JP2010085433A - アライメントマーク部のマーク位置検出方法およびカラーフィルタ形成基板の作製方法。 - Google Patents
アライメントマーク部のマーク位置検出方法およびカラーフィルタ形成基板の作製方法。 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010085433A JP2010085433A JP2008251158A JP2008251158A JP2010085433A JP 2010085433 A JP2010085433 A JP 2010085433A JP 2008251158 A JP2008251158 A JP 2008251158A JP 2008251158 A JP2008251158 A JP 2008251158A JP 2010085433 A JP2010085433 A JP 2010085433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment mark
- mark
- colored layer
- color filter
- alignment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【課題】１層目の着色層で形成されたマーク上に２層目を形成するための樹脂着色層を塗布した状態でも、マークの位置を検出できるアライメントマーク部の位置検出方法及びそれを用いたカラーフィルタ形成基板の作製方法を提供する。
【解決手段】透明基板１０の一面に、着色層からなるマーク２１と、マークを覆うように塗布された着色樹脂層２２とを有し、着色樹脂層がマークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部２０とし、アライメントマーク部のマークの位置を検出するための方法であって、撮像装置４０により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサ４１により、アライメントマーク部２０領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、アライメントマーク部の位置を検出するもので、撮像装置による撮影は、アライメントマーク部を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するものである。
【選択図】図１
【解決手段】透明基板１０の一面に、着色層からなるマーク２１と、マークを覆うように塗布された着色樹脂層２２とを有し、着色樹脂層がマークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部２０とし、アライメントマーク部のマークの位置を検出するための方法であって、撮像装置４０により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサ４１により、アライメントマーク部２０領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、アライメントマーク部の位置を検出するもので、撮像装置による撮影は、アライメントマーク部を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するものである。
【選択図】図１
Description
本発明は、アライメントマーク部のマーク位置検出方法と、該アライメントマーク部のマーク位置検出方法を用いたディスプレイ装置用のカラーフィルタ形成基板の作製方法、特に、液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板の作製方法に関する。
近年、情報化社会への進展が著しく、ディスプレイ装置の使用も多様化し、種々のディスプレイ装置が開発、実用化されている。
特に、液晶表示装置は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ、ブラウン管) に代わり、広く普及されるようになってきた。
液晶表示装置用のカラー表示用の液晶パネルは、簡単には、ＴＦＴ基板（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）とカラーフィルタ形成基板（対向基板とも言う）とを対向させ、両基板間に液晶を密封し、更に、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ形成基板の外側に、それぞれ、偏向板を配し、ＴＦＴ基板の外側にバックライト部を配した構造で、バックライト部からの光が各色の着色層からなるカラーフィルタ（以下、ＣＦとも言う）を通過して表示されるが、各色の着色層からなるカラーフィルタを通過する光は、画素毎に液晶をスイッチング素子としてオン−オフ制御されている。
液晶を制御する方式としては、各基板に垂直な縦方向の電界によって、液晶の配向方向を基板に直交する面内で回転させる方式（垂直電界方式とも言う）と、基板に平行な横方向の電界によって、基板に平行な面内で回転させる方式（横電界方式とも言う）とがある。
垂直電界方式の代表例がＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）であり、横電界方式はＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式として知られている。
このような電界の制御は、通常、ＴＮ方式等の場合は、両基板にそれぞれ配設された透明導電膜（通常は、ＩＴＯ膜〜錫をドープしたインジウム酸化物）からなる制御用の電極により行い、ＩＰＳ方式（横電界方式）の場合は、ＴＦＴ基板に配設された透明導電膜（ＩＴＯ膜）の制御用の電極により行う。
最近では、垂直電界方式においては、良好に視野角を制御するために、カラーフィルタ形成基板に液晶配向機能突起が設けられるようになった。
特に、液晶表示装置は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ、ブラウン管) に代わり、広く普及されるようになってきた。
液晶表示装置用のカラー表示用の液晶パネルは、簡単には、ＴＦＴ基板（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）とカラーフィルタ形成基板（対向基板とも言う）とを対向させ、両基板間に液晶を密封し、更に、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ形成基板の外側に、それぞれ、偏向板を配し、ＴＦＴ基板の外側にバックライト部を配した構造で、バックライト部からの光が各色の着色層からなるカラーフィルタ（以下、ＣＦとも言う）を通過して表示されるが、各色の着色層からなるカラーフィルタを通過する光は、画素毎に液晶をスイッチング素子としてオン−オフ制御されている。
液晶を制御する方式としては、各基板に垂直な縦方向の電界によって、液晶の配向方向を基板に直交する面内で回転させる方式（垂直電界方式とも言う）と、基板に平行な横方向の電界によって、基板に平行な面内で回転させる方式（横電界方式とも言う）とがある。
垂直電界方式の代表例がＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）であり、横電界方式はＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式として知られている。
このような電界の制御は、通常、ＴＮ方式等の場合は、両基板にそれぞれ配設された透明導電膜（通常は、ＩＴＯ膜〜錫をドープしたインジウム酸化物）からなる制御用の電極により行い、ＩＰＳ方式（横電界方式）の場合は、ＴＦＴ基板に配設された透明導電膜（ＩＴＯ膜）の制御用の電極により行う。
最近では、垂直電界方式においては、良好に視野角を制御するために、カラーフィルタ形成基板に液晶配向機能突起が設けられるようになった。
そして、従来から、ＴＦＴ回路の形成用あるいはカラーフィルタ形成用のマスクとしては、透明基板の一面に転写時の露光光を実質的に遮光する遮光膜からなる、複数の図形パターンにて絵柄部全体を形成しているバイナリーマスクが用いられていたが、最近では、液晶表示パネルの作製の工程短縮を図るために、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスク（特開２００７−１８８０６９号公報参照）や、解像限界以下の微細なスリットを配置して、露光量を調整する微細なスリットを有するスリットマスク（特開２００２−１９６４７４号公報参照）の使用が行われるようになってきた。
例えば、階調マスクを用いて一括露光することにより、液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板における、液晶パネルの液晶を保持する間隔を制御するための柱状スペーサ（単に柱とも言う）および液晶配向機能突起を、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが可能となる。（特開２００５−８４３６６号公報参照）
尚、階調マスクを作製するためには、例えば、透明基板上に半透明膜と遮光膜とが積層された専用のマスクブランクを使用し、マスクパターン製版を行えば良く、階調マスクは、スリットマスクのように微細なスリットを配置する必要がない点で有利である。
このような、階調マスクでは、透過率の異なる領域によって透過光の量を制御することにより、現像後のレジストの膜厚を２段階に制御することができる。
特開２００７−１８８０６９号公報
特開２００２−１９６４７４号公報
特開２００５−８４３６６号公報
例えば、階調マスクを用いて一括露光することにより、液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板における、液晶パネルの液晶を保持する間隔を制御するための柱状スペーサ（単に柱とも言う）および液晶配向機能突起を、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが可能となる。（特開２００５−８４３６６号公報参照）
尚、階調マスクを作製するためには、例えば、透明基板上に半透明膜と遮光膜とが積層された専用のマスクブランクを使用し、マスクパターン製版を行えば良く、階調マスクは、スリットマスクのように微細なスリットを配置する必要がない点で有利である。
