JP2010072624A

JP2010072624A - Reticle storage device and reticle storage method

Info

Publication number: JP2010072624A
Application number: JP2009148334A
Authority: JP
Inventors: Hironao Watanabe; 洋直渡辺; Hiroyuki Ishii; 博行石井
Original assignee: NEC Electronics Corp
Current assignee: NEC Electronics Corp
Priority date: 2008-08-18
Filing date: 2009-06-23
Publication date: 2010-04-02

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress reticle haze from being generated at exposure by cleaning the atmosphere in a pellicle during storage. SOLUTION: This reticle storage device 10 stores in a stocker 20 a reticle to which the pellicle comprising a support frame having an air vent hole and a pellicle film stretched over the support frame is fixed. The reticle storage device 10 comprises a gas flow passage 30 for purging the stocker 20 respectively by first gas (nitrogen gas) and second gas (dried air) having higher transmissivity to the pellicle film than the first gas. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、レチクル収納装置およびレチクル保管方法に関する。 The present invention relates to a reticle storage device and a reticle storage method.

半導体装置やディスプレイ装置用のデバイスの製造においては、レチクルに形成された微細なパターンを基板上に転写するフォトリソグラフィー工程が広く用いられている。ここで、レチクルに異物が付着して転写パターンに不具合が生じないよう、レチクルのパターン形成面をペリクルで覆い、異物の付着面とパターン形成面との焦点深度を相違させることが行われている。 In the manufacture of devices for semiconductor devices and display devices, a photolithography process for transferring a fine pattern formed on a reticle onto a substrate is widely used. Here, in order to prevent a foreign matter from adhering to the reticle and causing a defect in the transfer pattern, the pattern formation surface of the reticle is covered with a pellicle, and the depth of focus between the foreign matter attachment surface and the pattern formation surface is made different. .

しかし、ペリクルの内部に存在する異物については、パターン形成面と焦点深度が近接して転写パターンに不具合を生じるため問題となる。かかる問題を解決する技術に関し、下記特許文献１には、ペリクルをレチクルに装着する際にペリクル内に異物が侵入することを防止する装置が記載されている。かかる装置は、ペリクル膜の支持枠に設けた二つの通気孔の一方より高圧のエアーを吹き込み、他方より排気することで、ペリクルの内から外に向かうクリーンエアーの気流を生じ、異物の侵入を防止するものである。
また、下記特許文献２には、ペリクル膜の支持枠に設けた通気孔に対して、粘着層を介して所定のメッシュサイズのフィルタを装着することにより、異物の侵入を所望のレベルに低減する発明が記載されている。 However, the foreign matter existing inside the pellicle is problematic because the pattern formation surface and the focal depth are close to each other and a defect occurs in the transfer pattern. Regarding a technique for solving such a problem, Patent Document 1 described below describes a device that prevents foreign matter from entering a pellicle when the pellicle is mounted on a reticle. Such an apparatus blows in high-pressure air from one of the two ventilation holes provided in the support frame of the pellicle membrane and exhausts it from the other, thereby generating an air flow of clean air from the inside of the pellicle to the outside to prevent intrusion of foreign matter. It is to prevent.
Further, in Patent Document 2 below, foreign matter intrusion is reduced to a desired level by attaching a filter of a predetermined mesh size to the vent hole provided in the support frame of the pellicle membrane via an adhesive layer. The invention has been described.

一方、ペリクルが取り付けられたレチクルは、温度および湿度が管理されたストッカに収納されて保管される。かかる収納装置に関しては、例えば下記特許文献３に記載のものが知られている。レチクルは個別にケースに収容されて、ストッカ内に多段に並べて収納され、乾燥空気でパージされることが一般的である。 On the other hand, the reticle to which the pellicle is attached is stored and stored in a stocker whose temperature and humidity are controlled. As such a storage device, for example, the one described in Patent Document 3 below is known. In general, the reticles are individually housed in a case, arranged in multiple stages in a stocker, and purged with dry air.

特開２００５−４９４４３号公報JP 2005-49443 A 特開２０００−３０５２５３号公報JP 2000-305253 A 特開平６−２５８８２０号公報JP-A-6-258820

ここで、ペリクル内雰囲気が汚染されていると、レチクルに光照射してパターンを転写する際に、汚染ガスの光反応生成物が新たな異物となってペリクル内に生じることが問題となる。
汚染ガスの発生源は様々であるが、ペリクル膜と支持枠、またはレチクルと支持枠とを接合する接着剤や粘着剤からのアウトガスはその一因である。ペリクルを透過する露光光によるアウトガスの光反応生成物がレチクルのパターン形成面に異物として付着すると、かかる異物は焦点深度がパターンと近接することから転写パターンに欠陥が生じる。かかる欠陥を、レチクルヘイズと呼ぶ。 Here, if the atmosphere in the pellicle is contaminated, there is a problem that when the pattern is transferred by irradiating the reticle with light, the photoreaction product of the contaminated gas becomes a new foreign substance and is generated in the pellicle.
There are various sources of the pollutant gas, and the outgas from the adhesive or pressure-sensitive adhesive that joins the pellicle film and the support frame or the reticle and the support frame is one of the causes. When the outgas photoreaction product of the exposure light transmitted through the pellicle adheres to the pattern forming surface of the reticle as a foreign matter, the foreign matter has a focal depth close to the pattern, so that a defect occurs in the transfer pattern. Such a defect is called reticle haze.

ペリクル内雰囲気の汚染は、レチクルにペリクルが取り付けられた後、保管されている間に徐々に上昇する。したがって、上記特許文献１に記載の装置のように、ペリクルをレチクルに装着する際にクリーンエアーの気流によってペリクル内をパージしたとしても、光照射時のペリクル内雰囲気を清浄化することはできない。
また、上記特許文献２に記載のペリクルは、内部の空気を排出するものではないため、ペリクル内に発生したアウトガスを外部に排気することはできない。また、フィルタが装着された通気孔は気体の出入りを阻害するものではないため、ペリクル外部の汚染ガスがペリクル内に侵入することを防止することもできない。
したがって、上記各特許文献に記載の方法では、保管時のペリクル内雰囲気を清浄化することができず、露光時には上記のレチクルヘイズの問題が生じていた。 Contamination of the atmosphere inside the pellicle gradually rises during storage after the pellicle is attached to the reticle. Therefore, as in the apparatus described in Patent Document 1, even when the inside of the pellicle is purged with a stream of clean air when the pellicle is mounted on the reticle, the atmosphere inside the pellicle cannot be cleaned at the time of light irradiation.
In addition, since the pellicle described in Patent Document 2 does not discharge internal air, the outgas generated in the pellicle cannot be discharged to the outside. In addition, since the vent hole in which the filter is attached does not hinder the entry and exit of the gas, it is impossible to prevent the contamination gas outside the pellicle from entering the pellicle.
Therefore, in the methods described in the above-mentioned patent documents, the atmosphere in the pellicle cannot be cleaned at the time of storage, and the above-described reticle haze problem occurs at the time of exposure.

本発明によれば、通気孔を有する支持枠と、該支持枠に張られたペリクル膜と、を備えるペリクルが取り付けられたレチクルを、ストッカ内に収納するレチクル収納装置であって、
第一ガスと、前記ペリクル膜に対する透過率が前記第一ガスよりも高い第二ガスとで、それぞれ前記ストッカ内をパージするガス流路を備えるレチクル収納装置が提供される。 According to the present invention, there is provided a reticle storage device for storing, in a stocker, a reticle to which a pellicle including a support frame having a vent hole and a pellicle film stretched on the support frame is attached.
There is provided a reticle storage device comprising a gas flow path for purging the inside of the stocker with a first gas and a second gas having a higher permeability to the pellicle membrane than the first gas.

上記発明によれば、第一ガスと第二ガスとに交互に切り換えてストッカ内をパージすることができる。そして、ペリクル膜の透過率の異なるパージガスを交互に切り換えることで、ペリクル膜を出入りするガスの流量が一時的に不釣り合いとなってペリクル内が交互に昇圧および減圧され、ペリクルが初期状態から収縮状態または膨張状態に遷移する。これにより、ペリクルが膨張状態から初期状態に回復する際、および初期状態から収縮状態に遷移する際に、通気孔を通じてペリクル内のガスが排気される。そして、ペリクル内で発生したアウトガスやペリクル内に一旦流入した汚染ガスは、パージガスに置換されてストッカから外部に排出されるため、収納されているペリクルは内部雰囲気が清浄化される。 According to the above invention, the inside of the stocker can be purged by alternately switching between the first gas and the second gas. Then, by alternately switching the purge gases having different transmittances of the pellicle membrane, the flow rate of the gas entering and exiting the pellicle membrane is temporarily unbalanced, and the pressure inside the pellicle is alternately increased and reduced, and the pellicle contracts from the initial state. Transition to state or expanded state. Thereby, when the pellicle recovers from the expanded state to the initial state, and when the pellicle transitions from the initial state to the contracted state, the gas in the pellicle is exhausted through the vent hole. The outgas generated in the pellicle and the contaminated gas once flowing into the pellicle are replaced with the purge gas and discharged to the outside from the stocker, so that the internal atmosphere of the stored pellicle is cleaned.

また本発明によれば、通気孔を有する支持枠と、該支持枠に張られたペリクル膜と、を備えるペリクルが取り付けられたレチクルを保管する方法であって、
第一ガスでパージされていた前記レチクルを、前記ペリクル膜に対する透過率が前記第一ガスよりも高い第二ガスでパージして、前記ペリクルを膨張させるとともに前記ペリクル膜を伸長させる膨張工程と、
伸長した前記ペリクル膜の復元力により、前記通気孔を通じて前記ペリクル内部のガスを前記ペリクルの外部に排出するとともに前記ペリクルを収縮させる収縮工程と、
をおこなうことを特徴とするレチクル保管方法が提供される。 Further, according to the present invention, there is provided a method for storing a reticle to which a pellicle is provided comprising a support frame having a vent and a pellicle film stretched on the support frame,
The step of purging the reticle that has been purged with the first gas with a second gas whose permeability to the pellicle film is higher than that of the first gas to expand the pellicle and extend the pellicle film;
A contraction step of discharging the gas inside the pellicle to the outside of the pellicle through the vent and contracting the pellicle by the restoring force of the stretched pellicle film;
A reticle storage method characterized in that is provided.

上記発明によれば、保管状態のペリクルが膨張状態から収縮する際に、ペリクル内部のガスが通気孔を通じて外部に排出され、ペリクル内雰囲気が清浄化される。 According to the above invention, when the pellicle in the storage state contracts from the expanded state, the gas inside the pellicle is discharged to the outside through the vent hole, and the atmosphere inside the pellicle is cleaned.

なお、上記各発明において、第一ガスおよび第二ガスは、それぞれ単一種のガス成分で構成してもよく、または複数種のガス成分を混合して構成してもよい。複数種のガス成分を混合してなる場合、その一部成分については第一ガスと第二ガスとで共通としてもよい。 In each of the above inventions, the first gas and the second gas may be constituted by a single kind of gas component, or may be constituted by mixing a plurality of kinds of gas components. When a plurality of types of gas components are mixed, the first gas and the second gas may be common to some of the components.

本発明のレチクル収納装置およびレチクル保管方法によれば、収納または保管されたレチクルのペリクル内雰囲気が清浄化され、レチクルヘイズの問題が抑えられる。 According to the reticle storage device and the reticle storage method of the present invention, the atmosphere in the pellicle of the stored or stored reticle is cleaned, and the problem of reticle haze is suppressed.

