JP2010060494A - 姿勢計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】測定対象の物体に面放射光を照射する面放射光照明部と、測定対象の物体にパターン光を照射するパターン光照明部と、測定対象の物体を撮像する撮像部と、面放射光を照射した場合と照射していない場合の面放射光照明差分画像、および、パターン光を照射した場合と照射していない場合のパターン光照明差分画像を生成する照明差分画像処理部と、面放射光照明差分画像から測定対象の物体の輪郭および特徴点を抽出する輪郭・特徴点抽出部と、パターン光照明差分画像から測定対象の物体上の反射点の3次元座標を算出する3次元パターン反射位置算出部と、抽出された輪郭および特徴点、ならびに、算出された反射点の3次元座標に基づき、予め測定対象の物体の姿勢パラメタをモデル化したモデルデータとマッチングを行うことにより、姿勢パラメタを特定するモデルマッチング処理部とを備える。
【選択図】図1
Description
図1は本発明の一実施形態にかかる姿勢計測装置の構成例を示す図である。
図4は姿勢計測装置1の全体的な処理例を示すフローチャートである。
(i)中央のブロックの輪郭特徴の画像上特徴位置等に対し、モデルデータの該当ブロックを適合させる姿勢パラメタを求める。
(ii)中央ブロックに連結するブロックの姿勢パラメタは、中央ブロックの姿勢パラメタを基準として連結部の関節角度パラメタ分の自由度になる。既存の変換パラメタ計算技法を応用し、(i)で求めた中央ブロックの姿勢パラメタとモデルデータおよび各ブロックの輪郭特徴候補位置データからこの関節角度パラメタを求める。これにより、各ブロックの姿勢パラメタが求まる。
(iii)姿勢パラメタが既に求まっているブロックに未計算のブロックが連結していれば、(ii)と同様に、既計算ブロックを基準((ii)の中央ブロックにあたる)として、未計算ブロックの姿勢パラメタを計算する。
(iv)全ブロックの姿勢パラメタが計算完了すれば終了する。
以上説明したように、開示の実施形態によれば、次のような利点がある。
(1)照明差分画像中の輪郭および少数のパターン反射位置の3次元座標値を求め、これらから姿勢を計測するため、データ量が必要最小限となり、高速に処理することができる。
(2)輪郭およびパターン反射位置は、照明反射の有無により計測するため、個体によって様々に変化する部位毎の反射特性に拠らず高精度に計測可能である。従って、各部位の光学特性が様々に異なっていても適用可能である。
(3)レーザスキャン機構のような特殊な装置を必要としないため、低コストで実現することができる。
(4)総じて、様々に変形する多関節物体の姿勢を、低コストで、高速かつ高精度に計測することができる。
(付記1)
測定対象の物体に面放射光を照射する面放射光照明部と、
測定対象の物体にパターン光を照射するパターン光照明部と、
測定対象の物体を撮像する撮像部と、
面放射光を照射した場合と照射していない場合の面放射光照明差分画像、および、パターン光を照射した場合と照射していない場合のパターン光照明差分画像を生成する照明差分画像処理部と、
面放射光照明差分画像から測定対象の物体の輪郭および特徴点を抽出する輪郭・特徴点抽出部と、
パターン光照明差分画像から測定対象の物体上の反射点の3次元座標を算出する3次元パターン反射位置算出部と、
抽出された輪郭および特徴点、ならびに、算出された反射点の3次元座標に基づき、予め測定対象の物体の姿勢パラメタをモデル化したモデルデータとマッチングを行うことにより、姿勢パラメタを特定するモデルマッチング処理部と
を備えたことを特徴とする姿勢計測装置。
(付記2)
前記照明差分画像処理部は、面放射光による照明下で撮像した面放射光照射画像と、パターン光による照明下で撮像したパターン光照射画像と、無照明下で撮像した照明非照射画像とに基づき、面放射光照射画像と照明非照射画像とから面放射光照明差分画像を生成し、パターン光照射画像と照明非照射画像とからパターン光照明差分画像を生成する
ことを特徴とする付記1に記載の姿勢計測装置。
(付記3)
前記照明差分画像処理部は、面放射光とパターン光とを同時に照射して撮像した画像から、面放射光とパターン光の強度の違いを利用して面放射光照明差分画像およびパターン光照明差分画像を生成する
ことを特徴とする付記1に記載の姿勢計測装置。
(付記4)
前記パターン光は、トポロジー連続性を有し、
前記3次元パターン反射位置算出部は、トポロジー性による識別によりパターン光に含まれるパターンと反射位置との対応関係を特定し、既知の位置関係より反射位置の3次元座標を算出する
ことを特徴とする付記1乃至3のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。
(付記5)
前記パターン光は、局所判別性を有し、
前記3次元パターン反射位置算出部は、局所判別性による識別によりパターン光に含まれるパターンと反射位置との対応関係を特定し、既知の位置関係より反射位置の3次元座標を算出する
ことを特徴とする付記1乃至3のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。
(付記6)
前記パターン光は、複数のスポット光である
ことを特徴とする付記1乃至5のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。
(付記7)
前記パターン光は、格子光である
ことを特徴とする付記1乃至5のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。
(付記8)
前記パターン光は、モアレパターン光である
ことを特徴とする付記1乃至5のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。
(付記9)
測定対象の物体に面放射光もしくはパターン光を照射する照明工程と、