このような、階調マスクでは、透過率の異なる領域によって透過光の量を制御することにより、現像後のレジストの膜厚を２段階に制御することができる。
上記のように、最近では、液晶表示パネルの作製の工程短縮を図り、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが行われるようになってきた。
しかし、通常、１層目の着色層でアライメントマークを形成し、該マークに合わせて２層目以降の着色層を形成することとなるが、２層目以降の着色層を形成するための樹脂着色層１層が、１層目の着色層からなるアライメントマーク上を覆う状態となるが、この状態での１層目の着色層からなるアライメントマークの認識は、現状のプロキシミティー露光機ではできない。
例えば、層構成が、透明基板側から順に、樹脂ＢＭ〜Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層〜ＩＴＯ膜〜柱からなるＴＮ方式のカラーフィルタ形成基板において、工程短縮のため、柱をＲ、Ｇ、Ｂの着色層の積層して形成する場合で、且つ、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層を、それぞれ、１層目の着色層、２層目の着色層、３層目の着色層としてこの順に形成する場合、アライメントマークが１層目の着色層（Ｒの着色層）で形成されるため、２層目以降のＧ、Ｂの着色層形成の工程、ＢＭ形成の工程におけるアライメント部は、２層目以降の着色層を形成するための樹脂着色層１層が、Ｒの着色層からなるアライメントマーク上を覆う状態となるが、現状のプロキシミティー露光機では、Ｒの着色層からなるアライメントマークを認識することができない。
このため、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにして、２層目以降の着色層を形成してアライメントを行っていた。（特願２００８−００８０２４参照）
また、１層目の着色層上にＩＴＯ膜が塗布された状態として、ＢＭ膜を形成して、アライメントを行っていた。（特願２００８−０１１８４８参照）
これらのアライメントの際、例えば、リング照明によりアライメントマーク部を照明して、ＣＣＤエリアセンサを撮像素子として撮像手段にて撮影していた。
特願２００８−００８０２４
特願２００８−０１１８４８ しかしながら、このようなアライメント方式の場合、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程が必要で、手間がかかり生産性の面や歩留まりの面で問題となっていた。
しかし、通常、１層目の着色層でアライメントマークを形成し、該マークに合わせて２層目以降の着色層を形成することとなるが、２層目以降の着色層を形成するための樹脂着色層１層が、１層目の着色層からなるアライメントマーク上を覆う状態となるが、この状態での１層目の着色層からなるアライメントマークの認識は、現状のプロキシミティー露光機ではできない。
例えば、層構成が、透明基板側から順に、樹脂ＢＭ〜Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層〜ＩＴＯ膜〜柱からなるＴＮ方式のカラーフィルタ形成基板において、工程短縮のため、柱をＲ、Ｇ、Ｂの着色層の積層して形成する場合で、且つ、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層を、それぞれ、１層目の着色層、２層目の着色層、３層目の着色層としてこの順に形成する場合、アライメントマークが１層目の着色層（Ｒの着色層）で形成されるため、２層目以降のＧ、Ｂの着色層形成の工程、ＢＭ形成の工程におけるアライメント部は、２層目以降の着色層を形成するための樹脂着色層１層が、Ｒの着色層からなるアライメントマーク上を覆う状態となるが、現状のプロキシミティー露光機では、Ｒの着色層からなるアライメントマークを認識することができない。
このため、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにして、２層目以降の着色層を形成してアライメントを行っていた。（特願２００８−００８０２４参照）
また、１層目の着色層上にＩＴＯ膜が塗布された状態として、ＢＭ膜を形成して、アライメントを行っていた。（特願２００８−０１１８４８参照）
これらのアライメントの際、例えば、リング照明によりアライメントマーク部を照明して、ＣＣＤエリアセンサを撮像素子として撮像手段にて撮影していた。
上記のように、最近では、液晶表示パネルの作製の工程短縮を図り、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが行われるようになってきた。
そして、その際、１層目の着色層で形成されるアライメントマークが露出するようにして、２層目以降の着色層を形成してアライメントを行う、または、１層目の着色層上にＩＴＯ膜が塗布された状態として、ＢＭ膜を形成してアライメントを行う、アライメント方法が採られていたが、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程が必要で、手間がかかり生産性の面や歩留まりの面で、その対応が求められていた。
本発明はこれに対応するもので、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法において、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないで、１層目の着色層で形成されるアライメントマークの位置を検出できるアライメントマーク部の位置検出方法を提供しようとするものである。
同時に、そのようなアライメントマーク部の位置検出方法を用いたカラーフィルタ形成基板の作製方法を提供しようとするものである。
そして、その際、１層目の着色層で形成されるアライメントマークが露出するようにして、２層目以降の着色層を形成してアライメントを行う、または、１層目の着色層上にＩＴＯ膜が塗布された状態として、ＢＭ膜を形成してアライメントを行う、アライメント方法が採られていたが、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程が必要で、手間がかかり生産性の面や歩留まりの面で、その対応が求められていた。
本発明はこれに対応するもので、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法において、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないで、１層目の着色層で形成されるアライメントマークの位置を検出できるアライメントマーク部の位置検出方法を提供しようとするものである。
同時に、そのようなアライメントマーク部の位置検出方法を用いたカラーフィルタ形成基板の作製方法を提供しようとするものである。
本発明のアライメントマーク部の位置検出方法は、透明基板の一面に、着色層からなるマークと、該マークを覆うように塗布された着色樹脂層１層とを有し、該着色樹脂層が前記マークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部の前記マークの位置を検出するための、アライメントマーク部のマーク位置検出方法であって、撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、前記アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するもので、前記撮像装置による撮影は、前記アライメントマーク部を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するものであることを特徴とするものである。
そして、上記のアライメントマーク部の位置検出方法であって、前記アライメントマーク部の、前記着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部（エッジ部とも言う）の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのアライメントマーク部のマーク位置検出方法であって、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際の、アライメントマーク部の位置検出方法であることを特徴とするものである。
尚、ここでは、平均傾きは、概略的に、アライメントマーク部の断面の表面形状が、図１（ｄ）の示すような場合、テーパー部（エッジ部）２２ｂの底の勾配が緩やかな立ち上がり部、頂点付近の勾配が緩やかな部分を除いた領域の平均勾配としている。
そして、上記のアライメントマーク部の位置検出方法であって、前記アライメントマーク部の、前記着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部（エッジ部とも言う）の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのアライメントマーク部のマーク位置検出方法であって、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際の、アライメントマーク部の位置検出方法であることを特徴とするものである。
尚、ここでは、平均傾きは、概略的に、アライメントマーク部の断面の表面形状が、図１（ｄ）の示すような場合、テーパー部（エッジ部）２２ｂの底の勾配が緩やかな立ち上がり部、頂点付近の勾配が緩やかな部分を除いた領域の平均勾配としている。
