JP2010051920A - 基材処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基材の一方の面にのみ溶液を接液させて基材を連続して処理することができる基材処理装置を提供する。
【解決手段】バックアップロール１２の下半分を溶液で浸漬するための液槽１４と、液槽１４内部でバックアップロール１２の表面に付着した溶液をかき上げて、バックアップロール１２の上半分の表面と基材Ｗの下面との間に浸入させて、基材Ｗの下面に溶液を接液させ、化合物を析出させるものである。
【選択図】 図１

Description

本発明は、シート状の基材の表面に連続的に化合物を析出させる基材処理装置に関するものである。

従来より、液相析出法による金属酸化物被膜の作成方法が種々提案されている。例えば、酸化チタン、酸化珪素、酸化鉄、酸化亜鉛、硫化カドミウムなどの化合物を基材の表面に析出させる場合に、基材を溶液中に浸漬させ、又は、ロール状の基材を溶液中に浸漬させ、一定時間浸漬させた後に引き上げる方法などが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
特開平１１−２４３２２３号公報 特開２００１−２９４４０８公報

上記のような化合物の析出方法であると、一定時間基材を溶液中に浸漬させる必要があり、生産時間が長くなり、生産性が低下するという問題点があった。

また、上記のような従来技術においては、基材の両面共に溶液に浸漬させて化合物を析出させるために、性能低下などの製品上の不具合や、一旦析出させた基材の一方の面（例えば裏面）の化合物を除去する工程が必要になるという問題点があった。

そこで、本発明は上記問題点に鑑み、基材の一方の面にのみ溶液を接液させて基材を連続して処理することができる基材処理装置を提供する。

本発明は、塗工対象である基材を上半分で前後方向に搬送するバックアップロールと、前記バックアップロールの下半分を溶液で浸漬するための液槽と、前記液槽内部で前記バックアップロールの表面に付着した溶液を、前記バックアップロールが回転することによって掻き上げて、前記バックアップロールの前記上半分の表面と前記基材の下面との間に浸入させ、前記基材の下面に前記溶液を接液させる、基材処理装置である。

本発明によれば、基材の下面にのみ溶液を接液させて、化合物を析出させることができる。

以下、本発明の一実施形態の基材処理装置１０について図１に基づいて説明する。

本実施形態における基材処理装置１０によって処理される基材Ｗとしては、例えば合成樹脂製フィルム、金属箔などであって、溶液に浸漬させて基材Ｗの表面に析出させる化合物としては、例えば酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カドミウムである。

（１）基材処理装置１０の構成
基材処理装置１０は、バックアップロール１２と液槽１４とを備えている。

バックアップロール１２の前方と後方にはそれぞれ第１押圧ロール１６と第２押圧ロール１８とを有している。この第１押圧ロール１６と第２押圧ロール１８とは、基材Ｗに溶液を接液する場合に下方に移動して、基材Ｗをバックアップロール１２の上半分に押圧する。このバックアップロール１２は、ステンレス製であって、直径が２００ｍｍ〜２０００ｍｍ、好ましくは６００ｍｍ〜１５００ｍｍであり、５０℃〜１００℃に加温され、１〜１０ｍ／分の搬送速度Ｖで基材Ｗを搬送する。

液槽１４は、バックアップロール１２の下半分を収納すると共に、内部に溜まっている溶液でバックアップロール１２の下半分を浸漬している。液槽１４は、不図示のジャケットに覆われ、温水などによって５０℃〜１００℃に加温されている。

（２）基材処理装置１０の動作状態
次に、基材処理装置１０の動作状態について説明する。

液槽１４を溶液によって満たし、図１においてバックアップロール１２を反時計回りに回転させる。一方、第１押圧ロール１６、第２押圧ロール１８を下方に移動させ、基材Ｗをバックアップロール１２の上半分に押圧する。

液槽１４に溜まっている溶液は、バックアップロール１２が回転することにより上方に掻き上げられ、バックアップロール１２の上半分と基材Ｗの下面との隙間に浸入し、基材Ｗの下面に溶液が接液される。そして、基材Ｗの下面のみが第１押圧ロール１６から第２押圧ロール１８の間を移動している間、溶液にずっと接液しているため、化合物が析出する。基材Ｗの上面については、溶液が接液していないため、基材Ｗの下面のみ溶液を接液して、化合物を析出させることができる。

この析出に必要な時間は、バックアップロール１２の直径と、接液している長さに対応し、接液時間＝接液長さ／搬送速度となる。例えば、前記のようなバックアップロール１２の直径が２００ｍｍ〜２０００ｍｍであり、搬送速度Ｖが１〜１０ｍ／分であると、この接液時間としては、１〜１０分となる。

また、バックアップロール１２と液槽１４とは、化学反応及び析出に適した温度に加温しているため、化学反応及び析出を行い易い。

（３）変更例
本発明は上記各実施形態に限らず、その主旨を逸脱しない限り種々に変更することができる。

上記実施形態では１台の基材処理装置１０を用いて基材Ｗの処理を行ったが、接液時間が十分に取れない場合には、この基材処理装置１０を直列に連続して複数台設け、合計の接液時間によって化合物を析出させてもよい。

本発明の一実施形態の基材処理装置の側方から見た縦断面図である。

符号の説明

１０ 基材処理装置
１２ バックアップロール
１４ 液槽
１６ 第１押圧ロール
１８ 第２押圧ロール

Claims (4)

1. 塗工対象である基材を上半分で前後方向に搬送するバックアップロールと、
   前記バックアップロールの下半分を溶液で浸漬するための液槽と、
   前記液槽内部で前記バックアップロールの表面に付着した溶液を、前記バックアップロールが回転することによって掻き上げて、前記バックアップロールの前記上半分の表面と前記基材の下面との間に浸入させ、前記基材の下面に前記溶液を接液させる、
   基材処理装置。
2. 前記バックアップロールと前記液槽とが、任意の温度に加温されている、
   請求項１記載の基材処理装置。
3. 前記バックアップロールの上半分に前記基材を押圧する複数の押圧ロールを有する、
   請求項１記載の基材処理装置。
4. 前記基材を、請求項１記載の複数の基材処理装置によって連続して処理する、
   連続基材処理装置。

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