JP2010054556A - 液晶装置の製造装置及び製造方法 - Google Patents

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JP2010054556A JP2008216283A JP2008216283A JP2010054556A JP 2010054556 A JP2010054556 A JP 2010054556A JP 2008216283 A JP2008216283 A JP 2008216283A JP 2008216283 A JP2008216283 A JP 2008216283A JP 2010054556 A JP2010054556 A JP 2010054556A
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Mitsuhiro Horikawa
光洋 堀川
Narumi Ishibashi
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Abstract

【課題】液晶装置に封入される液晶に異物が混入することを防止できると共に、正確な液
晶の滴下を実現しつつ、要求される公差を緩和して製造時の基板の配置や治具設計を容易
化することができる液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】素子基板10と対向基板20との間に液晶を封入する液晶装置の製造装置1
00であり、チャンバ内に設けられ、液晶を収容する液晶容器160と、液晶容器160
の底部に設けられ、素子基板10又は対向基板20上に液晶を滴下する弁口161と、弁
口161の上側に設けられる弁座163と、液晶容器160内に設けられ、弁座163に
着座して弁口161を閉塞する弁体170と、弁体170を磁力で上昇させて弁口161
を開放する永久磁石130又は電磁石180とを備える。
【選択図】図3

Description

本発明は、一対の基板間に液晶を封入する液晶装置の製造装置及び製造方法に関する。
液晶装置は、素子基板と、素子基板に枠状のシール材を介して接合される対向基板を有
し、素子基板と対向基板との間に液晶が封入される。素子基板と対向基板との間に封入さ
れる液晶は、例えば素子基板と対向基板を接合しているシール材の一部に注入口を設け、
注入口近傍に真空雰囲気下で液晶を滴下し、その状態で真空雰囲気を解除することにより
、注入口から素子基板と対向基板との間に注入される。
液晶を滴下する装置としては、液晶容器の底部に液晶を滴下する弁口を形成し、弁口を
閉塞する弁体を液晶容器に上下方向に移動可能に収容し、弁体に弁口から突出するピンを
形成するものが知られている(特許文献1参照)。特許文献1の液晶滴下装置は、液晶の
滴下時に、一対の基板を上方移動して一方の基板をピンに押し当て弁体を上方に移動する
ことにより、弁口を開放し、液晶滴下の終了時に、一対の基板を下方移動して弁体を自重
で下方移動させることにより、弁体が弁口上側の弁座に着座して弁口を閉塞するようにな
っている。
特開平11−337957号公報
しかしながら、特許文献1の液晶滴下装置は、弁口開放時に弁体のピンが一方の基板に
接触し、又、製造時に高密度で並置された基板に液晶を滴下する場合には他方の基板にも
ピンが接触することがあるため、封入される液晶に異物が混入する事がある。また、高密
度で並置された基板相互の隙間に正確にピンが接触するように設計する必要があるため、
並置される基板の配置や治具設計に非常に厳しい公差が求められ、基板の配置や治具設計
が困難となる。
本発明は斯様な課題に鑑みてなされたものであり、液晶装置に封入される液晶に異物が
混入することを防止できると共に、正確な液晶の滴下を実現しつつ、要求される公差を緩
和して製造時の基板の配置や治具設計を容易化することができる液晶装置の製造装置及び
液晶装置の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の液晶装置の製造装置は、一対の基板間に液晶を封入する液晶装置の製造装置で
