシ樹脂)
変性ビフェノール骨格含有フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、商品名「YX6954BH30」、固形分30重量%、溶剤はMEK(メチルエチルケトン)とシクロヘキサノンとの混合溶剤)
(Phenoxy resin)
Modified biphenol skeleton-containing phenoxy resin (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “YX6954BH30”, solid content 30% by weight, solvent is a mixed solvent of MEK (methyl ethyl ketone) and cyclohexanone)

(実施例1)
上記球状シリカ50重量%含有スラリー1を248重量部と、DMF151重量部とを混合し、均一な溶液となるまで、常温で攪拌した。その後、上記イミダゾール系硬化促進剤(四国化成工業社製、商品名「2PZ−CN」)1重量部をさらに添加し、均一な溶液となるまで、常温で攪拌した。
Example 1
248 parts by weight of the slurry 1 containing 50% by weight of spherical silica and 151 parts by weight of DMF were mixed and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained. Thereafter, 1 part by weight of the above imidazole-based curing accelerator (trade name “2PZ-CN”, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was further added and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained.

次に、エポキシ系樹脂としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂1(DIC社製、商品名「850S」)100重量部を添加し、均一な溶液となるまで常温で攪拌し、溶液を得た。得られた溶液に、硬化剤としてのビフェニル構造を有するフェノール系硬化剤(明和化成社製、商品名「MEH7851−4H」)106重量部と、マレイミド系化合物としてのポリフェニルメタンマレイミド(大和化成社製、商品名「BMI−2300」)83重量部とを添加し、均一な溶液となるまで常温で攪拌して、エポキシ系樹脂組成物を調製した。   Next, 100 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin 1 (trade name “850S”, manufactured by DIC Corporation) as an epoxy resin was added and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained. In the obtained solution, 106 parts by weight of a phenolic curing agent having a biphenyl structure as a curing agent (trade name “MEH7851-4H” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) and polyphenylmethanemaleimide (Daiwa Kasei Co., Ltd.) as a maleimide compound (Trade name “BMI-2300”) was added in an amount of 83 parts by weight, and the mixture was stirred at room temperature until a uniform solution was obtained, to prepare an epoxy resin composition.

(実施例2〜7及び比較例1〜4)
使用した材料の種類及び配合量を下記の表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ系樹脂組成物を調製した。
(Examples 2-7 and Comparative Examples 1-4)
An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and blending amount of the materials used were changed as shown in Table 1 below.

(実施例1〜7及び比較例1〜4の評価)
(シート状成形体の作製)
離型処理された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名「PET5011 550」、厚み50μm、リンテック社製)を用意した。用意されたPETフィルム上にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが40μmとなるように、得られたエポキシ系樹脂組成物を塗工した。次に、100℃のギアオーブン内で2分間乾燥することにより、縦200mm×横200mm×厚み40μmの大きさの未硬化物であるシート状成形体を作製した。
(Evaluation of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-4)
(Preparation of sheet-like molded product)
A release-treated transparent polyethylene terephthalate (PET) film (trade name “PET5011 550”, thickness 50 μm, manufactured by Lintec Corporation) was prepared. The obtained epoxy resin composition was applied onto the prepared PET film using an applicator so that the thickness after drying was 40 μm. Next, by drying in a gear oven at 100 ° C. for 2 minutes, a sheet-like molded body having an uncured size of 200 mm in length, 200 mm in width, and 40 μm in thickness was produced.

(硬化体Aの作製)
得られた上記シート状成形体を、ガラスエポキシ基板(FR−4、品番「CS−3665」、利昌工業社製)に真空ラミネートし、170℃のギアオーブン内で1時間加熱して、予備硬化させた。このようにして、ガラスエポキシ基板上に予備硬化物を形成し、ガラスエポキシ基板と予備硬化物との積層サンプルを得た。その後、下記の膨潤処理をした後、下記の粗化処理(過マンガン酸塩処理)をした。
(Preparation of cured product A)
The obtained sheet-like molded body was vacuum-laminated on a glass epoxy substrate (FR-4, product number “CS-3665”, manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd.) and heated in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour to be precured. I let you. In this way, a precured material was formed on the glass epoxy substrate, and a laminated sample of the glass epoxy substrate and the precured material was obtained. Then, after the following swelling treatment, the following roughening treatment (permanganate treatment) was performed.

