JP2010049184A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、ＴＦＴ基板と対向基板を接着するシール材をスクリーン印刷によって形成する際の、メッシュ痕ムラを防止する。
【解決手段】ＴＦＴ基板１００および対向基板２００には液晶分子の初期配向方向とプレティルト角を決めるラビングが施されている。ＩＰＳ方式においてはプレティルト角は２．５度以下とする必要がある。対向基板２００には、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を接着するためのシール材２０がスクリーン印刷によって形成される。スクリーン印刷のスキージングの方向とラビングの方向を１６５度から１９５度の範囲とすることによってメッシュ痕ムラを防止することが出来る。
【選択図】図１

Description

本発明は表示装置に係り、特にシール材を印刷によって形成した場合の、表示領域のムラの発生を抑制した液晶表示装置に関する。

液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が設置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。

ＴＦＴ基板と対向基板とは、対向基板の周辺に形成されたシール材を介して接着している。シール材を対向基板に形成する形成方法としては、従来はディスペンサが使用されていた。これに対して、シール材をスクリーン印刷によっておこなうことが出来れば、生産の能率を上げることが出来る。

しかし、スクリーン印刷の場合、印刷マスクを対向基板に接触する必要がある。そして、印刷マスクの上からスキージによってシール材となるペーストを対向基板上に塗布する。印刷マスクはメッシュによって形成されているが、このメッシュは凹凸を有している。一方、対向基板にはカラーフィルタ等が形成され、その上に、液晶を配向させるための配向膜が形成され、この配向膜を特定の方向にラビングすることによって液晶の配向を決めている。

「特許文献１」には、印刷によってシール材を形成する場合に、スキージの動作方向とラビングの方向によってコントラストムラの発生の程度が異なることが記載されている。

特開平５−１００２３３号公報

シール材をスクリーン印刷によって形成する場合、印刷マスクのメッシュの影響を小さくするためには、メッシュの本数を多くし、線形を小さくする手段があるが、十分な効果は得られない。また、メッシュの表面に圧力を加えてメッシュの表面を平坦にする、いわゆるカレンダー処理を施す手段もあるが、これも十分な効果が得られない。印刷メッシュの代わりに、サスペンドメタルを印刷マスクに使用すれば、表面の凹凸はなくなるので、メッシュムラの発生も無くなるが、サスペンドメタルでは、大型基板に適用することは困難である。

「特許文献１」に記載の技術は、対向基板の配向方向とスクリーン印刷におけるスキージの動作方向を特定の範囲とすることによってコントラストムラを無くすことが出来ることが記載されている。「特許文献１」では、ラビング方向とスキージの動作方向（スキージングの方向）を６０度以上とすることによってコントラストむらを無くすことが記載されている。

しかし、「特許文献１」に記載の技術では、特にＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置の場合には十分な効果が得られない。ＩＰＳでは、液晶のプレティルト角が２．５度以下といように、従来のＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式等に比べて異なる構成となっているので、従来の液晶表示装置に対して印刷工程を適用する場合とは異なった現象が生ずると考えられる。

本発明はＩＰＳ方式の液晶表示装置の場合に、シール材をメッシュを用いた印刷マスクを使用したスクリーン印刷によって形成する場合の、メッシュムラを無くすことである。

本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。

（１）画素電極とＴＦＴを含む画素がマトリクス状に形成され、前記画素はＴＦＴ基板側配向膜によって被覆されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタは対向基板側配向膜によって被覆された対向基板と、前記ＴＦＴ側基板配向膜と、前記対向基板側配向膜の間に液晶が挟持され、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とは、前記対向基板の周辺に形成されたシール材を介して接着しているＩＰＳ方式の液晶表示装置であって、前記対向基板に形成された前記対向基板側配向膜にはラビング方向を有するラビング処理が施されており、前記ラビングによる液晶分子に対するプレティルト角は２．５度以下であり、前記シール材はスクリーン印刷によって形成され、前記スクリーン印刷におけるスキージング方向と前記ラビング方向とのなす角度は１６５度から１９５度の範囲内であることを特徴とする液晶表示装置。

（２）前記ラビング方向と前記スキージング方向のなす角度は、１７０度から１９０度の範囲内であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。

