JP2010085833A - Blue resist composition - Google Patents
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Description
本発明は、液晶カラーフィルターの製造に使用されるブルーレジスト組成物に関し、さらに詳しくは、ＹＡＧレーザーを用いて、カラーフィルター用青色画素が得られるＹＡＧレーザーで露光硬化する高感度のブルーレジスト組成物（以下、単に「レジスト組成物」という場合がある）に関する。 The present invention relates to a blue resist composition used in the production of a liquid crystal color filter, and more specifically, a highly sensitive blue resist composition that is exposed and cured with a YAG laser using a YAG laser to obtain a blue pixel for a color filter. (Hereinafter sometimes simply referred to as “resist composition”).
従来、液晶ディスプレイパネルのカラーフィルターの製造に使用されるレジスト組成物は、フォトリソ法により、光源として紫外線領域の超高圧水銀灯を用いてカラーフィルター用基板に塗布された上記レジスト組成物を露光硬化してカラーフィルターを製造している。 Conventionally, a resist composition used for manufacturing a color filter of a liquid crystal display panel is obtained by exposing and curing the resist composition applied to a color filter substrate by a photolithographic method using an ultra-high pressure mercury lamp in an ultraviolet region as a light source. Manufactures color filters.
近年、上記液晶ディスプレイパネルの大型化に伴い、レジストパターン形成に必要であるフォトマスクが大型化してきている。上記フォトマスクは、紫外線領域でも透過率の高い石英が使用されているが、石英自体が高価のためにコストアップの要因となっている。また、石英のフォトマスクが大型化すると、たわみを生じ寸法精度が低下する。 In recent years, with the increase in size of the liquid crystal display panel, a photomask necessary for forming a resist pattern has been increased in size. For the photomask, quartz having a high transmittance even in the ultraviolet region is used. However, the cost of the quartz is high because the quartz itself is expensive. Further, when a quartz photomask is enlarged, deflection is caused and dimensional accuracy is lowered.
上記の問題の解決として、フォトマスクを小型化できる走査型露光方法が提案されている。上記の方法は、数十回露光しなければならないために、超高圧水銀灯では活性エネルギー線のエネルギーが小さいために、露光時間が大幅に増大し生産性が低下する。 As a solution to the above problem, a scanning exposure method that can reduce the size of a photomask has been proposed. In the above method, since the exposure has to be performed several tens of times, the energy of the active energy ray is small in the ultrahigh pressure mercury lamp, so that the exposure time is significantly increased and the productivity is lowered.
上記の活性エネルギー線のエネルギーを、より大きくするためにＹＡＧレーザーを使用したある種の露光装置（特許文献１）を使用した露光方法が検討されている。しかしながら、特許文献１に開示の露光方法は、従来の超高圧水銀灯の露光方式において使用されているレジスト組成物、とくに、ブルーレジスト組成物を使用して青色画素を形成した場合に、ＹＡＧレーザーで露光すると感度が著しく悪く、通常の露光量では上記レジスト組成物が硬化しない。 In order to further increase the energy of the active energy ray, an exposure method using a certain type of exposure apparatus (Patent Document 1) using a YAG laser has been studied. However, the exposure method disclosed in Patent Document 1 uses a YAG laser when a blue pixel is formed using a resist composition, particularly a blue resist composition, which is used in an exposure system of a conventional ultrahigh pressure mercury lamp. When exposed to light, the sensitivity is remarkably poor, and the resist composition is not cured at a normal exposure amount.
上述のことから、ＹＡＧレーザーで露光しても、高感度でカラーフィルター用青色画素が得られるレジスト組成物が要望されている。 From the above, there is a demand for a resist composition that can obtain a blue pixel for a color filter with high sensitivity even when exposed to a YAG laser.
従って、本発明の目的は、ＹＡＧレーザーを用いて、カラーフィルター用青色画素が得られるＹＡＧレーザーで露光硬化する高感度のレジスト組成物を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a high-sensitivity resist composition that is exposed and cured by a YAG laser using a YAG laser to obtain a blue pixel for a color filter.
本発明者は、前記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記の特定成分からなるレジスト組成物を用いることで、ＹＡＧレーザーによる露光により、高感度で効率よくカラーフィルター用青色画素が得られることを見出した。すなわち、本発明は、クリアレジスト（ａ）と、青色系顔料（ｂ）と、フッ素系界面活性剤（ｃ）と、下記式（１）、（２）、（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｚ）と活性エネルギー線光重合開始剤とを含有するＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）とを含有することを特徴とするＹＡＧレーザーで硬化するブルーレジスト組成物を提供する。
また、本発明の好ましい実施形態では、前記化合物（ｚ）が、ＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）総量中に０．５質量％〜２０質量％を占める量で含有されており、前記ＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）が、クリアレジスト樹脂固形分総量中に１０質量％〜３０質量％を占める量で含有されており、前記ＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）の前記化合物（ｚ）と活性エネルギー線光重合開始剤（ｙ）との割合が、ｚ／ｙ＝１５／１００〜２０／１００（質量比）であり、前記活性エネルギー線光重合開始剤が、２，４−ジエチルチオキサントンおよび／または２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンであり、および、さらに、分子中に１個のメルカプト基を有する単官能チオール化合物を含有することが好ましい。 Moreover, in preferable embodiment of this invention, the said compound (z) is contained in the quantity which occupies 0.5 mass%-20 mass% in YAG laser polymerization initiator (d) total amount, The said YAG laser polymerization The initiator (d) is contained in an amount occupying 10% by mass to 30% by mass in the total solid content of the clear resist resin, and the compound (z) of the YAG laser polymerization initiator (d) and active energy rays The ratio to the photopolymerization initiator (y) is z / y = 15/100 to 20/100 (mass ratio), and the active energy ray photopolymerization initiator is 2,4-diethylthioxanthone and / or 2 -Methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, and further contains a monofunctional thiol compound having one mercapto group in the molecule. It is preferred.
また、本発明は、上記のレジスト組成物をカラーフィルター用基板に塗布し形成した塗膜をＹＡＧレーザーで露光することを特徴とする画素形成方法、および前記ＹＡＧレーザーが第３高調波である画素形成方法を提供する。 In addition, the present invention provides a pixel forming method characterized in that a coating film formed by applying the resist composition to a color filter substrate is exposed with a YAG laser, and a pixel in which the YAG laser is a third harmonic A forming method is provided.
本発明によれば、ＹＡＧレーザーで露光硬化ができ、従来の超高圧水銀灯の紫外線領域で露光するよりも露光時間を大幅に減少して、高感度でカラーフィルター用青色画素が製造できるレジスト組成物が提供される。 According to the present invention, a resist composition which can be cured by exposure with a YAG laser and can produce a blue pixel for a color filter with high sensitivity by significantly reducing the exposure time compared with exposure in the ultraviolet region of a conventional ultra-high pressure mercury lamp. Is provided.