膨潤処理:
80℃の膨潤液(スウェリングディップセキュリガントP、アトテックジャパン社製)に、上記積層サンプルを入れて、膨潤温度80℃で20分間揺動させた。その後、純水で洗浄した。
Swelling treatment:
The above laminated sample was put in a swelling liquid (Swelling Dip Securigant P, manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.) at 80 ° C. and rocked at a swelling temperature of 80 ° C. for 20 minutes. Thereafter, it was washed with pure water.

粗化処理(過マンガン酸塩処理):
80℃の過マンガン酸カリウム(コンセントレートコンパクトCP、アトテックジャパン社製)粗化水溶液に、膨潤処理された上記積層サンプルを入れて、粗化温度80℃で20分間揺動させた。その後、25℃の洗浄液(リダクションセキュリガントP、アトテックジャパン社製)により10分間洗浄した後、純水でさらに洗浄した。このようにして、ガラスエポキシ基板上に、粗化処理された硬化体Aを形成した。
Roughening treatment (permanganate treatment):
The above-mentioned layered sample that had been swollen was placed in a roughened aqueous solution of potassium permanganate (Concentrate Compact CP, manufactured by Atotech Japan) at 80 ° C. and rocked at a roughening temperature of 80 ° C. for 20 minutes. Then, after washing | cleaning for 10 minutes with the washing | cleaning liquid (Reduction securigant P, Atotech Japan company make) of 25 degreeC, it wash | cleaned further with the pure water. In this way, a roughened cured body A was formed on the glass epoxy substrate.

(積層体の作製)
上記粗化処理の後に、下記の銅めっき処理をした。
(Production of laminate)
After the roughening treatment, the following copper plating treatment was performed.

銅めっき処理:
ガラスエポキシ基板上に形成された硬化体Aに、以下の手順で無電解銅めっき及び電解銅めっき処理を施した。
Copper plating treatment:
The cured body A formed on the glass epoxy substrate was subjected to electroless copper plating and electrolytic copper plating in the following procedure.

粗化処理された硬化体Aの表面を、60℃のアルカリクリーナ(クリーナーセキュリガント902)で5分間処理し、脱脂洗浄した。洗浄後、上記硬化体を25℃のプリディップ液(プリディップネオガントB)で2分間処理した。その後、上記硬化体を40℃のアクチベーター液(アクチベーターネオガント834)で5分間処理し、パラジウム触媒を付けた。次に、30℃の還元液(リデューサーネオガントWA)により、硬化体を5分間処理した。   The surface of the roughened cured body A was treated with an alkali cleaner (cleaner securigant 902) at 60 ° C. for 5 minutes and degreased and washed. After washing, the cured body was treated with a 25 ° C. pre-dip solution (Pre-dip Neogant B) for 2 minutes. Thereafter, the cured product was treated with an activator solution (activator neogant 834) at 40 ° C. for 5 minutes to attach a palladium catalyst. Next, the cured body was treated with a reducing solution (reducer Neogant WA) at 30 ° C. for 5 minutes.

次に、上記硬化体を化学銅液(ベーシックプリントガントMSK−DK、カッパープリントガントMSK、スタビライザープリントガントMSK)に入れ、無電解めっきをめっき厚さが0.5μm程度になるまで実施した。無電解めっき後に、残留している水素ガスを除去するため、120℃の温度で30分間アニールをかけた。無電解めっきの工程までのすべての工程は、ビーカースケールで処理液を1Lとし、硬化体を揺動させながら実施した。   Next, the cured body was placed in a chemical copper solution (basic print gantt MSK-DK, copper print gantt MSK, stabilizer print gantt MSK), and electroless plating was performed until the plating thickness reached about 0.5 μm. After the electroless plating, annealing was performed at a temperature of 120 ° C. for 30 minutes in order to remove the remaining hydrogen gas. All the steps up to the electroless plating step were performed while using a beaker scale with a treatment liquid of 1 L and rocking the cured body.