（３）前記ラビングによる液晶分子に対するプレティルト角は２．０度以下であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。

（４）画素電極とＴＦＴを含む画素がマトリクス状に形成され、前記画素はＴＦＴ基板側配向膜によって被覆されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタは対向基板側配向膜によって被覆された対向基板と、前記ＴＦＴ基板側配向膜と、前記対向基板側配向膜の間に液晶が挟持され、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とは、前記対向基板の周辺に形成されたシール材を介して接着しているＩＰＳ方式の液晶表示装置の製造方法であって、前記対向基板に形成された前記対向基板側配向膜に対して液晶分子に対するプレティルト角が２．５度以下となるようにラビング処理を施し、前記対向基板に、前記ラビング方向とのなす角度が１６５度から１９５度の範囲内となるように、スクリーン印刷によって前記シール材を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

（５）前記対向基板に、前記ラビング方向とのなす角度が１７０度から１９０度の範囲内となるように、スクリーン印刷によって前記シール材を形成することを特徴とする（４）に記載の液晶表示装置の製造方法。

（６）前記プレティルト角が２．０度以下となるように前記ラビング処理を施すことを特徴とする（４）に記載の液晶表示装置の製造方法。

本発明によれば、ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、ＴＦＴ基板と対向基板を接着するシール材をスクリーン印刷によって形成することが出来るので、シール材の形成の工程時間を大幅に短縮することが出来る。また、本発明によれば、対向基板に形成された配向膜に対するラビング方向とシール材を形成するためのスクリーン印刷におけるスキージング方向を規定することによって、スクリーン印刷で使用する印刷メッシュによるメッシュ痕ムラを防止することが出来る。

以下に実施例にしたがって、本発明の内容を詳細に説明する。

図１は本発明による、携帯電話等に使用される液晶表示装置の平面図である。図１において、ＴＦＴ基板１００上に対向基板２００が設置されている。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に液晶層３００が挟持されている。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００とは額縁部に形成されたシール材２０によって接着している。ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成されており、ＴＦＴ基板１００が対向基板２００よりも大きくなっている部分には、液晶セル１に電源、映像信号、走査信号等を供給するための端子部１５０が形成されている。また、端子部１５０には、走査線、映像信号線等を駆動するためのＩＣドライバ５０が設置されている。

図１において、液晶セル１の縦径ＬＹは８１ｍｍ、横径ＬXは５４ｍｍである。また、ＩＣドライバ５０等が搭載されている端子部１５０の幅はＴは２．７ｍｍである。表示領域１０からＴＦＴ基板１００または対向基板２００の端部までが額縁部である。額縁部には、シール材２０の他、図示しない走査線の引出し線等が設置される。

図１において、シール材は熱硬化性のエポキシ樹脂で形成されている。シール材は先ず対向基板にスクリーン印刷によって塗布され、ＴＦＴ基板と重ね合わされる。その後、ベーキングによってシール材を硬化させた後、液晶を注入し、注入孔を封止材によって封止する。

図１に示す液晶表示装置は小型なので、一個ずつ製造したのでは、効率が悪い。そこで、図２に示すように、大型の基板に複数の液晶セルを形成し、その後、個々の液晶セルに分離する。なお、本明細書では、ＩＣドライバ等が取り付けられて完成した表示装置を液晶表示装置と称し、ＴＦＴ基板と対向基板が重ねあわされたものを液晶セルと称する。

図２において、マザーＴＦＴ基板６０とマザー対向基板７０が、個々の液晶セル１のシール材２０、および、マザー基板シール材６１を介して重ね合わされている。マザー基板シール材６１は、マザー基板完成後、マザーＴＦＴ基板６０およびマザー対向基板７０を研磨によって薄くする際に、研磨液が内部に入り込むことを防止するために形成される。したがって、マザーＴＦＴ基板６０あるいは、マザー対向基板７０を研磨する必要が無ければマザー基板シール材６１は不用である。

図２において、各液晶セル１のシール材２０、あるいは、マザー基板シール材６１はスクリーン印刷によって、マザー対向基板７０に形成される。スクリーン印刷によるシール材の形成は従来行われていたディスペンサによるシール材形成よりも効率よく行うことが出来る。しかし、後で説明するように、スクリーン印刷をする際のメッシュの接触によるムラを対策する必要がある。

