JP2010060185A

JP2010060185A - 温泉循環給湯システム

Info

Publication number: JP2010060185A
Application number: JP2008225217A
Authority: JP
Inventors: Ryuji Takei; 柳次武居; Rika Takei; 理佳武居
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2008-09-02
Filing date: 2008-09-02
Publication date: 2010-03-18

Abstract

【課題】ＣＯ_２などの大気汚染物質を含む燃焼ガスなどを発生しない省エネ型の温泉循環給湯システムを提案すること。
【解決手段】温泉循環給湯システム１では、浴槽２から浴槽水を回収して濾過水槽８等を通して濾過した後に、パネル二次熱交換器９に通して加熱し、レジオネラ菌対策用の濾過装置１０を通して殺菌処理して再び浴槽２に戻す。浴槽水を加熱する加熱水は膨張タンク２１とパネル二次熱交換器９の間を循環する。膨張タンク２１に貯留されている加熱水は、ヒートポンプシステム３２との間で熱交換を行って所定温度以上に保持される。ボイラーなどのような一般的な加熱装置を用いる場合とは異なり、ＣＯ_２などの大気汚染物質を含む燃焼ガスが発生せず、また、効率良く浴槽水を加熱できる。
【選択図】図１

Description

本発明は、温泉浴場などにおいて用いられる温泉循環給湯システムに関し、特に、ＣＯ_２などの大気汚染物質を排出することなく、浴槽に還流させる温泉水を効率良く沸かすことのできる温泉循環給湯システムに関するものである。

温泉浴場などに設置されている温泉循環給湯システムは、一般に、浴槽から排出された水をろ過して異物を除去した後に、熱交換器を介して再加熱して、浴槽に還流させるように構成されている。熱交換器に供給される熱媒を加熱するためにボイラーなどの加熱装置が用いられている。

ボイラーなどの加熱装置からはＣＯ_２を含む燃焼ガスが発生するので、大気汚染を防止するという観点からは好ましくない。また、ボイラーなどの燃焼装置は一般に加熱効率が悪いという問題点がある。

本発明の課題は、このような点に鑑みて、燃焼ガスを発生させることなく効率良く温泉水を加熱することのできる温泉循環給湯システムを提案することにある。

上記の課題を解決するために、本発明は、浴槽から回収した水に含まれている異物を除去する異物除去手段と、異物が除去された後の水を加熱して４０℃以上の温水とする加熱手段と、温水を殺菌するための殺菌手段とを有し、殺菌後の温水を前記浴槽に還流させる温泉循環給湯システムにおいて、
前記加熱手段は、
ヒートポンプシステムと、
前記ヒートポンプシステムによって加熱された加熱水を貯留する膨張タンクと、
前記異物が除去された後の水を前記膨張タンクから供給される加熱水によって加熱する熱交換器とを有していることを特徴としている。

ここで、前記ヒートポンプシステムを介して加熱された後の加熱水を前記膨張タンクに供給する供給路に介挿した補助膨張タンクを有していることが望ましい。

本発明の循環給湯システムでは、熱交換器の熱媒として用いる原水を加熱するための加熱源として、ヒートポンプシステムと膨張タンクとを備えている。ＣＯ_２などの大気汚染物質を含む燃焼ガスを発生させることなく、しかも、効率良く原水を加熱することができる。

以下に、図面を参照して、本発明を適用した温泉循環給湯システムを説明する。

図１は温泉循環給湯システムを示す概略構成図である。温泉循環給湯システム１は、浴槽水循環系Ａと、浴槽水を再加熱するための加熱水循環系Ｂと、加熱水を加熱するための加熱水循環系Ｃとを備えている。

浴槽水循環系Ａは、浴槽２の水を、循環ポンプ３を用いて、浴槽２の吸入口４から回収して給湯口５から再び浴槽２に還流させる。浴槽水循環系Ａには、循環経路に沿って、異物除去手段としてのヘアーキャッチャ６、バグフィルタ７および濾過水槽８と、パネル二次熱交換器９と、殺菌手段としてのレジオネラ菌対策用の濾過装置１０が配置されている。

浴槽２の吸入口４から排出された浴槽水は、ヘアーキャッチャ６においてヘアーが除去された後に、循環ポンプ３を介して、バグフィルタ７を経由して濾過水槽８に供給される。濾過水槽８内に充填されている多層の濾材層を流下する間に、浴槽水に含まれている異物が濾過される。濾過後の水は、湯温調整槽１２を介してパネル二次熱交換器９に供給され、ここで熱交換により加熱された後に、濾過装置１０を通ってレジオネラ菌の殺菌処理が行われる。そして、循環湯温度調整槽１１を介して、４０〜４２℃の温水状態で給湯口５から浴槽２に供給される。