第一実施形態にかかるレチクル収納装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the reticle storage apparatus concerning 1st embodiment. 本実施形態のレチクル収納装置に収納されるレチクルがレチクルケースに収容された状態を示す模式図である。It is a schematic diagram showing a state in which the reticle stored in the reticle storage device of the present embodiment is stored in the reticle case. ストッカにレチクルケースが収容された状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state in which the reticle case was accommodated in the stocker. 本実施形態のレチクル保管方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the reticle storage method of this embodiment. （ａ）〜（ｄ）は、予備工程を示す説明図である。(A)-(d) is explanatory drawing which shows a preliminary | backup process. （ａ）〜（ｄ）は、本実施形態の保管方法における膨張工程と収縮工程を示す説明図である。(A)-(d) is explanatory drawing which shows the expansion | swelling process and shrinkage | contraction process in the storage method of this embodiment. 第二実施形態にかかるレチクル収納装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the reticle storage apparatus concerning 2nd embodiment.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

＜第一実施形態＞
図１は、第一実施形態にかかるレチクル収納装置１０の構成を示す模式図である。
図２は、本実施形態のレチクル収納装置１０に収納されるレチクル１００がレチクルケース１５０に収容された状態を示す模式図である。 <First embodiment>
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of a reticle storage device 10 according to the first embodiment.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a state in which the reticle 100 stored in the reticle storage device 10 of the present embodiment is stored in the reticle case 150.

＜レチクル収納装置＞
はじめに、本実施形態のレチクル収納装置１０の概要について説明する。
本実施形態のレチクル収納装置１０は、通気孔１２０を有する支持枠１１４と、支持枠１１４に張られたペリクル膜１１２と、を備えるペリクル１１０が取り付けられたレチクル１００を、ストッカ２０内に収納するものである。
そしてレチクル収納装置１０は、第一ガス（窒素ガス）と、ペリクル膜１１２に対する透過率が第一ガスよりも高い第二ガス（乾燥空気）とで、それぞれストッカ２０内をパージするガス流路３０を備えている。 <Reticle storage device>
First, an outline of the reticle storage device 10 of the present embodiment will be described.
The reticle storage apparatus 10 according to the present embodiment stores, in the stocker 20, a reticle 100 to which a pellicle 110 including a support frame 114 having a vent hole 120 and a pellicle film 112 stretched on the support frame 114 is attached. Is.
The reticle storage apparatus 10 then purges the inside of the stocker 20 with a first gas (nitrogen gas) and a second gas (dry air) having a higher permeability to the pellicle film 112 than the first gas. It has.

次に、本実施形態のレチクル収納装置１０について詳細に説明する。
レチクル収納装置１０は、複数枚のレチクル１００を並べて収納可能なストッカ２０に対して、窒素ガス（Ｎ_２）が充填された第一ガス容器５０と、清浄度の高い乾燥空気（ａｉｒ）が充填された第二ガス容器５２が、配管３２，３４を介して接続されている。第一ガス容器５０および第二ガス容器５２の充填圧は、ストッカ２０の所定の内圧（収納圧）以上である。
ストッカ２０の上流側にあたる配管３２，３４には、それぞれ開閉弁４２，４４が設けられており、第一ガス容器５０および第二ガス容器５２からストッカ２０へのガスの流入を所定量および所定タイミングに調整可能である。 Next, the reticle storage device 10 of this embodiment will be described in detail.
The reticle storage device 10 is filled with a first gas container 50 filled with nitrogen gas (N ₂ ) and highly clean dry air (air) in a stocker 20 that can store a plurality of reticles 100 side by side. The second gas container 52 thus connected is connected via pipes 32 and 34. The filling pressure of the first gas container 50 and the second gas container 52 is not less than a predetermined internal pressure (storage pressure) of the stocker 20.
The pipes 32 and 34 on the upstream side of the stocker 20 are provided with on-off valves 42 and 44, respectively, and the flow of gas from the first gas container 50 and the second gas container 52 to the stocker 20 is performed at a predetermined amount and at a predetermined timing. Can be adjusted.

他方、ストッカ２０には配管３６が連通して接続され、ストッカ２０内のガスを排気口３８より排出可能である。排気口３８には減圧ポンプ（図示せず）が接続されており、ストッカ２０内のガスを吸引して排気することが可能である。
配管３６の流路の開閉は、配管３６の途中に設けられた開閉弁４６によりおこなわれる。 On the other hand, a pipe 36 is connected to the stocker 20 so that the gas in the stocker 20 can be discharged from the exhaust port 38. A decompression pump (not shown) is connected to the exhaust port 38, and the gas in the stocker 20 can be sucked and exhausted.
The flow path of the pipe 36 is opened and closed by an open / close valve 46 provided in the middle of the pipe 36.

本実施形態のレチクル収納装置１０は、ストッカ２０内の状態を検知する検出部（酸素濃度計６７）と、検出部（酸素濃度計６７）の検知結果に基づいてガス流路３０を通じてストッカ２０内に供給されるガスを第一ガス（窒素ガス）と第二ガス（乾燥空気）とに交互に切り替える制御部６０と、をさらに備えている。 The reticle storage device 10 according to the present embodiment includes a detection unit (oxygen concentration meter 67) that detects a state in the stocker 20, and a gas passage 30 that is used to detect the state in the stocker 20 based on the detection result of the detection unit (oxygen concentration meter 67). And a controller 60 that alternately switches the gas supplied to the first gas (nitrogen gas) and the second gas (dry air).

より具体的には、本実施形態の検出部は、ストッカ２０内の第一ガス（窒素ガス）または第二ガス（乾燥空気）の濃度を検知する酸素濃度計６７である。 More specifically, the detection unit of the present embodiment is an oxygen concentration meter 67 that detects the concentration of the first gas (nitrogen gas) or the second gas (dry air) in the stocker 20.

ここで、検出部が第一ガスまたは第二ガスの濃度を検知するとは、第一ガスまたは第二ガスに含有される特定の成分の濃度を検知して、第一ガスまたは第二ガスの濃度に換算することを含む。すなわち、本実施形態のように、酸素濃度計６７によってストッカ２０内の酸素濃度を検知して、乾燥空気（第二ガス）の濃度を比例演算によって検出してもよい。 Here, the detection unit detects the concentration of the first gas or the second gas means that the concentration of the specific component contained in the first gas or the second gas is detected and the concentration of the first gas or the second gas is detected. Including conversion to. That is, as in the present embodiment, the oxygen concentration in the stocker 20 may be detected by the oxygen concentration meter 67, and the concentration of the dry air (second gas) may be detected by proportional calculation.

酸素濃度計６７と制御部６０とは、信号線６９によって電気的に接続されている。なお、酸素濃度計６７は、ガス流路３０の開口端とは離間した位置、具体的にはストッカ２０の収納部２２における互いに異なる内壁面に設けられるとよい。これにより、収納部２２に流入するパージガスの影響を受けず、収納部２２の内部の酸素濃度を酸素濃度計６７によって正確に測定することができる。 The oxygen concentration meter 67 and the control unit 60 are electrically connected by a signal line 69. The oxygen concentration meter 67 may be provided at a position separated from the open end of the gas flow path 30, specifically, on different inner wall surfaces in the storage unit 22 of the stocker 20. As a result, the oxygen concentration inside the storage unit 22 can be accurately measured by the oxygen concentration meter 67 without being affected by the purge gas flowing into the storage unit 22.

酸素濃度計６７はストッカ２０内における酸素濃度を所定の時間間隔で測定し、信号線６９を通じて検出信号を制御部６０に送信する。
制御部６０は、検出信号に基づいて、ストッカ２０内における酸素濃度および乾燥空気（第二ガス）の濃度を検知する。乾燥空気中の酸素濃度は既知であり、具体的には約２０％で一定であることから、制御部６０は、酸素濃度計６７からの検出信号（酸素濃度値）に基づいて、ストッカ２０内における乾燥空気（第二ガス）の濃度を容易に演算することができる。 The oxygen concentration meter 67 measures the oxygen concentration in the stocker 20 at predetermined time intervals, and transmits a detection signal to the control unit 60 through the signal line 69.
The controller 60 detects the oxygen concentration and the concentration of dry air (second gas) in the stocker 20 based on the detection signal. Since the oxygen concentration in the dry air is known, specifically, it is constant at about 20%, the control unit 60 determines whether or not the inside of the stocker 20 is based on the detection signal (oxygen concentration value) from the oxygen concentration meter 67. The concentration of dry air (second gas) in can be easily calculated.

ガス流路３０の具体的な切り替え動作は以下のようにして行う。すなわち、開閉弁４２，４４，４６は電磁弁であり、それぞれ制御部６０と信号線６２，６４，６６により接続されている。
そして、制御部６０は、開閉弁４２，４４，４６の開閉を切り換えることにより、窒素ガスと乾燥空気とによってストッカ２０を交互にパージする。
具体的には、第一パージ工程として、制御部６０は開閉弁４２と開閉弁４６に対して開放命令を送信する。開閉弁４２，４６が開放されると、ストッカ２０内の初期空気は排気口３８より排気され、ストッカ２０内に第一ガス容器５０より窒素ガスが供給される。なお、開閉弁４４は閉止しておく。開閉弁４６を開放してストッカ２０より初期空気の排気を開始するタイミングと、開閉弁４２を開放してストッカ２０に窒素ガスを供給するタイミングについては、互いに同時でもよく、相違してもよい。ストッカ２０の内圧を所定に保持する観点からは、両者をほぼ同時とするとよい。 A specific switching operation of the gas flow path 30 is performed as follows. That is, the on-off valves 42, 44, and 46 are electromagnetic valves, and are connected to the control unit 60 by signal lines 62, 64, and 66, respectively.
And the control part 60 purges the stocker 20 by nitrogen gas and dry air alternately by switching opening and closing of the on-off valve 42,44,46.
Specifically, as the first purge step, the control unit 60 transmits an opening command to the on-off valve 42 and the on-off valve 46. When the on-off valves 42 and 46 are opened, the initial air in the stocker 20 is exhausted from the exhaust port 38, and nitrogen gas is supplied into the stocker 20 from the first gas container 50. The on-off valve 44 is closed. The timing at which the opening / closing valve 46 is opened to start exhausting the initial air from the stocker 20 and the timing at which the opening / closing valve 42 is opened to supply nitrogen gas to the stocker 20 may be the same or different. From the viewpoint of maintaining the internal pressure of the stocker 20 at a predetermined level, it is preferable that both of them are substantially the same.

所定時間の排気および給気がおこなわれたところで、制御部６０は開閉弁４６と開閉弁４２に対してそれぞれ閉止命令を送信する。窒素ガスによるパージ時間は、予め制御部６０に設定された時間に亘っておこなってもよく、または、ストッカ２０の内圧を制御部６０で検知して所定の内圧となった時点で開閉弁４６と開閉弁４２を個別に閉止してもよい。制御部６０でストッカ２０の内圧を検知する場合には、ストッカ２０内に設置した圧力センサ（図示せず）の出力信号を、図示しない信号線を通じて制御部６０に取り込むとよい。 When the exhaust and supply of air for a predetermined time are performed, the control unit 60 transmits a close command to the on-off valve 46 and the on-off valve 42, respectively. The purge time with nitrogen gas may be performed over a time set in the control unit 60 in advance, or when the internal pressure of the stocker 20 is detected by the control unit 60 and becomes a predetermined internal pressure, The on-off valves 42 may be individually closed. When the control unit 60 detects the internal pressure of the stocker 20, an output signal of a pressure sensor (not shown) installed in the stocker 20 may be taken into the control unit 60 through a signal line (not shown).

第一パージ工程の終了後、所定の時間間隔をあけたのちに第二パージ工程をおこなう。
第二パージ工程では、制御部６０は開閉弁４４および開閉弁４６をそれぞれ開放させ、ストッカ２０内の窒素ガスを排気口３８より排出するとともに、ストッカ２０内に第二ガス容器５２より乾燥空気を導入する。
そして、所定時間の排気および給気がおこなわれたところで、制御部６０は開閉弁４６と開閉弁４４を閉止する。 After the completion of the first purge process, the second purge process is performed after a predetermined time interval.
In the second purge step, the control unit 60 opens the on-off valve 44 and the on-off valve 46, discharges the nitrogen gas in the stocker 20 from the exhaust port 38, and supplies dry air from the second gas container 52 into the stocker 20. Introduce.
When the exhaust and supply of air are performed for a predetermined time, the control unit 60 closes the on-off valve 46 and the on-off valve 44.