液晶表示装置では、液晶を初期配向させるために、ＴＦＴ基板１００および対向基板２００に配向膜を形成し、この配向膜を特定方向にラビングすることによって初期配向の向きを決めている。ラビング時に、配向膜上の液晶分子の角度、いわゆるプレティルト角を設定するが、ＩＰＳ方式の場合は、通常の液晶表示装置に比較してこのプレティルト角を、例えば、２．５度以下というように、小さくする必要がある。このように、プレティルト角が小さいとスクリーン印刷における印刷マスクの接触による影響が強くなる。

図３は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置（以後ＩＰＳという）の断面図である。なお、ＩＰＳにも種々の方式があるが、図３はその１例である。図３はＩＰＳのＴＦＴ付近の断面図である。図３において、ガラスで形成されるＴＦＴ基板１００の上に、ゲート電極１０１が形成されている。ゲート電極１０１は走査線と同層で形成されている。ゲート電極１０１はＡｌＮｄ合金の上にＭｏＣｒ合金が積層されている。

ゲート電極１０１を覆ってゲート絶縁膜１０２がＳｉＮによって形成されている。ゲート絶縁膜１０２の上に、ゲート電極１０１と対向する位置に半導体層１０３がａ−Ｓｉ膜によって形成されている。ａ−Ｓｉ膜はプラズマＣＶＤによって形成される。ａ−Ｓｉ膜はＴＦＴのチャネル部を形成するが、チャネル部を挟んでａ−Ｓｉ膜上にソース電極１０４とドレイン電極１０５が形成される。なお、ａ−Ｓｉ膜とソース電極１０４あるいはドレイン電極１０５との間には図示しないｎ＋Ｓｉ層が形成される。半導体層とソース電極１０４あるいはドレイン電極１０５とのオーミックコンタクトを取るためである。

ソース電極１０４は映像信号線が兼用し、ドレイン電極１０５は画素電極１１０と接続される。ソース電極１０４もドレイン電極１０５も同層で同時に形成される。本実施例では、ソース電極１０４あるいはドレイン電極１０５はＭｏＣｒ合金で形成される。ソース電極１０４あるいはドレイン電極１０５の電気抵抗を下げたい場合は、例えば、ＡｌＮｄ合金をＭｏＣｒ合金でサンドイッチした電極構造が用いられる。

ＴＦＴを覆って無機パッシベーション膜１０６がＳｉＮによって形成される。無機パッシベーション膜１０６はＴＦＴの、特にチャネル部を不純物から保護する。無機パッシベーション膜１０６の上には有機パッシベーション膜１０７が形成される。有機パッシベーション膜１０７はＴＦＴの保護と同時に表面を平坦化する役割も有するので、厚く形成される。厚さは１μｍから４μｍである。

有機パッシベーション膜１０７には感光性のアクリル樹脂、シリコン樹脂、あるいはポリイミド樹脂等が使用される。有機パッシベーション膜１０７には、画素電極１１０とドレイン電極１０５が接続する部分にスルーホールを形成する必要があるが、有機パッシベーション膜１０７は感光性なので、フォトレジストを用いずに、有機パッシベーション膜１０７自体を露光、現像して、スルーホールを形成することが出来る。

有機パッシベーション膜１０７の上には対向電極１０８が形成される。対向電極１０８は透明導電膜であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を表示領域全体にスパッタリングすることによって形成される。すなわち、対向電極１０８は面状に形成される。対向電極１０８を全面にスパッタリングによって形成した後、画素電極１１０とドレイン電極１０５を導通するためのスルーホール部だけは対向電極１０８をエッチングによって除去する。

対向電極１０８を覆って上部絶縁膜１０９がＳｉＮによって形成される。上部電極が形成された後、エッチングによってスルーホールを形成する。この上部絶縁膜１０９をレジストにして無機パッシベーション膜１０６をエッチングしてスルーホール１１１を形成する。その後、上部絶縁膜１０９およびスルーホール１１１を覆って画素電極１１０となるＩＴＯをスパッタリングによって形成する。スパッタリングしたＩＴＯをパターニングして画素電極１１０を形成する。画素電極１１０となるＩＴＯはスルーホール１１１にも被着される。スルーホール１１１において、ＴＦＴから延在してきたドレイン電極１０５と画素電極１１０が導通し、映像信号が画素電極１１０に供給されることになる。

