JP2010072314A - 光導波路装置の製造方法およびそれによって得られた光導波路装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】PET製基板1部分と、このPET製基板1部分の裏面に形成された、照射線Lを吸収する色の着色層5とからなる着色層付きPET製基板Aの表面に、アンダークラッド層2の形成を経て、コア3形成用の感光性樹脂層3Aを形成した後、この感光性樹脂層3Aに対して照射線Lを照射し所定パターンに露光し、その露光部分をコア3に形成する。このコア3形成工程において、照射線LがPET製基板1部分の底面に達した際に、その殆どを上記着色層5に吸収させ、PET製基板1部分の底面で反射する照射線Lを殆どなくす。これにより、PET製基板1部分で乱反射して感光性樹脂層3Aに達する照射線Lを大幅に減少させ、コア3側面の粗面化を効果的に抑制する。
【選択図】図2
Description
(A)裏面に、上記照射線を吸収する色の着色層が形成された着色層付き基板。
(B)全体が、上記照射線を吸収する色で着色された着色基板。
無色透明のPET製基板(TORAY社製、タイプT60、品番188、厚み188μm)を準備した。そして、その片面(裏面)に、油性マーキングペンを用いて黒色のアルコール系インクを塗布し、厚み50nmの着色層を形成した。
下記の一般式(1)で示されるビスフェノキシエタノールフルオレングリシジルエーテル(成分A)35重量部、脂環式エポキシ樹脂である3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ダイセル化学社製、セロキサイド2021P)(成分B)40重量部、シクロヘキセンオキシド骨格を有する脂環式エポキシ樹脂である(3’,4’−エポキシシクロヘキサン)メチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシル−カルボキシレート(ダイセル化学社製、セロキサイド2081)(成分C)25重量部、4,4’−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルフィニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネートの50%プロピオンカーボネート溶液(成分D)2重量部とを混合することにより、アンダークラッド層およびオーバークラッド層の形成材料を調製した。
上記成分A:70重量部、1,3,3−トリス{4−〔2−(3−オキセタニル)〕ブトキシフェニル}ブタン:30重量部、上記成分D:1重量部を乳酸エチルに溶解することにより、コアの形成材料を調製した。
上記着色層付きPET製基板の表面(着色層が形成されていない側の面)に、上記アンダークラッド層の形成材料をスピンコーターを用いて塗布し、膜厚20μmの塗布層を形成した。その後、その塗布層の全面に、超高圧水銀灯から紫外線を照射し、積算光量1000mJ/cm2 (i線基準)の露光を行った。つづいて、120℃のホットプレート上に10分間放置し、反応を完了させた。このようにしてアンダークラッド層を形成した。
上記実施例1と同様の無色透明のPET製基板の裏面に、着色層を形成することなく、その無色透明のPET製基板の表面に直接、上記実施例1と同様にして、アンダークラッド層,コアおよびオーバークラッド層を形成することにより、光導波路装置を製造した。
上記実施例1,2および比較例1の光導波路装置のコアの側面を、走査型電子顕微鏡により確認した。その結果、比較例1のコアの側面は、粗面に形成されていたが、実施例1,2のコアの側面は、比較例1よりも大幅に平坦化していた。
上記実施例1,2および比較例1の光導波路装置を、ダイサー(ディスコ社製、DAD522)を用いてカッティングし、コアの端面を露出させた。また、上記光導波路装置を10cmの長さに切断し、光伝播損失の測定した。その結果、実施例1の光導波路装置の光伝播損失は1.96dB/10cmであり、実施例2のそれは1.57dB/10cmであり、比較例1のそれは3.80dB/10cmであった。
1 PET製基板
2 アンダークラッド層
3 コア
3A 感光性樹脂層
5 着色層
L 照射線
Claims (5)
- ポリエチレンテレフタレートを主成分とする材料からなる基板の表面に、アンダークラッド層を形成する工程と、このアンダークラッド層の表面に、コア形成用の感光性樹脂層を形成する工程と、この感光性樹脂層に対して照射線を照射し所定パターンに露光し、その露光部分をコアに形成する工程とを備えた光導波路装置の製造方法であって、上記コア形成工程において、上記感光性樹脂層に対して照射する照射線が、その感光性樹脂層を透過して上記基板の表面を経て底面に達しそこで反射する照射線であり、上記基板が、下記(A)および(B)のいずれかの基板であることを特徴とする光導波路装置の製造方法。
(A)裏面に、上記照射線を吸収する色の着色層が形成された着色層付き基板。
(B)全体が、上記照射線を吸収する色で着色された着色基板。 - 上記照射線を吸収する色が、黒色である請求項1記載の光導波路装置の製造方法。
- 上記照射線が紫外線である請求項1または2記載の光導波路装置の製造方法。
- 上記請求項1記載の光導波路装置の製造方法によって得られた光導波路装置であって、その光導波路装置における、ポリエチレンテレフタレートを主成分とする材料からなる基板が、下記(A)および(B)のいずれかの基板であることを特徴とする光導波路装置。
(A)裏面に、上記照射線を吸収する色の着色層が形成された着色層付き基板。
(B)全体が、上記照射線を吸収する色で着色された着色基板。 - 上記照射線を吸収する色が、黒色である請求項4記載の光導波路装置。
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