あって、チャンバと、前記チャンバ内に設けられ、液晶を収容する液晶容器と、前記液晶
容器の内壁に沿って設けられる弁座と、前記液晶容器の底部に設けられ、一方の前記基板
上に液晶を滴下する弁口と、前記液晶容器内に設けられる弁部を前記弁座に着座すること
により、前記弁口を閉塞する弁体と、前記弁体を磁力で上昇させて前記弁口を開放する磁
石部とを備えることを特徴とする。本発明によれば、弁体を磁力で上昇させて弁口を開放
し、弁体が基板に接触しないようにすることが可能であるから、液晶装置に封入される液
晶に異物が混入することを防止することができる。また、製造時に高密度で並置された基
板相互の隙間に特許文献1のようなピンを接触させる必要が無くなり、正確な液晶の滴下
を実現しつつ、要求される公差を緩和して製造時の基板の配置や治具設計を容易化するこ
とができる。
本発明の液晶装置の製造装置は、前記磁石部を永久磁石から構成し、前記永久磁石を前
記弁体に近付けることにより前記弁体を上昇させて前記弁口を開放することを特徴とする
。本発明によれば、装置構造を非常に簡易にし、装置コストの低減を図ることができる。
本発明の液晶装置の製造装置は、前記弁体に前記永久磁石と逆極性又は同極性となる弁
体磁石部を設けることを特徴とする。本発明によれば、磁石部と弁体磁石部の引力又は斥
力により、一層確実に弁体を上昇させて弁口を開放することができる。
本発明の液晶装置の製造装置は、前記磁石部を電磁石から構成し、前記電磁石を励磁す
ることにより前記弁体を上昇させて前記弁口を開放することを特徴とする。本発明によれ
ば、磁石部を弁体に近付ける機構を設ける必要が無いことから、装置構造を非常に簡易に
し、装置コストの低減を図ることができる。
本発明の液晶装置の製造装置は、前記弁体に、弁体磁石部を設け、前記電磁石を前記弁
体磁石部と逆極性又は同極性に励磁することにより前記弁体を上昇させて前記弁口を開放
し、前記電磁石を前記弁体の上昇時と反対の極性に励磁することにより前記弁体を下降さ
せて前記弁口を閉塞することを特徴とする。本発明によれば、磁石部と弁体磁石部の引力
又は斥力により、一層確実に弁体を上昇させて弁口を開放することができる。また、電磁
石を弁体の上昇時と反対の極性に励磁して弁座に押し付けて弁口を閉塞することができる
ことから、液晶容器からの液晶漏れを確実に防止することができ、例えば漏れ液晶が液晶
セルの注入口に付着して液晶セルの排気阻害となる等、漏れ液晶に起因する封入阻害要因
を無くすことができる。
本発明の液晶装置の製造装置は、前記弁体が、空間に浮遊するように前記弁体を上昇さ
せて前記弁口を開放することを特徴とする。本発明によれば、弁体が上蓋等の必要がない
箇所に接触することを防止することができ、液晶装置に封入される液晶に異物が混入する
ことを一層確実に防止することができる。
本発明の液晶装置の製造方法は、マザー基板上に、複数の対向基板を貼り合わせる工程
と、前記マザー基板上の隣り合う前記対向基板間に、液晶を滴下する工程と、一の前記対
向基板と貼り合わされた前記マザー基板を切断する工程とを備えた液晶装置の製造方法で
あって、前記液晶を滴下する工程において、液晶を収容する液晶容器内の弁体を磁力で上
昇させ、前記弁体で閉塞されている前記液晶容器の底部の弁口を開放することにより、前
記弁体と前記マザー基板とが離間した状態で、前記マザー基板上に液晶を滴下させること
を特徴とする。本発明によれば、弁体を磁力で上昇させて弁口を開放し、弁体とマザー基
板とが離間した状態で液晶を滴下することが可能であるから、液晶装置に封入される液晶
に異物が混入することを防止することができる。また、製造時に高密度で並置された対向
基板相互の隙間に特許文献1のようなピンを接触させる必要が無くなり、正確な液晶の滴
下を実現しつつ、要求される公差を緩和して製造時の基板の配置や治具設計を容易化する
ことができる。
〔液晶装置〕
先ず、実施形態の液晶装置の製造装置で製造される液晶装置の例について、図1及び図
2を参照して説明する。図1は液晶装置の構成例を示す平面図、図2は図1に於けるA−
A断面図である。
液晶装置1は、一対の基板に相当する、TFT基板等の素子基板10と対向基板20と