画素電極１１０は、両端が閉じた櫛歯状の電極である。櫛歯状の電極と櫛歯状の電極の間はスリット１１２となっている。対向電極１０８には一定電圧が印加され、画素電極１１０には映像信号による電圧が印加される。画素電極１１０に電圧が印加されると図１に示すように、電気力線が発生して液晶分子３０１を電気力線の方向に回転させてバックライトからの光の透過を制御する。画素毎にバックライトからの透過が制御されるので、画像が形成されることになる。なお、画素電極１１０の上には液晶分子３０１を配向させるための配向膜１１３が形成されている。

図３の例では、有機パッシベーション膜１０７の上に、面状に形成された対向電極１０８が配置され、上部絶縁膜１０９の上に櫛歯電極１１０が配置されている。しかしこれとは逆に、有機パッシベーション膜１０７の上に面状に形成された画素電極１１０を配置し、上部絶縁膜１０９の上に櫛歯状の対向電極１０８が配置される場合もある。

図３において、液晶層３００を挟んで対向基板が設置されている。対向基板２００の内側には、カラーフィルタ２０１が形成されている。カラーフィルタ２０１は画素毎に、赤、緑、青のカラーフィルタ２０１が形成されており、カラー画像が形成される。カラーフィルタ２０１とカラーフィルタ２０１の間には遮光膜２０２が形成され、画像のコントラストを向上させている。なお、遮光膜２０２はＴＦＴの遮光膜としての役割も有し、ＴＦＴに光電流が流れることを防止している。

カラーフィルタ２０１および遮光膜２０２を覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜は２つの役割を有している。すなわち、カラーフィルタ材料が液晶層を汚染することを防止することと、カラーフィルタ表面の過度の凹凸を緩和することである。オーバーコート膜の上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜１１３が形成されている。なお、オーバーコート膜は使用されない場合もある。図３はＩＰＳであるから、対向電極はＴＦＴ基板側に形成されており、対向基板側には形成されていない。

図３に示すように、ＩＰＳでは、対向基板２００の内側には導電膜が形成されていない。そうすると、対向基板２００の電位が不安定になる。また、外部からの電磁ノイズが液晶層３００に侵入し、画像に対して影響を与える。このような問題を除去するために、対向基板２００の外側に表面導電膜２１０が形成される。表面導電膜２１０は、透明導電膜であるＩＴＯをスパッタリングすることによって形成される。

対向基板２００とＴＦＴ基板１００を接着するシール材２０は、一般には対向基板２００に形成される。また、シール材２０を形成する時点では、図２に示すように、複数の対向基板２００が形成されたマザー対向基板７０に対して行う。本発明では、対向基板２００にシール材２０をスクリーン印刷によって行う。以後配向膜１１３のラビング方向、あるいは、スクリーン印刷におけるスキージングの方向という場合は、対向基板２００における構成をいう。

図７はスクリーン印刷の模式図である。図７において、マザー対向基板７０がスクリーン印刷機４００の載置台４５０に載置されている。この載置台４５０は、後で述べるように、回転可能となっている。スクリーン印刷機４００には、印刷マスク４１０がマスククランプ４４０によって取り付けられている。印刷マスク４１０は通常は、わずかな間隔を持ってマザー対向基板７０の上方に設置される。

印刷マスク４１０の上には、シール材２０となる印刷ペースト５００が設置されている。シール材２０となる印刷ペースト５００は、熱硬化性のエポキシ樹脂が使用される。印刷マスク４１０をスキージ４３０によって上から圧力を加えながらスキージ４３０を移動させ、印刷ペースト５００を押し出すと、印刷マスク４１０のパターンに従って、シール材２０がマザー基板に印刷される。以後この動作をスキージングとよぶ。また、スキージ４３０の移動方向を、スキージング方向あるいは印刷方向ともいう。

ところで、印刷マスク４１０は、図８に示すようなメッシュ４２０によって形成されている。メッシュ４２０は一般にはステンレス製の線（糸）が使用される。ステンレス製スクリーンメッシュ４２０は、通常平織りと呼ばれる織り方をしており、ステンレス製糸が相互に湾曲してメッシュ４２０が形成されている。

