JP2010091780A - 光源装置及びこれを備えた光走査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】副走査方向におけるビーム間隔の調整を高精度に行うことができる光源装置及びこれを備えた光走査装置を提供する。
【解決手段】光走査装置に用いられる光源装置1。LDは、複数のビームを放射する。光源ホルダ10は、LDが取り付けられる。ブロック8は、光源ホルダ10を保持し、LDの光軸が延在する方向(x軸方向)から平面視したときに、LDと重ならない位置にある回転軸12を中心としてハウジング2に対して回転可能に取り付けられている。回転軸12は、x軸方向に延在している。
【選択図】図2
【解決手段】光走査装置に用いられる光源装置1。LDは、複数のビームを放射する。光源ホルダ10は、LDが取り付けられる。ブロック8は、光源ホルダ10を保持し、LDの光軸が延在する方向(x軸方向)から平面視したときに、LDと重ならない位置にある回転軸12を中心としてハウジング2に対して回転可能に取り付けられている。回転軸12は、x軸方向に延在している。
【選択図】図2
Description
本発明は、光源装置及びこれを備えた光走査装置に関し、より特定的には、複数のビームを放射する光源部を備えた光源装置及びこれを備えた光走査装置に関する。
近年、画像形成装置において、印刷速度の高速化のために、マルチビームLDが光源に用いられる機会が増加している。マルチビームLDは、直線上に並んだ複数のビームを同時に放射する。これにより、画像形成装置の光走査装置は、感光体ドラムに複数ラインの書き込みを同時に行うことができる。その結果、画像形成装置の印刷速度が向上する。
ところで、マルチビームLDを用いた場合には、主走査方向及び副走査方向における各ビームの間隔を適正な大きさに調整する必要がある。主走査方向における各ビームの間隔は、マルチビームLDの各LDの発光タイミングを制御することにより調整することができる。一方、副走査方向における各ビームの間隔は、各LDの発光タイミングを制御することでは調整できないので、他の方法により調整する必要があった。
そこで、特許文献1に記載のマルチビーム光源装置が知られている。以下に、マルチビーム光源装置について図面を参照しながら説明する。図7は、マルチビーム光源装置100の分解斜視図である。
マルチビーム光源装置100は、半導体レーザアレイ101a,101b、ベース部材102、カップリングレンズ103a,103b、ホルダ部材104及び取付壁105を備えている。半導体レーザアレイ101a,101bはそれぞれ、4つのビームを放射する。カップリングレンズ103a,103bはそれぞれ、半導体レーザアレイ101a,101bが放射したビームを平行光に変換する。ベース部材102は、半導体レーザアレイ101a,101b及びカップリングレンズ103a,103bを保持している。該ベース部材102は、ホルダ部材104に対してねじにより固定されている。
ホルダ部材104は、中央に孔が形成されていると共に、該孔を囲む円筒部104aを有している。取付壁105は、中央に孔105aが形成されている板状の部材である。ホルダ部材104は、孔105aに円筒部104aが挿入された状態で該取付壁105に固定されている。以上のように構成されたマルチビーム光源装置100では、半導体レーザアレイ101a,101bが放射したビームは、カップリングレンズ103a,103bを通過した後、ホルダ部材104の孔及び円筒部104aを通過して外部に射出される。
ここで、マルチビーム光源装置100では、孔105aに円筒部104aが挿入されている。孔105aは、円筒部104aの外径と略同じ大きさを有しているので、ホルダ部材104は、取付壁105に対して回転することができる。これにより、半導体レーザアレイ101a,101bも、円筒部104aの中心軸周りに回転することができ、半導体レーザアレイ101a,101bから放射されたビームの列も回転できる。以上より、マルチビーム光源装置100では、ホルダ部材104を回転させることにより、ビームの列を回転させて、副走査方向におけるビームの間隔を調整することができる。
しかしながら、マルチビーム光源装置100では、以下に説明するように、副走査方向におけるビーム間隔を高精度に調整することが困難である。より詳細には、図7に示すように、ビームは、円筒部104aの内部を通過している。よって、円筒部104aは、ビームの進行方向から平面視したときに、半導体レーザアレイ101a,101bが内部に納まる程度の比較的大きな径を有する必要がある。このように比較的大きな径を有する円筒部104aが孔105aに挿入される場合には、円筒部104aと孔105aと接触面積が大きくなるので、これらの間でガタツキが発生しやすい。その結果、マルチビーム光源装置100では、副走査方向におけるビーム間隔を高精度に調整することが困難である。