の間に液晶30を封入して構成される。素子基板10及び対向基板20としてはガラスや
石英等が用いられる。素子基板10上には画素を構成する画素電極11が図示しないスイ
ッチング素子と共にマトリクス状に配置されている。画素電極11上にはポリイミド系の
高分子樹脂からなる配向膜12が積層され、液晶分子に所定のプレティルト角を付与する
ように所定方向にラビング処理されている。
対向基板20には表示領域を区画する額縁としての遮光膜21が設けられている。対向
基板20の全面には対向電極22としてITO等の透明導電膜が形成され、更に、対向電
極22の全面にはポリイミド系の配向膜23が形成されている。配向膜23は、液晶分子
に所定のプレティルト角を付与するように所定方向にラビング処理されている。
遮光膜21の外側の領域には液晶30を封入するシール材31が、素子基板10と対向
基板20との間に形成されている。シール材31は対向基板20の輪郭形状に略一致する
ように配置され、素子基板10と対向基板20を相互に固着している。シール材31は、
枠状に形成されており、シール材31の枠内に液晶30が封入されている。液晶装置1の
液晶の封入には、シール材31の一部を欠落させて液晶30を注入するための注入口32
を形成し、注入口32から液晶を注入可能な位置に液晶を滴下し、素子基板10及び対向
基板20相互の空間に液晶30を注入し、注入口32を封止材33で閉塞する滴下注入法
が用いられる。
シール材31の外側の領域には、図示しないデータ線に画像信号を所定のタイミングで
供給することによりデータ線を駆動するデータ線駆動回路41、及び外部回路との接続の
ための外部接続端子42が素子基板10の一辺に沿って設けられている。この一辺に隣接
する二辺に沿って、図示しない走査線に走査信号を所定のタイミングで供給することによ
り走査線を駆動する走査線駆動回路43が設けられており、走査線駆動回路43は、シー
ル材31の内側の遮光膜21に対向する位置において素子基板10上に形成される。また
、素子基板10上には、データ線駆動回路41、走査線駆動回路43、外部接続端子42
及び上下導通端子44を接続する配線45が設けられている。
上下導通端子44は、シール材31のコーナー部の4箇所の素子基板10上に形成され
ている。素子基板10と対向基板20相互間には、下端が上下導通端子44に接触し、上
端が対向電極22に接触する上下導通材46が設けられており、上下導通材46によって
、素子基板10と対向基板20との間で電気的な導通がとられている。
各画素のスイッチング素子がオンになると、画像信号が各画素毎に画素電極11に供給
される。この画素電極11と対向基板20に設けられた対向電極22との間の電圧が液晶
30に印加される。そして、画像信号が供給された画素電極11と対向電極22との電位
差に応じて液晶30の分子集合の配向や秩序が変化して、光を変調し、階調表示を可能に
する。
尚、本発明を適用可能な液晶装置は適宜であり、例えばTFT(薄膜トランジスタ)や
TFD(薄膜ダイオード)をスイッチング素子として備えるアクティブマトリクス型の液
晶装置、又はパッシブマトリクス型の液晶装置、或いはシリコン基板上に素子を形成する
反射型液晶装置(LCOS)等に適用することが可能である。
〔第1実施形態の液晶装置の製造装置〕
次に、第1実施形態の液晶装置の製造装置について、図3〜図6を参照して説明する。
図3は第1実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を閉塞している状態を示す縦断正面図、
図4は第1実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を開放している状態を示す縦断正面図、
図5は図4の製造装置における液晶容器と弁体の周辺領域を示す拡大図、図6は大型の素
子基板に複数の対向基板を貼り合わせて構成される複数の液晶セルの平面説明図である。
第1実施形態の液晶装置の製造装置100は、チャンバ本体110と上蓋120とから
構成されるチャンバを有し、このチャンバは、図示省略する減圧ポンプで真空雰囲気に減