次に、好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。本発明のレジスト組成物は、前記の（ａ）成分と、（ｂ）成分と、（ｃ）成分と、（ｄ）成分とを必須成分として含有するＹＡＧレーザーにより露光硬化するカラーフィルター用青色画素を形成するレジスト組成物である。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments. The resist composition of the present invention is a blue pixel for a color filter that is exposed and cured by a YAG laser containing the component (a), component (b), component (c), and component (d) as essential components. Is a resist composition.
前記のｄ成分であるＹＡＧレーザー重合開始剤は、活性エネルギー線重合開始剤と下記式（１）、（２）、（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（ｚ）を含有するものである。上記の化合物（ｚ）は、得られるレジスト組成物の重合をＹＡＧレーザーにより開始し得る活性効果を有するが、単独では得られるレジスト組成物に対する溶解分散性が悪く、また、ＹＡＧレーザーに対する反応が速すぎて得られるレジスト塗膜の表面部分の固化が速くなり精度ある画素が形成し難い。また、従来の活性エネルギー線重合開始剤のみでは、ＹＡＧレーザーに対する感度が著しく低く、各々の成分単独では、ＹＡＧレーザー重合開始剤としての効果が充分に得られない。このために、化合物（ｚ）と活性エネルギー線重合開始剤とを併用して得られたＹＡＧレーザー重合開始剤が、得られるレジスト組成物を用いて、ＹＡＧレーザー露光により青色画素を安定して形成するのに効果がある。上記の化合物（ｚ）は、単独でも、２種以上を混合して使用することも出来る。上記のｄ成分は、必要に応じて公知の増感剤などを併用することができる。 The YAG laser polymerization initiator which is the d component is an active energy ray polymerization initiator and at least one compound (z) selected from compounds represented by the following formulas (1), (2) and (3): It contains. The above compound (z) has an active effect capable of initiating polymerization of the resulting resist composition with a YAG laser. However, the compound (z) alone has poor solubility and dispersibility in the obtained resist composition, and the reaction with respect to the YAG laser is fast. As a result, the solidification of the surface portion of the resulting resist coating film is accelerated, and it is difficult to form an accurate pixel. Further, the conventional active energy ray polymerization initiator alone has a remarkably low sensitivity to a YAG laser, and each component alone cannot sufficiently obtain an effect as a YAG laser polymerization initiator. For this purpose, a YAG laser polymerization initiator obtained by using a compound (z) and an active energy ray polymerization initiator in combination stably forms a blue pixel by YAG laser exposure using the resulting resist composition. It is effective to do. Said compound (z) can be used individually or in mixture of 2 or more types. The above d component can be used in combination with a known sensitizer or the like as required.
（化合物）
上記化合物（ｚ）は、好ましくはｄ成分であるＹＡＧレーザー重合開始剤総量中に０．５質量％〜２０質量％を占める量で含有されている。上記化合物（ｚ）の配合量が上記上限を超えると、得られるレジスト組成物中での溶解性が低下して分散性が悪くなり、また、ＹＡＧレーザーによる硬化が速くなり過ぎることにより、レジスト塗膜の表面が早く固まり内側の固化が遅いなど精度を要求される画素形成に悪影響を及ぼす。一方、上記の配合量が上記下限未満であると、ＹＡＧレーザーによる露光硬化性が低下する。 The compound (z) is preferably contained in an amount occupying 0.5% by mass to 20% by mass in the total amount of the YAG laser polymerization initiator which is the d component. If the compounding amount of the compound (z) exceeds the above upper limit, the solubility in the resulting resist composition is lowered, dispersibility is deteriorated, and the curing with the YAG laser becomes too fast. It adversely affects the formation of pixels that require high accuracy, such as the film surface solidifies quickly and the internal solidification is slow. On the other hand, when the above blending amount is less than the above lower limit, the exposure curability with a YAG laser is lowered.
前記の活性エネルギー線光重合開始剤としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線などの活性エネルギー線により重合を開始し得る活性を発生する化合物であり、例えば、ビイミダゾール系、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、オキシム系、チオキサントン系、トリアジン系、アントラキノン系、チオール系などの公知の光重合開始剤が挙げられる。 The active energy ray photopolymerization initiator is a compound that generates an activity capable of initiating polymerization by active energy rays such as visible light, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron rays, and X-rays. Known photopolymerization initiators such as benzophenone series, acetophenone series, benzoin ether series, oxime series, thioxanthone series, triazine series, anthraquinone series, thiol series and the like can be mentioned.
上記の光重合開始剤としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキスフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メチルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール系光重合開始剤、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４，４’−ビス−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス−ジエチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系光重合開始剤、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−メチルプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノ−フェニル）ブタノン−１−オンなどのアセトフェノン系光重合開始剤、１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−ｏ−アセタート、などのオキシム系光重合開始剤、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−および４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン系光重合開始剤、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル系光重合開始剤、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系光重合開始剤、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノンなどのアントラキノン系光重合開始剤など、およびそれらの混合物など、好ましくは２，４−ジエチルチオキサントンおよび／または２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakisphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′- Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-methoxyphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (o-methoxyphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1 Imidazole-based photopolymerization initiators such as 2,2'-biimidazole, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethyl Benzo Benzophenone photopolymerization initiators such as enone, 4,4′-bis-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-bis-diethylaminobenzophenone, diethoxyacetophenone, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy- 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxyethoxy) Acetophenone-based photopolymerization initiators such as phenyl] -2-methylpropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino-phenyl) butanone-1-one; Methylsulfanyl-phenyl) -butan-1-one oxime-o-aceta Oxime-based photopolymerization initiators such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2- and 4-isopropylthioxanthone, Thioxanthone photopolymerization initiators such as 1-chloro-4-propoxythioxanthone and 2,4-dichlorothioxanthone, benzoin ether photopolymerization initiators such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin isopropyl ether, 2 -(4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- Triazine photopolymerization initiators such as (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, anthraquinone light such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone A polymerization initiator and the like, and a mixture thereof, preferably 2,4-diethylthioxanthone and / or 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one.
また、上記の光重合開始剤と併用する増感剤としては、例えば、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、２，５−ビス（４’−ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７−ジエチルアミノ−３−（４−ジエチルアミノベンゾイル）クマリンなど、およびそれらの混合物が挙げられる。 Examples of the sensitizer used in combination with the above photopolymerization initiator include 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 4-dimethylaminoethyl benzoate, 2,5- Bis (4′-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, and the like, and mixtures thereof.