測定対象の物体を撮像する撮像工程と、
面放射光を照射した場合と照射していない場合の面放射光照明差分画像、および、パターン光を照射した場合と照射していない場合のパターン光照明差分画像を生成する照明差分画像処理工程と、
面放射光照明差分画像から測定対象の物体の輪郭および特徴点を抽出する輪郭・特徴点抽出工程と、
パターン光照明差分画像から測定対象の物体上の反射点の3次元座標を算出する3次元パターン反射位置算出工程と、
抽出された輪郭および特徴点、ならびに、算出された反射点の3次元座標に基づき、予め測定対象の物体の姿勢パラメタをモデル化したモデルデータとマッチングを行うことにより、姿勢パラメタを特定するモデルマッチング処理工程と
を備えたことを特徴とする姿勢計測方法。
(付記10)
前記照明差分画像処理工程は、面放射光による照明下で撮像した面放射光照射画像と、パターン光による照明下で撮像したパターン光照射画像と、無照明下で撮像した照明非照射画像とに基づき、面放射光照射画像と照明非照射画像とから面放射光照明差分画像を生成し、パターン光照射画像と照明非照射画像とからパターン光照明差分画像を生成する
ことを特徴とする付記9に記載の姿勢計測方法。
(付記11)
前記照明差分画像処理工程は、面放射光とパターン光とを同時に照射して撮像した画像から、面放射光とパターン光の強度の違いを利用して面放射光照明差分画像およびパターン光照明差分画像を生成する
ことを特徴とする付記9に記載の姿勢計測方法。
(付記12)
前記パターン光は、トポロジー連続性を有し、
前記3次元パターン反射位置算出工程は、トポロジー性による識別によりパターン光に含まれるパターンと反射位置との対応関係を特定し、既知の位置関係より反射位置の3次元座標を算出する
ことを特徴とする付記9乃至11のいずれか一項に記載の姿勢計測方法。
(付記13)
前記パターン光は、局所判別性を有し、
前記3次元パターン反射位置算出工程は、局所判別性による識別によりパターン光に含まれるパターンと反射位置との対応関係を特定し、既知の位置関係より反射位置の3次元座標を算出する
ことを特徴とする付記9乃至11のいずれか一項に記載の姿勢計測方法。
101 照明・撮像制御部
102 面放射光照明部
103 パターン光照明部
104 撮像部
105 画像記録部
106 照明差分画像処理部
107 輪郭・特徴点抽出部
108 3次元パターン反射位置算出部
109 カメラ・パターン照明位置関係パラメタ保持部
110 モデルマッチング処理部
111 モデルデータ保持部
112 姿勢パラメタ出力部
Claims (6)
- 測定対象の物体に面放射光を照射する面放射光照明部と、
測定対象の物体にパターン光を照射するパターン光照明部と、
測定対象の物体を撮像する撮像部と、
面放射光を照射した場合と照射していない場合の面放射光照明差分画像、および、パターン光を照射した場合と照射していない場合のパターン光照明差分画像を生成する照明差分画像処理部と、
面放射光照明差分画像から測定対象の物体の輪郭および特徴点を抽出する輪郭・特徴点抽出部と、
パターン光照明差分画像から測定対象の物体上の反射点の3次元座標を算出する3次元パターン反射位置算出部と、
抽出された輪郭および特徴点、ならびに、算出された反射点の3次元座標に基づき、予め測定対象の物体の姿勢パラメタをモデル化したモデルデータとマッチングを行うことにより、姿勢パラメタを特定するモデルマッチング処理部と
を備えたことを特徴とする姿勢計測装置。 - 前記照明差分画像処理部は、面放射光による照明下で撮像した面放射光照射画像と、パターン光による照明下で撮像したパターン光照射画像と、無照明下で撮像した照明非照射画像とに基づき、面放射光照射画像と照明非照射画像とから面放射光照明差分画像を生成し、パターン光照射画像と照明非照射画像とからパターン光照明差分画像を生成する
ことを特徴とする請求項1に記載の姿勢計測装置。 - 前記照明差分画像処理部は、面放射光とパターン光とを同時に照射して撮像した画像から、面放射光とパターン光の強度の違いを利用して面放射光照明差分画像およびパターン光照明差分画像を生成する
ことを特徴とする請求項1に記載の姿勢計測装置。 - 前記パターン光は、トポロジー連続性を有し、
前記3次元パターン反射位置算出部は、トポロジー性による識別によりパターン光に含まれるパターンと反射位置との対応関係を特定し、既知の位置関係より反射位置の3次元座標を算出する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。 - 前記パターン光は、局所判別性を有し、
前記3次元パターン反射位置算出部は、局所判別性による識別によりパターン光に含まれるパターンと反射位置との対応関係を特定し、既知の位置関係より反射位置の3次元座標を算出する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の姿勢計測装置。 - 測定対象の物体に面放射光もしくはパターン光を照射する照明工程と、
測定対象の物体を撮像する撮像工程と、
面放射光を照射した場合と照射していない場合の面放射光照明差分画像、および、パターン光を照射した場合と照射していない場合のパターン光照明差分画像を生成する照明差分画像処理工程と、
面放射光照明差分画像から測定対象の物体の輪郭および特徴点を抽出する輪郭・特徴点抽出工程と、
パターン光照明差分画像から測定対象の物体上の反射点の3次元座標を算出する3次元パターン反射位置算出工程と、
抽出された輪郭および特徴点、ならびに、算出された反射点の3次元座標に基づき、予め測定対象の物体の姿勢パラメタをモデル化したモデルデータとマッチングを行うことにより、姿勢パラメタを特定するモデルマッチング処理工程と
を備えたことを特徴とする姿勢計測方法。
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