次に、無電解めっき処理された硬化体に、電解めっきをめっき厚さが25μmとなるまで実施した。電気銅めっきとして硫酸銅(リデューサーCu)を用いて、0.6A/cmの電流を流した。銅めっき処理後、硬化体を180℃で1時間加熱し、硬化体をさらに硬化させた。このようにして、硬化体上に銅めっき層が形成された積層体を得た。 Next, electrolytic plating was performed on the cured body subjected to the electroless plating treatment until the plating thickness became 25 μm. An electric current of 0.6 A / cm 2 was passed using copper sulfate (reducer Cu) as the electrolytic copper plating. After the copper plating treatment, the cured body was heated at 180 ° C. for 1 hour to further cure the cured body. Thus, the laminated body in which the copper plating layer was formed on the hardening body was obtained.

(硬化体Bの作製)
得られた上記シート状成形体を170℃のギアオーブン内で1時間加熱した後、180℃のギアオーブン内で1時間加熱し、硬化させて、硬化体Bを得た。
(Preparation of cured product B)
The obtained sheet-like molded body was heated in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour, then heated in a gear oven at 180 ° C. for 1 hour and cured to obtain a cured body B.

(1)誘電率及び誘電正接
得られた上記硬化体Bを15mm×15mmの大きさに裁断した。裁断された硬化体を8枚重ね合わせて、厚み320μmの積層物を得た。誘電率測定装置(品番「HP4291B」、HEWLETT PACKARD社製)を用いて、周波数1GHzにおける常温(23℃)での積層物の誘電率及び誘電正接を測定した。
(1) Dielectric constant and dielectric loss tangent The obtained cured body B was cut into a size of 15 mm × 15 mm. Eight pieces of the cured body cut were overlapped to obtain a laminate having a thickness of 320 μm. The dielectric constant and dielectric loss tangent of the laminate at room temperature (23 ° C.) at a frequency of 1 GHz were measured using a dielectric constant measuring device (product number “HP4291B”, manufactured by HEWLETT PACKARD).

(2)平均線膨張率
得られた上記硬化体Bを、3mm×25mmの大きさに裁断した。線膨張率計(品番「TMA/SS120C」、セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、引張り荷重2.94×10−2N、昇温速度5℃/分の条件で、裁断された硬化体の23〜150℃における平均線膨張率(α1)、及び150〜240℃における平均線膨張率(α2)を測定した。
(2) Average linear expansion coefficient The obtained cured body B was cut into a size of 3 mm × 25 mm. Using linear expansion meter (manufactured by part number "TMA / SS120C", Seiko Instruments Inc.), tensile load 2.94 × 10 -2 N, at a Atsushi Nobori rate of 5 ° C. / min conditions, the shredded cured body 23 The average linear expansion coefficient (α1) at ˜150 ° C. and the average linear expansion coefficient (α2) at 150-240 ° C. were measured.

(3)ガラス転移温度(Tg)
得られた上記硬化体Bを5mm×3mmの大きさに裁断した。粘弾性スペクトロレオメーター(品番「RSA−II」、レオメトリック・サイエンティフィックエフ・イー社製)を用いて、昇温速度5℃/分の条件で、30から250℃まで裁断された硬化体の損失率tanδを測定し、損失率tanδが最大値になる温度(ガラス転移温度Tg)を求めた。
(3) Glass transition temperature (Tg)
The obtained cured body B was cut into a size of 5 mm × 3 mm. Cured body cut from 30 to 250 ° C. at a temperature rising rate of 5 ° C./min using a viscoelastic spectro rheometer (Part No. “RSA-II”, manufactured by Rheometric Scientific F.E.) The loss rate tan δ was measured, and the temperature at which the loss rate tan δ reached the maximum value (glass transition temperature Tg) was determined.