前記のＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）は、好ましくは前記の化合物（ｚ）と前記の活性エネルギー線光重合開始剤（ｙ）との配合割合がｚ／ｙ＝１５／１００〜２０／１００（質量比）である。上記の化合物（ｚ）の配合割合が上記上限を超えると、両成分の相乗効果によるＹＡＧレーザーに対する適宜な感度向上効果が得られず精度ある画素を形成するレジスト組成物が得られない。一方、上記の化合物（ｚ）の配合割合が上記下限未満であると、得られるレジスト組成物は、ＹＡＧレーザーに対する露光硬化が得られない。 In the YAG laser polymerization initiator (d), the blending ratio of the compound (z) to the active energy ray photopolymerization initiator (y) is preferably z / y = 15/100 to 20/100 ( Mass ratio). When the compounding ratio of the compound (z) exceeds the above upper limit, an appropriate sensitivity improving effect with respect to the YAG laser due to the synergistic effect of both components cannot be obtained, and a resist composition that forms an accurate pixel cannot be obtained. On the other hand, when the blending ratio of the compound (z) is less than the lower limit, the resulting resist composition cannot be cured by exposure to a YAG laser.
また、前記のＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）は、好ましくは前記クリアレジスト樹脂固形分総量中に１０質量％〜３０質量％、とくに好ましくは１５質量％〜２５質量％を占める量で含有されている。上記のＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）の配合量が、上記上限値を超えても、また下限値未満でも得られるレジスト組成物は露光硬化しない。 The YAG laser polymerization initiator (d) is preferably contained in an amount occupying 10% by mass to 30% by mass, particularly preferably 15% by mass to 25% by mass in the total amount of the solid content of the clear resist resin. Yes. Even if the blending amount of the YAG laser polymerization initiator (d) exceeds the above upper limit value or less than the lower limit value, the resulting resist composition is not exposed and cured.
本発明で使用するクリアレジスト（ａ）は、バインダーとして、またカラーフィルターの製造の際にアルカリ現像液により現像できるアルカリ可溶性ポリマーと、分子内に少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーおよび／またはオリゴマーとを含有するＹＡＧレーザーで感光性を有する着色していない樹脂組成物である。 The clear resist (a) used in the present invention comprises an alkali-soluble polymer that can be developed with an alkali developer as a binder and in the production of a color filter, a monomer having at least two ethylenically unsaturated bonds in the molecule, and It is a non-colored resin composition having photosensitivity with a YAG laser containing an oligomer.
上記のアルカリ可溶性ポリマーとしては、カラーフィルターの製造に使用できるものであればいずれのものも使用することができ、例えば、分子内にカルボキシル基、フェノール性水酸基などの酸性官能基を有するポリマーなど、好ましくはアクリル系ポリマーが挙げられる。 As the alkali-soluble polymer, any one can be used as long as it can be used for the production of a color filter. For example, a polymer having an acidic functional group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group in the molecule, An acrylic polymer is preferable.
上記のアクリル系ポリマーとしては、例えば、不飽和カルボン酸化合物とエチレン性不飽和化合物との共重合体が好ましく使用することができる。上記の不飽和カルボン酸化合物としては、例えば、アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸などの不飽和カルボン酸化合物；マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸などの不飽和ジカルボン酸化合物；その他、３価以上の不飽和カルボン酸化合物、コハク酸モノ（２−メタクリロイルオキシエチル）、フタル酸モノ（２−アクリロイルオキシエチル）などのモノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］エステル、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレートなどが挙げられる。 As the acrylic polymer, for example, a copolymer of an unsaturated carboxylic acid compound and an ethylenically unsaturated compound can be preferably used. Examples of the unsaturated carboxylic acid compound include unsaturated carboxylic acid compounds such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid; maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, and itacone. Unsaturated dicarboxylic acid compounds such as acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, and mesaconic acid; other trivalent or higher unsaturated carboxylic acid compounds, succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), phthalic acid mono ( And mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ester such as 2-acryloyloxyethyl) and ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate.
また、上記の不飽和カルボン酸化合物と共重合体を生成するエチレン性不飽和化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート（「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの双方を意味する）、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル；グリシジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル；２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミドなどの不飽和アミド化合物；１，３−ブタジエン、イソプレンなどの脂肪族共役ジエン化合物；マレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどの不飽和イミド化合物；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メタリルグリシジルエーテルなどの不飽和エーテル化合物；ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリスチレン、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレートなどの重合体分子の末端に（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマーなど、およびそれらの混合物が挙げられる。 Moreover, as an ethylenically unsaturated compound which produces | generates a copolymer with said unsaturated carboxylic acid compound, for example, methyl (meth) acrylate ("(meth) acrylate" means both acrylate and methacrylate) , Ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (Meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meta ) Unsaturated carboxylic acid esters such as acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate Unsaturated amino acid carboxylic acid esters such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Aromatic vinyl compounds such as len, p-methyl styrene, o-methyl styrene, m-methyl styrene, α-methyl styrene; vinyl carboxylic acid esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate; acrylonitrile, methacrylonitrile Vinyl cyanide compounds such as α-chloroacrylonitrile; unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide; 1,3-butadiene, Aliphatic conjugated diene compounds such as isoprene; unsaturated imide compounds such as maleimide, N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide; vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether, methallyl glycidyl ether Unsaturated ether compounds; polymethyl (meth) acrylate, polystyrene, the end of the polymer molecules such as poly -n- butyl (meth) acrylate (meth) macromonomer having an acryloyl group, and mixtures thereof.
前記のアクリル系ポリマーとしては、（メタ）アクリル酸（「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタアクリル酸の双方を意味する）／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、ベンジルマレイミド／シクロヘキシル（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／グリシジル（メタ）アクリレート共重合体など、およびそれらの混合物、好ましくはベンジルマレイミド／シクロヘキシルメタアクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリル酸／グリシジルメタアクリレート共重合体が挙げられる。上記のアクリル系ポリマーは、例えば、日本火薬（株）から、アクリキュアＢＭＸ７２、また、新中村化学（株）からＮＢ−５７の商品名で入手して本発明で使用することが出来る。なお、前記アクリル系ポリマーは、上記の共重合体に限定されるものではない。 Examples of the acrylic polymer include (meth) acrylic acid ("(meth) acrylic acid" means both acrylic acid and methacrylic acid) / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic. Acid / styrene / methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / Methyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxy Ethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl (Meth) acrylate macromonomer copolymer, benzylmaleimide / cyclohexyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate copolymer, etc., and mixtures thereof, preferably benzylmaleimide / Cyclohexyl methacrylate / methyl methacrylate / methacrylic acid / glycidyl methacrylate copolymer. The above-mentioned acrylic polymer can be used in the present invention, for example, obtained from Nippon Explosives Co., Ltd. under the trade name Acryl Cure BMX72, or from Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. under the trade name NB-57. The acrylic polymer is not limited to the above copolymer.