圧可能な真空チャンバになっている。チャンバ本体110は上面開放の箱形であり、その
両側壁の上部に支持ステー111・111が内側に突出して形成されている。チャンバ本
体110内の下部には、液晶セル200が載置されるステージ112が設けられている。
上蓋120は、チャンバ本体110の上面開放箇所に設置され、その下側には箱形の磁石
収容部121が設けられている。
磁石収容部121は磁石部に相当する永久磁石130が収容され、永久磁石130はN
極又はS極の極性を有する。永久磁石130の上部には棒状或いは板状等の磁石支持部1
31が取り付けられており、磁石支持部131は、上蓋120に形成された挿通穴122
に挿通され、上蓋120の外部まで通じており、外部において図示省略する昇降機構に連
結されている。永久磁石130は、昇降機構の動作で磁石支持部131を昇降することに
より、磁石収容部121内で昇降するようになっている。
チャンバ本体110内には断面視逆Ω字形の取付板140が設けられている。取付板1
40には、その両側壁141・141の上端に外側突出部142・142が形成されてお
り、取付板140は、両側壁141・141を支持ステー111・111の先端間に挿入
し、外側突出部142・142を支持ステー111・111の上側に載置するようにして
、支持ステー111・111で支持されている。また、取付板140の底部143には複
数の液晶滴下部150を取り付けるための取付穴144が複数形成されている。
液晶滴下部150は、液晶を収容する液晶容器160と、液晶容器160に収容される
弁体170とから構成される。液晶容器160は、セラミック等の非導電材料で形成され
ており、上下貫通する壺状で、その内壁面162は下方に向かって窄まるように形成され
ている。液晶容器160の底部には液晶を滴下する弁口161が形成され、弁口161の
すぐ上側に位置する部分は内壁面162に沿って設けられる弁座163になっている。液
晶容器160は、その下部を取付穴144に挿入して取付板140に取り付けることによ
り、取付板140で支持されている。また、液晶容器160の取付板140より上側の部
分には垂直方向に延びる外壁面164が形成されている。
弁体170は、セラミック等の非導電材料で形成され、弁部171と、ピン部174と
、頭部175を有する。弁部171は、液晶容器160の弁座163に着座して弁口16
1を閉塞するものであり、下方に向かって先細となる第1テーパ部172と、上方に向か
って先細となる第2テーパ部173を有する。第1テーパ部172の外周面は、本例では
弁座163の傾斜角度と内径に倣うように形成されているが、弁座163に着座して弁口
161を閉塞可能な形状であれば適宜である。
第2テーパ部173の上端には上方へ延びるピン部174が形成され、ピン部174の
上端には断面視略H字形の頭部175が設けられている。頭部175の側部には、下方突
出部176が垂直方向に下方に延びるように形成され、下方突出部176は、液晶容器1
60の外壁面164の外側に配置されて外嵌され、外壁面164と接触して摺動可能にな
っている。更に、頭部175の側部には、上方に突出する位置に弁体磁石部177が設け
られており、弁体磁石部177は永久磁石130と逆極性の永久磁石である。
また、製造装置100の液晶滴下部150で液晶を滴下して封入される液晶セル200
は、例えば図6に示すように、マザー基板である大型素子基板201と、大型素子基板2
01上に所定間隔を開けて高密度に複数配置された対向基板202とシール材で貼り合わ
せて構成される各液晶セル200であり、各液晶セル200にはシール材の一部を欠落し
て注入口203が形成されている。
第1実施形態の液晶装置の製造装置100で液晶セル200に液晶を封入する際には、
図3に示すように、永久磁石130を磁石収容部121内の上側に配置して弁体170を
自重で落下させ、弁部171を弁座163に着座させて弁口161を閉塞した状態で、図
示省略する液晶供給ライン及びそのディスペンサで、各液晶容器160に液晶を供給する
。各液晶滴下部150の液晶容器160に対する液晶の供給は1ライン或いは2〜3ライ