本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する着色層の数だけ行い、前記各カラーフィルタ部、ブラックマトリクス部（ＢＭ部とも言う）、柱部（スペーサとも言う）を形成するものであり、前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ（載置台とも言う）側にして載せ、フォトマスクを介してプロキシミティー露光方法にて行うもので、前記複数回行うフォトリソ工程における、２回目以降の各フォトリソ工程の際のアライメントは、前記透明基板側に設けられたアライメントマーク部と、露光用のフォトマスクのＣｒ等の遮光層からなるアライメントマーク部とを用い、各アライメントマーク部を、前記フォトマスクの光源側に設けられた撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出して、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであり、且つ、１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークと、該マークを覆う、２回目以降の各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とを、前記アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部を、正反射照明（落射照明）にて、前記撮像装置により撮影するものであることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記着色層からなるアライメントマーク部の、前記１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部（エッジ部）の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの絶対値が０．０２８以上であることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記着色層からなるアライメントマーク部の、前記１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部（エッジ部）の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの絶対値が０．０２８以上であることを特徴とするものである。
（作用）
本発明のアライメントマーク部の位置検出方法は、このような構成にすることにより、透明基板の一面に、着色層からなるマークと、該マークを覆うように塗布された着色樹脂層１層とを、アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部の前記マーク位置を検出することを可能としている。
具体的には、撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、前記アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するもので、前記撮像装置による撮影は、前記アライメントマーク部を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するものであることにより、これを達成している。
詳しくは、本願発明は、アライメントマーク部の表面を撮影してその形状が十分に認識できれば、着色層からなるマークのセンター位置（単にマーク位置とも言う）が、撮影されたアライメントマーク部のセンター位置に相当するという認識のもとに、正反射照明（落射照明）にて撮影することにより、アライメントマーク部の表面を撮影することによりその形状が十分に認識できることを見出して成したものです。
そして、特に、前記アライメントマーク部の、前記着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部の平均傾きをθとした場合、場合には、実用レベルで良く認識できる。 透明基板の一面に、着色層からなるマークと、該マークを覆うように塗布された着色樹脂層１層とからなり、該着色樹脂層が前記マークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部とした場合、そのテーパー部の形状は、各箇所において凹凸のある形状で、テーパー部の平均傾きの値によっては、撮影の際、この凹凸形状部分に照明された光は一定方向でなく散乱されて一部は撮像装置のレンズ系を介してＣＣＤエリアセンサに入る光の量が大きくなり、アライメントマーク部の頂部やエッジ底の面部と区分けが難しくなる。
十分にテーパー部を認識するには、撮像装置のＣＣＤエリアセンサが撮影する輝度の階調を０〜２５５までの２５６階調とした場合、撮影した際に暗くなるテーパー部の輝度と、明るくなるアライメントマーク部の頂部やテーパー部の底側の面部との輝度差が１０以上であることが、実用レベルでは求められるが、上記ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合に、輝度差を１０以上とすることができることを意味する。
特に、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際の、アライメントマーク部の位置検出方法である場合には、有効である。
これにより、従来の、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないものとできる。
本発明のアライメントマーク部の位置検出方法は、このような構成にすることにより、透明基板の一面に、着色層からなるマークと、該マークを覆うように塗布された着色樹脂層１層とを、アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部の前記マーク位置を検出することを可能としている。
具体的には、撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、前記アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するもので、前記撮像装置による撮影は、前記アライメントマーク部を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するものであることにより、これを達成している。
詳しくは、本願発明は、アライメントマーク部の表面を撮影してその形状が十分に認識できれば、着色層からなるマークのセンター位置（単にマーク位置とも言う）が、撮影されたアライメントマーク部のセンター位置に相当するという認識のもとに、正反射照明（落射照明）にて撮影することにより、アライメントマーク部の表面を撮影することによりその形状が十分に認識できることを見出して成したものです。
そして、特に、前記アライメントマーク部の、前記着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部の平均傾きをθとした場合、場合には、実用レベルで良く認識できる。 透明基板の一面に、着色層からなるマークと、該マークを覆うように塗布された着色樹脂層１層とからなり、該着色樹脂層が前記マークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部とした場合、そのテーパー部の形状は、各箇所において凹凸のある形状で、テーパー部の平均傾きの値によっては、撮影の際、この凹凸形状部分に照明された光は一定方向でなく散乱されて一部は撮像装置のレンズ系を介してＣＣＤエリアセンサに入る光の量が大きくなり、アライメントマーク部の頂部やエッジ底の面部と区分けが難しくなる。
十分にテーパー部を認識するには、撮像装置のＣＣＤエリアセンサが撮影する輝度の階調を０〜２５５までの２５６階調とした場合、撮影した際に暗くなるテーパー部の輝度と、明るくなるアライメントマーク部の頂部やテーパー部の底側の面部との輝度差が１０以上であることが、実用レベルでは求められるが、上記ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合に、輝度差を１０以上とすることができることを意味する。
特に、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際の、アライメントマーク部の位置検出方法である場合には、有効である。
これにより、従来の、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないものとできる。
本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、このような構成にすることにより、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法で、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としない、カラーフィルタ形成基板の作製方法の提供を可能としている。
特に、カラーフィルター製造のパターン露光工程において、基板に対して落射光をあてて各種レジスト層下の着色アライメントマーク形状を認識させることにより、着色積層柱によるパターン形成を可能にし、ＴＮ品製造工程数削減を実現している。
特に、カラーフィルター製造のパターン露光工程において、基板に対して落射光をあてて各種レジスト層下の着色アライメントマーク形状を認識させることにより、着色積層柱によるパターン形成を可能にし、ＴＮ品製造工程数削減を実現している。
本発明は、上記のように、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法において、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないで、１層目の着色層で形成されるアライメントマークの位置を検出できるアライメントマーク部の位置検出方法の提供を可能とした。
同時に、そのようなアライメントマーク部の位置検出方法を用いたカラーフィルタ形成基板の作製方法の提供を可能とした。
特に、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、ＴＮ方式のカラーフィルタ形成基板品の作製に際し、アライメントマーク部検出のための余分の工程を設けることなく、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層からなる柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することを可能とした。
同時に、そのようなアライメントマーク部の位置検出方法を用いたカラーフィルタ形成基板の作製方法の提供を可能とした。
特に、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、ＴＮ方式のカラーフィルタ形成基板品の作製に際し、アライメントマーク部検出のための余分の工程を設けることなく、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層からなる柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することを可能とした。