また、前記のクリアレジストを構成するアルカリ可溶性ポリマーと併用する分子内に少なくとも２個のエチレン性不飽和結合を有するモノマーおよび／またはオリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリレートカルバメート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、ロジン変性エポキシジ（メタ）アクリレート、アルキッド変性（メタ）アクリレートなどの多官能モノマーおよびオリゴマーが挙げられる。上記の多官能モノマーおよびオリゴマーは、単独でも、あるいは２種以上を混合して使用することが出来る。 Examples of the monomer and / or oligomer having at least two ethylenically unsaturated bonds in the molecule used in combination with the alkali-soluble polymer constituting the clear resist include, for example, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipenta Erythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, succinic acid modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (Meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, modified bisphenol A epoxy (meth) acrylate , Poly (meth) acrylate carbamate, bisphenol A diglycidyl ether (meth) acrylate, rosin-modified epoxy di (meth) acrylate, and polyfunctional monomers and oligomers, such as alkyd-modified (meth) acrylate. The above polyfunctional monomers and oligomers can be used alone or in admixture of two or more.
上記の多官能モノマーおよびオリゴマーは、必要に応じて、１個のエチレン性不飽和結合を有する単官能モノマーを併用することができる。上記の単官能モノマーとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートなど、およびそれらの混合物が挙げられる。 The above-mentioned polyfunctional monomer and oligomer can be used in combination with a monofunctional monomer having one ethylenically unsaturated bond, if necessary. Examples of the monofunctional monomer include ethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, Examples include glycidyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and the like, and mixtures thereof.
また、本発明で使用する青色系顔料（ｂ）としては、カラーフィルターを形成する青色の画素の着色剤として、高精細な発色性、耐熱性、耐光性、耐薬品性などに優れたものであればいずれのものも使用することができる。なお、上記の青色系顔料は、色調がとくに限定されるものではなく、青色顔料を単独でも、あるいは該青色顔料と混合して青色系を与えるバイオレット顔料なども含まれる。上記の青色系顔料は、該顔料の分散を安定化させるために公知の分散剤と溶剤と、必要に応じてポリマーからなる分散媒体に分散させてなる着色分散液として使用することができる。 In addition, the blue pigment (b) used in the present invention is a colorant for blue pixels forming a color filter, and is excellent in high-definition color development, heat resistance, light resistance, chemical resistance, and the like. Any can be used. The above-mentioned blue pigment is not particularly limited in color tone, and includes a violet pigment which gives a blue color by mixing the blue pigment alone or with the blue pigment. The above-mentioned blue pigment can be used as a colored dispersion liquid which is dispersed in a dispersion medium composed of a known dispersant and solvent and, if necessary, a polymer in order to stabilize the dispersion of the pigment.
上記の青色系顔料としては、例えば、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物、具体的にはカラーインデックス（Ｃ．Ｉ）番号が付けられたものが挙げられ、例えば、Ｃ．Ｉピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉピグメントブルー２１、Ｃ．Ｉピグメントブルー２２、Ｃ．Ｉピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉピグメントブルー６４などの青色顔料、上記青色顔料と併用されるＣ．Ｉピグメントバイオレット１、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット１３、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット３０、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット３２、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット３６、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット３７、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット３８、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット４０、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット５０などのバイオレット顔料が挙げられる。 Examples of the blue pigment include compounds classified as pigments in the color index, specifically, those having a color index (CI) number. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I. Pigment blue 21, C.I. Pigment blue 22, C.I. Pigment blue 60, C.I. Blue pigments such as I. Pigment Blue 64, and C.I. Pigment Violet 1, C.I. Pigment Violet 13, C.I. Pigment Violet 19, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Violet 29, C.I. Pigment Violet 30, C.I. Pigment Violet 32, C.I. Pigment Violet 36, C.I. Pigment Violet 37, C.I. Pigment Violet 38, C.I. Pigment Violet 40, C.I. Violet pigments such as I Pigment Violet 50.
前記の分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系分散剤、ポリエチレングリコールジエステル系分散剤、脂肪酸変性ポリエステル系分散剤、アクリル系高分子分散剤、ウレタン系高分子分散剤などの高分子分散剤が挙げられる。上記の分散剤は、単独でも、あるいは２種以上を混合して使用することができる。 Examples of the dispersant include a polyoxyethylene alkyl ether dispersant, a polyethyleneimine dispersant, a polyoxyethylene alkylphenyl ether dispersant, a polyethylene glycol diester dispersant, a fatty acid-modified polyester dispersant, and an acrylic dispersant. Examples thereof include polymer dispersants such as polymer dispersants and urethane polymer dispersants. The above dispersants can be used alone or in admixture of two or more.
上記の分散剤としては、例えば、ビックケミー社からＤｉｓｐｅｒｂｙｋ（１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６８、１７０、１７１、１８０、１８２、１８３、１８４、１８５、２０００、２００１、２０２０、２０５０、２０７０、２０９６、２１５０、１０１、１０２、１０３、１０６、１０８、１０９、１１０、１１１、１１２、１１６、１３０、１４０、１４２、１４５など）また、味の素ファインテクノ（株）からアジスパー（ＰＢ８２１、ＰＢ７１１、ＰＢ８２２、ＰＢ８２３、ＰＢ８２４、ＰＢ８２７、ＰＮ４１１、ＰＡ１１１など）また、Ｃｏｇｎｉｓ社からテキサホール（Ｐ６１、Ｐ６３、Ｔ−９６４など）また、エフカケミカルズ社からＥＦＫＡ（４０４６、４０４７、４０６０、４３００、４３３０など）の商品名で入手して本発明で使用することができる。 Examples of the dispersant include Disperbyk (161, 162, 163, 164, 165, 168, 170, 171, 180, 182, 183, 184, 185, 2000, 2001, 2020, 2050, 2070, from Big Chemie, Inc. 2096, 2150, 101, 102, 103, 106, 108, 109, 110, 111, 112, 116, 130, 140, 142, 145, etc.) Also, from Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., Ajisper (PB821, PB711, PB822, PB823, PB824, PB827, PN411, PA111, etc.) Coxnis from Texahol (P61, P63, T-964, etc.) and EFKA Chemicals from EFKA (4046, 4047, 4060, 4300, 4330, etc.) Get under the trade name can be used in the present invention.
また、本発明で使用するフッ素系界面活性剤（ｃ）は、得られるレジスト組成物のカラーフィルター基板へのレベリング性、解像性、密着性を付与するために配合する。上記のフッ素系界面活性剤としては、公知のフッ素系界面活性剤を使用することができ、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルスルホン酸塩などが挙げられる。上記のフッ素系界面活性剤は、ＤＩＣ（ディアイシ）社からメガファックＲ−０８ＭＨなどの商品名で、また、スリーエム社からフローラードなどの商品名で入手して本発明で使用することができる。上記フッ素系界面活性剤（ｃ）の配合量は、レジスト組成物総量中に０．１質量％〜０．４質量％、好ましくは０．２質量％〜０．３質量％である。上記の配合量が多すぎると、得られるレジスト組成物のカラーフィルター用基板への密着性を阻害するので好ましくない。一方、その配合量が少なすぎると、前記界面活性剤としての効果が得られない。 In addition, the fluorine-based surfactant (c) used in the present invention is blended in order to impart leveling properties, resolution and adhesion to the color filter substrate of the resulting resist composition. As the above-mentioned fluorine-based surfactant, a known fluorine-based surfactant can be used, and examples thereof include perfluoroalkyl carboxylic acid and perfluoroalkyl sulfonate. The above-mentioned fluorosurfactant can be used in the present invention after being obtained from DIC (trade name) under a trade name such as Megafax R-08MH or from 3M under the trade name such as Florard. The blending amount of the fluorosurfactant (c) is 0.1% by mass to 0.4% by mass, preferably 0.2% by mass to 0.3% by mass in the total amount of the resist composition. If the amount is too large, the adhesion of the resulting resist composition to the color filter substrate is hindered. On the other hand, if the blending amount is too small, the effect as the surfactant cannot be obtained.