図８に示すように、メッシュ４２０の表面には、横糸４２２、あるいは縦糸４２１によって凹凸が形成されている。図７のように、スクリーン印刷をすると、メッシュ４２０の凹凸がすでにラビングが行われている配向膜１１３の表面に接触することになり、これが、配向膜１１３の状態に影響を与える。具体的には、メッシュ４２０が転写されたような、メッシュ痕ムラが発生する。

このメッシュ痕ムラは常に同様に発生するのではなく、配向膜１１３のラビング方向と、印刷方向の関係によって大きく影響される。図４は、マザー対向基板７０における配向膜１１３のラビング方向ＲＢとスキージ４３０による印刷方向（スキージング方向）ＳＱの関係を示すものである。図４において、ラビング方向ＲＢと、印刷方向ＳＱの角度をθとしている。このθの大きさによって、同じようにスクリーン印刷をした場合でもメッシュ痕ムラの発生が大きく異なる。

図５はラビング方向ＲＢとスキージング方向ＳＱの角度θとメッシュ痕ムラの発生頻度Ｒの関係を示すものである。図５の横軸はラビング方向ＲＢとスキージング方向ＳＱの角度θで、縦軸は、メッシュ痕ムラの発生頻度Ｒである。図５はＩＰＳ方式の液晶表示装置についてのデータである。

図５に示すように、メッシュ痕ムラの発生率は、ラビング方向とスキージング方向の角度によって大きく異なる。ＩＰＳ方式においては、メッシュ痕ムラを防止できる範囲はきわめて狭い範囲に限られる。この内容は、「特許文献１」によって開示された内容とは大きく異なっている。

すなわち、「特許文献１」においては、ラビング方向とスキージングの方向が６０度以上であれば許容範囲であるような示唆があるが、ＩＰＳ方式では、この範囲は全く許容することは出来ない。これは、ＩＰＳの場合、配向膜１１３のプレティルト角を２．５度以下、好ましくは２．０度以下と小さく設定する必要があるので、印刷メッシュ４２０の配向膜１１３への作用も通常の液晶表示装置とは異なるためと考えられる。

図５に示すように、ラビング方向とスキージング方向とのなす角は１６５度から１９５度のきわめて狭い範囲が許容範囲ということになる。これは言い換えると、ラビング方向とスキージングの方向を逆方向から±１５度の範囲内に設定する必要があるということになる。

一方、スキージング方向の設定精度、ラビング方向の設定精度を考慮すると、ラビング方向とスキージングの方向を逆方向から±１０度の範囲内に設定すれば、言い換えれば、ラビング方向とスキージングの方向のなす角度を１７０度〜１９０度の範囲とすれば、ＩＰＳ方式においても、印刷工程の裕度をとりつつメッシュ痕ムラを確実に防止することが出来る。

このように、ラビング方向ＲＢと印刷方向ＳＱの角度θを正確に管理することによってメッシュ痕ムラの発生を抑えることが出来る。ラビング方向ＲＢは、０．２度以内に抑えることが出来る。本発明では、これに加えて、ラビング方向ＲＢとスキージング方向ＳＱのなす角度を逆方向から±１５度以内、好ましくは±１０度以内に設定するように、スクリーン印刷を行う。

図６は印刷方向ＳＱを制御するためのスクリーン印刷の模式平面図である。図６（ａ）は、マザー基板に対して短軸方向に印刷方向を設定する場合である。図６（ａ）において、マザー対向基板７０の上方に、印刷マスク４１０が設置さている。印刷マスク４１０はマザー対向基板７０よりも面積が広い。

図６（ａ）において、スクリーン印刷にはスキージ４３０がとりつけられており、スキージ４３０はレール４６０によってガイドされて移動し、マザー対向基板７０にシール材２０を印刷する。マザー対向基板７０は印刷機の図示しない載置台４５０に設置されているが、載置台４５０は回転可能となっており、マザー対向基板７０も同時に回転する。印刷マスク４１０はマザー対向基板７０よりも大きく形成されているので、図６（ａ）に示す、ラビング方向ＲＢと印刷方向ＳＱの角度θは任意に設定することが出来る。

図６（ｂ）は、載置台４５０を回転させて、印刷をマザー対向基板７０の長軸方向から行う場合である。印刷機のその他の構成は、図６（ａ）で説明したのと同様である。印刷機の状態は変えずに、マザー対向基板７０を回転させることによって、任意のθを設定することが出来る。

以上説明したように、本発明を用いることによって、メッシュ痕ムラの発生を抑えつつ、シール材２０をスクリーン印刷によって形成することが出来る。したがって、シール材２０形成のためのターンアラウンド時間を大幅に短縮することが出来る。

本発明が適用される液晶表示装置の平面図である。 マザー基板の平面図である。 ＩＰＳ方式の液晶表示装置の断面図である。 ラビング方向と印刷方向を示す平面図である。 ラビング方向と印刷方向の差と製品歩留りの関係を示すグラフである。 印刷機の平面模式図である。 スクリーン印刷を示す模式図である。 メッシュの平面図である。

符号の説明

１…液晶セル、 １０…表示領域、 ２０…シール材、 ３０…封止材、 ４０…注入孔、 ５０…ＩＣドライバ、 ６０…マザーＴＦＴ基板、 ６１…マザー基板シール材、 ７０…マザー対向基板、 １００…ＴＦＴ基板、 １０１…ゲート電極、 １０３…半導体層、 １０４…ソース電極、 １０５…ドレイン電極、 １０６…無機パッシベーション膜、 １０７…有機パッシベーション膜、 １０８…対向電極、 １０９…上部絶縁膜、 １１０…画素電極、 １１１…スルーホール、 １１２…スリット、 １１３…配向膜、 ２００…対向基板、 ２０１…カラーフィルタ、 ２０２…遮光膜、 ２０３…オーバーコート膜、 ２１０…表面導電膜、 ３００…液晶層、 ３０１…液晶分子、 ４００…スクリーン印刷機、 ４１０…印刷マスク、 ４２０…メッシュ、 ４２１…縦糸、 ４２２…横糸、 ４３０…スキージ、 ４４０…マスククランプ、 ４５０…載置台、 ４６０…レール、 ５００…印刷ペースト。

Claims (6)

1. 画素電極とＴＦＴを含む画素がマトリクス状に形成され、前記画素はＴＦＴ基板側配向膜によって被覆されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタは対向基板側配向膜によって被覆された対向基板と、前記ＴＦＴ側基板配向膜と、前記対向基板側配向膜の間に液晶が挟持され、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とは、前記対向基板の周辺に形成されたシール材を介して接着しているＩＰＳ方式の液晶表示装置であって、
   前記対向基板に形成された前記対向基板側配向膜にはラビング方向を有するラビング処理が施されており、前記ラビングによる液晶分子に対するプレティルト角は２．５度以下であり、
   前記シール材はスクリーン印刷によって形成され、前記スクリーン印刷におけるスキージング方向と前記ラビング方向とのなす角度は１６５度から１９５度の範囲内であることを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記ラビング方向と前記スキージング方向のなす角度は、１７０度から１９０度の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記ラビングによる液晶分子に対するプレティルト角は２．０度以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
4. 画素電極とＴＦＴを含む画素がマトリクス状に形成され、前記画素はＴＦＴ基板側配向膜によって被覆されたＴＦＴ基板と、カラーフィルタが形成され、前記カラーフィルタは対向基板側配向膜によって被覆された対向基板と、前記ＴＦＴ基板側配向膜と、前記対向基板側配向膜の間に液晶が挟持され、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板とは、前記対向基板の周辺に形成されたシール材を介して接着しているＩＰＳ方式の液晶表示装置の製造方法であって、
   前記対向基板に形成された前記対向基板側配向膜に対して液晶分子に対するプレティルト角が２．５度以下となるようにラビング処理を施し、
   前記対向基板に、前記ラビング方向とのなす角度が１６５度から１９５度の範囲内となるように、スクリーン印刷によって前記シール材を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
5. 前記対向基板に、前記ラビング方向とのなす角度が１７０度から１９０度の範囲内となるように、スクリーン印刷によって前記シール材を形成することを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 前記プレティルト角が２．０度以下となるように前記ラビング処理を施すことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。

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