(4)破断強度及び破断点伸度
得られた上記硬化体Bを10mm×80mmの大きさに裁断した。裁断された硬化体を2つ積層し、厚み80μmの試験サンプルを得た。引張試験機(商品名「テンシロン」、オリエンテック社製)を用いて、チャック間距離60mm、クロスヘッド速度5mm/分の条件で引張試験を行い、試験サンプルの破断強度(MPa)及び破断点伸度(%)を測定した。
(4) Breaking strength and elongation at break The obtained cured product B was cut into a size of 10 mm × 80 mm. Two cured bodies cut were laminated to obtain a test sample having a thickness of 80 μm. Using a tensile tester (trade name “Tensilon”, manufactured by Orientec Co., Ltd.), a tensile test was performed under the conditions of a distance between chucks of 60 mm and a crosshead speed of 5 mm / min. The degree (%) was measured.

(5)粗化接着強度
得られた上記積層体の銅めっき層の表面に、10mm幅に切り欠きを入れた。その後、引張試験機(商品名「オートグラフ」、島津製作所社製)を用いて、クロスヘッド速度5mm/分の条件で、硬化体と銅めっき層との接着強度を測定した。得られた測定値を粗化接着強度とした。
(5) Roughening adhesive strength A notch with a width of 10 mm was formed on the surface of the copper plating layer of the obtained laminate. Thereafter, using a tensile tester (trade name “Autograph”, manufactured by Shimadzu Corporation), the adhesive strength between the cured body and the copper plating layer was measured under the condition of a crosshead speed of 5 mm / min. The obtained measured value was defined as roughened adhesive strength.

(6)表面粗さ(算術平均粗さRa及び十点平均粗さRz)
非接触3次元表面形状測定装置(品番「WYKO NT1100」、Veeco社製)を用いて、94μm×123μmの測定領域における粗化処理された上記硬化体Aの表面の算術平均粗さRa及び十点平均粗さRzを測定した。
(6) Surface roughness (arithmetic average roughness Ra and ten-point average roughness Rz)
Arithmetic average roughness Ra and ten points of the surface of the cured body A subjected to the roughening treatment in a measuring region of 94 μm × 123 μm using a non-contact three-dimensional surface shape measuring device (product number “WYKO NT1100”, manufactured by Veeco). The average roughness Rz was measured.

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

(実施例8)
上記球状シリカ50重量%含有スラリー2を36重量部と、DMF22重量部とを混合し、均一な溶液となるまで、常温で攪拌した。その後、上記イミダゾール系硬化促進剤(四国化成工業社製、商品名「2PZ−CN」)0.2重量部及びパーオキサイド系硬化促進剤(化薬アクゾ社製、商品名「PERKADOX BC−FF」)0.2重量部をさらに添加し、均一な溶液となるまで、常温で攪拌した。
(Example 8)
36 parts by weight of the slurry 2 containing 50% by weight of spherical silica and 22 parts by weight of DMF were mixed and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained. Then, 0.2 parts by weight of the imidazole-based curing accelerator (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “2PZ-CN”) and a peroxide-based curing accelerator (made by Kayaku Akzo, trade name “PERKADOX BC-FF”). ) 0.2 part by weight was further added and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained.

次に、エポキシ系樹脂としてのビスフェノールA型エポキシ樹脂2(JER社製、商品名「828US」)7.4重量部及びビスフェノールF型エポキシ樹脂(DIC社製、商品名「830−S」)6.8重量部とを添加し、均一な溶液となるまで常温で攪拌し、溶液を得た。得られた溶液に、硬化剤としてのビフェニル構造を有するフェノール系硬化剤(明和化成社製、商品名「MEH7851−4H」)15.6重量部と、マレイミド系化合物としてのポリフェニルメタンマレイミド(大和化成社製、商品名「BMI−2300」)12重量部とを添加し、均一な溶液となるまで常温で攪拌して、エポキシ系樹脂組成物を調製した。   Next, 7.4 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin 2 (trade name “828US” manufactured by JER Co.) as an epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin (trade name “830-S” manufactured by DIC) 6 And 8 parts by weight were added and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained. In the obtained solution, 15.6 parts by weight of a phenolic curing agent having a biphenyl structure as a curing agent (trade name “MEH7851-4H” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) and polyphenylmethanemaleimide (Yamato as a maleimide compound) 12 parts by weight of Kasei Co., Ltd., trade name “BMI-2300”) was added and stirred at room temperature until a uniform solution was obtained, to prepare an epoxy resin composition.