本発明のレジスト組成物は、さらに、分子中に１個のメルカプト基を有する単官能チオール化合物を含有するのが好ましい。上記の化合物は、得られるレジスト組成物の露光感度の向上に効果がある。その配合量は、レジスト組成物総量中に０．１質量％〜０．２質量％、好ましくは０．１５質量％〜０．１８質量％である。上記の配合量が多すぎても、それ以上の効果がなく、一方、その配合量が少なすぎると、露光感度の向上効果が得られない。 The resist composition of the present invention preferably further contains a monofunctional thiol compound having one mercapto group in the molecule. Said compound is effective in the improvement of the exposure sensitivity of the resist composition obtained. The compounding amount is 0.1% by mass to 0.2% by mass, preferably 0.15% by mass to 0.18% by mass, based on the total amount of the resist composition. If the amount is too large, there is no further effect. On the other hand, if the amount is too small, the effect of improving the exposure sensitivity cannot be obtained.
上記の単官能チオール化合物としては、例えば、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトピリジン、４−アミノ−６−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカプト−４−メチルピリミジン、２−メルカプトピリミジン、２−メルカプト−１−メチルイミダゾール、２−メルカプト−５−チアゾリドンなど、およびそれらの混合物の単官能チオール化合物が挙げられる。 Examples of the monofunctional thiol compound include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptopyridine, 4-amino-6-hydroxy-2-mercapto. And monofunctional thiol compounds such as pyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-1-methylimidazole, 2-mercapto-5-thiazolidone, and the like, and mixtures thereof.
本発明のレジスト組成物は、前記のクリアレジスト（ａ）と、青色系顔料（ｂ）と、フッ素系界面活性剤（ｃ）と、ＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）と有機溶媒および必要に応じてさらに単官能チオール化合物、その他添加剤を配合して、混合分散することにより得られ、好ましくは濾過して調製される。上記の混合分散は、例えば、ビーズミル、ボールミル、ディゾルバー、ニーダー、２本ロール、３本ロール、高圧分散機、超音波分散機、好ましくはビーズミルを使用して行われる。使用するビーズは、直径０．１ｍｍ〜２ｍｍのジルコニア製のものが好ましく使用される。上記の青色系顔料（ｂ）としては、好ましくは青色系顔料分散液として調製されたものを使用する。上記の青色系顔料分散液は、前記の青色系顔料（ｂ）と、分散剤と、および必要に応じてクリアレジストを配合して有機溶媒中で微細分散を行い調製される。また、上記のクリアレジスト（ａ）は、該レジストを調製する際に上記のＹＡＧレーザー重合開始剤を混合して調製することもできる。 The resist composition of the present invention comprises the above-mentioned clear resist (a), blue pigment (b), fluorine-based surfactant (c), YAG laser polymerization initiator (d), an organic solvent, and as necessary. Further, it is obtained by blending a monofunctional thiol compound and other additives, mixing and dispersing, and preferably by filtration. The above mixing and dispersion is performed using, for example, a bead mill, a ball mill, a dissolver, a kneader, a two-roll, a three-roll, a high-pressure disperser, an ultrasonic disperser, and preferably a bead mill. As the beads to be used, those made of zirconia having a diameter of 0.1 mm to 2 mm are preferably used. As the blue pigment (b), those prepared as a blue pigment dispersion are preferably used. The blue pigment dispersion is prepared by finely dispersing in an organic solvent by blending the blue pigment (b), a dispersant, and, if necessary, a clear resist. Moreover, said clear resist (a) can also be prepared by mixing said YAG laser polymerization initiator, when preparing this resist.
上記のレジスト組成物の調製に使用される有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、メチル−３−メトキシプロピオネート、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｉ−アミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチルなどのエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルなどのグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、などのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルなどのジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノンなどのケトン類；エタノール、プロパノール、ブタノール、３−メトキシブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類、β−プロピオラクトン、γ−バレロラクトン、γ−ブチルラクトン、γ−カプロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンなどのラクトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類などの有機溶媒、およびそれらの混合物が挙げられる。 Examples of the organic solvent used for preparing the resist composition include propylene glycol monoalkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monopropyl ether acetate; 3-methyl -3-methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypropyl acetate, methyl-3-methoxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate , Ethyl 3-ethoxypropionate, n-butyl acetate, n-propyl acetate, i-butyl acetate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-butyrate , Esters such as methyl acetoacetate and ethyl acetoacetate; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether; ethylene glycol monomethyl ether Ethylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-propyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate; diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono- n-propyl ether, diethylene glycol mono- -Diethylene glycol monoalkyl ethers such as butyl ether; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3- Ketones such as heptanone; alcohols such as ethanol, propanol, butanol, 3-methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, β-propiolactone, γ-valerolactone , Γ-butyllactone, γ-caprolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone, and the like; N, N-dimethylform Examples include amides, organic solvents such as amides such as N, N-dimethylacetamide, and mixtures thereof.
また、前記の添加剤としては、本発明の目的を妨げない範囲において、得られるレジスト組成物のカラーフィルター用ガラス基板への密着性を向上させる目的でのアクリル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤などのシランカップリング剤、また、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔブチルフェノール）などの酸化防止剤、アルコキシベンゾフェノンなどの紫外線吸収剤、その他、ポリアクリル酸ナトリウムなどの凝集防止剤、消泡剤などが挙げられる。 In addition, as the additive, an acrylic silane coupling agent and an epoxy silane for the purpose of improving the adhesion of the resulting resist composition to the glass substrate for a color filter, as long as the object of the present invention is not hindered. Silane coupling agents such as coupling agents, antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-tbutylphenol), ultraviolet absorbers such as alkoxybenzophenone, and other aggregates such as sodium polyacrylate An inhibitor, an antifoamer, etc. are mentioned.