そして、制御部６０は、所定の時間間隔をあけたのちに、再び第一パージ工程として、開閉弁４２および開閉弁４６を開放して、ストッカ２０内の乾燥空気を排気口３８より排出するとともに、ストッカ２０内に第一ガス容器５０より窒素ガスを導入する。 Then, after a predetermined time interval, the control unit 60 opens the on-off valve 42 and the on-off valve 46 again as a first purge step, and discharges the dry air in the stocker 20 from the exhaust port 38. Then, nitrogen gas is introduced into the stocker 20 from the first gas container 50.

以降、レチクル収納装置１０では、第二パージ工程と第一パージ工程とが繰り返される。
このように、制御部６０によって開閉弁４２，４４，４６の開閉を繰り返し切り換えることにより、レチクル収納装置１０はストッカ２０内が窒素ガスと乾燥空気により交互にガスパージされる。
なお、第一パージ工程と第二パージ工程の繰り返し回数は、各１回ずつ以上である限り任意である。
また、第一・第二パージ工程同士の間の時間間隔は特に限定されないが、後述するように各パージ工程にて膨張および収縮するペリクル１１０およびペリクル膜１１２の変形動作が十分に減衰した後に、次のパージ工程をおこなうとよい。 Thereafter, in the reticle storage device 10, the second purge process and the first purge process are repeated.
In this manner, by repeatedly switching the opening / closing valves 42, 44, 46 by the control unit 60, the reticle storage device 10 is alternately purged with nitrogen gas and dry air in the stocker 20.
Note that the number of repetitions of the first purge process and the second purge process is arbitrary as long as it is one or more times.
Further, the time interval between the first and second purge steps is not particularly limited, but after the deformation operation of the pellicle 110 and the pellicle film 112 that expand and contract in each purge step is sufficiently attenuated as described later, The next purging step may be performed.

本実施形態のレチクル収納装置１０は、レチクルケース１５０に収容されたレチクル１００を、かかるガスパージされた状態で保管するものである。 The reticle storage apparatus 10 according to the present embodiment stores the reticle 100 stored in the reticle case 150 in such a gas purged state.

図２に示すレチクル１００およびレチクルケース１５０について説明する。
レチクル１００は、フォトマスクとも呼ばれ、基板の一方の主面（パターン形成面１０４）に微細なパターン１０２が形成されている。パターン形成面１０４には、異物の付着を防止するためのペリクル１１０が取り付けられている。ペリクル１１０は、支持枠１１４と、これに張設されたペリクル膜１１２とからなる。支持枠１１４は、パターン１０２の全体を囲う形状および寸法にて構成されている。
対向するパターン形成面１０４とペリクル膜１１２とのクリアランスは、３〜６ｍｍ程度とすることができる。 The reticle 100 and the reticle case 150 shown in FIG. 2 will be described.
The reticle 100 is also called a photomask, and a fine pattern 102 is formed on one main surface (pattern formation surface 104) of a substrate. A pellicle 110 is attached to the pattern forming surface 104 to prevent foreign matter from adhering. The pellicle 110 includes a support frame 114 and a pellicle film 112 stretched thereon. The support frame 114 is configured in a shape and dimensions that surround the entire pattern 102.
The clearance between the opposing pattern forming surface 104 and the pellicle film 112 can be about 3 to 6 mm.

ペリクル膜１１２は、レチクル１００に照射されるフッ化アルゴン（ＡｒＦ）などの露光光に対する透過率が高い材料からなる。具体的には、ニトロセルロースや酢酸セルロースなどのセルロース系樹脂材料や非晶質フッ素系樹脂材料など、ガス透過性の透明樹脂材料を例示することができる。 The pellicle film 112 is made of a material having a high transmittance with respect to exposure light such as argon fluoride (ArF) irradiated to the reticle 100. Specifically, gas permeable transparent resin materials such as cellulose resin materials such as nitrocellulose and cellulose acetate, and amorphous fluorine resin materials can be exemplified.

支持枠１１４とペリクル膜１１２、または支持枠１１４とレチクル１００は、樹脂材料により互いに接合されている。
具体的には、支持枠１１４とペリクル膜１１２とを接合する接着部１１６には、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、またはシリコーン樹脂系などの接着剤を用いることができる。一方、支持枠１１４とレチクル１００とを接続する粘着部１１８には、ポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂またはアクリル樹脂等を用いることができる。 The support frame 114 and the pellicle film 112 or the support frame 114 and the reticle 100 are joined to each other by a resin material.
Specifically, an adhesive such as an acrylic resin, an epoxy resin, or a silicone resin can be used for the bonding portion 116 that joins the support frame 114 and the pellicle film 112. On the other hand, for the adhesive portion 118 that connects the support frame 114 and the reticle 100, polybuden resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, or the like can be used.

ペリクル１１０は、支持枠１１４の一方の開口がペリクル膜１１２で閉止された蓋状をなしている。ペリクル膜１１２をパターン形成面１０４に対向させ、支持枠１１４にてパターン１０２を覆うようにペリクル１１０をレチクル１００に装着することで、パターン１０２はペリクル１１０の外部の異物から保護される。そしてペリクル１１０とレチクル１００との間には、内部空間１３０が形成される。 The pellicle 110 has a lid shape in which one opening of the support frame 114 is closed by a pellicle film 112. By mounting the pellicle 110 on the reticle 100 so that the pellicle film 112 faces the pattern forming surface 104 and the pattern 102 is covered by the support frame 114, the pattern 102 is protected from foreign matter outside the pellicle 110. An internal space 130 is formed between the pellicle 110 and the reticle 100.

なお、支持枠１１４の側面には、内部空間１３０の内外の気圧差を解消するための通気孔１２０が穿設されている。
通気孔１２０の孔径は、一例として直径０．１〜１ｍｍ程度とすることができる。通気孔１２０には、ペリクル１１０の外部からの異物の侵入を防止するため、直径１〜１０μｍ程度のメッシュサイズのフィルタ１２２が装着されている。
かかるメッシュサイズのフィルタ１２２は、気体分子の出入りを許容し、固体粒子の出入りを遮断するものである。 Note that a vent hole 120 is formed in the side surface of the support frame 114 for eliminating the pressure difference between the inside and outside of the internal space 130.
As an example, the diameter of the vent hole 120 can be about 0.1 to 1 mm. A filter 122 having a mesh size of about 1 to 10 μm in diameter is attached to the vent hole 120 in order to prevent entry of foreign matter from the outside of the pellicle 110.
The mesh size filter 122 allows gas molecules to enter and exit and blocks solid particles from entering and exiting.

レチクル１００を収容するレチクルケース１５０は、レチクル１００をセットするベース部１５２と、ペリクル１１０を覆うカバー部１５４からなる。カバー部１５４は、ベース部１５２に対して着脱可能である。
カバー部１５４は、ペリクル膜１１２と十分に離間しており、ペリクル膜１１２がレチクル１００に対して面直方向に往復揺動してもカバー部１５４に接触することはない。 A reticle case 150 that accommodates the reticle 100 includes a base portion 152 that sets the reticle 100 and a cover portion 154 that covers the pellicle 110. The cover part 154 can be attached to and detached from the base part 152.
The cover part 154 is sufficiently separated from the pellicle film 112, and does not come into contact with the cover part 154 even if the pellicle film 112 reciprocally swings in the direction perpendicular to the reticle 100.

カバー部１５４には通孔１５６が穿設されており、内部空間１３０とレチクルケース１５０の外部とは通気孔１２０、フィルタ１２２および通孔１５６を通じて連通している。
ベース部１５２には、セットされたレチクル１００を保持するホルダ１５８が設けられている。ホルダ１５８は、レチクル１００を保持するロック状態と、レチクル１００をベース部１５２に取り付けまたは取り外し可能に開放するアンロック状態とに切替駆動される。 A through hole 156 is formed in the cover portion 154, and the internal space 130 communicates with the outside of the reticle case 150 through the vent hole 120, the filter 122, and the through hole 156.
The base portion 152 is provided with a holder 158 that holds the set reticle 100. The holder 158 is switched and driven between a locked state in which the reticle 100 is held and an unlocked state in which the reticle 100 is removably attached to or removed from the base portion 152.

樹脂材料からなる接着部１１６および粘着部１１８からは、経時的にアウトガスが放出される。アウトガスの成分としては、樹脂材料中に含まれるトルエンやキシレンなどの残留有機溶剤や、未重合のモノマーなどの有機分子が挙げられる。
かかるアウトガスは、ペリクル１１０の外部に放出されるものと、内部空間１３０の内部に放出されるものとが存在する。
アウトガスに含まれる有機分子が内部空間１３０の内部に残留したままレチクル１００がフォトリソグラフィー工程に供されると、当該有機分子が光反応し、その生成物がパターン形成面１０４に付着して上述のレチクルヘイズを生じる。 Outgas is released over time from the adhesive portion 116 and the adhesive portion 118 made of a resin material. Examples of the outgas component include residual organic solvents such as toluene and xylene contained in the resin material, and organic molecules such as unpolymerized monomers.
Such outgas may be released to the outside of the pellicle 110 or may be released to the inside of the internal space 130.
When the reticle 100 is subjected to a photolithography process with the organic molecules contained in the outgas remaining in the interior space 130, the organic molecules undergo a photoreaction, and the product adheres to the pattern formation surface 104, thereby causing the above-described problem. Causes reticle haze.

樹脂材料からのアウトガスに含まれる有機分子は、ペリクル膜１１２を透過せず、通気孔１２０を通過可能である。
したがって、内部空間１３０に放出されたアウトガスを、ペリクル１１０の内部雰囲気とともに通気孔１２０より外部に排気する力を作用させることで、内部空間１３０を清浄化することができる。 Organic molecules contained in the outgas from the resin material do not pass through the pellicle film 112 and can pass through the vent hole 120.
Therefore, the internal space 130 can be cleaned by applying a force for exhausting the outgas released into the internal space 130 to the outside through the vent hole 120 together with the internal atmosphere of the pellicle 110.

本実施形態のレチクル収納装置１０では、ペリクル膜１１２に対する透過率のより低い第一ガスと、透過率のより高い第二ガスとで、それぞれストッカ２０内をパージする。これにより、ペリクル１１０の内圧を一時的に上昇させてペリクル膜１１２を伸長させ、その弾性復元力によって内部雰囲気の排気力を得ている。
すなわち、レチクル収納装置１０を用いた本実施形態の保管方法では、揺動するペリクル膜１１２により、樹脂材料からのアウトガスに含まれる有機分子を、通気孔１２０を通じてペリクル膜１１２の外部に排出する。 In the reticle storage device 10 of the present embodiment, the inside of the stocker 20 is purged with a first gas having a lower transmittance with respect to the pellicle film 112 and a second gas having a higher transmittance. Thereby, the internal pressure of the pellicle 110 is temporarily increased to elongate the pellicle film 112, and the exhaust force of the internal atmosphere is obtained by the elastic restoring force.
That is, in the storage method of the present embodiment using the reticle storage device 10, the organic molecules contained in the outgas from the resin material are discharged out of the pellicle film 112 through the vent hole 120 by the swinging pellicle film 112.

したがって、パージガスとして用いられる第一ガスと第二ガスの組み合わせは、ペリクル膜１１２の気体透過率に応じて種々のものより選択することができる。 Therefore, the combination of the first gas and the second gas used as the purge gas can be selected from various types according to the gas permeability of the pellicle film 112.