ンなど少数の液晶供給ラインで行うことが可能である。尚、複数種類の液晶を必要に応じ
て滴下する場合には、例えば2ラインの液晶供給ラインとディスペンサなど、少数の液晶
供給ラインとディスペンサを用いて切替えることにより対応することが可能である。
また、対向基板202が配置された大型素子基板201をステージ112上に設置し、
各液晶滴下部150の弁口161が液晶を滴下する位置に配置されるようにして、基板2
01、202を配置する。本実施形態では、大型素子基板201上の対向基板202相互
間に溝(図示省略)を形成し、その溝の交点を液晶滴下箇所αとして弁口161を対応配
置し、弁体170と大型素子基板201とが離間した状態で、大型素子基板201上の液
晶滴下箇所αに液晶を滴下して、滴下した液晶を液晶セル200の注入口203に溝に沿
って周り込ませて導いていく構成とするが、各液晶セル200の注入口203の近傍の液
晶滴下箇所βに弁口161を配置し、液晶を滴下する構成としてもよい(図6参照)。
その後、チャンバの内部を減圧ポンプによって減圧し、液晶セル200の排気処理と液
晶容器160内の液晶の脱泡処理を行う。更に、液晶滴下部150の弁口161の上側に
位置する空間の気圧より、弁口161の下側に位置する空間の気圧が低くなるように調整
すると共に、昇降装置を駆動し、磁石支持部131を介して永久磁石130を下降する。
永久磁石130の下降に応じて、逆極性の弁体磁石部177が永久磁石130の磁力によ
る引力で上方に引き寄せられ、複数の弁体170が同時に上昇する。弁体170の上昇時
には、下方突出部176が液晶容器160の外壁面164との嵌合状態を維持しつつ摺動
するので、弁部171と弁口161の位置は横ずれせずに確保される。そして、弁体17
1の上昇により、弁部171の第1テーパ部172が弁座163から離れて弁口161が
開放され、液晶容器160内の液晶が弁口161から液晶Lとして液晶滴下箇所αに滴下
される。滴下された液晶は対向基板202間の溝に沿って液晶セル200の注入口203
に至る。
所要量の液晶を滴下した後には、昇降装置を駆動し、磁石支持部131を介して永久磁
石130を上昇する。永久磁石130の上昇に応じて、弁体磁石部177に対する永久磁
石130の引力が弱まり、弁体170の自重が引力を超えることにより、複数の弁体17
0が同時に下降する。弁体170の下降時にも、下方突出部176が液晶容器160の外
壁面164との嵌合状態を維持しつつ摺動するので、弁部171と弁口161の位置は横
ずれせずに確保される。そして、弁体170の下降により、弁部171の第1テーパ部1
72が弁座163に着座して弁口161が閉塞され、液晶Lの滴下が停止される。更に、
チャンバを大気開放し、気圧差によって、注入口203近傍の液晶を基板201、202
間の空間に吸い込ませて液晶セル200に液晶を注入し、注入口203を封止材で封止し
て液晶を封入する。その後は、大型素子基板201を対向基板202・202間の位置で
切断すること等により、液晶装置1が製造される。
第1実施形態の液晶装置の製造装置100を用いることにより、弁体170を磁力で上
昇させて弁口161を開放し、弁体170が基板201、202に接触しないようにする
ことができ、液晶装置1への異物混入を防止することができる。また、製造時に高密度で
並置された基板202・202相互の隙間に特許文献1のようなピンを接触させる必要が
無くなり、正確な液晶の滴下を実現しつつ、要求される公差を緩和して製造時の基板20
1、202の配置や治具設計を容易化することができる。また、永久磁石130を弁体1
70に近付けて弁口161を開放する構成により、装置構造を非常に簡易にし、装置コス
トの低減を図ることができる。また、弁体170に永久磁石130と逆極性の弁体磁石部
177を設けることにより、磁石部に相当する永久磁石130と弁体磁石部177の引力
により、確実に弁体170を上昇させて弁口161を開放することができる。
また、複数の液晶滴下部150において、同時に弁体170を上昇させて弁口161を
開放し、同時に弁体170を下降させて弁口161を閉塞することにより、高密度配置の