本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１（ａ）は本発明のアライメントマーク部の位置検出方法の１例を示した概略断面図で、図１（ｂ）はアライメントマーク部を図１（ａ）のＡ１方向からみた図で、図１（ｃ）はアライメントマーク部の撮影画像を示した概略図で、図１（ｄ）はアライメントマーク部の表面の断面形状を示した図で、図２（ａ）は本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法の１例の概略構成を示した図で、図２（ｂ）は処理基板のアライメントマーク部とマスクのアライメントマークとを同じ座標系で重ねて示した図で、図３は図２（ａ）に示すアライメント方法の処理の１例のフロー図で、図４は本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の１例の処理フロー図で、図５は図４に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により作製されたカラーフィルタ形成基板の１例を示した断面図で、図６は本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の他の１例により作製されたカラーフィルタ形成基板の１例を示した断面図である。
尚、図１（ｃ）は、アライメントマーク部の頂部２２ａやエッジ底の面部２２ｃは輝度が高く白部として示し、暗部２０Ｂを斜線部として示しており、暗部２０Ｂは濃淡があるが、ここでは便宜上このように示している。
また、図１（ｄ）は、図１（ｃ）のＡ２−Ａ３における断面を示したものである。
また、図１（ａ）に示す撮像装置は簡略化して示されており、レンズ系は省略されている。
また、図３におけるＳ１〜Ｓ１０、図４におけるＳ２０〜Ｓ２９は処理ステップを示している。
図１〜図６中、１０は透明基板、１０ａは処理基板（カラーフィルタ形成用基板とも言う）、２０はアライメントマーク部、２０Ａは（アライメントマーク部の）撮影画像、２０Ｂは暗部、２０Ｃはアライメントマーク部の位置、２０Ｘはｘ方向のライン、２０Ｙはｙ方向のライン、２１は（着色層の）マーク、２２は着色樹脂層（着色層とも言う）、２２ａは頂部、２２ｂはテーパー部（エッジ部とも言う）、２２ｃは面部（テーパー部底側の面部とも言う）、３０はマスク、３１はアライメントマーク、３５はマスク保持部、４０は撮像装置、４１はＣＣＤエリアセンサ、４２はハーフミラー、４３は（照明用の）光源、４４はミラー、５０はステージ、５５は基板保持部、７１は１層目の着色層、７２は２層目の着色層、７３は３層目の着色層、７４はＩＴＯ膜、７５はＢＭ層（遮光性着色層とも言う）、７５Ａは半遮光性着色層、７６はブラックマトリクス部（単にブラックマトリクスとも言う）、８０、８０ａは柱状スペーサである。
図１（ａ）は本発明のアライメントマーク部の位置検出方法の１例を示した概略断面図で、図１（ｂ）はアライメントマーク部を図１（ａ）のＡ１方向からみた図で、図１（ｃ）はアライメントマーク部の撮影画像を示した概略図で、図１（ｄ）はアライメントマーク部の表面の断面形状を示した図で、図２（ａ）は本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法の１例の概略構成を示した図で、図２（ｂ）は処理基板のアライメントマーク部とマスクのアライメントマークとを同じ座標系で重ねて示した図で、図３は図２（ａ）に示すアライメント方法の処理の１例のフロー図で、図４は本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の１例の処理フロー図で、図５は図４に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により作製されたカラーフィルタ形成基板の１例を示した断面図で、図６は本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の他の１例により作製されたカラーフィルタ形成基板の１例を示した断面図である。
尚、図１（ｃ）は、アライメントマーク部の頂部２２ａやエッジ底の面部２２ｃは輝度が高く白部として示し、暗部２０Ｂを斜線部として示しており、暗部２０Ｂは濃淡があるが、ここでは便宜上このように示している。
また、図１（ｄ）は、図１（ｃ）のＡ２−Ａ３における断面を示したものである。
また、図１（ａ）に示す撮像装置は簡略化して示されており、レンズ系は省略されている。
また、図３におけるＳ１〜Ｓ１０、図４におけるＳ２０〜Ｓ２９は処理ステップを示している。
図１〜図６中、１０は透明基板、１０ａは処理基板（カラーフィルタ形成用基板とも言う）、２０はアライメントマーク部、２０Ａは（アライメントマーク部の）撮影画像、２０Ｂは暗部、２０Ｃはアライメントマーク部の位置、２０Ｘはｘ方向のライン、２０Ｙはｙ方向のライン、２１は（着色層の）マーク、２２は着色樹脂層（着色層とも言う）、２２ａは頂部、２２ｂはテーパー部（エッジ部とも言う）、２２ｃは面部（テーパー部底側の面部とも言う）、３０はマスク、３１はアライメントマーク、３５はマスク保持部、４０は撮像装置、４１はＣＣＤエリアセンサ、４２はハーフミラー、４３は（照明用の）光源、４４はミラー、５０はステージ、５５は基板保持部、７１は１層目の着色層、７２は２層目の着色層、７３は３層目の着色層、７４はＩＴＯ膜、７５はＢＭ層（遮光性着色層とも言う）、７５Ａは半遮光性着色層、７６はブラックマトリクス部（単にブラックマトリクスとも言う）、８０、８０ａは柱状スペーサである。
はじめに、本発明のアライメントマーク部の位置検出方法の１例を、図１に基づいて説明する。
本例のアライメントマーク部の位置検出方法は、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際に採られる、アライメントマーク部の位置検出方法で、透明基板１０の一面に、Ｒ、Ｇ、Ｂの１色からなる着色層からなるマーク２１と、該マーク２１を覆うように塗布された、マーク部の色とは異なるＲ、Ｇ、Ｂの１色からなる着色樹脂層（着色層とも言う）１層２２とからなり、該着色樹脂層２２が前記マーク２１に沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部２０とし、該アライメントマーク部２０の前記マーク２１の位置を検出するための、アライメントマーク部２０のマーク位置検出方法である。
そして、撮像装置４０により、レンズ系（図示されていない）を介してＣＣＤエリアセンサ４１により、前記アライメントマーク部２０を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するものである。
特に、本例においては、撮像装置４０による撮影を、アライメントマーク部２０を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するもので、これにより、このような構造のアライメントマーク部２０の、マーク２１に沿い盛り上がった領域の形状、特にアライメントマーク部２０のマーク２１の位置を認識できるものとしている。
本例のアライメントマーク部の位置検出方法は、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際に採られる、アライメントマーク部の位置検出方法で、透明基板１０の一面に、Ｒ、Ｇ、Ｂの１色からなる着色層からなるマーク２１と、該マーク２１を覆うように塗布された、マーク部の色とは異なるＲ、Ｇ、Ｂの１色からなる着色樹脂層（着色層とも言う）１層２２とからなり、該着色樹脂層２２が前記マーク２１に沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部２０とし、該アライメントマーク部２０の前記マーク２１の位置を検出するための、アライメントマーク部２０のマーク位置検出方法である。
そして、撮像装置４０により、レンズ系（図示されていない）を介してＣＣＤエリアセンサ４１により、前記アライメントマーク部２０を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するものである。
特に、本例においては、撮像装置４０による撮影を、アライメントマーク部２０を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するもので、これにより、このような構造のアライメントマーク部２０の、マーク２１に沿い盛り上がった領域の形状、特にアライメントマーク部２０のマーク２１の位置を認識できるものとしている。
先ず、図１（ａ）に示すように、処理基板１０ａのアライメントマーク部の位置に、撮像装置４０をセットし、また、照明光の光源をセットする。
次いで、撮像装置にて、アライメントマーク部２０を照明光の落下照明にて撮影する。 図１（ａ）に示すように、光源からの照明光は、撮像装置のハーフミラー４２を介して反射され、アライメントマーク部２０に落下照明される。
撮影の際、落下照明によるライメントマーク部２０からの反射光は、撮像装置のハーフミラー４２を通過して、ＣＣＤエリアセンサ４１に入射される。
ここでは、マーク２１は十字形状で、図１（ａ）に示すように、アライメントマーク部２０は、マーク形状に沿い十字形状に盛り上がっており、頂部２２ａ、テーパー部（エッジ部）２２ｂを有する形状となっているため、頂部２２ａでは、反射光の強度は大きく、エッジでは小さく、またテーパー部の底側の面部２２ｃでは大きくなるため、このように、落下照明された光の反射光でアライメントマーク部２０（図１（ｂ）参照）を撮影した画像は、図１（ｃ）のように、頂部２２ａとエッジ底の面部２２ｃは明るく、エッジ部は暗くなる。
図１（ｂ）のＡ２−Ａ３における断面の外形形状は、図１（ｄ）のようになるが、エッジ部２２ｂの平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合には、実用レベルで良く認識できる。
尚、平均傾きは、概略的に、図１（ｄ）に示すように、エッジ部２２ｂの底の勾配が緩やかな立ち上がり部、頂点付近の勾配が緩やかな部分を除いた領域の平均勾配としている。
次いで、撮像装置にて、アライメントマーク部２０を照明光の落下照明にて撮影する。 図１（ａ）に示すように、光源からの照明光は、撮像装置のハーフミラー４２を介して反射され、アライメントマーク部２０に落下照明される。
撮影の際、落下照明によるライメントマーク部２０からの反射光は、撮像装置のハーフミラー４２を通過して、ＣＣＤエリアセンサ４１に入射される。