本実施形態では、第一ガスを窒素ガスとし、第二ガスを空気としている。これは、セルロース系樹脂材料やゴム材料などの一般的なペリクル膜１１２に対する酸素透過率が窒素透過率よりも高いことを利用したものである。
ペリクル膜１１２に対する第二ガスの透過係数は、第一ガスの透過係数よりも大きい限り特に限定されない。好ましくは、ペリクル膜１１２に対する第二ガスの透過係数が、第一ガスの透過係数の４０倍以上であることが好ましい。 In the present embodiment, the first gas is nitrogen gas and the second gas is air. This utilizes the fact that the oxygen permeability of a general pellicle film 112 such as a cellulose resin material or a rubber material is higher than the nitrogen permeability.
The permeability coefficient of the second gas with respect to the pellicle membrane 112 is not particularly limited as long as it is larger than the permeability coefficient of the first gas. It is preferable that the permeability coefficient of the second gas with respect to the pellicle film 112 is 40 times or more of the permeability coefficient of the first gas.

第一ガスまたは第二ガスのうち少なくとも一方には、単一種の不活性ガスを用いてもよい。ここで、不活性ガスには窒素および希ガス類を含む。したがって、本実施形態に代えて、第一ガスとして、より分子量の大きな希ガス（例えばアルゴン）を用い、第二ガスとして、より分子量の小さな希ガス（例えばヘリウム）を用いてもよい。同様に、第一ガスとして窒素、第二ガスとしてヘリウムの組み合わせを用いてもよい。 A single kind of inert gas may be used as at least one of the first gas and the second gas. Here, the inert gas includes nitrogen and rare gases. Therefore, instead of the present embodiment, a rare gas having a higher molecular weight (for example, argon) may be used as the first gas, and a rare gas having a lower molecular weight (for example, helium) may be used as the second gas. Similarly, a combination of nitrogen as the first gas and helium as the second gas may be used.

図１に示すように、ストッカ２０の収納部２２には、レチクルケース１５０を多段に収納するための棚２４が設けられている。棚２４の段数、形状および配置は特に限定されない。ストッカ２０は、収納部２２の開口を開閉可能に閉止する扉（図示せず）を備えている。扉は、レチクルケース１５０を収納部２２に出し入れする場合に開放され、レチクルケース１５０（レチクル１００）の保管時には閉止される。
図３は、ストッカ２０にレチクルケース１５０が収容された状態を示す模式図である。同図では、酸素濃度計６７は図示を省略している。収納部２２に多段に設けられた棚２４にはそれぞれレチクルケース１５０が嵌め込まれて保持・収納されている。レチクルケース１５０には、ペリクル１１０が取り付けられたレチクル１００が収容されている。
レチクルケース１５０の通孔１５６、およびペリクル１１０の通気孔１２０，フィルタ１２２を通じて、ストッカ２０の収納部２２とペリクル１１０の内部空間１３０とは連通している。したがって、各ペリクル１１０の内部空間１３０（内部雰囲気）に含まれるアウトガスは、パージガスとともに収納部２２より排気される。 As shown in FIG. 1, the storage unit 22 of the stocker 20 is provided with a shelf 24 for storing the reticle cases 150 in multiple stages. The number, shape, and arrangement of the shelves 24 are not particularly limited. The stocker 20 includes a door (not shown) that closes the opening of the storage portion 22 so as to be openable and closable. The door is opened when the reticle case 150 is taken in and out of the storage unit 22, and is closed when the reticle case 150 (reticle 100) is stored.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which the reticle case 150 is accommodated in the stocker 20. In the figure, the oxygen concentration meter 67 is not shown. Reticle cases 150 are fitted and held and stored in shelves 24 provided in multiple stages in the storage unit 22. Reticle case 150 accommodates reticle 100 to which pellicle 110 is attached.
The storage portion 22 of the stocker 20 and the internal space 130 of the pellicle 110 communicate with each other through the through hole 156 of the reticle case 150, the vent hole 120 of the pellicle 110, and the filter 122. Accordingly, the outgas contained in the internal space 130 (internal atmosphere) of each pellicle 110 is exhausted from the storage unit 22 together with the purge gas.

＜レチクル保管方法＞
本実施形態のレチクル保管方法の概要について説明する。
図４は、本実施形態のレチクル保管方法（以下、本方法と略記する場合がある。）を示すフローチャートである。 <Reticle storage method>
An outline of the reticle storage method of the present embodiment will be described.
FIG. 4 is a flowchart showing a reticle storage method of the present embodiment (hereinafter sometimes abbreviated as the present method).

本方法は、通気孔１２０を有する支持枠１１４と、支持枠１１４に張られたペリクル膜１１２と、を備えるペリクル１１０が取り付けられたレチクル１００を保管する方法に関する（図２を参照）。
そして、本方法では、第一ガス（窒素ガス）でパージされていたレチクル１００を、ペリクル膜１１２に対する透過率が第一ガスよりも高い第二ガス（乾燥空気）でパージして、ペリクル１１０を膨張させるとともにペリクル膜１１２を伸長させる膨張工程Ｓ５２と、伸長したペリクル膜１１２の復元力により、通気孔１２０を通じてペリクル１１０内部のガスをペリクル１１０の外部に排出するとともにペリクル１１０を収縮させる収縮工程Ｓ５４と、をおこなう。 The present method relates to a method of storing the reticle 100 to which the pellicle 110 including the support frame 114 having the vent holes 120 and the pellicle film 112 stretched on the support frame 114 is attached (see FIG. 2).
In this method, the reticle 100 that has been purged with the first gas (nitrogen gas) is purged with a second gas (dry air) that has a higher transmittance with respect to the pellicle film 112 than the first gas. Expansion step S52 for expanding and expanding the pellicle membrane 112, and contraction step S54 for discharging the gas inside the pellicle 110 to the outside of the pellicle 110 through the vent hole 120 and contracting the pellicle 110 by the restoring force of the expanded pellicle membrane 112. And do.

つぎに、本方法をさらに詳細に説明する。図４に示すように、本方法では、レチクル収容工程Ｓ１０、ケース収納工程Ｓ２０、膨張工程Ｓ５２、収縮工程Ｓ５４、ケース取出工程Ｓ８０およびレチクル取出工程Ｓ９０を、この順に行う。
レチクル収容工程Ｓ１０では、通孔１５６を備えるレチクルケース１５０にレチクル１００を収容する（図２を参照）。
ケース収納工程Ｓ２０では、レチクル１００が収容されたレチクルケース１５０を、第一ガス（窒素ガス）および第二ガス（乾燥空気）が切り替えて供給されるストッカ２０に収納する（図３を参照）。
膨張工程Ｓ５２および収縮工程Ｓ５４は、それぞれ一回または複数回繰り返して行う。
ケース取出工程Ｓ８０では、収納されていたレチクルケース１５０をストッカ２０より取り出す。
レチクル取出工程Ｓ９０では、ストッカ２０から取り出されたレチクルケース１５０よりレチクル１００を取り出す。 Next, this method will be described in more detail. As shown in FIG. 4, in the present method, the reticle accommodation step S10, the case accommodation step S20, the expansion step S52, the contraction step S54, the case removal step S80, and the reticle removal step S90 are performed in this order.
In the reticle accommodating step S10, the reticle 100 is accommodated in a reticle case 150 having a through hole 156 (see FIG. 2).
In the case storage step S20, the reticle case 150 in which the reticle 100 is stored is stored in the stocker 20 to which the first gas (nitrogen gas) and the second gas (dry air) are supplied (see FIG. 3).
The expansion step S52 and the contraction step S54 are each repeated once or a plurality of times.
In the case removal step S80, the stored reticle case 150 is removed from the stocker 20.
In the reticle extraction step S90, the reticle 100 is extracted from the reticle case 150 extracted from the stocker 20.

レチクル収容工程Ｓ１０およびケース収納工程Ｓ２０は、常温常圧の清浄な乾燥空気雰囲気下で行うことができる。
レチクル１００がそれぞれ収容された複数のレチクルケース１５０がストッカ２０に並べて収納されると、ストッカ２０は扉（図示せず）が閉止されて、ガス流路３０および配管３６を除いて気密に保持される。 The reticle housing step S10 and the case housing step S20 can be performed in a clean dry air atmosphere at normal temperature and pressure.
When a plurality of reticle cases 150 each containing the reticle 100 are stored side by side in the stocker 20, the door (not shown) is closed and the stocker 20 is kept airtight except for the gas flow path 30 and the pipe 36. The

図５（ａ）〜（ｄ）は、かかる膨張工程Ｓ５２および収縮工程Ｓ５４をおこなうための予備工程として、ストッカ２０の初期パージガスである乾燥空気（ａｉｒ）を、第一ガスである窒素ガスに置換する工程を示す説明図である。
本方法の場合、予備工程は、レチクル収納装置１０において、図４に示す第一パージ工程Ｓ３０を実施することによりおこなわれる。 5A to 5D show, as a preliminary process for performing the expansion process S52 and the contraction process S54, the dry air (air), which is the initial purge gas of the stocker 20, is replaced with nitrogen gas, which is the first gas. It is explanatory drawing which shows the process to do.
In the case of this method, the preliminary process is performed by executing the first purge process S30 shown in FIG.

ただし、本方法に代えて、ストッカ２０の初期パージガスが窒素ガスである場合、すなわち、ケース収納工程Ｓ２０を窒素雰囲気下で行った場合には、予備工程としての第一回目の第一パージ工程Ｓ３０は不要となる。 However, instead of this method, when the initial purge gas of the stocker 20 is nitrogen gas, that is, when the case storage step S20 is performed in a nitrogen atmosphere, the first first purge step S30 as a preliminary step is performed. Is no longer necessary.

図５（ａ）は、初期状態として乾燥空気（ａｉｒ）が充填されたストッカ２０の棚２４にセットされたレチクルケース１５０（いずれも図３を参照）に収容されたレチクル１００の模式図である。説明のため、図５ではレチクル１００の天地方向を図３と反転させている。すなわち、レチクル１００のパターン形成面１０４は、図５各図では上面側にあたる。かかるパターン形成面１０４には、パターン１０２（図２を参照）を囲むように支持枠１１４が周着され、ペリクル膜１１２が対向して設けられている。すなわち、パターン１０２は、支持枠１１４およびペリクル膜１１２を含むペリクル１１０により覆われている。
本実施形態のペリクル膜１１２は、酸素透過率が窒素透過率よりも高い材料からなる。
したがって、酸素を含有する乾燥空気（初期パージガス）は、窒素ガス（第一ガス）よりもペリクル膜１１２の透過速度が全体として高いガスである。 FIG. 5A is a schematic diagram of the reticle 100 accommodated in a reticle case 150 (see FIG. 3) set on the shelf 24 of the stocker 20 filled with dry air (air) as an initial state. . For the sake of explanation, in FIG. 5, the vertical direction of the reticle 100 is reversed from that in FIG. That is, the pattern forming surface 104 of the reticle 100 corresponds to the upper surface side in each drawing of FIG. On the pattern forming surface 104, a support frame 114 is attached so as to surround the pattern 102 (see FIG. 2), and a pellicle film 112 is provided to face the pattern forming surface 104. That is, the pattern 102 is covered with the pellicle 110 including the support frame 114 and the pellicle film 112.
The pellicle film 112 of this embodiment is made of a material having an oxygen permeability higher than the nitrogen permeability.
Therefore, the dry air (initial purge gas) containing oxygen is a gas whose permeation rate of the pellicle film 112 is generally higher than that of nitrogen gas (first gas).