液晶セル200に液晶を注入するのに適した位置に同時に液晶を滴下し、各液晶セル20
0に均一で適量の液晶を封入することが可能となる。また、複数の液晶滴下部150への
液晶供給を1ライン或いは2〜3ラインなど少数の液晶供給ラインとディスペンサで行う
ことが可能であるため、液晶滴下部150に対応する箇所毎に液晶供給ラインとディスペ
ンサを設けるなど、多数の液晶供給ラインを設ける場合に比べ、液晶供給ラインのイオン
汚染や異物混入等に対する管理が容易となる。
〔第2実施形態の液晶装置の製造装置〕
次に、第2実施形態の液晶装置の製造装置について、図7〜図9を参照して説明する。
図7は第2実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を閉塞している状態を示す縦断正面図、
図8は第2実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を開放している状態を示す縦断正面図、
図9は電磁石の励磁極性の変化を示す図である。
第2実施形態の液晶装置の製造装置100aは、第1実施形態の製造装置100におけ
る永久磁石130、磁石支持部131を設ける構成に代えて、磁石部として電磁石180
を設ける構成である。製造装置100aのその他の構成は第1実施形態の製造装置100
と同一であり、同一構成の説明は省略する。電磁石180は、鉄心にコイルが巻回された
ものであり、図示省略する配線を介して図9に示す正負の電圧が印可され、励磁される極
性がN極とS極に変化する。
第2実施形態の液晶装置の製造装置100aで液晶セル200に液晶を封入する際には
、図7に示すように、電磁石180に負電圧を印可して電磁石180をS極に励磁し、電
磁石180の励磁されている極性と同極性(S極)の弁体磁石部177を有する弁体17
0を、電磁石180と弁体磁石部177の斥力によって下降させ、弁部171の第1テー
パ部172を液晶容器160の弁座163に押し付けて閉塞状態としておき、第1実施形
態と同様に、図示省略する液晶供給ライン及びそのディスペンサで、各液晶容器160に
液晶を供給する。更に、第1実施形態と同様に、対向基板202が配置された大型素子基
板201をステージ112上に設置し、各液晶滴下部150の弁口161が液晶を滴下す
る位置に配置されるようにして、基板201、202を配置する。
その後、チャンバの内部を減圧ポンプによって減圧し、液晶セル200の排気処理と液
晶容器160内の液晶の脱泡処理を行った後に、電磁石180に正電圧を印可して電磁石
180をN極に励磁し、電磁石180の励磁されている極性と逆極性の弁体磁石部177
を有する弁体170を、電磁石180と弁体磁石部177の磁力による引力によって上昇
させ、複数の弁体170が同時に上昇する。弁体171の上昇により、弁部171の第1
テーパ部172が弁座163から離れて弁口161が開放され、液晶容器160内の液晶
が弁口161から液晶滴下箇所αに滴下され、対向基板202間の溝に沿って液晶セル2
00の注入口203に至る。
所要量の液晶を滴下した後には、電磁石180に負電圧を印可して電磁石180をS極
に励磁し、電磁石180の励磁されている極性と同極性の弁体磁石部177を有する弁体
170を、電磁石180と弁体磁石部177の磁力による斥力によって下降させ、複数の
弁体170を同時に下降させる。弁体170の下降により、弁部171の第1テーパ部1
72が弁座163に着座して弁口161が閉塞され、液晶の滴下が停止される。その後は
、チャンバを大気開放して液晶セル200に液晶を注入し、注入口203を封止材で封止
して液晶を封入し、大型素子基板201を対向基板202・202間の位置で切断するこ
と等により、液晶装置1が製造される。尚、弁体磁石部177の極性をN極とし、弁口1
61の開放と閉塞時に逆の電圧を印可し、逆の極性に励磁するようにしてもよい。
第2実施形態の液晶装置の製造装置100aを用いることにより、永久磁石130に起
因する効果以外、第1実施形態と同様の効果が得られると共に、永久磁石130の昇降機
構を設ける必要が無いことから、装置構造を非常に簡易にし、装置コストの低減を図るこ