ここでは、マーク２１は十字形状で、図１（ａ）に示すように、アライメントマーク部２０は、マーク形状に沿い十字形状に盛り上がっており、頂部２２ａ、テーパー部（エッジ部）２２ｂを有する形状となっているため、頂部２２ａでは、反射光の強度は大きく、エッジでは小さく、またテーパー部の底側の面部２２ｃでは大きくなるため、このように、落下照明された光の反射光でアライメントマーク部２０（図１（ｂ）参照）を撮影した画像は、図１（ｃ）のように、頂部２２ａとエッジ底の面部２２ｃは明るく、エッジ部は暗くなる。
図１（ｂ）のＡ２−Ａ３における断面の外形形状は、図１（ｄ）のようになるが、エッジ部２２ｂの平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合には、実用レベルで良く認識できる。
尚、平均傾きは、概略的に、図１（ｄ）に示すように、エッジ部２２ｂの底の勾配が緩やかな立ち上がり部、頂点付近の勾配が緩やかな部分を除いた領域の平均勾配としている。
アライメントマーク部２０の撮影後、画像処理部により、アライメントマーク部２０を撮影した画像（図１（ｃ）参照）を用いて、これを処理して、例えば、ｘ方向のライン２０Ｘの中心ｙ位置とｙ方向ライン２０Ｙの中心ｙ位置とからアライメントマーク部２０の位置（ｘ、ｙ）を求め、マーク２１の位置として検出する。
このようにして、アライメントマーク部２０のマーク２１の位置を求める。
画像処理については、例えば、階調表示された撮影画像（図１（ｃ）参照）の画像データに対して、各画素毎に所定のスライスレベルで２値化して、暗いテーパー部を黒、アライメントマーク部２０の頂部２２ａやテーパー部の底側の面部２２ｃ等の明るい部分を白とした２値化画像データを得た後、更に、得られた２値化画像データから、ｘ方向のラインの中心ｙ位置とｙ方向ラインの中心位置とを求める。
撮影画像について、各画素の近傍領域について平滑化処理した平滑化画像データを得て、この画像データに対して各画素毎に所定のスライスレベルで２値化して、暗いエッジ部を黒、アライメントマーク部２０の頂部２２ａやテーパー部の底側の面部２２ｃ等の明るい部分を白とした２値化画像データを得た後、更に、得られた２値化画像データから、ｘ方向のラインの中心ｙ位置とｙ方向ラインの中心位置とを求めても良い。
尚、ここでの平滑化処理は、例えば、原画像（撮影画像）データの各画素に対して、それぞれ、画素の近傍領域内の全画素のヒストグラムの中心値を新たな画素値として、新たな画像データを得て、これを平滑化画像データとするものです。
このようにして、アライメントマーク部２０のマーク２１の位置を求める。
画像処理については、例えば、階調表示された撮影画像（図１（ｃ）参照）の画像データに対して、各画素毎に所定のスライスレベルで２値化して、暗いテーパー部を黒、アライメントマーク部２０の頂部２２ａやテーパー部の底側の面部２２ｃ等の明るい部分を白とした２値化画像データを得た後、更に、得られた２値化画像データから、ｘ方向のラインの中心ｙ位置とｙ方向ラインの中心位置とを求める。
撮影画像について、各画素の近傍領域について平滑化処理した平滑化画像データを得て、この画像データに対して各画素毎に所定のスライスレベルで２値化して、暗いエッジ部を黒、アライメントマーク部２０の頂部２２ａやテーパー部の底側の面部２２ｃ等の明るい部分を白とした２値化画像データを得た後、更に、得られた２値化画像データから、ｘ方向のラインの中心ｙ位置とｙ方向ラインの中心位置とを求めても良い。
尚、ここでの平滑化処理は、例えば、原画像（撮影画像）データの各画素に対して、それぞれ、画素の近傍領域内の全画素のヒストグラムの中心値を新たな画素値として、新たな画像データを得て、これを平滑化画像データとするものです。
照明用の光源４３としては、例えば、マークが赤（Ｒ）色の着色層からなり、これを覆う樹脂着色層の色が青（Ｂ）色の場合は、赤外ＬＥＤを用いる。
ＣＣＤエリアセンサ４１を備えた撮像装置として、特に限定されない。
ＣＣＤエリアセンサ４１を備えた撮像装置として、特に限定されない。
尚、透明基板１０としては、低膨張で透明性の良いものが好ましく、ここではガラス基板を用いているが、これに限定されない。
プラスチック基板等も用いられる。
Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層を形成するための樹脂着色層としては、ここでは、それぞれ、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた、顔料分散型の着色材料を用いている。
プラスチック基板等も用いられる。
Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層を形成するための樹脂着色層としては、ここでは、それぞれ、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた、顔料分散型の着色材料を用いている。
次に、本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法を、図２、図３に基づいて簡単に説明する。
ここでは、図１にて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法が、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する際、着色層のフォトリソ工程におけるアライメントに適用されたものとする。
アライメントは、図２（ａ）に示すような装置構成でなされる。
図２に示す処理基板１０ａは、着色層からなるマーク２１を有するアライメントマーク部２０（図１参照）を、処理基板１０ａの２箇所に備えておき、露光用のマスク３０の対応する２箇所のアライメントマーク３１と、それぞれ、アライメントを行うものです。
ここでは、処理基板１０ａは、その位置座標が管理されているステージ５５上に固定された基板保持部５５にて保持された状態で、マスク保持部３５により位置固定されたプロキシミティー露光を行うための露光用のマスク３０と所定のギャップ間隔とをあけている。
そして、処理基板１０ａの各アライメントマーク部２０を、露光用のマスク３０の対応するアライメントマーク３１と、それぞれ、粗く位置あわせし、露光用のマスク３０の２箇所のアライメントマーク３１を撮影できる位置に、それぞれ、図１に記載の撮像装置４０、光源部４３をセットしておく。（Ｓ１〜Ｓ２）
この後、各撮像装置４０により、各位置で、それぞれ、マスク３０の各アライメントマークを撮影して、その座標位置（ステージを管理する座標位置）での撮影画像として取り込む。（Ｓ３）
一方、その座標位置で、各撮像装置４０により、処理基板１０ａのアライメントマーク部２０を、図１の説明のようにして撮影して、その座標位置（ステージを管理する座標位置）での撮影画像として取り込む。（Ｓ４）
ここでは、図２（ｂ）に示すような形状のアライメントマーク３１、マーク２１が用いられる。
次いで、図１にて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法により、撮影により得られたマスク３０の各アライメントマーク３１の画像データＤｍ１、Ｄｍ２、処理基板１０ａの各アライメントマーク部２０の画像データＤａ１、Ｄａ２から、それぞれ、各アライメントマーク３１、各アライメントマーク部２０の位置を検出する。（Ｓ４〜Ｓ５、Ｓ７〜Ｓ８）
図２（ｂ）では、各マークのｘ方向、ｙ方向のセンター位置をその位置としている。
各対応する位置でのアライメントマーク３１とアライメントマーク部２０との位置ずれを算出して抽出する。（Ｓ９）
次いで、抽出された各位置のずれ量に基づいて、これを補正するような、ステージ移動量を算出し、算出された結果に基づいてステージ移動を行う。（Ｓ１０）
このようにして、マスク３０と処理基板１０ａとのアライメントがなされる。
ここでは、図１にて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法が、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する際、着色層のフォトリソ工程におけるアライメントに適用されたものとする。
アライメントは、図２（ａ）に示すような装置構成でなされる。
図２に示す処理基板１０ａは、着色層からなるマーク２１を有するアライメントマーク部２０（図１参照）を、処理基板１０ａの２箇所に備えておき、露光用のマスク３０の対応する２箇所のアライメントマーク３１と、それぞれ、アライメントを行うものです。
ここでは、処理基板１０ａは、その位置座標が管理されているステージ５５上に固定された基板保持部５５にて保持された状態で、マスク保持部３５により位置固定されたプロキシミティー露光を行うための露光用のマスク３０と所定のギャップ間隔とをあけている。
そして、処理基板１０ａの各アライメントマーク部２０を、露光用のマスク３０の対応するアライメントマーク３１と、それぞれ、粗く位置あわせし、露光用のマスク３０の２箇所のアライメントマーク３１を撮影できる位置に、それぞれ、図１に記載の撮像装置４０、光源部４３をセットしておく。（Ｓ１〜Ｓ２）
この後、各撮像装置４０により、各位置で、それぞれ、マスク３０の各アライメントマークを撮影して、その座標位置（ステージを管理する座標位置）での撮影画像として取り込む。（Ｓ３）
一方、その座標位置で、各撮像装置４０により、処理基板１０ａのアライメントマーク部２０を、図１の説明のようにして撮影して、その座標位置（ステージを管理する座標位置）での撮影画像として取り込む。（Ｓ４）
ここでは、図２（ｂ）に示すような形状のアライメントマーク３１、マーク２１が用いられる。
次いで、図１にて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法により、撮影により得られたマスク３０の各アライメントマーク３１の画像データＤｍ１、Ｄｍ２、処理基板１０ａの各アライメントマーク部２０の画像データＤａ１、Ｄａ２から、それぞれ、各アライメントマーク３１、各アライメントマーク部２０の位置を検出する。（Ｓ４〜Ｓ５、Ｓ７〜Ｓ８）
図２（ｂ）では、各マークのｘ方向、ｙ方向のセンター位置をその位置としている。
各対応する位置でのアライメントマーク３１とアライメントマーク部２０との位置ずれを算出して抽出する。（Ｓ９）
次いで、抽出された各位置のずれ量に基づいて、これを補正するような、ステージ移動量を算出し、算出された結果に基づいてステージ移動を行う。（Ｓ１０）
このようにして、マスク３０と処理基板１０ａとのアライメントがなされる。