同図（ａ）に示すように、初期状態のペリクル１１０の内部空間１３０には乾燥空気（ａｉｒ）が充満し、ストッカ２０の収納部２２にあたるペリクル１１０の外部空間１４０も乾燥空気（ａｉｒ）で満たされている。したがって、ペリクル膜１１２および通気孔１２０を通じた外部空間１４０と内部空間１３０との間のガスの出入りは平衡状態にある。
ストッカ２０の内圧は特に限定されるものではないが、１００から２００ｋＰａ程度とすることができる。 As shown in FIG. 6A, the internal space 130 of the pellicle 110 in the initial state is filled with dry air (air), and the external space 140 of the pellicle 110 corresponding to the storage unit 22 of the stocker 20 is also dry air (air). be satisfied. Therefore, the gas in and out between the external space 140 and the internal space 130 through the pellicle membrane 112 and the vent hole 120 is in an equilibrium state.
The internal pressure of the stocker 20 is not particularly limited, but can be about 100 to 200 kPa.

かかる平衡状態では、乾燥空気（ａｉｒ）を構成する窒素ガスや酸素ガスは、ペリクル膜１１２や通気孔１２０をペリクル１１０の外部から内部に通過する速度と、逆に内部から外部に通過する速度が、ガス成分ごとに等しい。よって、ペリクル１１０の内圧と外圧とは等しくなる。 In such an equilibrium state, the nitrogen gas or oxygen gas constituting the dry air has a speed at which the pellicle membrane 112 and the vent hole 120 pass from the outside to the inside of the pellicle 110 and vice versa. , Equal for each gas component. Therefore, the internal pressure and the external pressure of the pellicle 110 are equal.

この状態から、窒素ガス（第一ガス）でレチクル１００をパージする（図４：第一パージ工程Ｓ３０）。第一パージ工程Ｓ３０の開始時のペリクル１１０の状態を同図（ｂ）に示す。パージ圧（第一パージ圧）は特に限定されないが、本実施形態では、初期状態のストッカ２０の内圧（初期パージ圧）と等しくする。具体的には、１５０ｋＰａのパージ圧とすることができる。 From this state, the reticle 100 is purged with nitrogen gas (first gas) (FIG. 4: first purge step S30). The state of the pellicle 110 at the start of the first purge step S30 is shown in FIG. The purge pressure (first purge pressure) is not particularly limited, but in this embodiment, it is equal to the internal pressure (initial purge pressure) of the stocker 20 in the initial state. Specifically, the purge pressure can be 150 kPa.

窒素ガスにより外部空間１４０をパージすると、ペリクル膜１１２の内部には乾燥空気に含まれる形で酸素ガス（Ｏ_２）が存在するのに対して外部には窒素ガス（Ｎ_２）がもっぱら存在することとなる。すなわち、ペリクル膜１１２を外部から内部に透過するガス（窒素ガス）の透過速度よりも、ペリクル膜１１２を内部から外部に透過するガス（酸素ガス）の透過速度の方が大きくなる。
一方、通気孔１２０やフィルタ１２２（図２を参照）の孔径は酸素分子や窒素分子よりも十分に大きいため、通気孔１２０を通じたガスの出入りの速度はペリクル１１０の内外圧力差に支配される。本実施形態の場合、第一パージ工程のパージ圧は初期圧力と等しいため、通気孔１２０を通じたガスの流入速度と流出速度とはバランスする。
これにより、ペリクル１１０の内部空間１３０からはペリクル膜１１２を通じた酸素ガスの流出が卓越し、ペリクル１１０の内圧は初期圧力よりも降下する。 When the external space 140 is purged with nitrogen gas, oxygen gas (O ₂ ) exists in the form of dry air inside the pellicle film 112, whereas nitrogen gas (N ₂ ) exists exclusively outside. It will be. That is, the permeation speed of the gas (oxygen gas) that permeates the pellicle film 112 from the inside to the outside is higher than the permeation speed of the gas (nitrogen gas) that permeates the pellicle film 112 from the outside to the inside.
On the other hand, since the hole diameter of the vent hole 120 and the filter 122 (see FIG. 2) is sufficiently larger than oxygen molecules and nitrogen molecules, the gas entry / exit speed through the vent hole 120 is governed by the internal / external pressure difference of the pellicle 110. . In the case of this embodiment, the purge pressure in the first purge step is equal to the initial pressure, so the gas inflow rate and outflow rate through the vent hole 120 are balanced.
As a result, the outflow of oxygen gas through the pellicle film 112 is dominant from the internal space 130 of the pellicle 110, and the internal pressure of the pellicle 110 falls below the initial pressure.

同図（ｃ）は、第一ガス（窒素ガス）のパージ直後のペリクル１１０の状態（非平衡状態Ｓ３２）を示す模式図である。
ペリクル１１０は、内圧が降下したことにより収縮する。本実施形態の支持枠１１４およびレチクル１００は十分な剛性を有しており、ペリクル膜１１２が伸長してレチクル１００に向かって凹形状に変形することによりペリクル１１０は収縮する。
ペリクル膜１１２の変形深さとしては、０．２〜１ｍｍ程度が好ましい。ペリクル膜１１２がかかる凹変形をするよう、ペリクル膜１１２と第一ガスとの組み合わせを選択するとよい。 FIG. 4C is a schematic diagram showing the state (non-equilibrium state S32) of the pellicle 110 immediately after the purge of the first gas (nitrogen gas).
The pellicle 110 contracts due to a drop in internal pressure. The support frame 114 and the reticle 100 of this embodiment have sufficient rigidity, and the pellicle 110 contracts as the pellicle film 112 expands and deforms into a concave shape toward the reticle 100.
The deformation depth of the pellicle film 112 is preferably about 0.2 to 1 mm. A combination of the pellicle film 112 and the first gas may be selected so that the pellicle film 112 undergoes the concave deformation.

収縮したペリクル１１０には、通気孔１２０を通じて外部雰囲気が吸引され、伸長したペリクル膜１１２は弾性復元力により徐々に初期状態に回復する。 The contracted pellicle 110 is sucked into the external atmosphere through the vent hole 120, and the expanded pellicle film 112 is gradually restored to the initial state by the elastic restoring force.

同図（ｄ）は、第一ガスのパージから所定時間が経過してペリクル膜１１２が初期状態に回復した状態（平衡状態Ｓ３４）を示す模式図である。
通気孔１２０から窒素ガスを内部空間１３０に導入したペリクル１１０は、初期状態の体積に回復するとともに、内部空間１３０が窒素ガスで充満されている。
また、ペリクル１１０の外部空間１４０は、パージされた窒素ガスで満たされていることから、ペリクル膜１１２および通気孔１２０を通じたペリクル１１０へのガスの流入と流出とは平衡する。 FIG. 4D is a schematic diagram showing a state (equilibrium state S34) in which the pellicle film 112 is restored to the initial state after a predetermined time has elapsed since the purge of the first gas.
The pellicle 110 in which nitrogen gas is introduced into the internal space 130 from the vent hole 120 is restored to the initial volume, and the internal space 130 is filled with nitrogen gas.
Further, since the external space 140 of the pellicle 110 is filled with the purged nitrogen gas, the inflow and outflow of gas to the pellicle 110 through the pellicle film 112 and the vent hole 120 are balanced.

第一パージ工程Ｓ３０におけるストッカ２０内のガス組成は、レチクル収納装置１０の検出部（酸素濃度計６７）による測定結果に基づいて知ることができる。
例えば、酸素濃度計６７によって測定されるストッカ２０内の酸素濃度は、第一パージ工程Ｓ３０の開始時点における約２０％から、第一ガス（窒素ガス）の４５分間のパージによって、実質的に０％まで下がる。 The gas composition in the stocker 20 in the first purge step S30 can be known based on the measurement result by the detection unit (oxygen concentration meter 67) of the reticle storage device 10.
For example, the oxygen concentration in the stocker 20 measured by the oxygen concentration meter 67 is substantially 0 by approximately 45% of the first gas (nitrogen gas) purged from about 20% at the start of the first purge step S30. % Down.

本方法では、第一ガス（窒素ガス）もしくは第二ガス（乾燥空気）の濃度が、予め定められた閾値ＴＨに到達した場合に、レチクル１００をパージするガスを第一ガス（窒素ガス）または第二ガス（乾燥空気）に切り替えるとよい。 In this method, when the concentration of the first gas (nitrogen gas) or the second gas (dry air) reaches a predetermined threshold TH, the gas for purging the reticle 100 is the first gas (nitrogen gas) or Switch to the second gas (dry air).

閾値ＴＨは、制御部６０（図１を参照）に記憶させておく。閾値ＴＨは複数を設定するとよい。
また、第一ガス（窒素ガス）または第二ガス（乾燥空気）に含まれる特定のガス成分の濃度を閾値ＴＨとして設定してもよい。 The threshold value TH is stored in the control unit 60 (see FIG. 1). A plurality of threshold values TH may be set.
Moreover, you may set the density | concentration of the specific gas component contained in 1st gas (nitrogen gas) or 2nd gas (dry air) as threshold value TH.

具体的には、本実施形態では、第二ガス（乾燥空気）に含まれる酸素の濃度を、閾値ＴＨ（ＴＨ１、ＴＨ２）として制御部６０に設定しておく。例えば、ストッカ２０内の酸素濃度の下側閾値ＴＨ１＝１％、上側閾値ＴＨ２＝１９％と設定するとよい。そして、第一パージ工程Ｓ３０によってストッカ２０内が窒素ガスでパージされて、酸素濃度計６７による酸素濃度測定値が１％（下側閾値ＴＨ１）を下回ったときに、制御部６０は第一パージ工程Ｓ３０の終了と判定する。 Specifically, in this embodiment, the concentration of oxygen contained in the second gas (dry air) is set in the control unit 60 as the threshold value TH (TH1, TH2). For example, the lower threshold value TH1 of the oxygen concentration in the stocker 20 may be set to 1% and the upper threshold value TH2 = 19%. Then, when the stocker 20 is purged with nitrogen gas in the first purge step S30 and the oxygen concentration measured value by the oxygen concentration meter 67 falls below 1% (lower threshold TH1), the control unit 60 performs the first purge. It is determined that step S30 has ended.

なお、乾燥空気における酸素の比率が約２０％であることから、酸素濃度計６７によって測定された酸素濃度が１％であるとき、第二ガス（乾燥空気）の濃度は約５％にあたる。したがって、酸素濃度の下側閾値ＴＨ１＝１％と制御部６０に設定することは、第二ガス（乾燥空気）の下限濃度の閾値ＴＨを５％と設定することに相当する。 Since the oxygen ratio in the dry air is about 20%, when the oxygen concentration measured by the oxygen concentration meter 67 is 1%, the concentration of the second gas (dry air) is about 5%. Therefore, setting the lower threshold TH1 of the oxygen concentration to 1% and the control unit 60 corresponds to setting the threshold TH of the lower limit concentration of the second gas (dry air) to 5%.

図４のフローチャートに示すように、レチクル収納装置１０によるレチクル１００の保管が継続する場合（ステップＳ４０：Ｎ）、制御部６０は、信号線６２，６４，６６を通じて開閉弁４２の閉止、開閉弁４４の開放、および開閉弁４６の開放を実行する。
これにより、ストッカ２０の収納部２２にはガス流路３０を通じて第二ガス（乾燥空気）が供給されて第二パージ工程Ｓ５０が行われる。 As shown in the flowchart of FIG. 4, when the reticle storage device 10 continues to be stored by the reticle storage device 10 (step S 40: N), the control unit 60 closes the open / close valve 42 through the signal lines 62, 64, 66. 44 is opened and the on-off valve 46 is opened.
Thus, the second gas (dry air) is supplied to the storage unit 22 of the stocker 20 through the gas flow path 30, and the second purge step S50 is performed.

一方、第一パージ工程Ｓ３０とともにレチクル１００の保管が終了する場合（ステップＳ４０：Ｙ）、本方法では、乾燥空気による最終パージ工程Ｓ７０を行った後にケース取出工程Ｓ８０を行う。 On the other hand, when the storage of the reticle 100 is completed together with the first purge step S30 (step S40: Y), in this method, the case removal step S80 is performed after the final purge step S70 with dry air is performed.