とができる。また、電磁石180を弁体170の上昇時と反対の極性に励磁して、弁部1
71を弁座163に押し付けて弁口161を閉塞することができることから、液晶容器1
60からの液晶漏れを確実に防止することができ、例えば漏れ液晶が液晶セル200の注
入口203に付着して液晶セル200の排気阻害となる等、漏れ液晶に起因する封入阻害
要因を無くすことができる。また、弁体170の自重に依拠せずに弁口161を閉塞でき
るので、弁体170の軽量化を図ることができる。
〔実施形態の変形例等〕
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲内で
変形、改良等したものも本発明に含まれる。
例えば第1実施形態の製造装置100において、弁体170に永久磁石130と逆極性
の弁体磁石部177を設ける構成に代え、弁体170或いは弁体170の上端部を、永久
磁石130の磁力で吸引可能な磁性材料で形成する構成、或いは少なくとも弁体170の
上端部を磁性材料でコーティングする構成とすることも可能である。また、弁体170の
頭部175の下方突出部176等の所定箇所に、磁石部に相当する永久磁石130と同極
性の弁体磁石部177を設け、その弁体磁石部177に下側から永久磁石130を近付け
て、永久磁石130と弁体磁石部177の斥力で弁体170を上昇させる構成としてもよ
い。
また、第2実施形態の製造装置100aにおいて、弁体170の頭部175の下方突出
部176等の所定箇所に弁体磁石部177を設け、その弁体磁石部177の下側に電磁石
180を設け、電磁石180を弁体磁石部177と同極性に励磁し、斥力により弁体17
0を上昇させて弁口161を開放し、電磁石180を弁体170の上昇時と反対の極性に
励磁することにより弁体170を下降させて弁口161を閉塞する構成としてもよい。
また、弁体170の上昇時には、磁石収容部121に当接するまで上昇させてもよいが
、例えば永久磁石130を下降させる距離を調整する、或いは電磁石180に印可する電
圧を調整することにより、弁体磁石部177或いは弁体170に加えられる磁力を弁体1
70の自重とバランスするように調整し、弁体170が空間に浮遊するようにして弁体1
70を上昇させ、弁口161を開放するようにしてもよい。これにより、弁体170が磁
石収容部121や上蓋120等の必要がない箇所に接触することを防止でき、液晶装置1
に封入される液晶に異物が混入することを一層確実に防止することができる。
また、本発明における一対の基板のうちの一方の基板と他方の基板は、素子基板と対向
基板の何れとしてもよい。また、本発明の液晶装置の製造装置は、いずれか一方の基板に
シール材を塗布し、液晶を滴下した後、素子基板と対向基板とを貼り合わせる液晶滴下法
(ODF法)を用いて製造される液晶装置の製造で用いてもよい。
本発明による液晶装置の構成例を示す平面図。 図1のA−A断面図。 第1実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を閉塞している状態を示す縦断正面図。 第1実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を開放している状態を示す縦断正面図。 図4の製造装置における液晶容器と弁体の周辺領域を示す拡大図。 大型の素子基板に複数の対向基板を貼り合わせて構成される複数の液晶セルの平面説明図。 第2実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を閉塞している状態を示す縦断正面図。 第2実施形態の液晶装置の製造装置で弁口を開放している状態を示す縦断正面図。 電磁石の励磁極性の変化を示す図。
符号の説明
1…液晶装置 10…素子基板 11…画素電極 12…配向膜 20…対向基板 21
…遮光膜 22…対向電極 23…配向膜 30…液晶 31…シール材 32…注入口
33…封止材 41…データ線駆動回路 42…外部接続端子 43…走査線駆動回路
44…上下導通端子 45…配線 46…上下導通材 100…液晶装置の製造装置