加熱水循環系Ｂは、膨張タンク２１に貯留されている熱媒としての加熱水を、循環ポンプ２２を用いて、膨張タンク２１の供給口２１ａからパネル二次熱交換器９に供給し、ここを経由した後に、膨張タンク２１の回収口２１ｂから当該膨張タンク２１に戻す。

循環ポンプ２２は、例えば、濾過水槽８から湯温調整槽１２を介して流れる湯温が４２℃以下になると作動して、膨張タンク２１に貯留されている加熱水をパネル二次熱交換器９を介して循環させる。パネル二次熱交換器９において、加熱水と浴槽水との間で熱交換が行われ、浴槽水が例えば４２℃以上の温度に加熱される。

次に、加熱水循環系Ｃは、膨張タンク２１に貯留される加熱水を所定温度以上、例えば、６５℃以上に保持するための系であり、循環ポンプ３１とヒートポンプシステム３２を備えている。循環ポンプ３１は、例えば、膨張タンク２１内の加熱水の温度が６５℃以下になると作動し、７０℃に達すると停止する。循環ポンプ３１が作動すると、膨張タンク２１の加熱水が供給口２１ｃから吸引され、ヒートポンプシステム３２の水熱交換機３３を経由して加熱された後に、再び、膨張タンク２１の回収口２１ｄから当該膨張タンク２１内に戻る。例えば、加熱水を９０℃に加熱して膨張タンク２１に戻す。このように、膨張タンク２１に貯留されている加熱水を循環させてヒートポンプシステム３２との間で熱交換を行うことにより、膨張タンク２１内の加熱水の温度が所定温度に維持される。

一方、補給水は、電磁弁を介して膨張タンク２１に供給される。また、補給湯温度調製槽３６には、補給水および膨張タンク２１から加熱水が供給され、例えば、４２℃に調整された温水を電磁弁を介して浴槽２に補給可能となっている。

ここで、膨張タンク２１内の内圧の上昇を抑制するためには、ヒートポンプシステム３２から膨張タンク２１への加熱水の還流路３４に、想像線で示すように、補助膨張タンク３５を介挿することが望ましい。このように、二段に膨張タンクを配置することにより、加熱水を適切な圧力下で循環させることができる。

なお、各循環系Ａ、Ｂ、Ｃでの浴槽水、加熱水の循環制御は、マイクロコンピュータを備えた集中制御盤４０によって集中制御される。

以上説明したように、本例の温泉循環給湯システム１では、浴槽水を加熱するために用いる加熱水を、ヒートポンプシステム３２および膨張タンク２１を備えた循環系によって加熱している。したがって、一般的なボイラーなどの加熱装置を用いる場合のような大気汚染物質を含む燃焼ガスが発生しない。また、効率良く原水を加熱することができる。よって、ＣＯ_２などを発生しない省エネ型の温泉循環給湯システムを実現することができる。

本発明を適用した温泉循環給湯システムの概略構成図である。

符号の説明

１温泉循環給湯システム
Ａ浴槽水循環系
Ｂ加熱水循環系
Ｃ加熱水循環系
２浴槽
３循環ポンプ
４吸入口
５給湯口
６ヘアーキャッチャ
７バグフィルタ
８濾過水槽
９パネル二次熱交換器
１０濾過装置
１１循環湯温度調整槽
１２湯温調整槽
２１膨張タンク
２２循環ポンプ
３１循環ポンプ
３２ヒートポンプシステム
３３水熱交換機
３４還流路
３５補助膨張タンク
３６補給湯温度調整槽
４０集中制御盤

Claims

浴槽から回収した水に含まれている異物を除去する異物除去手段と、
異物が除去された後の水を加熱して４０℃以上の温水とする加熱手段と、
温水を殺菌するための殺菌手段とを有し、
殺菌後の温水を前記浴槽に還流させる温泉循環給湯システムにおいて、
前記加熱手段は、
ヒートポンプシステムと、
前記ヒートポンプシステムによって加熱された加熱水を貯留する膨張タンクと、
前記異物が除去された後の水を前記膨張タンクから供給される加熱水によって加熱する熱交換器とを有していることを特徴とする温泉循環給湯システム。
請求項１に記載の温泉循環給湯システムにおいて、
前記ヒートポンプシステムを介して加熱された後の加熱水を前記膨張タンクに供給する供給路に介挿した補助膨張タンクを有し、
この補助膨張タンクを介して加熱水が前記膨張タンクに供給されることを特徴とする温泉循環給湯システム。