特開2001−174731号公報
そこで、本発明の目的は、副走査方向におけるビーム間隔の調整を高精度に行うことができる光源装置及びこれを備えた光走査装置を提供することである。
本発明の一形態に係る光源装置は、光走査装置に用いられる光源装置において、複数のビームを放射する光源部と、ハウジングと、前記光源部が取り付けられる保持部材であって、該光源部の光軸が延在する方向から平面視したときに、該光源部と重ならない位置にある回転軸を中心として前記ハウジングに対して回転可能に取り付けられている保持部材と、を備えていること、を特徴とする。
本発明の一形態に係る光走査装置は、前記光源装置を備えていること、を特徴とする。
以下、本発明の実施形態に係る光源装置及びこれを備えた光走査装置について、図面を参照しながら説明する。
(光走査装置)
図1は、本発明の実施形態に係る光源装置を備えた光走査装置50の概略斜視図である。図1に示す光走査装置50は、概略、LD(Laser Diode)4、コリメータレンズ6、ポリゴンミラー30、走査レンズ32,34及び光学素子36により構成されており、画像形成装置に搭載される。なお、図1では、光源装置の内、LD4及びコリメータレンズ6のみを図示し、それ以外の構成は省略してある。
図1は、本発明の実施形態に係る光源装置を備えた光走査装置50の概略斜視図である。図1に示す光走査装置50は、概略、LD(Laser Diode)4、コリメータレンズ6、ポリゴンミラー30、走査レンズ32,34及び光学素子36により構成されており、画像形成装置に搭載される。なお、図1では、光源装置の内、LD4及びコリメータレンズ6のみを図示し、それ以外の構成は省略してある。
LD4は、複数本のビームBを同時に放射するマルチビームLDである。コリメータレンズ6は、LD4が放射したビームBを平行光に集光する。ポリゴンミラー30は、コリメータレンズ6を通過したビームBを、主走査方向に等角速度に偏向する。走査レンズ32,34は、ポリゴンミラー30により偏向されたビームBの収差を補正する。光学素子36は、ビームBに対して所定の処理を行う。これにより、ビームBは、感光体ドラム42上に結像する。感光体ドラム42は所定速度で回転駆動され、ビームBによる主走査と感光体ドラム42の回転による副走査にて2次元の画像(静電潜像)が形成される。
(光源装置)
次に、本発明の一実施形態に係る光源装置について図面を参照しながら説明する。図2は、一実施形態に係る光源装置1の外観斜視図である。図3は、図2の光源装置1の分解斜視図である。図2及び図3において、LD4の光軸が延在している方向をx軸方向と定義し、ビームBの主走査方向をy軸方向と定義し、ビームBの副走査方向をz軸方向と定義する。また、図4は、光源装置1をx軸方向から平面視した正面図である。図5は、LD4の光軸を含むと共にxz平面に平行な面における光源装置1の断面構造図である。
次に、本発明の一実施形態に係る光源装置について図面を参照しながら説明する。図2は、一実施形態に係る光源装置1の外観斜視図である。図3は、図2の光源装置1の分解斜視図である。図2及び図3において、LD4の光軸が延在している方向をx軸方向と定義し、ビームBの主走査方向をy軸方向と定義し、ビームBの副走査方向をz軸方向と定義する。また、図4は、光源装置1をx軸方向から平面視した正面図である。図5は、LD4の光軸を含むと共にxz平面に平行な面における光源装置1の断面構造図である。
光源装置1は、図2ないし図5に示すように、ハウジング2、LD4(図2、図3及び図4には図示せず)、コリメータレンズ6(図2、図3及び図4には図示せず)、ブロック8、光源ホルダ10、回転軸12、レンズホルダ14、板ばね16(図4及び図5には図示せず)、ピン18(図4及び図5には図示せず)、ばね20(図2、図4及び図5には図示せず)及び板ばね22a,22bを備えている。
ハウジング2は、図3に示すように、光走査装置50に取り付けられる平板状の台座であり、溝2a,2b及び載置部2c,2dを有している。溝2a,2bは、ハウジングからz軸方向の正方向側に突出している突起の上面に設けられ、回転軸12を保持している。載置部2c,2dはそれぞれ、z軸方向の正方向側の面において平坦面を有しており、板ばね22a,22bを保持する。
ブロック8は、図2に示すように、ハウジング2上に取り付けられ、光源ホルダ10及びレンズホルダ14を保持している。また、ブロック8は、図3に示すように、ベース部8a、壁部8d及び腕部8fを有している。ベース部8aは、レンズホルダ14をz軸方向の正方向側の面において保持する板状部材であり、溝8b,8cを有している。溝8bは、レンズホルダ14を保持するV字型の溝であり、ベース部8aのz軸方向の正方向側の面においてx軸方向に延在するように設けられている。溝8cは、回転軸12と接触するV字型の溝であり、ベース部8aの負方向側の面においてx軸方向に延在するように設けられている。
壁部8dは、図2及び図3に示すように、ベース部8aに対して垂直となるように立設された板状部材であり、x軸方向の負方向側の面において光源ホルダ10を保持する。また、壁部8dには、LD4から放射されたビームBが通過するための孔8eが設けられている。
腕部8fは、ベース部8aからy軸方向の負方向側に延在している板状部材である。該腕部8fには、ピン18が取り付けられる孔(図2ないし図5では他の部材の影に隠れている)が設けられている。
光源ホルダ10は、LD4を保持するための板状部材である。図5に示すように、光源ホルダ10の中央には、孔10aが形成されており、該孔には、LD4が圧入されている。そして、光源ホルダ10は、x軸方向から平面視したときに、LD4と壁部8dの孔8eとが一致するように壁部8dに対して取り付けられる。したがって、光源ホルダ10及びブロック8は、LD4が取り付けられる保持部材として機能している。
レンズホルダ14は、円筒形状をなし、図5に示すように、その内部においてコリメータレンズ6を保持している。レンズホルダ14は、図3に示すように、その側面が溝8bに接触するように載置される。溝8bは、x軸方向に延在しているので、レンズホルダ14は、x軸方向に平行移動することができる。これにより、LD4とコリメータレンズ6との焦点合わせを行うことができる。板ばね16は、図2に示すように、ベース部8aにねじにより固定されており、レンズホルダ14に対して圧接することにより、該レンズホルダ14をベース部8aに押さえつけている。これにより、レンズホルダ14は、ベース部8aに固定されている。
回転軸12は、x軸方向に延在しており、かつ、コリメータレンズ6の径よりも小さな径を有している円柱状の棒状部材であり、ブロック8がハウジング2上に取り付けられることにより、z軸方向の両方向から溝2a,2b及び溝8b,8cにより挟まれている。これにより、回転軸12は、ハウジング2とブロック8との間に位置するようになり、x軸方向から平面視したときに、図4に示すように、LD4及びコリメータレンズ6と重ならないように位置している。そして、ブロック8は、図4に示すように、該回転軸12を中心として、ハウジング2に対して僅かに回転することが可能である。
板ばね22a,22bはそれぞれ、図2に示すように、ハウジング2の載置部2c,2d上にねじにより固定され、ブロック8に対して圧接している。より詳細には、板ばね22a,22bは、ハウジング2、回転軸12及びブロック8がz軸方向に並ぶ位置において、ベース部8aをz軸方向の正方向側からハウジング2に対して押さえつける押圧部材として機能している。これにより、ベース部8aは、回転軸12に圧接し、回転軸12は、ハウジング2に圧接している。
ピン18は、図2に示すように、腕部8fに設けられた孔を貫通し、ハウジング2に対して突出量の調整ができるように取り付けられている。また、ピン18は、図3に示すように、腕部8fとハウジング2との間に設けられているばね20を貫通している。これにより、ピン18は、腕部8fがハウジング2に近づく方向(すなわち、z軸方向の負方向)に該腕部8fに対して力を及ぼすと共に、ばね20は、腕部8fがハウジング2から遠ざかる方向(すなわち、z軸方向の正方向)に腕部8fに対して力を及ぼす。なお、ばね20の代わりにゴム等の他の弾性体が用いられていてもよい。
以上のように構成された光源装置1において、副走査方向(z軸方向)におけるビームBの間隔の調整について以下に説明する。図6は、副走査方向におけるビームBの間隔の調整時におけるビームBの様子を示した図である。図6に示すように、LD4は、ビームB1〜B8の8つのビームを放射する。以下では、個別のビームBについては、ビームB1〜B8と称し、これらを総称する場合にはビームBと称す。また、ビームBの列αを初期状態と定義し、初期状態からビームBの列をθ1度だけ時計回りに回転させて得られるビームBの列βの状態を第1の調整状態と定義し、初期状態からビームBの列をθ2度だけ反時計回りに回転させて得られるビームBの列γの状態を第2の調整状態と定義する。
図6に示すように、ビームB1〜B8は、距離Lの間において等間隔であってかつ直線上に並んでいる。初期状態のビームBの列αを時計回りにθ1度だけ回転させると、第1の調整状態のビームBの列βが得られる。このとき、副走査方向において、第1の調整状態でのビームB1〜B8の間隔は、初期状態でのビームB1〜B8の間隔よりも狭くなる。一方、初期状態のビームBの列αを反時計回りにθ2度だけ回転させると、第2の調整状態のビームBの列γが得られる。このとき、副走査方向において、第2の調整状態でのビームB1〜B8の間隔は、初期状態でのビームB1〜B8の間隔よりも広くなる。このように、ビームBの列を回転させることにより、副走査方向におけるビームB1〜B8の間隔を調整することができる。
そこで、光源装置1では、ビームBの列を回転させるために、ブロック8は、回転軸12を中心として、ハウジング2に対して回転可能に取り付けられている。そして、光源装置1では、腕部8fとハウジング2との距離が調整されることにより、ブロック8がハウジング2に対して回転させられる。これにより、副走査方向におけるビームB1〜B8の間隔が調整される。より詳細には、ピン18がz軸方向の正方向側に引き上げられることにより、ばね20の付勢力により、腕部8fは、z軸方向の正方向側に変位する。これにより、ブロック8は、時計回りに回転し、LD4も、時計回りに回転する。その結果、LD4が放射するビームBの列も時計回りに回転し、図6の第1の調整状態のように、副走査方向におけるビームB1〜B8の間隔が相対的に狭くなる。
一方、ピン18がz軸方向の正方向側に押し下げられることにより、ピン18の頭部からの力により、腕部8fは、z軸方向の負方向側に変位する。これにより、ブロック8は、反時計回りに回転し、LD4も、反時計回りに回転する。その結果、LD4が放射するビームBの列も反時計回りに回転し、図6の第2の調整状態のように、副走査方向におけるビームB1〜B8の間隔が相対的に広くなる。
(効果)
以上のように構成された光源装置1及びこれを備えた光走査装置50では、以下に説明するように、副走査方向におけるビーム間隔の調整を高精度に行うことができる。より詳細には、特許文献1に記載のマルチビーム光源装置では、ホルダ部材104は、円筒部104aの中心軸を回転軸として、回転する。マルチビーム光源装置100において、ホルダ部材104の回転軸は、半導体レーザアレイ101a,101b及びカップリングレンズ103a,103bの前に位置しているので、ビームの進行を妨げてはいけない。そのため、円筒部104aは、図7に示すように、ビームの進行方向から平面視したときに、半導体レーザアレイ101a,101bが内部に納まる程度の比較的大きな径を有している。しかしながら、このように比較的大きな径を有する円筒部104aが孔105aに挿入される場合には、円筒部104aと孔105aと接触面積が大きくなるので、これらの間でガタツキが発生しやすい。そのため、マルチビーム光源装置100では、副走査方向におけるビーム間隔を高精度に調整することが困難であった。
以上のように構成された光源装置1及びこれを備えた光走査装置50では、以下に説明するように、副走査方向におけるビーム間隔の調整を高精度に行うことができる。より詳細には、特許文献1に記載のマルチビーム光源装置では、ホルダ部材104は、円筒部104aの中心軸を回転軸として、回転する。マルチビーム光源装置100において、ホルダ部材104の回転軸は、半導体レーザアレイ101a,101b及びカップリングレンズ103a,103bの前に位置しているので、ビームの進行を妨げてはいけない。そのため、円筒部104aは、図7に示すように、ビームの進行方向から平面視したときに、半導体レーザアレイ101a,101bが内部に納まる程度の比較的大きな径を有している。しかしながら、このように比較的大きな径を有する円筒部104aが孔105aに挿入される場合には、円筒部104aと孔105aと接触面積が大きくなるので、これらの間でガタツキが発生しやすい。そのため、マルチビーム光源装置100では、副走査方向におけるビーム間隔を高精度に調整することが困難であった。
そこで、光源装置1では、回転軸12は、x軸方向から平面視したときに、LD4及びコリメータレンズ6と重ならない位置に設けられているので、ビームBの進行を妨げない。そのため、特許文献1に記載のマルチビーム光源装置100のように、半導体レーザアレイ101a,101b及びカップリングレンズ103a,103bを収めるような比較的大きな径の円筒部104aが不要となる。すなわち、回転軸12の径は、コリメータレンズ6の径よりもよりも小さくなる。そのため、マルチビーム光源装置100において、光源装置1と同様に、溝により円筒部104aを保持していたとしても、回転軸12と溝2a,2b,8cとの接触面積は、円筒部104aと溝との接触面積に比べて小さくなる。よって、光源装置1では、回転軸12と溝2a,2b,8cとの間に生じるガタツキを抑制でき、副走査方向におけるビーム間隔を高精度に調整することが可能となる。