（カラーフィルター用画素形成方法）
次に、本発明により調製されたレジスト組成物を使用して、カラーフィルター用画素を形成する方法について説明する。上記の画素形成方法としては、例えば、画素パターンを形成する部分を区画するように遮光層の金属系薄膜のブラックマトリックスが形成されたガラスなどのカラーフィルター用基板上に、本発明のレジスト組成物を、回転塗布、流延塗布、浸漬塗布、ロール塗布などの公知の塗布方法にて塗布し、予備加熱により有機溶媒を蒸発させ、０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは１〜３μｍ（乾燥厚み）の塗膜を形成する。次に、該塗布膜に目的の画素を形成するためのフォトマスクを介してＹＡＧレーザー、好ましくはＹＡＧレーザーの第３高調波（３５５ｎｍ）を照射し露光する。露光後、ＹＡＧレーザーで硬化した塗膜を公知のアルカリ現像液を使用してスプレー法、ディップ法、シャワー法、パドル法などの公知方法により現像処理を行い、塗膜の末露光部分を溶解除去して、青色に着色された画素が所定の画素パターン区画に形成される。現像後、上記画素は、１５０℃〜２５０℃で５〜６０分程度ポストベーク（熱硬化）を行うのが好ましい。
(Color filter pixel formation method)
Next, a method of forming a color filter pixel using the resist composition prepared according to the present invention will be described. As the above-mentioned pixel forming method, for example, the resist composition of the present invention is formed on a color filter substrate such as glass on which a black matrix of a metal-based thin film of a light shielding layer is formed so as to partition a portion for forming a pixel pattern. Is applied by a known coating method such as spin coating, cast coating, dip coating, roll coating, etc., and the organic solvent is evaporated by preheating to a thickness of 0.1 μm to 10 μm, preferably 1 to 3 μm (dry thickness). Form a coating film. Next, exposure is performed by irradiating the coating film with a third harmonic (355 nm) of a YAG laser, preferably a YAG laser, through a photomask for forming a target pixel. After exposure, the coating film cured with a YAG laser is developed by a known method such as a spray method, dip method, shower method, paddle method, etc. using a known alkaline developer, and the final exposed portion of the coating film is dissolved and removed. Thus, a pixel colored in blue is formed in a predetermined pixel pattern section. After the development, the pixel is preferably post-baked (heat cured) at 150 to 250 ° C. for about 5 to 60 minutes.
上記のＹＡＧレーザーは、従来の紫外線に比べて指向性が優れていることから、レンズなどによる光の集光性がよいために露光するエネルギー密度を高めることができ、露光照射時間を短縮でき、また、微細でコントラストの高い露光ができる。とくに、第３高調波のＹＡＧレーザーが効果が大きい。一般的に、とくに、青色系顔料を用いたレジスト組成物は、従来の紫外線露光では、エネルギーが小さいために走査型露光方法では露光時間が大幅に増大し生産性が低下したり、また、レジスト自体が露光硬化しない。 The above YAG laser is superior in directivity compared to conventional ultraviolet rays, so that it is possible to increase the energy density for exposure because the light condensing property by a lens or the like is good, and the exposure irradiation time can be shortened. In addition, fine and high-contrast exposure can be performed. In particular, the third harmonic YAG laser is very effective. In general, in particular, a resist composition using a blue pigment has a low energy in the conventional ultraviolet exposure, so that the exposure time is greatly increased and the productivity is lowered in the scanning exposure method. It does not cure itself.
前記のＹＡＧレーザーは、その波長（Ｈ）が３５５ｎｍ≦Ｈ＜１０６４ｎｍ、好ましくは３５５ｎｍ≦Ｈ≦５３２ｎｍ、とくに好ましくは３５５ｎｍの第３高調波である。上記ＹＡＧレーザーは、単一波長のレーザーでも、あるいは、２種以上の波長を有する混合レーザーでも構わない。上記ＹＡＧレーザーは、ＹＡＧレーザー発振器を有する公知のＹＡＧレーザー露光機を用いて使用され、例えば、（株）ブイ・テクノロジー社のＹＡＧレーザー露光機が挙げられる。上記のＹＡＧレーザーは、例えば、ＹＡＧレーザーの基本波長である１０６４ｎｍの波長の赤外レーザーをレンズにより収束させ、第１の非線形光学結晶素子（ＫＴＰ、ＢＢＯなど）を通過させて得られる上記基本波とその半分の波長（５３２ｎｍ）の第２高調波（２倍波）が混合した混合レーザーを収束させ、第２の非線形光学結晶素子（ＬＢＯ、ＢＢＯなど）を通過させ、基本波と第２高調波と、さらに、基本波の１／３の波長（３５５ｎｍ）の第３高調波（３倍波）が混合した混合レーザーから、第３高調波（３倍波）のレーザーを分離して使用するものである。 The YAG laser has a third harmonic whose wavelength (H) is 355 nm ≦ H <1064 nm, preferably 355 nm ≦ H ≦ 532 nm, particularly preferably 355 nm. The YAG laser may be a single wavelength laser or a mixed laser having two or more wavelengths. The YAG laser is used by using a known YAG laser exposure machine having a YAG laser oscillator, and examples thereof include a YAG laser exposure machine manufactured by Buoy Technology Co., Ltd. The above-mentioned fundamental wave obtained by, for example, converging an infrared laser having a wavelength of 1064 nm, which is the fundamental wavelength of a YAG laser, with a lens and passing through a first nonlinear optical crystal element (KTP, BBO, etc.) And a mixed laser in which the second harmonic (second harmonic) having a half wavelength (532 nm) is mixed is converged and passed through the second nonlinear optical crystal element (LBO, BBO, etc.), and the fundamental wave and the second harmonic. A third harmonic (third harmonic) laser is used by separating it from a mixed laser in which a wave and a third harmonic (third harmonic) having a wavelength of 1/3 of the fundamental wave (355 nm) are mixed. Is.
前記の画素形成方法において、使用するＹＡＧレーザーは、第３高調波（３５５ｎｍ）が好ましい。上記の波長を有するＹＡＧレーザーが、高感度のカラーフィルター用の青色の画素を得るのにとくに有効である。 In the above pixel forming method, the YAG laser to be used is preferably the third harmonic (355 nm). A YAG laser having the above wavelength is particularly effective for obtaining a blue pixel for a highly sensitive color filter.
また、前記現像に使用されるアルカリ現像液としては、無機アルカリ類、あるいは有機アルカリ類のアルカリ水溶液であり、必要に応じて、界面活性剤や水溶性有機溶剤を適宜含有することができる。上記の無機アルカリ類としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、珪酸カリウム、珪酸ナトリウムなどが挙げられる。また、上記の有機アルカリ類としては、１級、２級、および３級のアミン類、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、４級アンモニウム塩、アルコールアミン類、環状アミン類などが挙げられ、具体的には、例えば、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、トリエタノールアミン、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４，３，０］−５−ノネンなどが挙げられる。上記の現像液としては、例えば、ヘンケル・ジャパン（株）から、ＤｉｓｐｅｒｓｅＨの商品名で入手して本発明で使用することができる。 The alkali developer used for the development is an alkaline aqueous solution of an inorganic alkali or an organic alkali, and can contain a surfactant and a water-soluble organic solvent as needed. Examples of the inorganic alkali include sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium silicate, and sodium silicate. Examples of the organic alkalis include primary, secondary, and tertiary amines, tetraalkylammonium hydroxides, quaternary ammonium salts, alcohol amines, and cyclic amines. Are, for example, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, tetramethylammonium hydroxide, choline, triethanolamine, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo- [ 4,3,0] -5-nonene and the like. As said developing solution, it can obtain with the brand name of DisperseH from Henkel Japan, for example, and can be used by this invention.