レチクルケース１５０をストッカ２０の外に出す直前に行う最終パージ工程Ｓ７０に用いるパージガスには、清浄度の高い乾燥空気を用いる。これは、ストッカ２０から取り出されたレチクル１００の内部雰囲気と外部雰囲気の出入りを抑制して、ストッカ２０の外部でペリクル膜１１２が収縮または膨張状態にならないようにするためである。このため、最終パージ工程Ｓ７０では、ストッカ２０の外部雰囲気と同じ気体、すなわち乾燥空気によってレチクル１００をパージする。
これにより、乾燥空気雰囲気下で行われるフォトリソグラフィー工程にレチクル１００が供されている間にペリクル膜１１２が揺動することがなく、ペリクル１１０の焦点深度が変化する不具合が生じることを防止している。 Highly clean dry air is used as the purge gas used in the final purge step S70 performed immediately before the reticle case 150 is taken out of the stocker 20. This is to prevent the inside and outside atmospheres of the reticle 100 taken out from the stocker 20 from entering and exiting, so that the pellicle film 112 does not contract or expand outside the stocker 20. For this reason, in the final purge step S70, the reticle 100 is purged with the same gas as the atmosphere outside the stocker 20, that is, dry air.
As a result, the pellicle film 112 does not oscillate while the reticle 100 is being subjected to a photolithography process performed in a dry air atmosphere, thereby preventing the occurrence of a problem that the depth of focus of the pellicle 110 changes. Yes.

図６（ａ）〜（ｄ）は、本方法における膨張工程Ｓ５２と収縮工程Ｓ５４を示す説明図である。膨張工程Ｓ５２は、レチクル収納装置１０において第二パージ工程Ｓ５０を実施することによりおこなわれる。
すなわち、本方法では、膨張工程Ｓ５２にて、レチクル１００を第二ガス雰囲気中に保持することにより、レチクル１００を第二ガスでパージする。 FIGS. 6A to 6D are explanatory diagrams showing the expansion step S52 and the contraction step S54 in the present method. The expansion step S52 is performed by performing the second purge step S50 in the reticle storage device 10.
That is, in this method, in the expansion step S52, the reticle 100 is purged with the second gas by holding the reticle 100 in the second gas atmosphere.

同図（ａ）は、膨張工程Ｓ５２の初期状態を示している。かかる状態では、レチクル１００はペリクル膜１１２に対する透過率のより低い第一ガス（窒素ガス）でパージされている。 FIG. 5A shows an initial state of the expansion step S52. In such a state, the reticle 100 is purged with a first gas (nitrogen gas) having a lower transmittance with respect to the pellicle film 112.

この状態から、透過率のより高い第二ガス（乾燥空気）でレチクル１００をパージする（第二パージ工程Ｓ５０）。第二パージ工程Ｓ５０の開始時のペリクル１１０の状態を同図（ｂ）に示す。本実施形態では、第二パージ工程Ｓ５０の開始時の圧力を、初期パージ圧および第一パージ圧と等しくしている。
なお、本実施形態では初期パージガスと第二ガスを乾燥空気で共通としているが、第一ガスよりもペリクル膜１１２の透過率の高いガスであるかぎり、第二ガスは初期パージガスと相違してよい。 From this state, the reticle 100 is purged with a second gas (dry air) having a higher transmittance (second purge step S50). The state of the pellicle 110 at the start of the second purge step S50 is shown in FIG. In the present embodiment, the pressure at the start of the second purge step S50 is made equal to the initial purge pressure and the first purge pressure.
In this embodiment, the initial purge gas and the second gas are common to the dry air, but the second gas may be different from the initial purge gas as long as it is a gas having a higher transmittance of the pellicle film 112 than the first gas. .

乾燥空気（第二ガス）により外部空間１４０をパージすると、ペリクル膜１１２の内部には窒素ガスが充填されているのに対して外部には乾燥空気に含まれる形で酸素ガス（Ｏ_２）が存在することとなる。これにより、ペリクル膜１１２におけるガスの通過速度は、ペリクル１１０への流入が流出に卓越する。一方、通気孔１２０はペリクル膜１１２に比して十分に孔径が大きく、ガス種ごとの通過速度はほぼ等しいため、通気孔１２０通じたガスの流入速度と流出速度とはバランスする。
これにより、ペリクル１１０の内圧は初期圧力よりも上昇する。 When the external space 140 is purged with dry air (second gas), the inside of the pellicle film 112 is filled with nitrogen gas, whereas oxygen gas (O ₂ ) is contained outside in the form of dry air. Will exist. As a result, the flow rate of the gas in the pellicle film 112 is superior to the outflow from the pellicle 110. On the other hand, the vent hole 120 has a sufficiently large diameter as compared with the pellicle membrane 112, and the passing speed for each gas type is substantially equal, so that the inflow speed and outflow speed of the gas through the vent hole 120 are balanced.
As a result, the internal pressure of the pellicle 110 increases from the initial pressure.

同図（ｃ）は、第二ガスによるパージ直後のペリクル１１０の状態を示す模式図である。
ペリクル１１０は、内圧が上昇したことにより膨張し、ペリクル膜１１２がレチクル１００から離れる方向に伸長して凸形状に変形する。
ペリクル膜１１２の変形高さとしては、０．５〜１．５ｍｍ程度が好ましい。ペリクル膜１１２がかかる凸変形をするよう、ペリクル膜１１２と第二ガスとの組み合わせを選択するとよい。 FIG. 4C is a schematic diagram showing the state of the pellicle 110 immediately after the purge with the second gas.
The pellicle 110 expands as the internal pressure increases, and the pellicle film 112 extends in a direction away from the reticle 100 and deforms into a convex shape.
The deformation height of the pellicle film 112 is preferably about 0.5 to 1.5 mm. A combination of the pellicle film 112 and the second gas may be selected so that the pellicle film 112 undergoes such convex deformation.

続けて、ペリクル１１０では収縮工程Ｓ５４がおこなわれる。
収縮工程Ｓ５４にて排出されるペリクル１１０内部のガスには、支持枠１１４とレチクル１００とを接合する樹脂材料からのアウトガスが含まれている。 Subsequently, in the pellicle 110, the contraction step S54 is performed.
The gas inside the pellicle 110 discharged in the contraction step S54 includes outgas from a resin material that joins the support frame 114 and the reticle 100.

本実施形態の収縮工程Ｓ５４において、膨張したペリクル１１０からは、通気孔１２０を通じて内部雰囲気が排出されてペリクル１１０は収縮する。一方、伸長したペリクル膜１１２は弾性復元力により徐々に初期状態に回復する。すなわち、伸長したペリクル膜１１２の復元力により、通気孔１２０を通じてペリクル１１０内部のガスが排出される。ペリクル膜１１２は、レチクル１００の面直方向に揺動し、減衰停止する。
したがって、本方法によれば、内部空間１３０に存在するアウトガスなどの不純ガスをペリクル１１０から排出することができる。 In the contraction step S54 of this embodiment, the expanded pellicle 110 is discharged from the internal atmosphere through the vent hole 120, and the pellicle 110 contracts. On the other hand, the stretched pellicle film 112 is gradually restored to the initial state by the elastic restoring force. That is, the gas inside the pellicle 110 is discharged through the vent hole 120 due to the restoring force of the extended pellicle film 112. The pellicle film 112 swings in the direction perpendicular to the reticle 100 and stops being attenuated.
Therefore, according to this method, impure gas such as outgas existing in the internal space 130 can be discharged from the pellicle 110.

同図（ｄ）は、第二ガスによるパージから所定時間が経過して収縮工程Ｓ５４が終了し、ペリクル膜１１２が初期状態に回復した状態を示す模式図である。
通気孔１２０から窒素ガスを外部空間１４０に排出したペリクル１１０は、初期状態の体積（容積）に回復するとともに、内部空間１３０が乾燥空気で充満されている。
また、ペリクル１１０の外部空間１４０は、パージされた乾燥空気で満たされていることから、ペリクル膜１１２および通気孔１２０を通じたペリクル１１０へのガスの流入と流出とは平衡化している。
以上により、膨張工程Ｓ５２および収縮工程Ｓ５４を含む第二パージ工程Ｓ５０が終了する。 FIG. 4D is a schematic diagram showing a state in which the contraction step S54 is completed after a predetermined time has elapsed from the purge with the second gas, and the pellicle film 112 is restored to the initial state.
The pellicle 110 from which nitrogen gas is discharged from the vent hole 120 to the external space 140 is restored to the initial volume (volume), and the internal space 130 is filled with dry air.
Further, since the external space 140 of the pellicle 110 is filled with purged dry air, the inflow and outflow of gas to the pellicle 110 through the pellicle membrane 112 and the vent hole 120 are balanced.
Thus, the second purge step S50 including the expansion step S52 and the contraction step S54 is completed.

第二パージ工程Ｓ５０を所定時間に亘って継続し、収納部２２の内部を清浄な乾燥空気でパージしたのち、制御部６０は、信号線６２，６４，６６を通じて開閉弁４２、４４および４６をすべて閉止してもよい。これにより、収納部２２の内部は、ペリクル１１０から再びアウトガスが放出されるまで清浄を保つことができる。 After the second purge step S50 is continued for a predetermined time and the inside of the storage unit 22 is purged with clean dry air, the control unit 60 opens the on-off valves 42, 44, and 46 through the signal lines 62, 64, and 66. All may be closed. Thereby, the inside of the storage unit 22 can be kept clean until the outgas is released from the pellicle 110 again.

本方法では、第一ガス（窒素ガス）でパージされていたレチクル１００を第二ガス（乾燥空気）でパージした場合の、第二ガス（乾燥空気）がペリクル膜１１２を通過する単位時間あたりの流量が、第二ガス（乾燥空気）が通気孔１２０を通過する単位時間あたりの流量よりも大きい。 In this method, when the reticle 100 that has been purged with the first gas (nitrogen gas) is purged with the second gas (dry air), the second gas (dry air) per unit time passes through the pellicle film 112. The flow rate is larger than the flow rate per unit time at which the second gas (dry air) passes through the vent hole 120.

これにより、ペリクル１１０の内外圧を調整する通気孔１２０を備えるペリクル１１０においても、ペリクル膜１１２を揺動させて内部雰囲気を排気するための駆動力を得ることができる。 Thereby, also in the pellicle 110 provided with the vent hole 120 for adjusting the internal / external pressure of the pellicle 110, it is possible to obtain a driving force for exhausting the internal atmosphere by swinging the pellicle film 112.

つぎに、図４のフローチャートに示すように、レチクル収納装置１０によるレチクル１００の保管が継続する場合（ステップＳ６０：Ｎ）、制御部６０は、信号線６２，６４，６６を通じて開閉弁４２の開放、開閉弁４４の閉止、および開閉弁４６の開放を実行する。
これにより、ストッカ２０の収納部２２にはガス流路３０を通じて第一ガス（窒素ガス）が供給される。 Next, as shown in the flowchart of FIG. 4, when the reticle storage device 10 continues to store the reticle 100 (step S 60: N), the control unit 60 opens the on-off valve 42 through the signal lines 62, 64, 66. The on-off valve 44 is closed and the on-off valve 46 is opened.
As a result, the first gas (nitrogen gas) is supplied to the storage portion 22 of the stocker 20 through the gas flow path 30.

すなわち、本方法では、第二パージ工程Ｓ５０に続けて、すなわち第二パージ工程Ｓ５０における収縮工程Ｓ５４の後に、レチクル１００を第一ガス（窒素ガス）でパージする。
ここで、第二パージ工程Ｓ５０の終了状態である図６（ｄ）の状態は、第一パージ工程Ｓ３０の開始状態である図５（ａ）の状態と共通である。
したがって、本実施形態の第二パージ工程Ｓ５０に続けて、再び第一パージ工程Ｓ３０をおこなうことが可能である。これにより、かかるパージ工程を繰り返すことで、ペリクル１１０の内部雰囲気を排気する膨張工程Ｓ５２および収縮工程Ｓ５４を再び実施することができる。 That is, in this method, the reticle 100 is purged with the first gas (nitrogen gas) following the second purge step S50, that is, after the contraction step S54 in the second purge step S50.
Here, the state of FIG. 6D, which is the end state of the second purge step S50, is the same as the state of FIG. 5A, which is the start state of the first purge step S30.
Therefore, it is possible to perform the first purge step S30 again following the second purge step S50 of the present embodiment. Thus, by repeating this purge process, the expansion process S52 and the contraction process S54 for exhausting the internal atmosphere of the pellicle 110 can be performed again.