(実施例9〜14及び比較例5〜8)
使用した材料の種類及び配合量を下記の表2に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、エポキシ系樹脂組成物を調製した。
(Examples 9-14 and Comparative Examples 5-8)
An epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and blending amount of the materials used were changed as shown in Table 2 below.

(実施例8〜14及び比較例5〜8の評価)
(シート状成形体の作製)
実施例1〜7及び比較例1〜4と同様にして、積層体を得た。
(Evaluation of Examples 8 to 14 and Comparative Examples 5 to 8)
(Preparation of sheet-like molded product)
In the same manner as in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, laminates were obtained.

(硬化体Aの作製)
膨潤処理の条件を、膨潤温度80℃で20分間から膨潤温度80℃で15分間に変更したこと、並びに粗化処理の条件を、粗化温度80℃で20分間から粗化温度80℃で15分間に変更したこと以外は、実施例1〜7及び比較例1〜4と同様にして、硬化体Aを形成した。
(Preparation of cured product A)
The swelling treatment conditions were changed from a swelling temperature of 80 ° C. for 20 minutes to a swelling temperature of 80 ° C. for 15 minutes, and the roughening treatment conditions were changed from a roughening temperature of 80 ° C. for 20 minutes to a roughening temperature of 80 ° C. for 15 minutes. Except having changed into minutes, the hardening body A was formed like Example 1-7 and Comparative Examples 1-4.

(積層体の作製)
実施例1〜7及び比較例1〜4と同様にして、積層体を得た。
(Production of laminate)
In the same manner as in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, laminates were obtained.

(硬化体Bの作製)
得られた上記シート状成形体を170℃のギアオーブン内で1時間加熱した後、180℃のギアオーブン内で3時間加熱し、硬化させて、硬化体Bを得た。
(Preparation of cured product B)
The obtained sheet-like molded body was heated in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour, then heated in a gear oven at 180 ° C. for 3 hours and cured to obtain a cured body B.

実施例1〜7及び比較例1〜4の評価と同様に、上記評価項目(1)〜(6)について評価を実施した。さらに、下記の評価項目(7)及び(8)についても評価を実施した。   Similar to the evaluation of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, the evaluation items (1) to (6) were evaluated. Furthermore, the following evaluation items (7) and (8) were also evaluated.

(7)表面の凹凸
片面銅張積層板(品番「CS−3282」、銅箔厚さ30μm、利昌工業社製)に、公知の方法により、フォトレジストを塗布し、露光し、現像して、幅100μm、高さ25μm及び長さ10mmの銅配線が100μm間隔で平行に20本並んだパターンを形成した。この積層板上に、得られた未硬化物である上記シート状成形体を真空ラミネートし、170℃のギアオーブン内で1時間加熱して硬化させ、積層板と硬化物層との積層体を得た。得られた積層体の硬化物層の上面を下層の銅配線を横断するように計測し、凹凸の深部と頂部との高さを、表面粗さ計(商品名「SJ−301」、ミツトヨ社製)により測定した。1つの凹部と隣り合う凹部において、その差が大きいほうを採用し、19点の差を求め、その平均値を表面の凹凸とした。
(7) Surface unevenness A single-sided copper clad laminate (product number “CS-3282”, copper foil thickness 30 μm, manufactured by Risho Kogyo Co., Ltd.) is coated with a photoresist by a known method, exposed, developed, A pattern was formed in which 20 copper wirings having a width of 100 μm, a height of 25 μm, and a length of 10 mm were arranged in parallel at intervals of 100 μm. The sheet-like molded body, which is an uncured product obtained, is vacuum-laminated on this laminated board and cured by heating in a gear oven at 170 ° C. for 1 hour to obtain a laminated body of the laminated board and the cured product layer. Obtained. The upper surface of the cured product layer of the obtained laminate was measured so as to cross the lower copper wiring, and the height between the deep part and the top part of the unevenness was measured with a surface roughness meter (trade name “SJ-301”, Mitutoyo Corporation). Manufactured). In the concave portion adjacent to one concave portion, the one having the larger difference was adopted, the difference of 19 points was obtained, and the average value was defined as the surface unevenness.

