JP2010087245A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 基板と、
   第１の電極と、前記第１の電極上に形成された発光層と、前記発光層上に形成された第２の電極と、を備え、前記基板の一方の面上に形成され、複数種の波長の光を発光する発光素子と、
   前記基板の前記一方の面上に形成された受光素子と、
   前記受光素子を覆うとともに前記基板の前記一方の面上に形成された反射集光部と、を備え、
   前記反射集光部は、前記発光素子が発光する前記光の内、少なくとも一部の波長の光に対して透光性を有する絶縁性材料を含むとともに前記受光素子を覆う集光部と、
   前記絶縁性材料が透光性を有する前記少なくとも一部の波長の光に対して反射性を有する反射性材料を含むとともに前記集光部を覆う反射膜と、を有し、
   前記基板の屈折率をｎ_g、前記基板の他方の面に接する物質の屈折率をｎ₀、前記基板の厚みをｔ_gとし、
   θ_c＝arcsin(ｎ₀/ｎ_g)とした際、
   前記受光素子が前記発光素子から離間する距離Ｌは、
   Ｌ≧２・ｔ_g・tanθ_c
   を満たすことを特徴とする発光装置。
2. 前記反射膜は、前記発光素子の前記第２の電極と同種の材料を用い、当該第２の電極と同層に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記基板の前記受光素子が形成された面に対向する面上に形成された散乱部を更に備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
4. 前記散乱部を覆うように設けられた遮光膜を更に備えることを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
5. 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の発光装置を露光部として用いたことを特徴とする画像形成装置。
6. 基板上に第１の電極と、前記第１の電極上に形成された発光層と、前記発光層上に形成された第２の電極と、を備え、複数種の波長の光を発光する発光素子を形成する発光素子形成工程と、
   前記基板上に受光素子を形成する受光素子形成工程と、
   前記基板上に、前記受光素子を覆う反射集光部を形成する反射集光部形成工程と、を備え、
   前記反射集光部形成工程は、前記発光素子が発光する前記光の内、少なくとも一部の波長の光に対して透光性を有する絶縁性材料を含むとともに前記受光素子を覆う集光部を形成する集光部形成工程と、
   前記絶縁性材料が透光性を有する前記少なくとも一部の波長の光に対して反射性を有する反射性材料を用いて前記集光部を覆う反射膜を形成する反射膜形成工程と、を有し、
   前記受光素子形成工程では、
   前記基板の屈折率をｎ_g、大気の屈折率をｎ₀、前記基板の厚みをｔ_gとし、
   θ_c＝arcsin(ｎ₀/ｎ_g)とした際、
   前記受光素子が前記発光素子から離間する距離Ｌを、
   Ｌ≧２・ｔ_g・tanθ_c
   を満たすように形成することを特徴とする発光装置の製造方法。
7. 前記反射膜形成工程において、前記反射膜は、前記反射性材料として前記第２の電極と同種の材料を用いるとともに、当該第２の電極と同時、且つ、同層に形成することを特徴とする請求項６に記載の発光装置の製造方法。
8. 前記基板の前記受光素子が形成された面に対向する面上に、散乱部を形成する散乱部形成工程を更に備えることを特徴とする請求項６又は７に記載の発光装置の製造方法。
9. 前記散乱部を覆うように遮光膜を形成する工程を更に備えることを特徴とする請求項８に記載の発光装置の製造方法。