次に、本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法を採り入れた、カラーフィルタ形成基板の作製方法の１例を、図４に基づいて説明する。
本例は、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法で、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する着色層の数だけ行い、前記各カラーフィルタ部、ブラックマトリクス部（ＢＭ部とも言う）、柱部（スペーサとも言う）を形成するものです。
本例は、前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ（載置台）側にして載せ、フォトマスクを介してプロキシミティー露光方法にて行うもので、前記複数回行うフォトリソ工程における、２回目以降の各フォトリソ工程の際のアライメントは、図２にて説明したアライメント方法を採るもので、前記透明基板側に設けられたアライメントマーク部と、露光用のフォトマスクのＣｒ等の遮光層からなるアライメントマーク部とを用い、各アライメントマーク部を、前記フォトマスクの光源側に設けられた撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出して、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであり、且つ、１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークと、該マークを覆う、２回目以降の各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とを、前記アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部を、正反射照明（落射照明）にて、前記撮像装置により撮影するものである。
本例は、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法で、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する着色層の数だけ行い、前記各カラーフィルタ部、ブラックマトリクス部（ＢＭ部とも言う）、柱部（スペーサとも言う）を形成するものです。
本例は、前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ（載置台）側にして載せ、フォトマスクを介してプロキシミティー露光方法にて行うもので、前記複数回行うフォトリソ工程における、２回目以降の各フォトリソ工程の際のアライメントは、図２にて説明したアライメント方法を採るもので、前記透明基板側に設けられたアライメントマーク部と、露光用のフォトマスクのＣｒ等の遮光層からなるアライメントマーク部とを用い、各アライメントマーク部を、前記フォトマスクの光源側に設けられた撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出して、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであり、且つ、１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークと、該マークを覆う、２回目以降の各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とを、前記アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部を、正反射照明（落射照明）にて、前記撮像装置により撮影するものである。
本例のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、例えば、図４に示す処理フローで行われる。
簡単には、先ず、透明基板の一面に１層目として赤色のＲ層をフォトリソ形成する。（Ｓ２０〜Ｓ２１）
透明基板１０としては、低膨張で透明性の良いものが好ましく、ここではガラス基板を用いているが、これに限定されない。
プラスチック基板等も用いられる。
この際、マーク（図１の２１に相当）を形成しておく。
次いで、青色のＢ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図２、図３に基づいて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、２層目のＢ層を形成する。（Ｓ２２）
次いで、同様に、緑色のＧ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図２、図３に基づいて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、３層目のＧ層を形成する。（Ｓ２３）
Ｒ層形成処理（Ｓ２１）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた赤色の着色層を、透明基板１０の一面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、１層目の着色層（赤色の着色層、Ｒ層とも言う）を所定の領域に形成する。
同様に、Ｂ層形成処理（Ｓ２２）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた青色の着色層を、透明基板１０の１層目の着色層が形成された側の面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、２層目の着色層（青色の着色層、Ｂ層とも言う）を所定の領域に形成する。
また同様に、Ｇ層形成処理（Ｓ２３）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた緑色の着色層を、透明基板１０の１層目の着色層、２層目の着色層が形成された側の面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、第３の着色層（緑色の着色層、Ｇ層とも言う）を形成する。
簡単には、先ず、透明基板の一面に１層目として赤色のＲ層をフォトリソ形成する。（Ｓ２０〜Ｓ２１）
透明基板１０としては、低膨張で透明性の良いものが好ましく、ここではガラス基板を用いているが、これに限定されない。
プラスチック基板等も用いられる。
この際、マーク（図１の２１に相当）を形成しておく。
次いで、青色のＢ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図２、図３に基づいて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、２層目のＢ層を形成する。（Ｓ２２）
次いで、同様に、緑色のＧ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図２、図３に基づいて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、３層目のＧ層を形成する。（Ｓ２３）
Ｒ層形成処理（Ｓ２１）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた赤色の着色層を、透明基板１０の一面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、１層目の着色層（赤色の着色層、Ｒ層とも言う）を所定の領域に形成する。
同様に、Ｂ層形成処理（Ｓ２２）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた青色の着色層を、透明基板１０の１層目の着色層が形成された側の面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、２層目の着色層（青色の着色層、Ｂ層とも言う）を所定の領域に形成する。
また同様に、Ｇ層形成処理（Ｓ２３）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた緑色の着色層を、透明基板１０の１層目の着色層、２層目の着色層が形成された側の面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、第３の着色層（緑色の着色層、Ｇ層とも言う）を形成する。
次いで、ＩＴＯ焼結体をターゲットとし、所定のスパッタリング条件の下で、スパッタリングすることにより、処理基板の各着色層上にＩＴＯ膜を単層膜として形成する。（Ｓ２４）
制御用電極用のＩＴＯ膜を形成するためのスパッタリングは、一般には、Ａｒガス雰囲気中、１×１０-5ｔｏｒｒ〜１×１０-2ｔｏｒｒ圧下において、成膜する膜組成（例えば、Ｉｎ2 Ｏ3 、９０ｗ％＋ＳｎＯ2 、１０ｗ％組成）で、厚さ８ｍｍ〜１５ｍｍのＩＴＯ焼結体をターゲット材として用いて、直流マグネトロンスパッタ方式で行っている。
ターゲットとしては、通常、Ｃｕプレートをバッキング材として、インジウム半田を接着層とし、多数枚の焼結ターゲット材をつなぎ合わせて、１つのターゲットプレートとしたものが用いられている。
尚、制御用電極としてＩＴＯ膜を配設するカラーフィルタ形成基板の作製においては、カラーフィルタを形成する着色層上に、スパッタリングにてＩＴＯ膜を形成するため、カラーフィルタを形成する着色層の耐熱性、カラーフィルタを形成する着色層からの脱ガスの面から、低温で成膜を行うことが求められている。
制御用電極用のＩＴＯ膜を形成するためのスパッタリングは、一般には、Ａｒガス雰囲気中、１×１０-5ｔｏｒｒ〜１×１０-2ｔｏｒｒ圧下において、成膜する膜組成（例えば、Ｉｎ2 Ｏ3 、９０ｗ％＋ＳｎＯ2 、１０ｗ％組成）で、厚さ８ｍｍ〜１５ｍｍのＩＴＯ焼結体をターゲット材として用いて、直流マグネトロンスパッタ方式で行っている。
ターゲットとしては、通常、Ｃｕプレートをバッキング材として、インジウム半田を接着層とし、多数枚の焼結ターゲット材をつなぎ合わせて、１つのターゲットプレートとしたものが用いられている。
尚、制御用電極としてＩＴＯ膜を配設するカラーフィルタ形成基板の作製においては、カラーフィルタを形成する着色層上に、スパッタリングにてＩＴＯ膜を形成するため、カラーフィルタを形成する着色層の耐熱性、カラーフィルタを形成する着色層からの脱ガスの面から、低温で成膜を行うことが求められている。