(8)ハンドリング
得られた未硬化物である上記シート状成形体を24℃及び相対湿度60%の恒温恒湿条件で1時間保管した。その後、上記シート状成形体にNTカッター(L刃、0.45mm)で切り込みを入れた。そのときに、切り屑が発生した場合を「×」、切り屑が発生しなかった場合を「○」としてハンドリングを評価した。
(8) Handling The obtained sheet-like molded product, which was an uncured product, was stored for 1 hour under constant temperature and humidity conditions of 24 ° C. and a relative humidity of 60%. Thereafter, the sheet-like molded body was cut with an NT cutter (L blade, 0.45 mm). At that time, the handling was evaluated as “×” when the chips were generated and “◯” when the chips were not generated.

結果を下記の表2に示す。   The results are shown in Table 2 below.

Figure 2010100802
Figure 2010100802

1…硬化体
1a…上面
1b…孔
2…金属層
11…多層積層板
12…基板
12a…上面
13〜16…硬化体
17…金属層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hardened body 1a ... Upper surface 1b ... Hole 2 ... Metal layer 11 ... Multilayer laminated board 12 ... Substrate 12a ... Upper surface 13-16 ... Hardened body 17 ... Metal layer

Claims (16)

エポキシ系樹脂と、硬化剤と、シリカと、マレイミド系化合物とを含有し、
前記エポキシ系樹脂と前記硬化剤との合計100重量部に対して、前記マレイミド系化合物を2〜200重量部の範囲内で含み、
エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、前記シリカを5〜50重量%の範囲内で含む、エポキシ系樹脂組成物。
Contains an epoxy resin, a curing agent, silica, and a maleimide compound,
The maleimide compound is included in a range of 2 to 200 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the epoxy resin and the curing agent,
The epoxy resin composition which contains the said silica in the range of 5 to 50 weight% in 100 weight% of solid content in an epoxy resin composition.
前記エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、前記マレイミド系化合物を2〜45重量%の範囲内で含む、請求項1に記載のエポキシ系樹脂組成物。   2. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the maleimide compound is contained within a range of 2 to 45 wt% in a solid content of 100 wt% in the epoxy resin composition. 前記マレイミド系化合物が、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−1,3−フェニレンジマレイミド、N,N’−1,4−フェニレンジマレイミド、1,2−ビス(マレイミド)エタン、1,6−ビスマレイミドヘキサン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ポリフェニルメタンマレイミド、ビスフェノールAジフェニルエーテルビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン及びこれらのオリゴマー、並びにマレイミド骨格含有ジアミン縮合物からなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1または2に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The maleimide compound is N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N′-1,3-phenylene dimaleimide, N, N′-1,4-phenylene dimaleimide, 1,2-bis. (Maleimide) ethane, 1,6-bismaleimide hexane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, polyphenylmethanemaleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylene The at least one selected from the group consisting of bismaleimide, 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane and oligomers thereof, and a maleimide skeleton-containing diamine condensate. The epoxy resin composition described in 1. 前記マレイミド系化合物が、下記式(11)で表されるマレイミド系化合物である、請求項1〜3のいずれか1項のエポキシ系樹脂組成物。
Figure 2010100802
前記式(11)中、R11〜R13は、水素原子、ハロゲン原子又は有機基を示し、xは0〜1の範囲内の数を表す。
The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the maleimide compound is a maleimide compound represented by the following formula (11).
Figure 2010100802
In said formula (11), R11-R13 shows a hydrogen atom, a halogen atom, or an organic group, and x represents the number within the range of 0-1.