また、光源装置1では、回転軸12の径をマルチビーム光源装置100の円筒部104aの径よりも小さくできる。そのため、回転軸12を円筒部104aに比べて精度良く加工することができる。同様に、溝2a,2b,8cも、孔105aに比べて精度良く加工することができる。したがって、光源装置1では、副走査方向におけるビーム間隔を高精度に調整することが可能となる。
また、光源装置1では、以下に説明するように、板ばね22a,22bがブロック8の回転を妨げることがない。より詳細には、板ばね22a,22bは、ハウジング2、回転軸12及びブロック8がz軸方向に並んでいる位置において、ブロック8をz軸方向の負方向側に押さえつけている。そのため、ブロック8の回転時に、板ばね22a,22bがブロック8に及ぼす力は、ブロック8を回転させるモーメントを殆ど発生しない。よって、板ばね22a,22bは、ブロック8の回転を妨げない。
1 光源装置
2 ハウジング
2a,2b,8b,8c 溝
2c,2d 載置部
4 LD
6 コリメータレンズ
8 ブロック
8a ベース部
8f 腕部
10 光源ホルダ
12 回転軸
14 レンズホルダ
16,22a,22b 板ばね
18 ピン
20 ばね
50 光走査装置
2 ハウジング
2a,2b,8b,8c 溝
2c,2d 載置部
4 LD
6 コリメータレンズ
8 ブロック
8a ベース部
8f 腕部
10 光源ホルダ
12 回転軸
14 レンズホルダ
16,22a,22b 板ばね
18 ピン
20 ばね
50 光走査装置
Claims (7)
- 光走査装置に用いられる光源装置において、
複数のビームを放射する光源部と、
ハウジングと、
前記光源部が取り付けられる保持部材であって、該光源部の光軸が延在する方向から平面視したときに、該光源部と重ならない位置にある回転軸を中心として前記ハウジングに対して回転可能に取り付けられている保持部材と、
を備えていること、
を特徴とする光源装置。 - 前記光源部が放射したビームを集光する光学素子を、
更に備えていること、
を特徴とする請求項1に記載の光源装置。 - 前記保持部材は、
前記光学素子を保持しているベース部と、
前記ベース部から延在している腕部と、
を更に備えていると共に、前記腕部と前記ハウジングとの距離が調整されることにより、該ハウジングに対して回転させられること、
を特徴とする請求項2に記載の光源装置。 - 前記腕部が前記ハウジングに近づく方向に該腕部に対して力を及ぼすピンであって、該ハウジングに対して突出量の調整ができるように取り付けられているピンと、
前記腕部と前記ハウジングとの間に設けられ、該腕部が該ハウジングから遠ざかる方向に該腕部に対して力を及ぼす弾性部材と、
を更に備えていること、
を特徴とする請求項3に記載の光源装置。 - 前記回転軸は、前記光学素子の径よりも小さな径を有する部材であること、
を特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれかに記載の光源装置。 - 前記ハウジング、前記回転軸及び前記保持部材が並ぶ位置において、該保持部材を該ハウジングに対して押さえつける押圧部材を、
更に備えていること、
を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の光源装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の光源装置を備えていること、
を特徴とする光走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008261510A JP2010091780A (ja) | 2008-10-08 | 2008-10-08 | 光源装置及びこれを備えた光走査装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102262295A (zh) * | 2010-05-25 | 2011-11-30 | 夏普株式会社 | 光扫描装置及图像形成装置 |
-
2008
- 2008-10-08 JP JP2008261510A patent/JP2010091780A/ja active Pending
Cited By (2)
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CN102262295B (zh) * | 2010-05-25 | 2014-01-01 | 夏普株式会社 | 光扫描装置及图像形成装置 |
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