次に本発明のレジスト組成物Ｗ１〜Ｗ４と比較例のレジスト組成物Ｘ１〜Ｘ２を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、文中の「部」または「％」とあるのは質量基準である。なお、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。 Next, the present invention will be described more specifically with reference to resist compositions W1 to W4 of the present invention and resist compositions X1 to X2 of comparative examples. In the text, “part” or “%” is based on mass. In addition, this invention is not limited to the following Example.
［実施例１〜４］（レジスト組成物Ｗ１〜Ｗ４）
クリアレジスト（ａ）、青色系着色剤（ｂ）、フッ素系界面活性剤（ｃ）、ＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）、添加剤、および有機溶媒の各々の成分を表３のように配合しビーズミルを使用して均一に混合分散してレジスト組成物Ｗ１〜Ｗ４を調製した。なお、上記のクリアレジスト（ａ）、青色系着色剤（ｂ）、およびＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）は、下記のとおりに調製したものである。
[Examples 1 to 4] (Resist compositions W1 to W4)
The components of clear resist (a), blue colorant (b), fluorosurfactant (c), YAG laser polymerization initiator (d), additive, and organic solvent are blended as shown in Table 3. Resist compositions W1 to W4 were prepared by uniformly mixing and dispersing using a bead mill. The clear resist (a), the blue colorant (b), and the YAG laser polymerization initiator (d) are prepared as follows.
［クリアレジスト（ａ）］
ベンジルマレイミド／シクロヘキシルメタアクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリル酸／グリシジルメタアクリレートの共重合体（組成比率８．６／５８．１／０．９／１８．２／１４．２（％）、重量平均分子量１２，４００（ＧＰＣのポリスチレン換算分子量））が１０．１２部と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが１２．９５部と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが１５．２０部との混合物。
[Clear resist (a)]
Copolymer of benzylmaleimide / cyclohexyl methacrylate / methyl methacrylate / methacrylic acid / glycidyl methacrylate (composition ratio 8.6 / 58.1 / 0.9 / 18.2 / 14.2 (%), weight average A mixture of 10.12 parts molecular weight 12,400 (GPC polystyrene equivalent molecular weight), 12.95 parts dipentaerythritol hexaacrylate, and 15.20 parts propylene glycol monomethyl ether acetate.
［青色系着色剤（ｂ）］
下記のとおり着色分散液としたものを使用する。
・ｂ１：Ｃ．Ｉピグメントブルー１５：６が１３部、Ｃ．Ｉピグメントバイオレット１３が４部、アクリル系高分子分散剤（ビックケミー社製、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ２００１）が３部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが８０部とからなる着色分散液。
・ｂ２：Ｃ．Ｉピグメントブルー１５：６が１２．９６部、アクリル系高分子分散剤（ビックケミー社製、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ２００１）が２．６０部、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートが１．１８部、エチレングリコールモノブチルエーテルが１．１８部、プロピレングリコールモノメチルエーテルが０．９７部、アクリル系ポリマー（新中村化学（株）製、ＮＢ−５７）が５．００部とからなる着色分散液。
[Blue colorant (b)]
A colored dispersion is used as described below.
B1: C.I. I. Pigment Blue 15: 6 is 13 parts, C.I. A colored dispersion comprising 4 parts of I Pigment Violet 13, 3 parts of an acrylic polymer dispersant (Disperbyk 2001, manufactured by Big Chemie) and 80 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate.
B2: C.I. Pigment Blue 15: 6 is 12.96 parts, acrylic polymer dispersant (Disperbyk 2001, manufactured by Big Chemie) is 2.60 parts, propylene glycol monoethyl ether acetate is 1.18 parts, and ethylene glycol monobutyl ether is 1. A colored dispersion comprising 18 parts, 0.97 parts of propylene glycol monomethyl ether, and 5.00 parts of an acrylic polymer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NB-57).
［フッ素系界面活性剤（ｃ）］
ＤＩＣ（ディアイシ）社製、メガファックＲ−０８ＭＨ（ポリプロピレングリコール４０％溶液）。
[Fluorosurfactant (c)]
Megafac R-08MH (polypropylene glycol 40% solution), manufactured by DIC
［ＹＡＧレーザー重合開始剤（ｄ）］
・ｄ−１：前記化合物１が１．２３部と、２，４−ジエチルチオキサントンが１．２３部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが５．７３部との混合物。
・ｄ２：前記化合物２が１．２３部と、２，４−ジエチルチオキサントンが１．２３部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが５．７３部との混合物。
・ｄ３：前記化合物３が１．２３部と、２，４−ジエチルチオキサントンが１．２３部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが５．７３部との混合物。
・ｄ４：前記化合物１が０．５部と、前記化合物２が０．５部と、前記化合物３が０．２３部と、２，４−ジエチルチオキサントンが１．２３部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが５．７３部との混合物。
[YAG laser polymerization initiator (d)]
D-1: 1.23 parts of the compound 1, 1.23 parts of 2,4-diethylthioxanthone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one Is a mixture of 5.73 parts.
D2: 1.23 parts of the compound 2, 1.23 parts of 2,4-diethylthioxanthone, and 5 of 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one Mixture with 73 parts.
D3: 1.23 parts of the compound 3, 1.23 parts of 2,4-diethylthioxanthone, and 5 of 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one Mixture with 73 parts.
D4: 0.5 part of Compound 1, 0.5 part of Compound 2, 0.23 part of Compound 3, 1.23 part of 2,4-diethylthioxanthone, 2-methyl- A mixture of 1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one with 5.73 parts.
［比較例１］（レジスト組成物Ｘ１）
実施例１において、ＹＡＧレーザー重合開始剤ｄ１を使用しない代わりに、２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２−ビイミダゾールが１．２３部と、２，４−ジエチルチオキサントンが１．２３部と、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが５．７３部との混合物からなる光重合開始剤を使用する以外は実施例１と同様にしてレジスト組成物Ｘ１を調製した。
[Comparative Example 1] (Resist composition X1)
In Example 1, instead of using the YAG laser polymerization initiator d1, 2,2-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2-biimidazole was 1. Light comprising a mixture of 23 parts, 1.23 parts 2,4-diethylthioxanthone, and 5.73 parts 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one Resist composition X1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymerization initiator was used.