第二パージ工程Ｓ５０から第一パージ工程Ｓ３０への切り替えに際しても、酸素濃度計６７を用いることができる。 The oxygen concentration meter 67 can also be used when switching from the second purge step S50 to the first purge step S30.

本方法では、第二ガス（乾燥空気）の濃度が、予め定められた閾値ＴＨに到達した場合に、レチクル１００をパージするガスを第二ガス（乾燥空気）から第一ガス（窒素ガス）に切り替える。 In this method, when the concentration of the second gas (dry air) reaches a predetermined threshold value TH, the gas for purging the reticle 100 is changed from the second gas (dry air) to the first gas (nitrogen gas). Switch.

具体的には、酸素濃度計６７による酸素濃度の測定値が、制御部６０（図１を参照）に予め記憶された酸素濃度の上側閾値ＴＨ２を上回ったときに、制御部６０は第二パージ工程Ｓ５０の終了と判定する。
本方法では、上側閾値ＴＨ２として１９％が設定されている。そして、乾燥空気における酸素の比率が約２０％であることから、酸素濃度計６７によって測定された酸素濃度が１９％であるとき、第二ガス（乾燥空気）の濃度は約９５％にあたる。
したがって、酸素濃度の上側閾値ＴＨ２＝１９％と制御部６０に設定することは、第二ガス（乾燥空気）の上限濃度の閾値ＴＨを９５％と設定することに相当する。 Specifically, when the measured value of the oxygen concentration by the oxygen concentration meter 67 exceeds the upper threshold TH2 of the oxygen concentration stored in the control unit 60 (see FIG. 1), the control unit 60 performs the second purge. It is determined that step S50 is completed.
In this method, 19% is set as the upper threshold TH2. Since the ratio of oxygen in dry air is about 20%, when the oxygen concentration measured by the oxygen concentration meter 67 is 19%, the concentration of the second gas (dry air) is about 95%.
Therefore, setting the upper threshold value TH2 of oxygen concentration to 19% and the control unit 60 corresponds to setting the threshold value TH of the upper limit concentration of the second gas (dry air) to 95%.

本方法では、一回または複数回の第二パージ工程Ｓ５０を行い、レチクル収納装置１０によるレチクル１００の保管が終了すると（ステップＳ６０：Ｙ）、ケース取出工程Ｓ８０およびレチクル取出工程Ｓ９０を行う。
第二パージ工程Ｓ５０では、レチクル１００は乾燥空気によってパージされているため、上述した最終パージ工程Ｓ７０は不要である。すなわち、本方法においては、乾燥空気をパージガスとするパージ工程に続けてケース取出工程Ｓ８０を行う場合には、最終パージ工程Ｓ７０は不要である。 In this method, one or more second purge steps S50 are performed, and when the reticle 100 is stored by the reticle storage device 10 (step S60: Y), a case unloading step S80 and a reticle unloading step S90 are performed.
In the second purge step S50, since the reticle 100 is purged with dry air, the above-described final purge step S70 is not necessary. In other words, in the present method, when the case removal step S80 is performed following the purge step using dry air as the purge gas, the final purge step S70 is not necessary.

ケース取出工程Ｓ８０では、制御部６０は信号線６２，６４，６６を通じて開閉弁４２、４４および４６を閉止する。そして、操作者は、ストッカ２０の扉（図示せず）を開放してレチクルケース１５０を取り出す。
そして、レチクル取出工程Ｓ９０では、レチクルケース１５０よりレチクル１００を取り出す。取り出されたレチクル１００は、内部がアウトガスに汚染されることなく、フォトリソグラフィー工程等のデバイス製造工程に供される。 In the case removing step S80, the control unit 60 closes the on-off valves 42, 44 and 46 through the signal lines 62, 64 and 66. Then, the operator opens the door (not shown) of the stocker 20 and takes out the reticle case 150.
In reticle extraction step S90, reticle 100 is extracted from reticle case 150. The extracted reticle 100 is subjected to a device manufacturing process such as a photolithography process without being contaminated by outgas inside.

上記本実施形態のレチクル収納装置１０および保管方法の作用効果について説明する。
本実施形態では、第一ガス（窒素ガス）でパージされていたストッカ２０内のレチクル１００を、ペリクル膜１１２に対する透過率が第一ガスよりも高い第二ガス（乾燥空気）でパージする。これにより、ペリクル膜１１２を通じてパージガスがペリクル１１０の内部に出入りすることを利用して、内部空間１３０に含まれる不純ガスをペリクル１１０から排気することができる。 The effects of the reticle storage device 10 and the storage method of the present embodiment will be described.
In the present embodiment, the reticle 100 in the stocker 20 that has been purged with the first gas (nitrogen gas) is purged with a second gas (dry air) having a higher permeability to the pellicle film 112 than the first gas. Accordingly, the impurity gas contained in the internal space 130 can be exhausted from the pellicle 110 by using the purge gas entering and exiting the pellicle 110 through the pellicle film 112.

支持枠１１４とペリクル膜１１２、または支持枠１１４とレチクル１００が、樹脂材料により互いに接合されている場合、経時的なアウトガスの発生が問題となる。これに対して、本実施形態のレチクル収納装置１０および保管方法によれば、レチクルヘイズの原因となる有機分子をペリクル１１０から除去することができる。 When the support frame 114 and the pellicle film 112 or the support frame 114 and the reticle 100 are bonded to each other by a resin material, generation of outgas over time becomes a problem. On the other hand, according to the reticle storage device 10 and the storage method of this embodiment, organic molecules that cause reticle haze can be removed from the pellicle 110.

樹脂材料からのアウトガスに含まれる有機分子が、ペリクル膜１１２を透過せず、通気孔１２０を通過可能とすることにより、これをペリクル１１０の内部雰囲気とともに除去することができる。 By allowing organic molecules contained in the outgas from the resin material to pass through the vent hole 120 without passing through the pellicle film 112, it can be removed together with the internal atmosphere of the pellicle 110.

本実施形態では、第一ガスでパージされていたレチクル１００を第二ガスでパージした場合に、第二ガスがペリクル膜１１２を通過する単位時間あたりの流量が、通気孔１２０を通過する流量よりも大きい。これにより、ペリクル膜１１２を通じたガスの透過速度のアンバランスを利用してペリクル１１０を膨張および収縮させることができる。よって、ペリクル膜１１２が、あたかも呼吸するかの如く往復揺動して内部空間１３０に充填されたガスを吐き出すことができる。 In the present embodiment, when the reticle 100 that has been purged with the first gas is purged with the second gas, the flow rate per unit time through which the second gas passes through the pellicle film 112 is greater than the flow rate through which the vent hole 120 passes. Is also big. Accordingly, the pellicle 110 can be expanded and contracted by utilizing the imbalance of the gas permeation rate through the pellicle film 112. Therefore, the pellicle film 112 can reciprocate as if breathing, and the gas filled in the internal space 130 can be discharged.

本実施形態では、収縮工程の後に、レチクル１００を第一ガスでパージする。これにより、膨張工程および収縮工程を含む本方法を繰り返しておこなうことができる。 In the present embodiment, the reticle 100 is purged with the first gas after the contraction step. Thereby, this method including an expansion process and a contraction process can be performed repeatedly.

＜第二実施形態＞
図７は、第二実施形態にかかるレチクル収納装置１０の構成を示す模式図である。
本実施形態のレチクル収納装置１０は、ストッカ２０内の状態を検知する検出部として、支持枠１１４に対して揺動するペリクル膜１１２の変位を検出するレーザー変位計６８を備えている。 <Second embodiment>
FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of the reticle storage device 10 according to the second embodiment.
The reticle storage device 10 of the present embodiment includes a laser displacement meter 68 that detects the displacement of the pellicle film 112 that swings with respect to the support frame 114 as a detection unit that detects the state in the stocker 20.

本実施形態では、ペリクル１１０が膨張する方向をペリクル膜１１２の正の変位方向とし、ペリクル１１０が収縮する方向をペリクル膜１１２の負の変位方向とする。 In this embodiment, the direction in which the pellicle 110 expands is the positive displacement direction of the pellicle film 112, and the direction in which the pellicle 110 contracts is the negative displacement direction of the pellicle film 112.

レーザー変位計６８は、光学的な手段によってペリクル膜１１２の位置を検出する。そして、自然状態（平衡状態）を基準とするペリクル膜１１２の位置を測定する。
レーザー変位計６８と制御部６０とは、信号線６９によって電気的に接続されている。
レーザー変位計６８は、ペリクル膜１１２の変位量を所定の時間間隔で測定し、信号線６９を通じて検出信号を制御部６０に送信する。 The laser displacement meter 68 detects the position of the pellicle film 112 by optical means. Then, the position of the pellicle film 112 with respect to the natural state (equilibrium state) is measured.
The laser displacement meter 68 and the control unit 60 are electrically connected by a signal line 69.
The laser displacement meter 68 measures the amount of displacement of the pellicle film 112 at predetermined time intervals, and transmits a detection signal to the control unit 60 through the signal line 69.

本実施形態を用いたレチクル保管方法も、図４に示すレチクル収容工程Ｓ１０からレチクル取出工程Ｓ９０にしたがって行うことができる。
そして、制御部６０による第一パージ工程Ｓ３０と第二パージ工程Ｓ５０との切り替えを、レーザー変位計６８の検出信号に基づいて行う。 The reticle storage method using the present embodiment can also be performed according to the reticle taking-out process S90 from the reticle housing process S10 shown in FIG.
Then, switching between the first purge step S30 and the second purge step S50 by the control unit 60 is performed based on the detection signal of the laser displacement meter 68.

本方法では、ペリクル膜１１２の変位が、予め定められた閾値ＴＨに到達した場合に、レチクル１００をパージするガスを第一ガス（窒素ガス）または第二ガス（乾燥空気）に切り替える。 In this method, when the displacement of the pellicle film 112 reaches a predetermined threshold value TH, the gas for purging the reticle 100 is switched to the first gas (nitrogen gas) or the second gas (dry air).

例えば、第一パージ工程Ｓ３０における第一ガス（窒素ガス）のパージによって、レチクル１００は非平衡状態Ｓ３２となり、ペリクル膜１１２は例えば最大０．４ｍｍ凹む（図５（ｃ）を参照）。そして、凹んだペリクル膜１１２は、平衡状態Ｓ３４（図５（ｄ）を参照）に至るまで約２２０分を掛けて元に戻る。
一方、第二パージ工程Ｓ５０によって第二ガス（乾燥空気）をパージすると、ペリクル膜１１２は膨張工程Ｓ５２にて、例えば、約４０分をかけて最大１ｍｍ程度膨張する（図６（ｃ）を参照）。そして、ペリクル膜１１２が最大膨張位置に達すると、今度はペリクル膜１１２の弾性力に従ってレチクル１００は収縮工程Ｓ５４に入り、約２００分をかけて元に戻る（図６（ｄ）を参照）。 For example, the purge of the first gas (nitrogen gas) in the first purge step S30 brings the reticle 100 into a non-equilibrium state S32, and the pellicle film 112 is recessed by, for example, a maximum of 0.4 mm (see FIG. 5C). Then, the recessed pellicle film 112 returns to its original state after taking approximately 220 minutes to reach the equilibrium state S34 (see FIG. 5D).
On the other hand, when the second gas (dry air) is purged by the second purge step S50, the pellicle film 112 is expanded by, for example, about 1 mm at the maximum in about 40 minutes in the expansion step S52 (see FIG. 6C). ). When the pellicle film 112 reaches the maximum expansion position, the reticle 100 enters the contraction step S54 in accordance with the elastic force of the pellicle film 112, and returns to its original state over about 200 minutes (see FIG. 6D).

