JP2010091329A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 被検物を回転しつつ一方向に移動させることによりレーザー光を前記被検物上で渦巻状に走査するスパイラルスキャンと、前記レーザー光を光偏向器で偏向して前記被検物上で走査するクロススキャンとを組み合わせた複合型のスキャン方法により前記被検物の表面を走査し、前記被検物の表面で散乱した前記レーザー光を検出することにより、欠陥検出を行うレーザー散乱式欠陥検査方法であって、
   実態観察を行うための予備検査として欠陥検査を行う第１検査工程では、前記クロススキャンのスキャン幅を相対的に小さくし、実態観察が必要でなく欠陥の個数のみが必要とされる欠陥検査を行う第２検査工程では、前記クロススキャンのスキャン幅を相対的に大きくすることを特徴とするレーザー散乱式欠陥検査方法。
2. 前記第１検査工程における欠陥検査の条件は、前記被検物上のビーム径が０．５μｍ以上２５μｍ以下、前記クロススキャンのスキャン幅がゼロであることを特徴とする請求項１に記載のレーザー散乱式欠陥検査方法。
3. 前記第２検査工程における欠陥検査の条件は、前記被検物上のビーム径が０．５μｍ以上２５μｍ以下、前記クロススキャンのスキャン幅がビーム径以上で５ｍｍ以下、前記クロススキャンのスキャン振動数が１０ＭＨｚ以上１０００ＭＨｚ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のレーザー散乱式欠陥検査方法。
4. 被検物の表面にレーザー光を照射し、その散乱光を検出することにより、欠陥検出を行うレーザー散乱式欠陥検査装置であって、
   前記被検物を回転しつつ一方向に移動させるステージ装置と、
   前記ステージ装置に設置された被検物に向けてレーザー光を射出するレーザー光源と、
   前記レーザー光源から射出されたレーザー光を前記被検物上で走査する光偏光器と、
   前記被検物の表面で散乱されたレーザー光を検出する光検出器と、
   前記ステージ装置による前記被検物の回転速度及び移動速度、並びに、前記光偏向器による前記被検物上でのビームのスキャン幅及びスキャン振動数を含む欠陥検査の条件を前記被検物の製造プロセスの検査工程毎に記憶する記憶装置と、
   前記検査工程毎に前記記憶装置に記憶された欠陥検査の条件を読み出し、当該条件で前記ステージ装置及び前記光偏向器の駆動を制御する制御装置と、を備えていることを特徴とするレーザー散乱式欠陥検査装置。
5. 前記光偏向器は、音響光学媒体と、前記音響光学媒体に超音波を伝搬させる圧電振動子とを備えた音響光学偏向器であり、
   前記制御装置は、前記圧電振動子の振動条件を制御することにより、前記光偏向器による前記被検物上でのビームのスキャン幅及びスキャン振動数を制御することを特徴とする請求項４に記載のレーザー散乱式欠陥検査装置。