［比較例２］（レジスト組成物Ｘ２）
実施例２において、ＹＡＧレーザー重合開始剤ｄ２を使用しない代わりに、２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２−ビイミダゾールの光重合開始剤を用いる以外は実施例２と同様にしてレジスト組成物Ｘ２を調製した。
[Comparative Example 2] (Resist Composition X2)
In Example 2, instead of using the YAG laser polymerization initiator d2, photopolymerization of 2,2-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2-biimidazole Resist composition X2 was prepared in the same manner as in Example 2 except that the initiator was used.
前記の実施例および比較例で得られた各々のレジスト組成物を使用して、カラーフィルター用ガラス基板（１００ｍｍ角）上にスピンコーターにて６００ｒｐｍ、２ｓｅｃの条件にて２μｍの厚み（乾燥厚み）にスピンコートし、８０℃のホットプレート上で３分間予備乾燥させ塗膜を形成した後、青色画素パターンを得るフォトマスクを介して、第３高調波のＹＡＧレーザー（（株）ブイ・テクノロジー社製、ＹＡＧレーザー露光機、３５５ｎｍを使用）を照射して露光し、次に、ヘンケル・ジャパン（株）製、ＤｉｓｐｅｒｓｅＨの１００倍希釈水溶液を使用して、０．１５Ｍｐａの水圧にて６０秒間スプレー現像し、現像後、２３０℃で３０分間熱硬化処理して青色画素を形成した。上記の青色画素を形成するためのレジスト組成物の感度に関して下記の測定方法により評価した。 Using each resist composition obtained in the above Examples and Comparative Examples, a thickness of 2 μm (dry thickness) on a glass substrate for color filter (100 mm square) with a spin coater at 600 rpm for 2 sec. After spin coating on a hot plate at 80 ° C. for 3 minutes to form a coating film, a third harmonic YAG laser (buoy technology Co., Ltd.) was passed through a photomask to obtain a blue pixel pattern. Manufactured by YAG laser exposure machine, using 355 nm), and then sprayed for 60 seconds at a water pressure of 0.15 Mpa using a 100-fold diluted aqueous solution of Disperse H manufactured by Henkel Japan K.K. Development was performed, and after the development, a blue pixel was formed by thermosetting at 230 ° C. for 30 minutes. The sensitivity of the resist composition for forming the blue pixel was evaluated by the following measuring method.
（感度）
上記の青色画素形成工程における現像において、第３高調波（３５５ｎｍ）のＹＡＧレーザーの照射量を変えて露光し、レジストが残ったところの露光量（ｍＪ／ｃｍ2）を感度とした。評価結果を表２に示す。上記の感度は、露光量（照射量）の値が小さいほど感度が高く、すなわち、感度が高ければ、それだけ少ない照射量でレジストを感じさせることができる。一方、その値が大きいほど感度が低い。
(sensitivity)
In the development in the blue pixel forming step, exposure was performed by changing the irradiation amount of the third harmonic (355 nm) YAG laser, and the exposure amount (mJ / cm 2 ) where the resist remained was defined as sensitivity. The evaluation results are shown in Table 2. The sensitivity is higher as the exposure value (irradiation amount) is smaller. That is, if the sensitivity is higher, the resist can be felt with a smaller irradiation amount. On the other hand, the greater the value, the lower the sensitivity.
上記の評価結果より、本発明の青色系のレジスト組成物は、ＹＡＧレーザー露光により、特に、第３高調波のＹＡＧレーザーにより少ない照射量で露光することができ、高感度で青色画素を形成するのに有効であることが実証された。一方、比較例の青色系のレジスト組成物は、本発明のレジスト組成物に比べてかなり多い照射量で露光する必要があり青色画素を形成する感度が劣っていた。 From the above evaluation results, the blue resist composition of the present invention can be exposed with YAG laser exposure, particularly with a third harmonic YAG laser with a small dose, and forms a blue pixel with high sensitivity. It was proved effective. On the other hand, the blue resist composition of the comparative example had to be exposed with a considerably larger dose than the resist composition of the present invention, and the sensitivity to form blue pixels was inferior.
本発明のレジスト組成物は、ＹＡＧレーザーを用いて高感度で露光硬化できることから、液晶表示装置のカラーフィルター用の青色画素を、ＹＡＧレーザーを用いて製造するためのレジスト組成物として有効に使用することができる。 Since the resist composition of the present invention can be exposed and cured with high sensitivity using a YAG laser, the blue pixel for a color filter of a liquid crystal display device is effectively used as a resist composition for manufacturing using a YAG laser. be able to.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010039475A (en) * | 2008-06-10 | 2010-02-18 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition for ultraviolet laser exposure, pattern forming method, color filter manufactured using the method, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display |
| JP2010243518A (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Photosensitive colored composition and color filter |
| JP2011253152A (en) * | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | Photosensitive coloring agent, and color filter using the same |
| CN102819188A (en) * | 2011-06-10 | 2012-12-12 | 住友化学株式会社 | Coloring photosensitive resin composition |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007041308A (en) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Fujifilm Holdings Corp | Color filter, method for manufacturing same, and image display device |
| JP2007133377A (en) * | 2005-10-12 | 2007-05-31 | Toray Ind Inc | Photosensitive resin composition |
| JP2007333885A (en) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Photosensitive colored composition and color filter formable from the same |
| JP2008089708A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | Photocurable composition, and color filter for image sensor and method for producing the same |
| JP2008122750A (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Toray Ind Inc | Photosensitive resist composition for color filter, and the color filter |
| JP2008146043A (en) * | 2006-11-15 | 2008-06-26 | Taiyo Ink Mfg Ltd | Photosensitive composition |
| JP2010072633A (en) * | 2008-08-19 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | Color filter, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display device |
-
2008
- 2008-10-01 JP JP2008256327A patent/JP2010085833A/en active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007041308A (en) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Fujifilm Holdings Corp | Color filter, method for manufacturing same, and image display device |
| JP2007133377A (en) * | 2005-10-12 | 2007-05-31 | Toray Ind Inc | Photosensitive resin composition |
| JP2007333885A (en) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Photosensitive colored composition and color filter formable from the same |
| JP2008089708A (en) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | Photocurable composition, and color filter for image sensor and method for producing the same |
| JP2008122750A (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Toray Ind Inc | Photosensitive resist composition for color filter, and the color filter |
| JP2008146043A (en) * | 2006-11-15 | 2008-06-26 | Taiyo Ink Mfg Ltd | Photosensitive composition |
| JP2010072633A (en) * | 2008-08-19 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | Color filter, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display device |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010039475A (en) * | 2008-06-10 | 2010-02-18 | Fujifilm Corp | Photosensitive resin composition for ultraviolet laser exposure, pattern forming method, color filter manufactured using the method, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display |
| JP2010243518A (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Photosensitive colored composition and color filter |
| JP2011253152A (en) * | 2010-06-04 | 2011-12-15 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | Photosensitive coloring agent, and color filter using the same |
| CN102819188A (en) * | 2011-06-10 | 2012-12-12 | 住友化学株式会社 | Coloring photosensitive resin composition |
| JP2012255963A (en) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Colored photosensitive resin composition |
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