JP2010060779A - 赤外光用の光学結晶レンズの製造方法 - Google Patents
赤外光用の光学結晶レンズの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】シリコン、ゲルマニウムまたはシリコンゲルマニウムの半導体結晶ウェハーを用い、当該結晶の任意の塑性変形を可能とする温度範囲内で高温加圧加工法により湾曲加工を施して赤外光用の光学結晶レンズを製造する工程において、半導体結晶ウェハーに高温加圧加工を施す前または後に、高温加圧加工後適切な結晶レンズの形状になるように、半導体結晶ウェハーに研磨加工または切削加工を施す工程を有する。
【選択図】図3
Description
図1は、高温加圧加工法により作成したシリコン平凸レンズおよびその事前研磨領域を示す。直径30mm、厚さ0.93mmのシリコンウエハー円板の図1中の塗りつぶし部を事前に機械加工で研削することで、曲率半径が121mm、焦点距離50mmの赤外光用レンズが得られた 。
Claims (3)
- シリコン、ゲルマニウムまたはシリコンゲルマニウムの半導体結晶ウェハーを用い、当該結晶の任意の塑性変形を可能とする温度範囲内で高温加圧加工法により湾曲加工を施して赤外光用の光学結晶レンズを製造する工程において、前記半導体結晶ウェハーに高温加圧加工を施す前または後に、高温加圧加工後適切な結晶レンズの形状になるように、前記半導体結晶ウェハーに研磨加工または切削加工を施す工程を有することを特徴とする赤外光用の光学結晶レンズの製造方法。
- 前記光学結晶レンズとしての形状が、焦点距離を50〜200mmとしたとき、曲率半径が125〜500mm、レンズ径が10mm以上、300mm以下、レンズ厚さが2.1mm以上、5.6mm以下の平凸形状であることを特徴とする、請求項1記載の赤外光用の光学結晶レンズの製造方法。
- 前記光学結晶レンズは、レンズとしての形状が、両凸、平凹、両凹、メニスカスのいずれかで、曲率半径が100mm以上、1000mm以下、レンズの厚さが2.6mm以上、4.0mm以下であることを特徴とする、請求項1記載の赤外光用の光学結晶レンズの製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011114911A1 (ja) | 2010-03-17 | 2011-09-22 | サンスター技研株式会社 | ポリウレタン樹脂 |
JP2013142759A (ja) * | 2012-01-10 | 2013-07-22 | Ricoh Co Ltd | レンズ一体型基板及び光センサ |
WO2016163419A1 (ja) * | 2015-04-08 | 2016-10-13 | 国立大学法人京都大学 | 赤外線透過部材用Cz-Siの加工方法、赤外線透過部材の製造方法および赤外線透過部材 |
JP2018177589A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | 国立大学法人名古屋大学 | 無機結晶材料の加工方法、半導体結晶材料のバンドギャップ変更方法、半導体結晶材料、および、無機結晶材料の製造装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63157754A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ゲルマニウムレンズの製造方法 |
JPH0611604A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外レンズ硝材及び赤外レンズ成形方法 |
JPH10213746A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 赤外線ズームレンズ |
JP2002202454A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | fθレンズ |
JP2005142370A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Kazuo Nakajima | 半導体結晶体の加工方法、光・電子デバイス用ウェハー結晶体、及び太陽電池システム |
-
2008
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63157754A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ゲルマニウムレンズの製造方法 |
JPH0611604A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 赤外レンズ硝材及び赤外レンズ成形方法 |
JPH10213746A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Fuji Photo Optical Co Ltd | 赤外線ズームレンズ |
JP2002202454A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | fθレンズ |
JP2005142370A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Kazuo Nakajima | 半導体結晶体の加工方法、光・電子デバイス用ウェハー結晶体、及び太陽電池システム |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011114911A1 (ja) | 2010-03-17 | 2011-09-22 | サンスター技研株式会社 | ポリウレタン樹脂 |
JP2013142759A (ja) * | 2012-01-10 | 2013-07-22 | Ricoh Co Ltd | レンズ一体型基板及び光センサ |
WO2016163419A1 (ja) * | 2015-04-08 | 2016-10-13 | 国立大学法人京都大学 | 赤外線透過部材用Cz-Siの加工方法、赤外線透過部材の製造方法および赤外線透過部材 |
JP2018177589A (ja) * | 2017-04-13 | 2018-11-15 | 国立大学法人名古屋大学 | 無機結晶材料の加工方法、半導体結晶材料のバンドギャップ変更方法、半導体結晶材料、および、無機結晶材料の製造装置 |
JP7042471B2 (ja) | 2017-04-13 | 2022-03-28 | 国立大学法人東海国立大学機構 | 無機結晶材料の加工方法 |
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