110…チャンバ本体 111…支持ステー 112…ステージ 120…上蓋 121
…磁石収容部 130…永久磁石 131…磁石支持部 140…取付板 141…外側
突出部 142…底部 143…取付穴 150…液晶滴下部 160…液晶容器 16
1…弁口 162…内壁面 163…弁座 164…外壁面 170…弁体 171…弁
部 172…第1テーパ部 173…第2テーパ部 174…ピン部 175…頭部 1
76…下方突出部 177…弁体磁石部 180…電磁石 200…液晶セル 201…
大型素子基板 202…対向基板 203…注入口 α、β…液晶滴下領域 L…液晶

Claims (7)

  1. 一対の基板間に液晶を封入する液晶装置の製造装置であって、
    チャンバと、
    前記チャンバ内に設けられ、液晶を収容する液晶容器と、
    前記液晶容器の内壁に沿って設けられる弁座と、
    前記液晶容器の底部に設けられ、一方の前記基板上に液晶を滴下する弁口と、
    前記液晶容器内に設けられる弁部を前記弁座に着座することにより、前記弁口を閉塞す
    る弁体と、
    前記弁体を磁力で上昇させて前記弁口を開放する磁石部とを備えることを特徴とする液
    晶装置の製造装置。
  2. 前記磁石部を永久磁石から構成し、
    前記永久磁石を前記弁体に近付けることにより前記弁体を上昇させて前記弁口を開放す
    ることを特徴とする請求項1記載の液晶装置の製造装置。
  3. 前記弁体に前記永久磁石と逆極性又は同極性となる弁体磁石部を設けることを特徴とす
    る請求項2記載の液晶装置の製造装置。
  4. 前記磁石部を電磁石から構成し、
    前記電磁石を励磁することにより前記弁体を上昇させて前記弁口を開放することを特徴
    とする請求項1記載の液晶装置の製造装置。
  5. 前記弁体に、弁体磁石部を設け、
    前記電磁石を前記弁体磁石部と逆極性又は同極性に励磁することにより前記弁体を上昇
    させて前記弁口を開放し、
    前記電磁石を前記弁体の上昇時と反対の極性に励磁することにより前記弁体を下降させ
    て前記弁口を閉塞することを特徴とする請求項4記載の液晶装置の製造装置。
  6. 前記弁体が、空間に浮遊するように前記弁体を上昇させて前記弁口を開放することを特
    徴とする請求項1〜5の何れかに記載の液晶装置の製造装置。
  7. マザー基板上に、複数の対向基板を貼り合わせる工程と、
    前記マザー基板上の隣り合う前記対向基板間に、液晶を滴下する工程と、
    一の前記対向基板と貼り合わされた前記マザー基板を切断する工程とを備えた液晶装置
    の製造方法であって、
    前記液晶を滴下する工程において、
    液晶を収容する液晶容器内の弁体を磁力で上昇させ、前記弁体で閉塞されている前記液
    晶容器の底部の弁口を開放することにより、前記弁体と前記マザー基板とが離間した状態
    で、前記マザー基板上に液晶を滴下させることを特徴とする液晶装置の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107300811A (zh) * 2017-08-11 2017-10-27 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶滴嘴及其液晶滴下装置、液晶滴下方法
CN107300811B (zh) * 2017-08-11 2020-11-20 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶滴嘴及其液晶滴下装置、液晶滴下方法
US11112656B2 (en) 2017-08-11 2021-09-07 Boe Technology Group Co., Ltd. Liquid crystal dripping nozzle, liquid crystal dripping device and method for dripping liquid crystal

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