本実施形態のレチクル収納装置１０では、収納部２２にレーザー変位計６８が設けられており、揺動するペリクル膜１１２の変位量が数値化されて制御部６０に送信される。 In the reticle storage device 10 of the present embodiment, a laser displacement meter 68 is provided in the storage unit 22, and the displacement amount of the swinging pellicle film 112 is digitized and transmitted to the control unit 60.

制御部６０には、ペリクル膜１１２の変位に関する下側閾値ＴＨ３と上側閾値ＴＨ４をそれぞれ設定しておくとよい。
下側閾値ＴＨ３は負の値であり、ペリクル膜１１２が最大凹み状態（図５（ｃ））に至ったか否かを判定するための閾値である。
上側閾値ＴＨ４は正の値であり、ペリクル膜１１２が最大膨張状態（図６（ｃ））に至ったか否かを判定するための閾値である。
本方法では、下側閾値ＴＨ３をマイナス０．４ｍｍと設定し、上側閾値ＴＨ４をプラス１．０ｍｍと設定するとよい。 In the control unit 60, a lower threshold value TH3 and an upper threshold value TH4 relating to the displacement of the pellicle film 112 may be set.
The lower threshold value TH3 is a negative value, and is a threshold value for determining whether or not the pellicle film 112 has reached the maximum depressed state (FIG. 5C).
The upper threshold TH4 is a positive value and is a threshold for determining whether or not the pellicle film 112 has reached the maximum expanded state (FIG. 6C).
In this method, the lower threshold value TH3 may be set to minus 0.4 mm, and the upper threshold value TH4 may be set to plus 1.0 mm.

そして、第一パージ工程Ｓ３０において、レーザー変位計６８で計測されたペリクル膜１１２の変位量が下側閾値ＴＨ３（＝マイナス０．４ｍｍ）に至ったとき、制御部６０は第一ガス（窒素ガス）の供給を停止するとよい。
また、第二パージ工程Ｓ５０において、レーザー変位計６８で計測されたペリクル膜１１２の変位量が上側閾値ＴＨ４（＝プラス１．０ｍｍ）に至ったとき、制御部６０は第二ガス（乾燥空気）の供給を停止するとよい。 In the first purge step S30, when the displacement amount of the pellicle film 112 measured by the laser displacement meter 68 reaches the lower threshold TH3 (= minus 0.4 mm), the control unit 60 uses the first gas (nitrogen gas). ) Should be stopped.
In the second purge step S50, when the displacement amount of the pellicle film 112 measured by the laser displacement meter 68 reaches the upper threshold TH4 (= plus 1.0 mm), the control unit 60 uses the second gas (dry air). It is recommended to stop the supply.

これにより、本実施形態のレチクル収納装置１０によれば、第一ガスおよび第二ガスをストッカ２０に過剰に供給することがない。また、第二パージ工程Ｓ５０と第一パージ工程Ｓ３０とが繰り返されて、ペリクル１１０からアウトガスが排出され、ペリクル１１０の内部空間１３０が清浄に維持される。 Thereby, according to the reticle storage device 10 of the present embodiment, the first gas and the second gas are not excessively supplied to the stocker 20. Further, the second purge step S50 and the first purge step S30 are repeated, the outgas is discharged from the pellicle 110, and the internal space 130 of the pellicle 110 is maintained clean.

なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的が達成される限りにおける種々の変形、改良等の態様も含む。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes various modifications and improvements as long as the object of the present invention is achieved.

例えば上記各実施形態において、乾燥空気に代えて、高濃度酸素など酸素ガスを主成分として含むガスを第二ガスとして用いてもよい。
そして、第一ガスとして窒素ガスを選択するにより、ペリクル膜１１２に対するパージガスの透過速度を、第一ガスと第二ガスとでより大きく相違させることができる。 For example, in each of the above embodiments, instead of dry air, a gas containing oxygen gas such as high concentration oxygen as a main component may be used as the second gas.
Then, by selecting nitrogen gas as the first gas, the permeation rate of the purge gas with respect to the pellicle film 112 can be made greatly different between the first gas and the second gas.

さらに、高濃度の酸素ガスでパージされた状態のレチクル１００をフォトリソグラフィー工程に供することにより、ペリクル１１０内の酸素分子は露光光との光反応によりオゾンとなる。これにより、内部空間１３０に残存するアウトガスの有機分子がオゾン分解され、異物としてレチクル１００のパターン形成面１０４に付着することが更に防止される。 Furthermore, when the reticle 100 purged with high-concentration oxygen gas is subjected to a photolithography process, oxygen molecules in the pellicle 110 become ozone by a photoreaction with exposure light. This further prevents the outgas organic molecules remaining in the internal space 130 from being decomposed by ozone and adhering to the pattern forming surface 104 of the reticle 100 as foreign matter.

また、上記各実施形態では第一ガスと第二ガスとでレチクル１００を交互にパージしているが、三種以上のパージガスを任意の順に用いてもよい。また、パージ圧に関しても、パージ工程ごとに相違させてもよい。
これにより、各パージ工程の初期状態において内部空間１３０に充填されているガス種と、外部空間１４０にパージされるガス種との組み合わせやパージ圧に応じて、ペリクル１１０を膨張状態から収縮状態まで迅速に遷移させて、内部雰囲気の高い排出力を得ることができる。 In each of the above embodiments, the reticle 100 is purged alternately with the first gas and the second gas, but three or more purge gases may be used in any order. Also, the purge pressure may be different for each purge process.
Thereby, the pellicle 110 is changed from the expanded state to the contracted state in accordance with the combination of the gas type filled in the internal space 130 and the gas type purged in the external space 140 and the purge pressure in the initial state of each purge step. By making the transition quickly, it is possible to obtain a high exhausting power of the internal atmosphere.

また、レチクル収納装置１０は、第一実施形態の酸素濃度計６７と第二実施形態のレーザー変位計６８を両方とも備えてもよい。そして、酸素濃度計６７で測定された酸素濃度と、レーザー変位計６８で測定されたペリクル膜１１２の変位量の両方を用いて第一パージ工程Ｓ３０および第二パージ工程Ｓ５０の終了のタイミングを検知してもよい。
これにより、第一パージ工程Ｓ３０と第二パージ工程Ｓ５０とが確実に切り替えられ、ペリクル１１０の内部空間１３０が好適に清浄化される。 The reticle storage device 10 may include both the oxygen concentration meter 67 of the first embodiment and the laser displacement meter 68 of the second embodiment. Then, using both the oxygen concentration measured by the oxygen concentration meter 67 and the displacement amount of the pellicle film 112 measured by the laser displacement meter 68, the end timing of the first purge step S30 and the second purge step S50 is detected. May be.
Thereby, the first purge step S30 and the second purge step S50 are reliably switched, and the internal space 130 of the pellicle 110 is suitably cleaned.

１０レチクル収納装置
２０ストッカ
２２収納部
２４棚
３０ガス流路
３２，３４，３６配管
３８排気口
４２，４４，４６開閉弁
５０第一ガス容器
５２第二ガス容器
６０制御部
６２，６４，６６，６９信号線
６７酸素濃度計
６８レーザー変位計
１００レチクル
１０２パターン
１０４パターン形成面
１１０ペリクル
１１２ペリクル膜
１１４支持枠
１１６接着部
１１８粘着部
１２０通気孔
１２２フィルタ
１３０内部空間
１４０外部空間
１５０レチクルケース
１５２ベース部
１５４カバー部
１５６通孔
１５８ホルダ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Reticle storage apparatus 20 Stocker 22 Storage part 24 Shelf 30 Gas flow path 32, 34, 36 Piping 38 Exhaust port 42, 44, 46 On-off valve 50 First gas container 52 Second gas container 60 Control parts 62, 64, 66, 69 Signal line 67 Oxygen concentration meter 68 Laser displacement meter 100 Reticle 102 Pattern 104 Pattern forming surface 110 Pellicle 112 Pellicle film 114 Support frame 116 Adhesion part 118 Adhesion part 120 Vent hole 122 Filter 130 Internal space 140 External space 150 Reticle case 152 Base part 154 Cover portion 156 Through hole 158 Holder

Claims

A reticle storage device for storing a reticle having a pellicle provided with a support frame having a vent hole and a pellicle film stretched on the support frame in a stocker,
A reticle storage device comprising a gas flow path for purging the inside of the stocker with a first gas and a second gas having a higher permeability to the pellicle membrane than the first gas.

The reticle storage device according to claim 1, wherein the support frame and the pellicle film, or the support frame and the reticle are bonded to each other by a resin material.

The reticle storage device according to claim 2, wherein organic molecules contained in the outgas from the resin material can pass through the vent hole without passing through the pellicle film.

The reticle storage device according to any one of claims 1 to 3, wherein at least one of the first gas and the second gas is a single kind of inert gas.

The reticle storage device according to claim 1, wherein the first gas is nitrogen gas and the second gas is air.

The reticle storage device according to claim 1, wherein the first gas is nitrogen gas, and the second gas contains oxygen gas as a main component.

Detecting means for detecting a state in the stocker;
The control means according to any one of claims 1 to 6, further comprising a control means for switching the gas supplied into the stocker through the gas flow path to the first gas or the second gas based on a detection result of the detection means. The reticle storage device described in 1.

The reticle storage device according to claim 7, wherein the detection unit detects a concentration of the first gas or the second gas in the stocker.

The reticle storage device according to claim 7, wherein the detection unit detects a displacement of the pellicle film that swings with respect to the support frame.

A method of storing a reticle to which a pellicle having a support frame having a vent hole and a pellicle membrane stretched on the support frame is attached,
The step of purging the reticle that has been purged with the first gas with a second gas whose permeability to the pellicle film is higher than that of the first gas to expand the pellicle and extend the pellicle film;
A contraction step of causing the gas inside the pellicle to be discharged to the outside of the pellicle through the vent and contracting the pellicle by the restoring force of the stretched pellicle film;
A reticle storage method characterized by performing

When the reticle purged with the first gas is purged with the second gas, the flow rate per unit time through which the second gas passes through the pellicle membrane is the second gas passes through the vent. The reticle storage method according to claim 10, wherein the flow rate is larger than a flow rate per unit time.

The reticle storage method according to claim 10 or 11, wherein the reticle is purged with the first gas after the contraction step.

The support frame and the pellicle film, or the support frame and the reticle are joined together by a resin material,
The reticle storage method according to any one of claims 10 to 12, wherein the gas inside the pellicle discharged in the contraction step includes outgas from the resin material.

The reticle storage method according to claim 10, wherein the first gas or the second gas contains oxygen gas as a main component.

The reticle storage according to any one of claims 10 to 14, wherein in the expansion step, the reticle is purged with the second gas by holding the reticle in the atmosphere of the second gas. Method.

When at least one of the concentration of the first gas or the second gas or the displacement of the pellicle film reaches a predetermined threshold, the gas for purging the reticle is the first gas or the second gas. The reticle storage method according to claim 10, wherein the reticle storage method is switched to the following.

A reticle housing step of housing the reticle in a reticle case having a through hole;
A case storing step for storing the reticle case in which the reticle is stored in a stocker to which the first gas and the second gas are switched and supplied;
The expansion step and the contraction step, which are each repeated once or a plurality of times,
A case removal step of taking out the stored reticle case from the stocker;
A reticle removing step of taking out the reticle from the reticle case taken out from the stocker;
The reticle storage method according to claim 10, wherein the steps are performed in this order.

The reticle storage method according to claim 17, wherein the case removal step is performed after a final purge step with dry air.