前記マレイミド系化合物が、前記式(11)で表されるマレイミド系化合物の混合物であって、該混合物の前記式(11)中のxの平均値が0.1〜0.5の範囲内にある、請求項4に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The maleimide compound is a mixture of maleimide compounds represented by the formula (11), and the average value of x in the formula (11) of the mixture is within a range of 0.1 to 0.5. The epoxy resin composition according to claim 4, wherein エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、前記マレイミド系化合物と前記シリカとを合計で35〜70重量%の範囲内で含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The solid content in the epoxy resin composition is 100% by weight, and the maleimide compound and the silica are contained within a total range of 35 to 70% by weight according to any one of claims 1 to 5. Epoxy resin composition. 前記硬化剤が、ナフタレン構造を有するフェノール化合物、ジシクロペンタジエン構造を有するフェノール化合物、ビフェニル構造を有するフェノール化合物及びアミノトリアジン構造を有するフェノール化合物からなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The curing agent is at least one selected from the group consisting of a phenol compound having a naphthalene structure, a phenol compound having a dicyclopentadiene structure, a phenol compound having a biphenyl structure, and a phenol compound having an aminotriazine structure. The epoxy resin composition according to any one of 1 to 6. 前記エポキシ系樹脂が、アントラセン骨格を有するエポキシ系樹脂、ナフタレン骨格を有するエポキシ系樹脂、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ系樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ系樹脂、トリアジン骨格を有するエポキシ系樹脂、ビスフェノールA型エポキシ系樹脂、ビスフェノールF型エポキシ系樹脂及びビスフェノールS型エポキシ系樹脂からなる群から選択された少なくとも1種である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin is an epoxy resin having an anthracene skeleton, an epoxy resin having a naphthalene skeleton, an epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton, an epoxy resin having an adamantane skeleton, an epoxy resin having a triazine skeleton, bisphenol A The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 7, which is at least one selected from the group consisting of a type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, and a bisphenol S type epoxy resin. エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、液状エポキシ系樹脂を20〜50重量%の範囲内で含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 8, comprising a liquid epoxy resin within a range of 20 to 50% by weight in a solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition. エポキシ系樹脂組成物中の固形分100重量%中に、フェノキシ樹脂を1〜10重量%の範囲内でさらに含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物。   The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 9, further comprising a phenoxy resin in a range of 1 to 10% by weight in a solid content of 100% by weight in the epoxy resin composition. 請求項1〜10のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより形成されたシート状成形体。   The sheet-like molded object formed by shape | molding the epoxy resin composition of any one of Claims 1-10 in a sheet form. 請求項1〜10のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させることにより形成されたプリプレグ。   A prepreg formed by impregnating a porous substrate with the epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 10. 請求項1〜10のいずれか1項に記載のエポキシ系樹脂組成物、該エポキシ系樹脂組成物をシート状に成形することにより形成されたシート状成形体、又は該エポキシ系樹脂組成物を多孔質基材に含浸させることにより形成されたプリプレグを加熱し、予備硬化させた後、粗化処理されている硬化体であって、
粗化処理された表面の算術平均粗さRaが0.3μm以下、十点平均粗さRzが3.0μm以下である、硬化体。
The epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 10, a sheet-like molded body formed by molding the epoxy resin composition into a sheet, or the porous epoxy resin composition The prepreg formed by impregnating the porous substrate is heated, precured, and then a cured body that is roughened,
A cured body having an arithmetic average roughness Ra of 0.3 μm or less and a ten-point average roughness Rz of 3.0 μm or less on the roughened surface.
請求項11に記載のシート状成形体を硬化させた硬化体と、該硬化体の少なくとも片面に積層されている金属層とを備える、積層板。   A laminate comprising: a cured body obtained by curing the sheet-like molded body according to claim 11; and a metal layer laminated on at least one surface of the cured body. 前記金属層が回路として形成されている、請求項14に記載の積層板。   The laminate according to claim 14, wherein the metal layer is formed as a circuit. 積層された硬化体と、該硬化体の間に配置された金属層とを備え、
前記硬化体が、請求項11に記載のシート状成形体を硬化させた硬化体である、多層積層板。
A laminated cured body, and a metal layer disposed between the cured bodies,
The multilayer laminated board whose said hardening body is a hardening body which hardened the sheet-like molded object of Claim 11.
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