次いで、２層目、３層目の着色層形成と同様に、黒色のＢＭ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図２、図３に基づいて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、ＢＭ層を形成する。（Ｓ２５）
このようにしてカラーフィルタ形成基板（ＣＦ基板とも言う）が形成される。（Ｓ２６）
このようにしてカラーフィルタ形成基板（ＣＦ基板とも言う）が形成される。（Ｓ２６）
このようにして形成されるカラーフィルタ形成基板は、例えば、図５に示すような形状をしている。
ここでは、柱状スペーサ８０は、各着色層の形成の際、各色の着色層を積層するように、形成される。
また、ＢＭ層が最上層となっている。
尚、各色の着色層を厚みを変化させて形成するために、ここでは、先に説明した、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスクを用いる。
ここでは、柱状スペーサ８０は、各着色層の形成の際、各色の着色層を積層するように、形成される。
また、ＢＭ層が最上層となっている。
尚、各色の着色層を厚みを変化させて形成するために、ここでは、先に説明した、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスクを用いる。
このようにして作製された本例のカラーフィルタ形成基板（Ｓ２６）と、液晶パネル形成のためにこれと貼り合わせを行うＴＦＴ基板（Ｓ２７）とを予め用意しておく。
そして、本例のカラーフィルタ形成基板透明導電膜形成基板１１０の外周のシール領域に、例えば、ディスペンサーあるいは印刷により、紫外線硬化型のシール材を塗布して、所定の高さにして、枠状のスペーサを形成し、更に、該枠状のスペーサ内に液晶を滴下法により配した後、ＴＦＴ基板との貼り合わせを行う。（Ｓ２８）
貼り合わせの際、カラーフィルタ形成基板の透明基板（図１の１０に相当）側からシール領域のシール材に紫外線を照射して、シール材を硬化する。
このようにして、本例のカラーフィルタ形成基板を用いた液晶表示パネルは作製される。（Ｓ２９）
そして、本例のカラーフィルタ形成基板透明導電膜形成基板１１０の外周のシール領域に、例えば、ディスペンサーあるいは印刷により、紫外線硬化型のシール材を塗布して、所定の高さにして、枠状のスペーサを形成し、更に、該枠状のスペーサ内に液晶を滴下法により配した後、ＴＦＴ基板との貼り合わせを行う。（Ｓ２８）
貼り合わせの際、カラーフィルタ形成基板の透明基板（図１の１０に相当）側からシール領域のシール材に紫外線を照射して、シール材を硬化する。
このようにして、本例のカラーフィルタ形成基板を用いた液晶表示パネルは作製される。（Ｓ２９）
尚、上記カラーフィルタ形成基板の作製方法は１例で、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、図５に示すＢＭ層による遮光に代え、図６に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層と半遮光性（灰色）の着色層による遮光でブラックマトリクス部や柱部を形成しても良い。
この場合の作製も基本的には、上記図３の説明の作製方法と同じで、各Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色の形成の際、柱状スペーサ８０ａやブラックマトリクス部７６を作製する。
この場合も、各色の着色層やを厚みを変化させて形成するために、ここでは、先に説明した、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスクを用いる。
例えば、図５に示すＢＭ層による遮光に代え、図６に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層と半遮光性（灰色）の着色層による遮光でブラックマトリクス部や柱部を形成しても良い。
この場合の作製も基本的には、上記図３の説明の作製方法と同じで、各Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色の形成の際、柱状スペーサ８０ａやブラックマトリクス部７６を作製する。
この場合も、各色の着色層やを厚みを変化させて形成するために、ここでは、先に説明した、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスクを用いる。
１０ 透明基板
１０ａ 処理基板（カラーフィルタ形成用基板とも言う）
２０ アライメントマーク部
２０Ａ （アライメントマーク部の）撮影画像
２０Ｂ 暗部
２０Ｃ アライメントマーク部の位置
２０Ｘ ｘ方向のライン
２０Ｙ ｙ方向のライン
２１ （着色層の）マーク
２２ 着色樹脂層（着色層とも言う）
２２ａ 頂部
２２ｂ テーパー部（エッジ部とも言う）
２２ｃ 面部（テーパー部の底側の面部とも言う）
３０ マスク
３１ アライメントマーク
３５ マスク保持部
４０ 撮像装置
４１ ＣＣＤエリアセンサ
４２ ハーフミラー
４３ （照明用の）光源
４４ ミラー
５０ ステージ
５５ 基板保持部
７１ １層目の着色層
７２ ２層目の着色層
７３ ３層目の着色層
７４ ＩＴＯ膜
７５ ＢＭ層（遮光性着色層とも言う）
７５Ａ 半遮光性着色層
７６ ブラックマトリクス部（単にブラックマトリクスとも言う）
８０、８０ａ 柱状スペーサ
１０ａ 処理基板（カラーフィルタ形成用基板とも言う）
２０ アライメントマーク部
２０Ａ （アライメントマーク部の）撮影画像
２０Ｂ 暗部
２０Ｃ アライメントマーク部の位置
２０Ｘ ｘ方向のライン
２０Ｙ ｙ方向のライン
２１ （着色層の）マーク
２２ 着色樹脂層（着色層とも言う）
２２ａ 頂部
２２ｂ テーパー部（エッジ部とも言う）
２２ｃ 面部（テーパー部の底側の面部とも言う）
３０ マスク
３１ アライメントマーク
３５ マスク保持部
４０ 撮像装置
４１ ＣＣＤエリアセンサ
４２ ハーフミラー
４３ （照明用の）光源
４４ ミラー
５０ ステージ
５５ 基板保持部
７１ １層目の着色層
７２ ２層目の着色層
７３ ３層目の着色層
７４ ＩＴＯ膜
７５ ＢＭ層（遮光性着色層とも言う）
７５Ａ 半遮光性着色層
７６ ブラックマトリクス部（単にブラックマトリクスとも言う）
８０、８０ａ 柱状スペーサ
Claims (5)
- 透明基板の一面に、着色層からなるマークと、該マークを覆うように塗布された着色樹脂層１層とを有し、該着色樹脂層が前記マークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部の前記マークの位置を検出するための、アライメントマーク部のマーク位置検出方法であって、撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、前記アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するもので、前記撮像装置による撮影は、前記アライメントマーク部を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するものであることを特徴とするアライメントマーク部の位置検出方法。
- 請求項１に記載のアライメントマーク部の位置検出方法であって、前記アライメントマーク部の、前記着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることを特徴とするアライメントマーク部のマーク位置検出方法。
- 請求項１ないし２のいずれか１項に記載のアライメントマーク部のマーク位置検出方法であって、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際の、アライメントマーク部の位置検出方法であることを特徴とするアライメントマーク部のマーク位置検出方法。
- 透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する着色層の数だけ行い、前記各カラーフィルタ部、ブラックマトリクス部、柱部を形成するものであり、前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ側にして載せ、フォトマスクを介してプロキシミティー露光方法にて行うもので、前記複数回行うフォトリソ工程における、２回目以降の各フォトリソ工程の際のアライメントは、前記透明基板側に設けられたアライメントマーク部と、露光用のフォトマスクのＣｒ等の遮光層からなるアライメントマーク部とを用い、各アライメントマーク部を、前記フォトマスクの光源側に設けられた撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出して、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであり、且つ、１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークと、該マークを覆う、２回目以降の各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とを、前記アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部を、正反射照明（落射照明）にて、前記撮像装置により撮影するものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板の作製方法。
- 請求項４に記載のカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記着色層からなるアライメントマーク部の、前記１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークの幅を横切る断面のテーパー部の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008251158A JP5453754B2 (ja) | 2008-09-29 | 2008-09-29 | アライメントマーク部の位置検出方法およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008251158A JP5453754B2 (ja) | 2008-09-29 | 2008-09-29 | アライメントマーク部の位置検出方法およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010085433A true JP2010085433A (ja) | 2010-04-15 |
| JP5453754B2 JP5453754B2 (ja) | 2014-03-26 |
Family
ID=42249489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008251158A Expired - Fee Related JP5453754B2 (ja) | 2008-09-29 | 2008-09-29 | アライメントマーク部の位置検出方法およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5453754B2 (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0443562B2 (ja) * | 1985-06-25 | 1992-07-17 | Seikosha Kk | |
| JPH0674714A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 基板位置検出方法 |
| JPH08128811A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Sony Corp | 基準位置検出装置及び基準位置検出方法 |
| JPH0996712A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Sony Corp | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2005099117A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及びその方法で用いられる基板のアライメント方法 |
| JP2005241826A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2007132857A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Seiko Epson Corp | 画像処理装置、画像処理方法、描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 |
-
2008
- 2008-09-29 JP JP2008251158A patent/JP5453754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0443562B2 (ja) * | 1985-06-25 | 1992-07-17 | Seikosha Kk | |
| JPH0674714A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 基板位置検出方法 |
| JPH08128811A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Sony Corp | 基準位置検出装置及び基準位置検出方法 |
| JPH0996712A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Sony Corp | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2005099117A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法及びその方法で用いられる基板のアライメント方法 |
| JP2005241826A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2007132857A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Seiko Epson Corp | 画像処理装置、画像処理方法、描画装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5453754B2 (ja) | 2014-03-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103366648B (zh) | 基板、显示屏、拼接屏及拼接屏的对位方法 | |
| US10866452B2 (en) | Color filter substrate, production method thereof, display panel, and display apparatus | |
| WO2016173210A1 (zh) | 黑色矩阵的制作方法 | |
| CN108363233A (zh) | 彩色滤光片基板及其制作方法 | |
| US20030147115A1 (en) | Substrate for electrooptical device, method for manufacturing the substrate, electrooptical device, method for manufacturing the electrooptical device, and electronic apparatus | |
| CN102687045A (zh) | 彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法 | |
| US7438947B2 (en) | Color filter process | |
| JP5453754B2 (ja) | アライメントマーク部の位置検出方法およびカラーフィルタ形成基板の作製方法 | |
| JP2009151150A (ja) | カラーフィルタおよびフォトマスク | |
| JP5513729B2 (ja) | カラーフィルタ形成基板の作製方法 | |
| JP4608882B2 (ja) | 露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法 | |
| JP4957020B2 (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置用カラーフィルタ | |
| US20070139587A1 (en) | Transflective liquid crystal display panel, color filter and fabricating method thereof | |
| TWI274906B (en) | A color filter | |
| EP1530085A2 (en) | Electro-optic device substrate and method for manufacturing the same, electro-optic device and method for manufacturing the same, photomask, and electronic device | |
| US20170329177A1 (en) | Liquid Crystal Display Panel, Liquid Crystal Display Apparatus, and Method of Manufacturing Liquid Crystal Display Panel | |
| CN203366657U (zh) | 设置有对位标记的基板、显示屏及拼接屏 | |
| JP2008233459A (ja) | 液晶装置および液晶装置の製造方法 | |
| JP2003043939A (ja) | 画像表示装置 | |
| TWI292069B (en) | Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof | |
| JP2015022253A (ja) | 液晶装置用基板の製造方法、液晶装置用基板、液晶装置、電子機器 | |
| WO2014132819A1 (ja) | カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置 | |
| JP4968429B2 (ja) | 液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板の製造方法 | |
| KR20010004912A (ko) | 액정 표시 장치의 컬러 필터 구조 및 그 제조방법 | |
| TWI281577B (en) | Manufacturing method of substrate for optoelectronic device, manufacturing method for optoelectronic device, substrate for optoelectronic device, optoelectronic device, and electronic machine |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110818 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120809 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120821 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121012 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130509 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130610 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20130826 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131210 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131223 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5453754 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |