JP2010048844A - Filter for display - Google Patents

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Tadashi Yoshioka
忠司 吉岡
Takayoshi Kirimoto
高代志 桐本
Tatsuro Tsuchimoto
達郎 土本
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Toray Advanced Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for display which is inexpensive and can suppress the deterioration in visibility of a display image caused by metallic glossiness of a conductive mesh. <P>SOLUTION: The filter for display has the conductive mesh on a substrate and has a surface layer on the conductive mesh, wherein the conductive mesh includes a metal layer (A) made of predetermined metal and a metal layer (B) made of a metal different from the predetermined metal or made of a metallic compound in the order from the substrate side, a thickness of the metal layer (A) is 0.5 to 4 μm, a thickness of the metal layer (B) is 0.005 to 0.1 μm, and the surface layer contains light-transmissive particles having an average particle size of 1 to 20 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、CRT、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の画面に装着されるディスプレイ用フィルターに関する。   The present invention relates to a display filter mounted on a screen of a display device such as a CRT, an organic EL display, a liquid crystal display, and a plasma display.

ディスプレイ装置には、通常、外光の反射の防止、ディスプレイから発生する電磁波の遮蔽、ディスプレイの保護などを目的としたディスプレイ用フィルターがディスプレイの視認側に配置される。特にPDPはその構造や動作原理上、強度な電磁波が発生するため、人体や他の機器に与える影響が懸念され、日本ではVCCI(情報処理装置等電波障害自主規制協議会)、米国ではFCC(米国連邦通信委員会)等の基準値内に抑えることが規格化されている。   In the display device, a display filter is usually arranged on the viewing side of the display for the purpose of preventing reflection of external light, shielding electromagnetic waves generated from the display, and protecting the display. In particular, PDP generates strong electromagnetic waves due to its structure and operating principle, so there are concerns about the effects on human bodies and other devices. In Japan, VCCI (Electromagnetic Interference Regulations for Information Processing Equipment, etc.) and FCC ( It is standardized to keep within the standard value of the Federal Communications Commission).

一方、プラズマディスプレイの低価格化に伴って、ディスプレイ用フィルターも年々低価格化しており、コストダウンの要求も厳しくなっている。一般的なディスプレイ用フィルターは、プラスチックフィルム等の基材上に、ハードコート層、反射防止層、防眩層等の機能層を有する光学機能性フィルムと、プラスチックフィルム等の基材上に導電層(電磁波遮蔽層)が形成された電磁波遮蔽フィルムとを接着層を介して積層して製造されているが、この2枚の基材からなるディスプレイ用フィルターに対して、1枚のみの基材で構成することによって低価格化が可能となる。   On the other hand, with the price reduction of plasma displays, the price of display filters has been decreasing year by year, and the demand for cost reduction has become severe. A general display filter includes an optical functional film having functional layers such as a hard coat layer, an antireflection layer and an antiglare layer on a substrate such as a plastic film, and a conductive layer on the substrate such as a plastic film. It is manufactured by laminating an electromagnetic wave shielding film on which an (electromagnetic wave shielding layer) is formed via an adhesive layer, but only one base material is used for a display filter comprising these two base materials. By configuring, the price can be reduced.

1枚のみの基材からなるディスプレイ用フィルターの1つの構成として、基材上に形成された導電性メッシュからなる導電層を被覆するようにハードコート層や反射防止層等の機能層を配置する態様が挙げられる。導電性メッシュは、スパッタや真空蒸着で形成された金属薄膜に比べて、低抵抗の導電層を比較的低コストで得られるということから好ましく用いられている。   As one configuration of a display filter composed of only one substrate, functional layers such as a hard coat layer and an antireflection layer are arranged so as to cover a conductive layer composed of a conductive mesh formed on the substrate. An embodiment is mentioned. The conductive mesh is preferably used because a conductive layer having a low resistance can be obtained at a relatively low cost compared to a metal thin film formed by sputtering or vacuum deposition.

導電性メッシュからなる導電層を機能層で被覆したディスプレイ用フィルターが知られている。例えば、導電性メッシュ上にハードコート、防眩層あるいは反射防止層等の硬化層が直接に配置された透明導電性ハードコートフィルムが特許文献1に記載されており、また、導電性メッシュ上にハードコート層、あるいはハードコート層と反射防止層を積層したディスプレイ用フィルターが特許文献2に記載されており、また、金属パターン層(導電性メッシュ)の凹凸を平坦化するための平坦化層と反射防止層を積層した光学フィルターが特許文献3に記載されている。   A display filter is known in which a conductive layer made of a conductive mesh is covered with a functional layer. For example, Patent Document 1 discloses a transparent conductive hard coat film in which a hard layer such as a hard coat, an antiglare layer, or an antireflection layer is directly disposed on a conductive mesh. A display filter in which a hard coat layer or a hard coat layer and an antireflection layer are laminated is described in Patent Document 2, and a flattening layer for flattening irregularities of a metal pattern layer (conductive mesh) Patent Document 3 describes an optical filter in which an antireflection layer is laminated.

ディスプレイ用フィルターを構成する導電性メッシュは、通常、金属で形成されているために、その金属光沢が、ディスプレイの表示画像の視認性を低下させるという問題がある。即ち、蛍光灯などの外光の映り込み像が鮮明になって表示画像の視認性が低下するという問題がある。従って、導電性メッシュの金属光沢を抑制するために、導電性メッシュの表面に黒化層を設けることが一般に行われている。黒化層の形成方法として、導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理して黒化する方法(例えば特許文献4)、導電性メッシュを構成する金属層の表面に黒色の金属酸化物層を蒸着法やメッキ法で形成する方法(例えば特許文献5、6)、あるいは導電性メッシュを構成する金属層(例えば銅メッキ層)上にNi−Sn合金のメッキを施して黒色化する方法(例えば特許文献7)が知られている。
特開2007−140282号公報 特開2007−243158号公報 特開平11−337702号公報 特開2006−191010号公報 特開2000−223886号公報 特開2001−127485号公報 特開2006−173189号公報
Since the conductive mesh constituting the display filter is usually made of metal, there is a problem that the metallic luster reduces the visibility of the display image on the display. That is, there is a problem that the reflected image of external light such as a fluorescent lamp becomes clear and the visibility of the display image decreases. Therefore, in order to suppress the metallic luster of the conductive mesh, it is generally performed to provide a blackened layer on the surface of the conductive mesh. As a method for forming the blackened layer, a method of blackening the surface of the metal layer constituting the conductive mesh by oxidation (for example, Patent Document 4), a black metal oxide layer on the surface of the metal layer constituting the conductive mesh (E.g., Patent Documents 5 and 6), or a method of blackening by plating a Ni-Sn alloy on a metal layer (e.g., a copper plating layer) constituting a conductive mesh ( For example, Patent Document 7) is known.
JP 2007-140282 A JP 2007-243158 A JP-A-11-337702 JP 2006-191010 A JP 2000-223886 A JP 2001-127485 A JP 2006-173189 A

上記した、特許文献4の方法(導電性メッシュを構成する金属層表面を酸化処理する方法)は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという意味では有効であるが、その反面、酸化処理液は高アルカリであるために基材と導電性メッシュの密着性を低下させるという問題があり、特に本発明のディスプレイ用フィルターに用いられる金属層の製法として好適な気相製膜法で形成された金属層を用いた導電性メッシュは、その影響を受けやすいという問題がある。また、酸化処理で形成された黒化層は脆弱であるために脱離しやすく、ディスプレイ用フィルターの製造工程の中の導電性メッシュ上に表面層を塗工する工程で、黒化層の一部が脱離して、異物としてディスプレイ用フィルター上に残留したり、ロール等の搬送経路を汚染するという問題がある。また更に、黒化層として十分な性能を得るためには1μm程度の厚みが必要であり、その黒化層の厚み分、金属層の厚みが目減りし、電磁波遮蔽性が低下するという問題がある。   The above-described method of Patent Document 4 (method of oxidizing the surface of the metal layer constituting the conductive mesh) is effective in terms of suppressing the metallic luster of the conductive mesh. There is a problem that the adhesion between the base material and the conductive mesh is lowered due to its high alkalinity, and in particular, a metal formed by a vapor deposition method suitable as a method for producing a metal layer used in the display filter of the present invention. A conductive mesh using layers has a problem that it is easily affected. In addition, the blackened layer formed by oxidation treatment is fragile and easily detached, and a part of the blackened layer is applied in the process of coating the surface layer on the conductive mesh in the display filter manufacturing process. Detaches and remains on the display filter as a foreign substance, or contaminates a transport path such as a roll. Furthermore, in order to obtain sufficient performance as a blackened layer, a thickness of about 1 μm is required, and the thickness of the blackened layer is reduced by the thickness of the metal layer, resulting in a problem that electromagnetic wave shielding properties are reduced. .

一方、上記の特許文献5〜7の方法(蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法)は、導電性メッシュの金属光沢を抑制するのに十分な黒化層(実際は黒色を呈しない場合が多い)を形成することは難しいという問題がある。しかし、その反面、特に蒸着法等の気相製膜法で黒化層を形成する方法は、前述の酸化処理のような湿式処理を必要としないので、作業環境の面で好ましく、また、0.1μm以下という薄膜の形成が容易にできるという利点があり、厚みが小さい導電性メッシュを作成する上で有益である。   On the other hand, the methods of the above-mentioned patent documents 5 to 7 (method of forming a blackened layer by vapor deposition or plating) are sufficient to suppress the metallic gloss of the conductive mesh (actually black color is not exhibited). There is a problem that it is difficult to form. However, on the other hand, the method of forming a blackened layer by vapor deposition such as vapor deposition is preferable in terms of the working environment because it does not require a wet process such as the above-described oxidation process. This is advantageous in that a thin film having a thickness of 1 μm or less can be easily formed, and is useful for producing a conductive mesh having a small thickness.

上述した、従来から一般的に採用されている、2枚基材のディスプレイ用フィルターの場合は、導電性メッシュに対して視認側(観賞側)には、粘着剤層、近赤外線遮蔽層、色補正層、プラスチックフィルム等からなる基材、あるいは反射防止層等の表面層が配置されているので、上記した後者の方法(蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法)で形成された黒化層であっても、導電性メッシュの金属光沢を抑制するという観点からはあまり問題にはならなかった。   In the case of the above-described two-substrate display filter that has been generally used, the adhesive layer, the near-infrared shielding layer, the color on the viewing side (viewing side) with respect to the conductive mesh Since a correction layer, a base material made of a plastic film, or a surface layer such as an antireflection layer is disposed, the latter method (method of forming a blackened layer by a vapor deposition method or a plating method) is used. Even the blackened layer was not a problem from the viewpoint of suppressing the metallic luster of the conductive mesh.

しかしながら、本発明が対象とするディスプレイ用フィルターは、導電性メッシュに対して視認側には、プラスチックフィルム基材や粘着剤層等の導電性メッシュの金属光沢を軽減する層が存在しないので、上記した後者の方法(蒸着法やメッキ法で黒化層を形成する方法)で形成された黒化層では、導電性メッシュの金属光沢を抑制することは不十分であり、表示画像の視認性の低下を招くという問題のあることが新たに判明した。   However, the display filter targeted by the present invention has no layer for reducing the metallic luster of the conductive mesh, such as a plastic film substrate or an adhesive layer, on the viewing side with respect to the conductive mesh. In the blackened layer formed by the latter method (method of forming the blackened layer by vapor deposition or plating), it is insufficient to suppress the metallic luster of the conductive mesh, and the visibility of the display image is poor. It has been newly found that there is a problem of causing a decrease.

また、上述した導電性メッシュを被覆するように機能層を積層したディスプレイ用フィルターに関する特許文献1〜3についても、導電性メッシュの金属光沢が起因する表示画像の視認性の低下を抑制するために機能層(ハードコート層、反射防止層、防眩層等)に粒子を含有させることは記載されていない。   Moreover, also about patent documents 1-3 regarding the filter for a display which laminated | stacked the functional layer so that the conductive mesh mentioned above may be covered, in order to suppress the fall of the visibility of the display image resulting from the metallic luster of a conductive mesh It is not described that the functional layer (hard coat layer, antireflection layer, antiglare layer, etc.) contains particles.

そこで、本発明は、上記した問題に鑑み、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することを目的とする。   In view of the above-described problems, an object of the present invention is to provide a display filter that is low in cost and suppresses a decrease in visibility of a display image due to the metallic luster of a conductive mesh.

本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
1)基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層(A)と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層(B)とで構成され、
かつ前記金属層(A)の厚みが0.5〜4μm、前記層(B)の厚みが0.005〜0.1μmであり、
前記表面層は、平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
2)前記表面層が、前記透光性粒子を表面層の全成分100質量%に対して2〜20質量%含有する、前記1)に記載のディスプレイ用フィルター。
3)前記表面層が、更に着色剤を含有する、前記1)または2)に記載のディスプレイ用フィルター。
4)前記表面層の中心線平均粗さRaが、300〜1000nmである、前記1)〜3)のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。
5)前記金属層(A)を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種である、前記1)〜4)のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
6)前記層(B)を構成する金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも1種である、前記1)〜5)のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。
7)前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が、平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有する、前記1)〜6)のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。
8)前記ハードコート層が、更に着色剤を含有する、前記7)に記載のディスプレイ用フィルター。
The above object of the present invention has been basically achieved by the following invention.
1) A display filter having a conductive mesh on a substrate and a surface layer on the conductive mesh,
The conductive mesh is composed of, in order from the base material side, a metal layer (A) made of a specific metal and a layer (B) made of a metal different from the specific metal or a metal compound,
And the thickness of the said metal layer (A) is 0.5-4 micrometers, The thickness of the said layer (B) is 0.005-0.1 micrometer,
The display filter, wherein the surface layer contains translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm.
2) The display filter according to 1), wherein the surface layer contains 2 to 20% by mass of the translucent particles with respect to 100% by mass of all components of the surface layer.
3) The display filter according to 1) or 2), wherein the surface layer further contains a colorant.
4) The display filter according to any one of 1) to 3), wherein a center line average roughness Ra of the surface layer is 300 to 1000 nm.
5) The display according to any one of 1) to 4), wherein the specific metal constituting the metal layer (A) is at least one selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, and nickel. Filter.
6) The metal compound constituting the layer (B) is at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal sulfides, and metal nitrides, according to any one of 1) to 5) above. Display filter.
7) The surface layer includes at least a hard coat layer, and the hard coat layer contains translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm, according to any one of 1) to 6). Display filter.
8) The display filter according to 7), wherein the hard coat layer further contains a colorant.

本発明によれば、低コストで、かつ導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下が抑制されたディスプレイ用フィルターを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the filter for a display by which the fall of the visibility of the display image resulting from metal gloss of a conductive mesh was suppressed at low cost can be provided.

本発明のディスプレイ用フィルターは、基材上に導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有する。ここで導電性メッシュ上の表面層は、該導電性メッシュを被覆するように表面層が形成される。また表面層とは、ディスプレイ用フィルターをディスプレイに装着したときに、視認側(鑑賞者側)の最表面となる層である。表面層の詳細については後述する。   The display filter of the present invention has a conductive mesh on a substrate, and a surface layer on the conductive mesh. Here, the surface layer is formed on the conductive mesh so as to cover the conductive mesh. The surface layer is a layer that becomes the outermost surface on the viewing side (viewer side) when the display filter is mounted on the display. Details of the surface layer will be described later.

(導電性メッシュ)
本発明にかかる導電性メッシュは、基材側から順に、特定金属からなる金属層(A)と、前記特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層(B)で構成される。
(Conductive mesh)
The conductive mesh according to the present invention includes a metal layer (A) made of a specific metal and a layer (B) made of a metal or a metal compound different from the specific metal in this order from the substrate side.

ここで、金属層(A)を構成する特定金属は、導電性が高い金属が好ましく、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属が好ましく、更に、銀、銅、アルミニウムの中のいずれかの金属が好ましく、特に、銅が好ましい。   Here, the specific metal constituting the metal layer (A) is preferably a highly conductive metal, for example, at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, and nickel is preferable. Any one of silver, copper, and aluminum is preferable, and copper is particularly preferable.

層(B)には、金属層(A)の特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物が用いられる。異種の金属としては、金、白金、銀、水銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉄、スズ、亜鉛、インジウム、パラジウム、イリジウム、コバルト、タンタル、アンチモン、チタン等からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属が挙げられ、金属層(A)の特定金属とは異なる金属が選択される。また金属化合物としては、上記の異種金属で例示された金属の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、及びフッ化物からなる群より選ばれる少なくとも1種が挙げられる。これらの中でも、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物が好ましく用いられる。なお、金属層(A)の特定金属と、層(B)の金属化合物中の金属としては同じ金属であってもよく、例えば、金属層(A)が銅で構成されている場合に、層(B)が酸化銅で構成される態様などは、本発明に含まれる。   For the layer (B), a metal or metal compound different from the specific metal of the metal layer (A) is used. The dissimilar metal is at least one selected from the group consisting of gold, platinum, silver, mercury, copper, aluminum, nickel, chromium, iron, tin, zinc, indium, palladium, iridium, cobalt, tantalum, antimony, titanium and the like. A metal of a seed | species is mentioned and the metal different from the specific metal of a metal layer (A) is selected. Examples of the metal compound include at least one selected from the group consisting of oxides, nitrides, sulfides, carbides, and fluorides of the metals exemplified as the above-mentioned different metals. Among these, metal oxides, metal nitrides, and metal sulfides are preferably used. The specific metal of the metal layer (A) and the metal in the metal compound of the layer (B) may be the same metal. For example, when the metal layer (A) is made of copper, the layer A mode in which (B) is composed of copper oxide is included in the present invention.

上記の金属酸化物としては、ITO、ATO、酸化銅、酸化クロム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化銀、酸化コバルト、酸化水銀、酸化金、酸化イリジウム等が好ましく用いられる。   As the metal oxide, ITO, ATO, copper oxide, chromium oxide, tin oxide, zinc oxide, silver oxide, cobalt oxide, mercury oxide, gold oxide, iridium oxide and the like are preferably used.

上記の金属窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化チタン等が好ましく用いられる。   As the above metal nitride, aluminum nitride, titanium nitride or the like is preferably used.

上記の金属硫化物としては、硫化クロム、硫化銅、硫化パラジウム、硫化ニッケル、硫化コバルト、硫化鉄、硫化タンタル、硫化チタン等が好ましく用いられる。   As the metal sulfide, chromium sulfide, copper sulfide, palladium sulfide, nickel sulfide, cobalt sulfide, iron sulfide, tantalum sulfide, titanium sulfide and the like are preferably used.

本発明にかかる導電性メッシュを構成する金属層(A)の厚みは、0.5〜4μmである。金属層(A)は導電性メッシュの電磁波遮蔽性能を発現する層であり、十分な電磁波遮蔽性能を確保するためには、厚みが0.5μm以上必要であり、厚みが1μm以上であることが好ましい。一方、導電性メッシュの厚みは、金属層(A)の厚みに大きく依存するので、金属層(A)の厚みが4μmより大きくなると、導電性メッシュの合計厚みが大きくなり、表面層の塗工性が低下し、また、導電性メッシュのコスト、加工性の点で不利となる。   The thickness of the metal layer (A) which comprises the electroconductive mesh concerning this invention is 0.5-4 micrometers. The metal layer (A) is a layer that exhibits the electromagnetic wave shielding performance of the conductive mesh. In order to ensure sufficient electromagnetic wave shielding performance, the thickness is required to be 0.5 μm or more, and the thickness is 1 μm or more. preferable. On the other hand, since the thickness of the conductive mesh greatly depends on the thickness of the metal layer (A), if the thickness of the metal layer (A) exceeds 4 μm, the total thickness of the conductive mesh increases, and the coating of the surface layer is performed. This is disadvantageous in terms of cost and workability of the conductive mesh.

本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理(酸化処理)は特に施す必要性はない。つまり、この黒化処理に代えて、層(B)を金属層(A)の上に積層することによって、金属層(A)の金属光沢を低減することができるからである。層(B)は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
本発明の導電性メッシュには、従来の一般的な黒化処理(酸化処理)は必ずしも施す必要はない。つまり、この黒化処理に代えて、層(B)を金属層(A)の上に積層し、さらに平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有した表面層を設けることによって、金属層(A)の金属光沢に起因する視認性の低下を抑制することができるからである。本発明において、層(B)は導電性メッシュの最表面に配置することが好ましい。
The conductive mesh of the present invention does not need to be subjected to conventional general blackening treatment (oxidation treatment). That is, instead of this blackening treatment, the metallic luster of the metal layer (A) can be reduced by laminating the layer (B) on the metal layer (A). The layer (B) is preferably disposed on the outermost surface of the conductive mesh.
The conductive mesh of the present invention is not necessarily subjected to conventional general blackening treatment (oxidation treatment). That is, instead of this blackening treatment, the layer (B) is laminated on the metal layer (A), and a surface layer containing translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm is further provided. It is because the fall of visibility resulting from the metallic luster of a layer (A) can be suppressed. In the present invention, the layer (B) is preferably disposed on the outermost surface of the conductive mesh.

導電性メッシュを構成する層(B)は、金属層(A)の金属光沢を低減するため、あるいは、金属層(A)の色目を変化させるための層である。本発明において、層(B)は、0.1μm以下の極薄膜である。層(B)の厚みが0.1μmより大きくなると、コスト、加工性の点で不利である。また、金属層(A)と層(B)の屈折率差で金属層(A)の色目を変化させるためには、層(B)は光透過性が必要であり、層(B)の厚みが0.1μmより大きくなると、光透過性が低下し、上記目的を達成できなくなる。   The layer (B) constituting the conductive mesh is a layer for reducing the metallic luster of the metal layer (A) or changing the color of the metal layer (A). In the present invention, the layer (B) is an ultrathin film of 0.1 μm or less. When the thickness of the layer (B) is larger than 0.1 μm, it is disadvantageous in terms of cost and workability. Further, in order to change the color of the metal layer (A) by the difference in refractive index between the metal layer (A) and the layer (B), the layer (B) needs to have light transmittance, and the thickness of the layer (B). When the thickness exceeds 0.1 μm, the light transmittance is lowered and the above-mentioned purpose cannot be achieved.

例えば、金属層(A)として銅を用いた場合、その赤味がかった色合いを、異種金属で構成される層(B)を積層することによって、所望する色目に変更することができる。   For example, when copper is used as the metal layer (A), the reddish hue can be changed to a desired color by laminating the layer (B) made of a different metal.

上記した層(B)の目的を達成するためには、層(B)の厚みは、0.005μm以上必要であり、好ましくは0.01μm以上である。   In order to achieve the purpose of the layer (B) described above, the thickness of the layer (B) needs to be 0.005 μm or more, preferably 0.01 μm or more.

本発明にかかる、導電性メッシュの厚み(金属層(A)と層(B)を含む導電性メッシュの合計厚み)は、4μmが好ましく、3.5μm以下がより好ましく、特に3μm以下が好ましい。一方、導電性メッシュの合計厚みの下限としては、0.6μm以上が好ましく、0.8μm以上がより好ましく、特に1μm以上が好ましい。   The thickness of the conductive mesh (the total thickness of the conductive mesh including the metal layer (A) and the layer (B)) according to the present invention is preferably 4 μm, more preferably 3.5 μm or less, and particularly preferably 3 μm or less. On the other hand, the lower limit of the total thickness of the conductive mesh is preferably 0.6 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, and particularly preferably 1 μm or more.

本発明にかかる導電性メッシュの製造方法について、以下に説明する。   The manufacturing method of the electroconductive mesh concerning this invention is demonstrated below.

導電性メッシュを製造するに際し、予め、基材上に特定金属からなる金属層(A)と該特定金属とは異種の金属もしくは金属化合物からなる層(B)が、基材側から金属層(A)、層(B)の順に積層される。金属層(A)と層(B)の積層方式としては、気相製膜法を用いることが好ましい。気相製膜法は、層(B)のような極薄膜を均一に精度よく製膜するのに適しており、また、金属層(A)と層(B)を気相製膜法で、連続的に製膜することができ、生産性の面で有利である。また、気相製膜法は、湿式メッキ法に比べて、作業環境面で好ましい。   In producing the conductive mesh, a metal layer (A) made of a specific metal and a layer (B) made of a metal or a metal compound different from the specific metal are previously formed on the substrate from the metal layer ( A) and layer (B) are laminated in this order. As a lamination method of the metal layer (A) and the layer (B), it is preferable to use a vapor deposition method. The vapor deposition method is suitable for forming an ultrathin film such as the layer (B) uniformly and accurately, and the metal layer (A) and the layer (B) are vapor deposition methods. Films can be continuously formed, which is advantageous in terms of productivity. Further, the vapor deposition method is preferable in terms of working environment as compared with the wet plating method.

気相製膜法としては、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等が挙げられるが、これらの中でも、スパッタリング及び真空蒸着が好ましい。   Examples of the vapor deposition method include sputtering, ion plating, electron beam evaporation, vacuum evaporation, and chemical vapor deposition. Among these, sputtering and vacuum evaporation are preferable.

基材上に気相製膜法で積層された、金属層(A)と層(B)のパターン加工方法について、2つの好ましい加工方法を説明する。以下の説明において、金属層(A)と層(B)が積層されたものを、単に含金属積層膜と言う。   Two preferable processing methods will be described for the pattern processing method of the metal layer (A) and the layer (B) laminated on the base material by the vapor deposition method. In the following description, a structure in which the metal layer (A) and the layer (B) are laminated is simply referred to as a metal-containing laminated film.

1つのパターン加工方法は、含金属積層膜をエッチング法によってメッシュパターン状に加工する方法である。もう1つの加工方法は、予め基材上に、溶剤に可溶な樹脂を用いて導電性メッシュのパターンとは逆パターンを形成し、次いで、基材のパターン形成面に気相製膜法で含金属積層膜を積層し、溶剤にて逆パターンの樹脂とその上の含金属積層膜を除去することによって、メッシュパターンの含金属積層膜を形成する方法である。   One pattern processing method is a method of processing a metal-containing laminated film into a mesh pattern by an etching method. In another processing method, a pattern reverse to the pattern of the conductive mesh is formed on a base material in advance using a resin soluble in a solvent, and then a gas phase film forming method is applied to the pattern forming surface of the base material. This is a method of forming a metal-containing laminated film having a mesh pattern by laminating a metal-containing laminated film and removing the reverse-patterned resin and the metal-containing laminated film thereon with a solvent.

前者のパターン加工方法について詳細に説明する。かかる加工方法は、基材上に気相製膜法で積層された含金属積層膜の上に、フォトリソグラフィー法あるいはスクリーン印刷法などを利用してレジストパターンを作製した後、含金属積層膜をエッチングする方法である。上記のレジストパターンを形成する方法としては、フォトリソグラフィー法が好ましく用いられる。かかるフォトリソグラフィー法は、金属薄膜上に感光性レジスト層を積層し、該レジスト層をメッシュパターン状に露光し、現像してレジストパターンを形成し、次いで、含金属積層膜をエッチングしてメッシュパターン化し、メッシュ上のレジスト層を剥離除去する方法である。   The former pattern processing method will be described in detail. Such a processing method includes forming a resist pattern on a metal-containing laminate film laminated on a substrate by a vapor deposition method using a photolithography method or a screen printing method, and then forming the metal-containing laminate film. This is a method of etching. As a method for forming the resist pattern, a photolithography method is preferably used. In such a photolithography method, a photosensitive resist layer is laminated on a metal thin film, the resist layer is exposed to a mesh pattern, developed to form a resist pattern, and then the metal-containing laminated film is etched to form a mesh pattern. The resist layer on the mesh is peeled and removed.

感光性レジスト層としては、露光部分が硬化するネガレジスト、あるいは逆に露光部分が現像によって溶解するポジレジストを用いることができる。感光性レジスト層は含金属積層膜上に直接に塗工して積層してもよいし、あるいはフォトレジストからなるフィルムを貼り合わせてもよい。フォトレジスト層を露光する方法としては、フォトマスクを介して紫外線等で露光する方法、もしくはレーザーを用いて直接に走査露光する方法を用いることができる。   As the photosensitive resist layer, a negative resist in which the exposed portion is cured or a positive resist in which the exposed portion is dissolved by development can be used. The photosensitive resist layer may be directly coated and laminated on the metal-containing laminated film, or a film made of a photoresist may be bonded. As a method for exposing the photoresist layer, there can be used a method of exposing with an ultraviolet ray or the like through a photomask, or a method of directly scanning and exposing using a laser.

エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、レジストパターンで保護された金属部分以外の金属をエッチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。   Etching methods include chemical etching methods. Chemical etching is a method in which a metal other than a metal portion protected by a resist pattern is dissolved and removed with an etching solution. Examples of the etching solution include a ferric chloride aqueous solution, a cupric chloride aqueous solution, and an alkaline etching solution.

後者のパターン加工方法について詳細に説明する。このパターン加工方法は、一般にリフトオフと呼ばれる方法であり、基材上に予め剥離可能な樹脂を用いて導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成し、その上から含金属積層膜を積層し、次いで、前記逆パターンの樹脂層を剥離する方法である。前記の逆パターンの樹脂層を剥離するときに、同時に樹脂層上の含金属積層膜も一緒に剥離されるため、樹脂層を形成しなかった部分にのみ含金属積層膜のパターンが形成される。従って、この加工方法は、剥離可能な樹脂層は導電性メッシュとは逆パターンに形成する必要がある。   The latter pattern processing method will be described in detail. This pattern processing method is generally called lift-off. A resin layer having a pattern opposite to that of the conductive mesh is formed on a substrate in advance using a resin that can be peeled, and a metal-containing laminated film is laminated thereon. Then, the resin layer having the reverse pattern is peeled off. When the resin layer having the reverse pattern is peeled off, the metal-containing laminated film on the resin layer is also peeled off at the same time, so that the pattern of the metal-containing laminated film is formed only in the portion where the resin layer is not formed. . Therefore, in this processing method, it is necessary to form the peelable resin layer in a pattern opposite to that of the conductive mesh.

基材上に、予め、導電性メッシュパターンとは逆パターンに形成される、剥離可能な樹脂層に用いられる樹脂としては、溶剤に可溶な樹脂が好ましく用いられる。かかる樹脂としては、水溶性樹脂、有機溶剤に可溶な樹脂、及びアルカリに可溶な樹脂を用いることができる。これらの樹脂の中でも、作業環境等の観点から、水溶性樹脂が好ましく、特に水溶性の高分子樹脂が好ましく用いられる。   A resin that is soluble in a solvent is preferably used as the resin used for the peelable resin layer that is formed in advance on the substrate in a pattern opposite to the conductive mesh pattern. As such a resin, a water-soluble resin, a resin soluble in an organic solvent, and a resin soluble in an alkali can be used. Among these resins, a water-soluble resin is preferable from the viewpoint of work environment and the like, and a water-soluble polymer resin is particularly preferably used.

水溶性高分子樹脂としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコールの部分ケン化物、可溶性デンプン、カルボキシメチルデンプン、酢酸ビニル−マレイン酸交互共重合体、ヒドロキシプロピルセルロースが挙げられ、これらの水溶性高分子樹脂の1種もしくは2種以上の混合物を用いることができる。   Examples of water-soluble polymer resins include polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, soluble starch, carboxymethyl starch, vinyl acetate-maleic acid alternating copolymer, and hydroxypropyl cellulose. One or a mixture of two or more molecular resins can be used.

有機溶剤に可溶な樹脂としては、例えば、ポリイミドエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリヒダントイン樹脂、ポリパラバン樹脂や溶剤可溶型ポリイミド樹脂などがある。またシリコーングリースや油性インクなどを用いることもできる。   Examples of resins that are soluble in organic solvents include polyimide ether resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polybenzimidazole resins, polyhydantoin resins, polyparaban resins, and solvent-soluble polyimide resins. Silicone grease or oil-based ink can also be used.

アルカリに可溶な樹脂としては一般的なレジストを用いることが可能である。レジストを構成するバインダポリマーとしては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1,2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1,3 −ブタジエン、ポリ−2−t−ブチル−1,3−ブタジエン、ポリ−1,3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−2−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−t−ブチルアクリレート、ポリ−3−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−n−プロピルメタクリレート、ポリ−3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−2−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−1,1−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ(メタ)アクリル酸エステルを使用することができる。さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。   As the alkali-soluble resin, a general resist can be used. Examples of the binder polymer constituting the resist include the following. Natural rubber, polyisoprene, poly-1,2-butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, poly-2-t-butyl-1,3-butadiene, poly-1,3- (Di) enes such as butadiene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, polyethers such as polyvinyl butyl ether, polyesters such as polyvinyl acetate and polyvinyl propionate, polyurethane, ethyl cellulose, poly Vinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, polysulfide, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, poly-2-ethylhexyl acrylate, poly-t-butyl acrylate, poly-3-eth Xylpropyl acrylate, polyoxycarbonyl tetramethacrylate, polymethyl acrylate, polyisopropyl methacrylate, polydodecyl methacrylate, polytetradecyl methacrylate, poly-n-propyl methacrylate, poly-3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate, polyethyl methacrylate, Poly (meth) acrylic acid esters such as poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate, poly-1,1-diethylpropyl methacrylate, and polymethyl methacrylate can be used. Furthermore, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate, or the like can be used as a copolymerizable monomer other than acrylic resin and acrylic.

剥離可能な樹脂を用いて、基材上に導電性メッシュとは逆パターンの樹脂層を形成する方法としては、印刷法やフォトリソグラフィー法などを用いることができる。印刷法としては、例えば、スクリーン印刷、インクジェット、凹版印刷、凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷など様々な方法を用いることができる。   As a method for forming a resin layer having a pattern opposite to that of the conductive mesh on a substrate using a peelable resin, a printing method, a photolithography method, or the like can be used. As a printing method, for example, various methods such as screen printing, inkjet, intaglio printing, relief printing, offset printing, gravure printing, flexographic printing, and the like can be used.

フォトリソグラフィー法は、前述のエッチング法によるパターン加工方法で説明したフォトリソグラフィー法を用いることができる。   As the photolithography method, the photolithography method described in the pattern processing method using the above-described etching method can be used.

本発明にかかる導電性メッシュにおいて、金属層(A)として、銅を用いる場合は、金属層(A)と基材との接着性を向上させるために、基材と金属層(A)との間に、5〜100nmの厚みのニッケル層を配置するのが好ましい。このニッケル層は、前述した気相製膜法で形成することが好ましい。このニッケル層は、金属層をパターン加工するときに、同じようにパターン加工され、導電性メッシュの一部を構成する。   In the electroconductive mesh concerning this invention, when using copper as a metal layer (A), in order to improve the adhesiveness of a metal layer (A) and a base material, a base material and a metal layer (A) are used. It is preferable to arrange a nickel layer having a thickness of 5 to 100 nm between them. This nickel layer is preferably formed by the vapor deposition method described above. This nickel layer is patterned in the same way when the metal layer is patterned, and constitutes a part of the conductive mesh.

本発明において、導電性メッシュの線幅は3〜30μmの範囲が好ましく、5〜20μmの範囲がより好ましく、特に5〜12μmの範囲が好ましい。導電性メッシュのピッチは、50〜500μmの範囲が好ましく、80〜400μmの範囲がより好ましく、特に100〜300μmの範囲が好ましい。ここで、導電性メッシュのピッチとは、導電性メッシュの開口部のピッチを意味し、具体的には、1つの開口部と、この開口部と1辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離である。導電性メッシュとして、開口部が正方形の格子状のメッシュパターンが一般的に用いられているが、開口部が正方形の格子状の導電性メッシュの場合は、そのピッチは、隣接する細線間の距離(正方形の向かい合う2辺の距離)となる。   In the present invention, the line width of the conductive mesh is preferably in the range of 3 to 30 μm, more preferably in the range of 5 to 20 μm, and particularly preferably in the range of 5 to 12 μm. The pitch of the conductive mesh is preferably in the range of 50 to 500 μm, more preferably in the range of 80 to 400 μm, and particularly preferably in the range of 100 to 300 μm. Here, the pitch of the conductive mesh means the pitch of the openings of the conductive mesh. Specifically, the center of gravity of one opening and an adjacent opening sharing one side with this opening. Is the distance between. As the conductive mesh, a grid-like mesh pattern with square openings is generally used, but in the case of a grid-like conductive mesh with square openings, the pitch is the distance between adjacent fine lines. (Distance between two sides of a square facing each other).

導電性メッシュのメッシュパターンの形状(開口部の形状)は、例えば、正方形、長方形、菱形等の4角形からなる格子状メッシュパターン、三角形、5角形、6角形、8角形、12角形のような多角形からなるメッシュパターン、円形、楕円形からなるメッシュパターン、前記の複合形状からなるメッシュパターン、及びランダムメッシュパターンが挙げられる。上記の中でも、4角形からなる格子状メッシュパターン、6角形からなるメッシュパターンが好ましく、更に規則的なメッシュパターンが好ましく用いられる。
(表面層)
次に、導電性メッシュ上に積層される表面層について説明する。本発明にかかる表面層は、光学機能及び/または表面保護機能を有する層であることが好ましい。光学機能としては、反射防止機能、防眩機能等があり、表面保護機能としては、ハードコート機能、防汚機能等がある。
The shape of the mesh pattern of the conductive mesh (the shape of the opening) is, for example, a lattice mesh pattern formed of a quadrangle such as a square, a rectangle, or a rhombus, a triangle, a pentagon, a hexagon, an octagon, or a dodecagon. Examples thereof include a mesh pattern made of a polygon, a mesh pattern made of a circle and an ellipse, a mesh pattern made of the composite shape, and a random mesh pattern. Among these, a lattice mesh pattern made of a tetragon and a mesh pattern made of a hexagon are preferable, and a regular mesh pattern is more preferably used.
(Surface layer)
Next, the surface layer laminated on the conductive mesh will be described. The surface layer according to the present invention is preferably a layer having an optical function and / or a surface protection function. Examples of the optical function include an antireflection function and an antiglare function, and examples of the surface protection function include a hard coat function and an antifouling function.

また、本発明の表面層は、導電性メッシュの金属光沢に起因する表示画像の視認性の低下を抑制するための層である。上述したように、導電性メッシュを構成する金属層(A)の金属光沢を防止し、表示画像の視認性の低下を抑制するには、極薄膜の層(B)のみでは不十分であり、それを補うために本発明の表面層、即ち、平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有する表面層が配置される。   Further, the surface layer of the present invention is a layer for suppressing a decrease in visibility of a display image due to the metallic gloss of the conductive mesh. As described above, the ultrathin layer (B) alone is not sufficient to prevent the metallic luster of the metal layer (A) constituting the conductive mesh and suppress the decrease in the visibility of the display image, In order to compensate for this, the surface layer of the present invention, that is, the surface layer containing translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm is disposed.

本発明にかかる表面層は、単一層で構成されてもよいし、複数層で構成されていてもよい。また、複数の機能を併せ持つ層で構成されてもよい。   The surface layer according to the present invention may be composed of a single layer or a plurality of layers. Moreover, you may be comprised by the layer which has a some function together.

本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。この場合、ハードコート層のみで構成されていてもよいし、他の機能層、例えば反射防止層、防眩層、防汚層等との積層構成であってもよい。表面層が複数の積層構成の場合は、ハードコート層は、導電性メッシュに最も近い位置に配置されることが好ましい(つまり、導電性メッシュを被覆するようにハードコート層を形成することが好ましい。)。   The surface layer according to the present invention preferably includes at least a hard coat layer. In this case, it may be constituted only by a hard coat layer, or may be a laminated constitution with other functional layers such as an antireflection layer, an antiglare layer, an antifouling layer and the like. When the surface layer has a plurality of laminated structures, the hard coat layer is preferably disposed at a position closest to the conductive mesh (that is, the hard coat layer is preferably formed so as to cover the conductive mesh). .)

本発明にかかる表面層は、平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有する。かかる透光性粒子としては、無機系、有機系のものが挙げられるが、有機系材料により形成されるものが好ましい。透光性粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。   The surface layer according to the present invention contains translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm. Such translucent particles include inorganic and organic particles, but those formed of organic materials are preferred. Specific examples of the translucent particles include silica beads for inorganic systems and plastic beads for organic systems.

プラスチックビーズとしては、アクリル系、スチレン系、メラミン系、アクリル−スチレン系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系等が挙げられる。本発明では、透明性に優れるアクリル系を用いるのが好ましい。   Examples of plastic beads include acrylic, styrene, melamine, acrylic-styrene, polycarbonate, and polyethylene. In the present invention, it is preferable to use an acrylic system having excellent transparency.

また、透光性粒子の形状は球状(真球状、楕円状、など)のものが好ましく、より好ましくは真球状のものである。   Further, the shape of the translucent particles is preferably spherical (true spherical, elliptical, etc.), more preferably true spherical.

表面層に含有する透光性粒子の平均粒子径としては、好ましくは1.5〜15μmであり、より好ましくは2〜12μmである。ここで、透光性粒子の平均粒子径は、体積基準の体積平均径であり、フィルターサンプルの光学顕微鏡写真を撮影して顕微鏡写真を解析することにより測定される。   The average particle diameter of the translucent particles contained in the surface layer is preferably 1.5 to 15 μm, more preferably 2 to 12 μm. Here, the average particle diameter of the translucent particles is a volume-based volume average diameter, and is measured by taking an optical micrograph of the filter sample and analyzing the microphotograph.

表面層における透光性粒子の含有量は、表面層の全成分100質量%に対して2〜20質量%の範囲が好ましく、3〜15質量%の範囲がより好ましく、更に3〜12質量%の範囲が好ましく、特に3〜10質量%の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計100質量%に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ透光性粒子が含有され、他の層には透光性粒子が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計100質量%に対して、上述の量範囲が好ましい。   The content of the translucent particles in the surface layer is preferably in the range of 2 to 20% by mass, more preferably in the range of 3 to 15% by mass, and further 3 to 12% by mass with respect to 100% by mass of all components of the surface layer. The range of 3-10 mass% is especially preferable. In addition, also when a surface layer is comprised by multiple layers, the above-mentioned quantity range is preferable with respect to 100 mass% of all the components total of all the layers which comprise a surface layer. Further, even when the surface layer is composed of a plurality of layers, and the translucent particles are contained only in a part of the plurality of layers and the translucent particles are not contained in the other layers, the surface layer The above-mentioned amount range is preferable with respect to a total of 100% by mass of all components of all the layers constituting the layer.

前述したように、表面層は少なくともハードコート層を含むことが好ましく、ハードコート層に上記した透光性粒子を含有させることが好ましい。ハードコート層に透光性粒子を含有させる場合の透光性粒子の含有量は、ハードコート層の全成分100質量%に対して2〜20質量%の範囲が好ましく、3〜15質量%の範囲がより好ましく、更に3〜12質量%の範囲が好ましく、特に3〜10質量%の範囲が好ましい。   As described above, the surface layer preferably includes at least a hard coat layer, and the hard coat layer preferably includes the above-described translucent particles. When the hard coat layer contains the light transmissive particles, the content of the light transmissive particles is preferably in the range of 2 to 20% by weight with respect to 100% by weight of all the components of the hard coat layer, and 3 to 15% by weight. The range is more preferable, the range of 3 to 12% by mass is further preferable, and the range of 3 to 10% by mass is particularly preferable.

本発明において、表面層の中心線平均粗さRaは300〜1000nmの範囲であることが好ましく、400〜900nmの範囲がより好ましく、特に500〜800nmの範囲が好ましい。表面層の中心線平均粗さRaは、上記した透光性粒子の平均粒子径、及び含有量を上記の範囲内で調整することによって制御することが好ましい。   In the present invention, the center line average roughness Ra of the surface layer is preferably in the range of 300 to 1000 nm, more preferably in the range of 400 to 900 nm, and particularly preferably in the range of 500 to 800 nm. The center line average roughness Ra of the surface layer is preferably controlled by adjusting the average particle diameter and the content of the above-described translucent particles within the above range.

本発明にかかる表面層は、更に着色剤を含有することが好ましい。表面層に着色剤を含有させることによって、導電性メッシュの金属光沢に起因する視認性に低下を更に改善することができる。かかる着色剤としては、表面層にニュートラルな色味を付けることができる、顔料、染料、色素などを用いることが好ましい。着色剤としては、黒色系のものが好ましく、例えば、カーボンブラック、黒鉛、黒色クロム、チタンブラック等が好ましく用いられる。また、下記の赤色顔料、緑色顔料、青色顔料を、2種以上混合して用いることもできる。   The surface layer according to the present invention preferably further contains a colorant. By including a colorant in the surface layer, it is possible to further improve the decrease in visibility due to the metallic luster of the conductive mesh. As such a colorant, it is preferable to use a pigment, a dye, a dye, or the like that can give a neutral color to the surface layer. The colorant is preferably a black one, and for example, carbon black, graphite, black chrome, titanium black and the like are preferably used. Also, two or more of the following red pigments, green pigments, and blue pigments can be mixed and used.

赤色顔料としてはColor Index No.ピグメントレッド(以下、PRと略す)9、97、122、123、149、168、177、180、192、215、254等が、緑色顔料としてはColor Index No.ピグメントグリーン(以下、PGと略す)7、36等が、青色顔料としてはColor Index No.ピグメントブルー(以下、PBと略す)15:3、15:4、15:6、21、22、60、64等が挙げられる。   As a red pigment, Color Index No. Pigment Red (hereinafter abbreviated as PR) 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 254, and the like, and Color Index No. Pigment Green (hereinafter abbreviated as PG) 7, 36, and the like, as a blue pigment, Color Index No. Pigment blue (hereinafter abbreviated as PB) 15: 3, 15: 4, 15: 6, 21, 22, 60, 64, and the like.

上記した、黒色、赤色、緑色、及び青色の顔料の粒子径としては、平均一次粒子径が5〜400nmの範囲のものが好ましく、10〜200nmの範囲のものがより好ましく、特に10〜100nmの範囲のものが好ましい。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装(株)製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。   As the particle diameter of the above-mentioned black, red, green, and blue pigments, the average primary particle diameter is preferably in the range of 5 to 400 nm, more preferably in the range of 10 to 200 nm, particularly 10 to 100 nm. A range is preferred. Here, the average primary particle diameter can be measured using a dynamic light scattering method. Specifically, it can be measured using “Nanotrack” manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

上記の着色剤の含有量は、表面層の全成分100質量%に対して0.01〜10質量%の範囲が適当であり、0.05〜8質量%の範囲が好ましく、特に0.05〜5質量%の範囲が好ましい。なお、表面層が複数層で構成される場合も、表面層を構成する全ての層の全成分合計100質量%に対して、上述の量範囲が好ましい。また表面層が複数層で構成され、さらに複数層の一部の層にのみ着色剤が含有され、他の層には着色剤が含有されていない場合であっても、表面層を構成する全ての層の全成分の合計100質量%に対して、上述の量範囲が好ましい。   The content of the colorant is suitably in the range of 0.01 to 10% by weight, preferably in the range of 0.05 to 8% by weight, particularly 0.05 to 100% by weight of all components of the surface layer. A range of ˜5 mass% is preferred. In addition, also when a surface layer is comprised by multiple layers, the above-mentioned quantity range is preferable with respect to 100 mass% of all the components total of all the layers which comprise a surface layer. In addition, the surface layer is composed of a plurality of layers, and even if the colorant is contained only in some of the plurality of layers and the colorant is not contained in the other layers, all that constitute the surface layer The above-mentioned amount range is preferable with respect to a total of 100% by mass of all the components of the layer.

本発明において、ディスプレイ用フィルター全体の可視光の視感透過率を、25〜65%の範囲に調整することが好ましく、30〜60%の範囲に調整することが好ましい。従って、表面層への着色剤の添加量についても、ディスプレイ用フィルター全体の視感透過率が上記の範囲になるように調整することが好ましい。   In the present invention, the visible light transmittance of the entire display filter is preferably adjusted to a range of 25 to 65%, and more preferably adjusted to a range of 30 to 60%. Therefore, the amount of the colorant added to the surface layer is also preferably adjusted so that the luminous transmittance of the entire display filter is in the above range.

着色剤は、表面層を構成するいずれかの層に含有させることができ、表面層が複数構成の場合は、複数の層に含有させることができる。着色剤は、ハードコート層に含有させることが好ましい。   The colorant can be contained in any one of the layers constituting the surface layer. When the surface layer has a plurality of structures, it can be contained in a plurality of layers. The colorant is preferably contained in the hard coat layer.

ハードコート層に着色剤を含有させる場合の着色剤の含有量は、ハードコート層の全成分100質量%に対して0.01〜10質量%の範囲が適当であり、0.05〜8質量%の範囲が好ましく、特に0.05〜5質量%の範囲が好ましい。   When the colorant is contained in the hard coat layer, the content of the colorant is suitably in the range of 0.01 to 10% by mass with respect to 100% by mass of all components of the hard coat layer, and 0.05 to 8% by mass. % Is preferable, and a range of 0.05 to 5% by mass is particularly preferable.

本発明の導電性メッシュは、従来のような、導電性メッシュの表面に完全な黒化層(酸化処理等による黒化層)を形成するものではないので、導電性メッシュの金属光沢の影響として、外光の映り込みを助長する場合がある。この外光の映り込みは、上記した本発明の表面層を導電性メッシュ上に積層することによって、効果的に抑制することができるようになる。   Since the conductive mesh of the present invention does not form a complete blackened layer (blackened layer by oxidation treatment or the like) on the surface of the conductive mesh as in the prior art, as a result of the metallic luster of the conductive mesh In some cases, external light may be reflected. This reflection of external light can be effectively suppressed by laminating the above-described surface layer of the present invention on a conductive mesh.

本発明にかかる導電性メッシュの厚みは、前述したように、4μm以下が好ましく、この厚みは、従来の一般的な導電性メッシュの厚み(10μm程度)に比べて、小さいものである。従って、導電性メッシュ上に塗工形成される表面層の塗工性が良好となる。
本発明において、表面層の厚みは、1〜15μmの範囲が好ましく、2〜12μmの範囲がより好ましく、2.5〜10μmの範囲が特に好ましい。
As described above, the thickness of the conductive mesh according to the present invention is preferably 4 μm or less, and this thickness is smaller than the thickness of a conventional general conductive mesh (about 10 μm). Therefore, the coating property of the surface layer formed on the conductive mesh is improved.
In the present invention, the thickness of the surface layer is preferably in the range of 1 to 15 μm, more preferably in the range of 2 to 12 μm, and particularly preferably in the range of 2.5 to 10 μm.

(ハードコート層)
本発明にかかる表面層は、少なくともハードコート層を含むことが好ましい。以下、本発明に用いることができるハードコート層について詳細に説明する。
(Hard coat layer)
The surface layer according to the present invention preferably includes at least a hard coat layer. Hereinafter, the hard coat layer that can be used in the present invention will be described in detail.

本発明において、ハードコート層は、ディスプレイ用フィルターの耐擦傷性を高めると言う観点から、硬度が高いことが好ましい。ハードコート層の硬度は、JIS K5600−5−4(1999年)で定義される鉛筆硬度が、H以上が好ましく、2H以上がより好ましい。上限は9H程度である。   In the present invention, the hard coat layer preferably has a high hardness from the viewpoint of enhancing the scratch resistance of the display filter. As for the hardness of the hard coat layer, the pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) is preferably H or more, and more preferably 2H or more. The upper limit is about 9H.

本発明におけるハードコート層は、樹脂成分としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーを含むことができる。かかる樹脂成分として、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂等が挙げられるが、性能、コスト、生産性などのバランスを考慮するとアクリレート系樹脂が好ましく適用される。   The hard coat layer in the present invention can contain monomers, oligomers and polymers as the resin component. Examples of such resin components include thermosetting resins or photocurable resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins. In view of the balance of productivity and the like, an acrylate resin is preferably applied.

上記のアクリレート系の硬化性樹脂としては、多官能アクリレートを主成分とする硬化組成物であることが好ましい。多官能アクリレートとしては、1分子中に3個以上(好ましくは4個以上、更に好ましくは5個以上)の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体もしくはオリゴマー、プレポリマーを挙げることができる。ここで、(メタ)アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基と(メタ)アクリロイルオキシ基を略して表示したものである。以降、「(メタ)・・・」は、上記と同義である。   As said acrylate-type curable resin, it is preferable that it is a hardening composition which has a polyfunctional acrylate as a main component. Examples of the polyfunctional acrylate include monomers or oligomers and prepolymers having 3 or more (preferably 4 or more, more preferably 5 or more) (meth) acryloyloxy groups per molecule. Here, the (meth) acryloyloxy group is an abbreviation of the acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group. Hereinafter, “(meta)...” Has the same meaning as described above.

具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。これらは、1種または2種以上を混合して使用することができる。   Specific examples include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane EO modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, Pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer Or the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する単量体、オリゴマー、プレポリマーの使用割合は、ハードコート層の全成分(有機溶剤を除く)100質量%に対して50〜90質量%の範囲が好ましく、50〜80質量%の範囲がより好ましい。   These monomers, oligomers and prepolymers having 3 or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule are used in an amount of 50% by mass with respect to 100% by mass of all components (excluding organic solvents) of the hard coat layer. The range of -90 mass% is preferable, and the range of 50-80 mass% is more preferable.

上記の化合物以外にハードコート層の剛直性を緩和させたり、硬化時の収縮を緩和させたりする目的で1〜2官能のアクリレートを併用するのが好ましい。1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、ラジカル重合性のある通常の単量体ならば特に限定されずに使用することができる。   In addition to the above-mentioned compounds, it is preferable to use one or two functional acrylates together for the purpose of relaxing the rigidity of the hard coat layer or reducing shrinkage during curing. The monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule can be used without particular limitation as long as it is a normal monomer having radical polymerizability.

分子内に2個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、下記(a)〜(f)の(メタ)アクリレート等を用いることができる。   As the compound having two ethylenically unsaturated double bonds in the molecule, the following (a) to (f) (meth) acrylates and the like can be used.

(a)炭素数2〜12のアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート。   (A) C2-C12 alkylene glycol (meth) acrylic acid diesters: ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl Glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate.

(b)ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリレート酸ジエステル類:ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート。   (B) (Meth) acrylate diesters of polyoxyalkylene glycol: diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate.

(c)多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート。   (C) Polyhydric alcohol (meth) acrylic acid diesters: pentaerythritol di (meth) acrylate.

(d)ビスフェノールAあるいはビスフェノールAの水素化物のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類:2,2’−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−アクリロキシプロポキシフェニル)プロパン。   (D) (Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A or bisphenol A hydride: 2,2′-bis (4-acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2′-bis ( 4-acryloxypropoxyphenyl) propane.

(e)ジイソシアネート化合物と2個のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有化合物に、更にアルコール性水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレタン(メタ)アクリレート類。   (E) A terminal isocyanate group-containing compound obtained by reacting a diisocyanate compound and two alcoholic hydroxyl group-containing compounds in advance with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate further reacted with two ( Urethane (meth) acrylates having a (meth) acryloyloxy group.

(f)分子内に2個のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するエポキシ(メタ)アクリレート類。   (F) Epoxy (meth) acrylates having two (meth) acryloyloxy groups in a molecule obtained by reacting a compound having two epoxy groups in the molecule with acrylic acid or methacrylic acid.

分子内に1個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−及びi−プロピル(メタ)アクリレート、n−、sec−、およびt−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−3−メチルピロリドン、N−ビニル−5−メチルピロリドンなどを用いることができる。これらの単量体は、1種または2種以上混合して使用してもよい。   Compounds having one ethylenically unsaturated double bond in the molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n- and i-propyl (meth) acrylate, n-, sec-, and t. -Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol Mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, - vinyl-3-methylpyrrolidone, or the like can be used N- vinyl-5-methyl pyrrolidone. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

これらの1分子中に1〜2個のエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の使用割合は、ハードコート層の全成分100質量%に対して10〜40質量%の範囲が好ましく、20〜40質量%の範囲がより好ましい。   The use ratio of the monomer having 1 to 2 ethylenically unsaturated double bonds in one molecule is preferably in the range of 10 to 40% by mass with respect to 100% by mass of all components of the hard coat layer. The range of 20-40 mass% is more preferable.

また、ハードコート層の改質剤として、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、有機高分子化合物、紫外線吸収剤、光安定剤、染料、顔料あるいは安定剤などを用いることができ、これらは活性線または熱による反応を損なわない範囲内でハードコート層に含有させることができる。   Further, as a modifier of the hard coat layer, an antifoaming agent, a thickening agent, an antistatic agent, an organic polymer compound, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a dye, a pigment or a stabilizer can be used. Can be contained in the hard coat layer within a range not impairing the reaction due to the active ray or heat.

本発明において、上記のハードコート層を硬化させる方法としては、例えば、活性線として紫外線等を照射する方法や高温加熱法等を用いることができ、これらの方法を用いる場合には、ハードコート層に、光重合開始剤または熱重合開始剤等を加えることが望ましい。   In the present invention, as a method of curing the hard coat layer, for example, a method of irradiating ultraviolet rays or the like as active rays, a high temperature heating method, or the like can be used. When these methods are used, the hard coat layer is used. It is desirable to add a photopolymerization initiator, a thermal polymerization initiator, or the like.

光重合開始剤の具体的な例としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。また、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドまたはジ−t−ブチルパーオキサイドなどのパーオキサイド化合物などを用いることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoyl formate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, tetramethylthio Sulfur compounds such as uranium disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone can be used. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, as a thermal polymerization initiator, a peroxide compound such as benzoyl peroxide or di-t-butyl peroxide can be used.

光重合開始剤または熱重合開始剤の使用量は、ハードコート層の全成分100質量%に対して、0.01〜10質量%の範囲が適当である。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、必ずしも重合開始剤を添加する必要はない。また200℃以上の高温で熱硬化させる場合には熱重合開始剤の添加は必ずしも必要ではない。   The use amount of the photopolymerization initiator or thermal polymerization initiator is suitably in the range of 0.01 to 10% by mass with respect to 100% by mass of all components of the hard coat layer. When an electron beam or gamma ray is used as a curing means, it is not always necessary to add a polymerization initiator. Further, when thermosetting at a high temperature of 200 ° C. or higher, it is not always necessary to add a thermal polymerization initiator.

ハードコート層には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテルまたは2,5−t−ブチルハイドロキノンなどの熱重合防止剤を加えることができる。熱重合防止剤の添加量は、ハードコート層の全成分100質量%に対して、0.005〜0.05質量%の範囲が好ましい。   A thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether or 2,5-t-butyl hydroquinone can be added to the hard coat layer in order to prevent thermal polymerization during production and dark reaction during storage. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably in the range of 0.005 to 0.05% by mass with respect to 100% by mass of all components of the hard coat layer.

本発明で必要に応じて用いられる活性線としては、紫外線、電子線および放射線(α線、β線、γ線など)などアクリル系のビニル基を重合させる電磁波が挙げられ、実用的には、紫外線が簡便であり好ましい。紫外線源としては、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯または炭素アーク灯などを用いることができる。また、活性線を照射するときに、低酸素濃度下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができる。また更に、電子線方式は、装置が高価で不活性気体下での操作が必要ではあるが、塗布層中に光重合開始剤や光増感剤などを含有させなくてもよい点で有利である。   Examples of the active rays used as necessary in the present invention include electromagnetic waves that polymerize acrylic vinyl groups such as ultraviolet rays, electron beams and radiation (α rays, β rays, γ rays, etc.). Ultraviolet light is convenient and preferred. As the ultraviolet ray source, an ultraviolet fluorescent lamp, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used. Moreover, when irradiating actinic radiation, if it irradiates under a low oxygen concentration, it can harden | cure efficiently. Furthermore, the electron beam system is advantageous in that the apparatus is expensive and needs to be operated under an inert gas, but it is not necessary to include a photopolymerization initiator or a photosensitizer in the coating layer. is there.

本発明で用いられる熱硬化に必要な熱としては、スチームヒーター、電気ヒーター、赤外線ヒーターあるいは遠赤外線ヒーターなどを用いて温度を少なくとも140℃以上に加温された空気、不活性ガスを、スリットノズルを用いて基材、塗膜に吹きあてることにより与えられる熱が挙げられ、中でも200℃以上に加温された空気による熱が好ましく、更に好ましくは200℃以上に加温された窒素による熱であることが、硬化速度が早いので好ましい。   As the heat necessary for the thermosetting used in the present invention, steam heater, electric heater, infrared heater or far-infrared heater is used. The heat given by spraying on the base material and the coating film using is used. Among them, heat by air heated to 200 ° C. or higher is preferable, more preferably heat by nitrogen heated to 200 ° C. or higher. It is preferable because the curing rate is high.

ハードコート層の硬化方法としては、ハードコート層に高い硬度を付与するという観点、生産性の観点から、活性線を照射する方法が好ましく、特に紫外線を照射する方法が好ましい。従って、本発明のハードコート層は、紫外線硬化型のハードコート層が好ましい。   As a method for curing the hard coat layer, from the viewpoint of imparting high hardness to the hard coat layer and from the viewpoint of productivity, a method of irradiating actinic rays is preferable, and a method of irradiating ultraviolet rays is particularly preferable. Therefore, the hard coat layer of the present invention is preferably an ultraviolet curable hard coat layer.

また、ハードコート層は、高屈折率化することによって、後述する高屈折率層を兼ねることができる。ハードコート層を高屈折率化する手段としては、ハードコート層に、平均一次粒子径が1〜50nm程度の金属酸化物微粒子を含有させること、あるいは高屈折率成分の分子や原子を含んだ樹脂を含有させる方法が挙げられる。上記の金属酸化物微粒子としては、錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が挙げられる。   The hard coat layer can also serve as a high refractive index layer described later by increasing the refractive index. As means for increasing the refractive index of the hard coat layer, the hard coat layer contains metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of about 1 to 50 nm, or a resin containing molecules and atoms of a high refractive index component. The method of containing is mentioned. Examples of the metal oxide fine particles include tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, and antimony oxide particles.

ハードコート層の厚みは、1〜15μmの範囲が好ましく、2〜12μmの範囲がより好ましく、2.5〜10μmの範囲が特に好ましい。
(表面層を構成する他の機能層)
前述したように、本発明の表面層は、反射防止層、防汚層等の他の機能層を、ハードコート層上に積層することができる。また、ハードコート層に反射防止機能、防汚機能を付与することもできる。
(反射防止層)
反射防止層は、具体的には、可視域において屈折率が1.5以下、好適には1.4以下と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコーン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を、例えば1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、または、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、窒化物、硫化物等の無機化合物あるいはシリコーン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上多層積層したものなどが挙げられる。
The thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 1 to 15 μm, more preferably in the range of 2 to 12 μm, and particularly preferably in the range of 2.5 to 10 μm.
(Other functional layers constituting the surface layer)
As described above, in the surface layer of the present invention, other functional layers such as an antireflection layer and an antifouling layer can be laminated on the hard coat layer. Further, an antireflection function and an antifouling function can be imparted to the hard coat layer.
(Antireflection layer)
Specifically, the antireflection layer is a thin film of fluorine-based transparent polymer resin, magnesium fluoride, silicone resin, or silicon oxide having a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible region. Etc., for example, a single layer formed with an optical film thickness of ¼ wavelength, or inorganic compounds such as metal oxides, fluorides, silicides, nitrides, sulfides or silicone resins having different refractive indexes, Examples thereof include those obtained by laminating two or more thin films of organic compounds such as acrylic resin and fluorine resin.

反射防止性能とコストのバランスのとれた構成としては、最表層から低屈折率層と高屈折率層を積層した構成が好ましいが、本発明においては、高屈折率層は積層されていなくてもよく、その場合は低屈折率層のみとなる。   As a configuration in which the antireflection performance and the cost are balanced, a configuration in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are laminated from the outermost layer is preferable, but in the present invention, even if the high refractive index layer is not laminated. In that case, only the low refractive index layer is used.

上記した高屈折率層の屈折率としては、1.5〜1.8の範囲が好ましく、1.55〜1.7の範囲がより好ましい。低屈折率層の屈折率としては、1.25〜1.45の範囲が好ましく、1.3〜1.4の範囲がより好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is preferably in the range of 1.5 to 1.8, more preferably in the range of 1.55 to 1.7. The refractive index of the low refractive index layer is preferably in the range of 1.25 to 1.45, more preferably in the range of 1.3 to 1.4.

尚、上記屈折率は、シリコンウエハー上に乾燥膜厚が0.1μmとなるように、測定対象となる層の塗料を塗布、乾燥、必要に応じて硬化して被膜を形成した後、位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で633nmにおける屈折率を測定することによって求めることができる。   The above refractive index is obtained by applying a coating of a layer to be measured on a silicon wafer, drying it, and curing it as necessary to form a coating film. It can obtain | require by measuring the refractive index in 633nm with a measuring apparatus (Nikon Co., Ltd. product: NPDM-1000).

(高屈折率層)
高屈折率層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂、含リン系樹脂、含スルフィド樹脂、含ハロゲン樹脂などの樹脂成分を単体または混合系で用いることが出来るが、特に、硬度と耐久性などの点から、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いるのが好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点から、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。特に、(メタ)アクリレート系樹脂は、活性エネルギー線照射によって容易にラジカル重合が起こり、形成される膜の耐溶剤性や硬度が向上するので好ましい。
(High refractive index layer)
The high refractive index layer uses a resin component such as an acrylic resin, urethane resin, melamine resin, organic silicate compound, silicone resin, phosphorus-containing resin, sulfide-containing resin, halogen-containing resin alone or in a mixed system. However, it is particularly preferable to use a silicone resin or an acrylic resin from the viewpoints of hardness and durability. Furthermore, from the viewpoint of curability, flexibility, and productivity, an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin is preferable. In particular, a (meth) acrylate-based resin is preferable because radical polymerization easily occurs upon irradiation with active energy rays and the solvent resistance and hardness of the formed film are improved.

かかる(メタ)アクリレート系樹脂として、例えばペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス−(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステルトリ(メタ)アクリレート等の3官能(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の4官能以上の(メタ)アクリレート等が挙げられる。
高屈折率層には、更にカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有する(メタ)アクリレート化合物(モノマー)を使用することができる。具体的には、酸性官能基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸などの不飽和カルボン酸、モノ(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、ジフェニル−2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のリン酸(メタ)アクリル酸エステル、2−スルホエステル(メタ)アクリレート等が挙げられる。その他、アミド結合、ウレタン結合、エーテル結合などの極性を持った結合を有する(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。
Examples of such (meth) acrylate resins include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris- (2- Trifunctional (meth) acrylate such as hydroxyethyl) -isocyanuric acid ester tri (meth) acrylate, tetrafunctional such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate The above (meth) acrylate etc. are mentioned.
In the high refractive index layer, a (meth) acrylate compound (monomer) having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphoric acid group, or a sulfonic acid group can be used. Specifically, as the acidic functional group-containing monomer, unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, Examples thereof include phosphoric acid (meth) acrylic acid esters such as mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate and diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and 2-sulfoester (meth) acrylate. In addition, a (meth) acrylate compound having a polar bond such as an amide bond, a urethane bond, or an ether bond can be used.

高屈折率層には、塗布した樹脂成分の硬化を進めるために開始剤を含有させてもよい。該開始剤としては、塗布した樹脂成分を、ラジカル反応、アニオン反応、カチオン反応等による重合および/または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものであり、従来から公知の各種光重合開始剤が使用可能である。   The high refractive index layer may contain an initiator in order to advance curing of the applied resin component. As the initiator, the applied resin component initiates or accelerates polymerization and / or crosslinking reaction by radical reaction, anion reaction, cation reaction, etc., and various conventionally known photopolymerization initiators can be used. is there.

かかる光重合開始剤としては、具体的には、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、ジフェニルモノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及びジサルファイド等のサルファイド類や、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体や、ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゼンジアゾニウム塩等のジアゾ化合物や、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カルボニル化合物や、p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、D−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステルや、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等の過酸化物や、9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体や、9,10−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフェナジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナジン誘導体や、6,4’,4”−トリメトキシ−2、3−ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体や、2,4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリフェニルピリリウム四弗化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等が挙げられる。   Specific examples of such photopolymerization initiators include sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and disulfide, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, Thioxanthone derivatives such as 2,4-diethylthioxanthone, azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile, diazo compounds such as benzenediazonium salt, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone Michler's ketone, benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, Aromatic carbonyl compounds such as -chloroanthraquinone, dialkylaminobenzoic acid esters such as methyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl D-dimethylaminobenzoate, isopropyl p-diethylaminobenzoate, Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine, etc. Acridine derivatives, phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, 10-methoxybenzphenazine, and 6,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline Quinoxaline derivatives, 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4,6-triphenylpyrylium tetrafluoride boron salt, 2,4,6-tris (trichloromethyl) ) -1,3,5-triazine, 3,3′-carbonylbiscoumarin, thiomichler ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- ( 4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, and the like.

また、高屈折率層には、上記開始剤の酸素阻害による感度の低下を防止するために、光重合開始剤にアミン化合物を共存させてもよい。このようなアミン化合物としては、例えば、脂肪族アミン化合物や、芳香族アミン化合物等の不揮発性のものであれば、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等が好ましい。   In the high refractive index layer, an amine compound may coexist in the photopolymerization initiator in order to prevent a decrease in sensitivity due to oxygen inhibition of the initiator. Such an amine compound is not particularly limited as long as it is a non-volatile compound such as an aliphatic amine compound or an aromatic amine compound. For example, triethanolamine, methyldiethanolamine and the like are preferable.

また、高屈折率層には、屈折率が1.6以上の金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。これによって高屈折率化が図られ、また帯電防止効果も得られる。
金属酸化物微粒子としては錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム粒子、酸化アンチモン粒子等が好ましく、より好ましくは錫含有酸化インジウム粒子(ITO)、錫含有酸化アンチモン粒子(ATO)である。
The high refractive index layer preferably contains metal oxide fine particles having a refractive index of 1.6 or more. As a result, a high refractive index can be achieved and an antistatic effect can be obtained.
As the metal oxide fine particles, tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, antimony oxide particles, etc. are preferable, and tin-containing oxidation is more preferable. Indium particles (ITO) and tin-containing antimony oxide particles (ATO).

高屈折率層中の金属酸化物微粒子の含有量は、樹脂成分100質量部に対して、0.1〜20質量部の範囲が好ましい。   The content of the metal oxide fine particles in the high refractive index layer is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component.

上記金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は1〜50nmの粒子が好適に使用される。ここで、平均一次粒子径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。具体的には、日機装(株)製の「ナノトラック」を用いて測定することができる。   The average primary particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably 1 to 50 nm. Here, the average primary particle diameter can be measured using a dynamic light scattering method. Specifically, it can be measured using “Nanotrack” manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

高屈折率層の厚みは、200nm以下が好ましく、150nm以下がより好ましい。厚みの下限は、20nm程度である。   The thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, and more preferably 150 nm or less. The lower limit of the thickness is about 20 nm.

(低屈折率層)
低屈折率層は、含フッ素ポリマー、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル、含フッ素シリコーン等の有機系材料、MgF2 、CaF2 、SiO2 等の無機系材料で構成することができる。以下に低屈折率層の好ましい態様を例示する。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is composed of a fluorine-containing polymer, a part of (meth) acrylic acid or a fully fluorinated alkyl ester, an organic material such as fluorine-containing silicone, and an inorganic material such as MgF 2 , CaF 2 , and SiO 2. Can do. Hereinafter, preferred embodiments of the low refractive index layer will be exemplified.

低屈折率層の1つの好ましい態様として、MgF2やSiO2等の薄膜を真空蒸着法やスパッタリング、プラズマCVD法等の気相法により形成する方法、或いはSiO2ゾルを含むゾル液からSiO2ゲル膜を形成する方法等が挙げられる。 As a preferred embodiment of the low refractive index layer, a method of forming a thin film such as MgF 2 or SiO 2 by a vapor deposition method such as vacuum deposition, sputtering, or plasma CVD, or a sol solution containing SiO 2 sol from SiO 2 Examples thereof include a method for forming a gel film.

低屈折率層の他の好ましい態様として、シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする構成を採用することができる。なお、ここで言う「結合」とは、シリカ系微粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化している状態を意味する。シリカ系微粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ系微粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。   As another preferred embodiment of the low refractive index layer, a constitution mainly composed of a siloxane polymer bonded to silica-based fine particles can be employed. The term “bond” as used herein means a state in which the silica component of the silica-based fine particles and the siloxane polymer in the matrix are reacted and homogenized. A siloxane polymer formed by combining with silica-based fine particles once forms a silanol compound by a known hydrolysis reaction with a polyfunctional silane compound in a solvent and an acid catalyst in the presence of the silica-based fine particles. It can be obtained by utilizing the reaction.

かかる多官能性シラン化合物としては、多官能性フッ素含有シラン化合物を含むことが低屈折率化、防汚性の点から好ましく、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシランなどの3官能性フッ素含有シラン化合物、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性フッ素含有シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点から、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが、より好ましい。   The polyfunctional silane compound preferably includes a polyfunctional fluorine-containing silane compound from the viewpoint of low refractive index and antifouling properties, and includes trifluoromethylmethoxysilane, trifluoromethylethoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxy. Trifunctional fluorine-containing silane compounds such as silane, trifluoropropyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, Examples include bifunctional fluorine-containing silane compounds such as heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, all of which are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, trifluoromethylmethoxysilane, trifluoro Chill silane, trifluoropropyl trimethoxy silane, trifluoropropyl triethoxy silane, more preferably.

多官能性シラン化合物として多官能性フッ素非含有シラン化合物を用いることができる。かかる多官能性フッ素非含有シラン化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−(N,N−ジグリシジル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシシプロピルトリメトキシシランなどの3官能性シラン化合物、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシランなどの2官能性シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどの4官能性シラン化合物などが挙げられ、いずれも好適に用いられるが、表面硬度の観点からビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが、より好ましい。   A polyfunctional fluorine-free silane compound can be used as the polyfunctional silane compound. Examples of such polyfunctional fluorine-free silane compounds include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and methyltriethoxy. Silane, hexyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxy Trifunctional silanes such as silane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3- (N, N-diglycidyl) aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxysipropyltrimethoxysilane Compound, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-amino Propylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldiethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyldimethoxy Bifunctional silane compounds such as silane and octadecylmethyldimethoxysilane, tetrafunctional silane compounds such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane, etc. All of these are preferably used. From the viewpoint of surface hardness, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane are preferable. More preferable.

また、上述のシリカ系微粒子としては、平均粒子径1nm〜50nmのシリカ系微粒子であることが好ましい。さらに、かかるシリカ系微粒子の中でも、内部に空洞を有する構造のものが、屈折率を低下させるために、特に好ましく使用される。   The silica-based fine particles are preferably silica-based fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 50 nm. Further, among these silica-based fine particles, those having a structure having a cavity inside are particularly preferably used in order to lower the refractive index.

かかる内部に空洞を有するシリカ系微粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ系微粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ系微粒子等が挙げられ、いずれも好適に用いられる。このような例としては例えば、特許第3272111号公報に開示されている方法によって製造でき、微粒子内部の空洞の占める体積、すなわち微粒子の空隙率としては、5%以上が好ましく、30%以上がさらに好ましい。空隙率は、例えば、水銀ポロシメーター(商品名:ボアサイザー9320−PC2、(株)島津製作所製)を用いて測定することができる。また、該微粒子自体の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく、1.20〜1.35であるのがより好ましい。このようなシリカ系微粒子としては、例えば特開2001−233611号公報に開示されているものや、特許第3272111号公報等の一般に市販されているものを挙げることができる。   Examples of such silica-based fine particles having cavities therein include silica-based fine particles having a hollow portion surrounded by an outer shell, porous silica-based fine particles having a large number of hollow portions, and the like. As such an example, for example, it can be produced by the method disclosed in Japanese Patent No. 3272111, and the volume occupied by the cavities inside the fine particles, that is, the porosity of the fine particles is preferably 5% or more, more preferably 30% or more. preferable. The porosity can be measured using, for example, a mercury porosimeter (trade name: Bore Sizer 9320-PC2, manufactured by Shimadzu Corporation). Further, the refractive index of the fine particles themselves is preferably 1.20 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.35. Examples of such silica-based fine particles include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and those commercially available such as Japanese Patent No. 3272111.

低屈折率層の厚みは、200nm以下が好ましく、150nm以下がより好ましい。厚みの下限は20nm程度である。   The thickness of the low refractive index layer is preferably 200 nm or less, and more preferably 150 nm or less. The lower limit of the thickness is about 20 nm.

(防汚層)
本発明にかかる表面層には、防汚機能を付与することができる。防汚機能は、ハードコート層あるいは反射防止層に付与されてもよいし、防汚層を新たに積層してもよい。
防汚機能は、ディスプレイ用フィルターに、人が指で触ることによって油脂性物質が付着するのを防止したり、大気中のごみや埃が付着するのを防止したり、あるいはこれらの付着物が付着しても除去しやすくするための層である。かかる防汚層としては、例えば、フッ素系コート剤、シリコーン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が用いられる。防汚層を新たに設ける場合の防汚層の厚みは、1〜10nmの範囲が好ましい。
(Anti-fouling layer)
The surface layer according to the present invention can be imparted with an antifouling function. The antifouling function may be imparted to the hard coat layer or the antireflection layer, or a new antifouling layer may be laminated.
The antifouling function prevents the oily substances from adhering to the display filter when touched with a finger, prevents dust and dirt in the atmosphere from adhering, or It is a layer for facilitating removal even if attached. As such an antifouling layer, for example, a fluorine coating agent, a silicone coating agent, a silicon / fluorine coating agent, or the like is used. When the antifouling layer is newly provided, the thickness of the antifouling layer is preferably in the range of 1 to 10 nm.

(基材)
本発明のディスプレイ用フィルターには、基材が用いられるが、該フィルターは1枚のみの基材で構成されることが好ましい。本発明にかかる基材としては、プラスチックフィルムが好ましく用いられる。
(Base material)
A base material is used for the display filter of the present invention, and the filter is preferably composed of only one base material. A plastic film is preferably used as the substrate according to the present invention.

かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、50〜300μmの範囲が適当であるが、コストの観点及びディスプレイ用フィルターの剛性を確保するという観点から80〜250μmの範囲が特に好ましい。またプラスチックフィルムとしては、複数の層を積層した積層フィルムを用いることもできる。   Examples of the resin constituting the plastic film include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polybutylene, acrylic resins, polycarbonate resins, arton resins, and epoxy resins. , Polyimide resin, polyetherimide resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, and the like. Among these, a polyester resin, a polyolefin resin, and a cellulose resin are preferable, and a polyester resin is particularly preferably used. The thickness of the plastic film is suitably in the range of 50 to 300 μm, but is particularly preferably in the range of 80 to 250 μm from the viewpoint of cost and ensuring the rigidity of the display filter. Moreover, as a plastic film, the laminated | multilayer film which laminated | stacked the several layer can also be used.

本発明に用いられるプラスチックフィルムは、導電性メッシュ、表面層あるいは後述する近赤外線遮蔽層との密着性(接着強度)を強化するためのプライマー層(易接着層、下引き層)を設けておくのが好ましい。   The plastic film used in the present invention is provided with a primer layer (easy-adhesive layer, undercoat layer) for enhancing the adhesion (adhesive strength) to the conductive mesh, the surface layer or the near-infrared shielding layer described later. Is preferred.

(ディスプレイ用フィルター)
本発明のディスプレイ用フィルターには、更に近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能の中から選ばれる少なくとも一つの機能を有する層を付与するのが好ましい。
(Display filter)
The display filter of the present invention is preferably further provided with a layer having at least one function selected from a near-infrared shielding function, a color tone adjustment function, or a visible light transmittance adjustment function.

近赤外線遮蔽機能は、波長800〜1100nmの範囲における光線透過率の最大値が15%以下となるように調整するのが好ましい。近赤外線遮蔽機能は、プラスチックフィルムや機能層、あるいは後述する接着層に近赤外線吸収剤を混錬、分散することによって付与してもよいし、近赤外線遮蔽層を新たに設けてもよい。近赤外線遮蔽機能は、近赤外線吸収剤を用いることによって、あるいは導電性薄膜のような金属の自由電子によって近赤外線を反射する層を設けることによって付与することができる。   The near-infrared shielding function is preferably adjusted so that the maximum value of light transmittance in the wavelength range of 800 to 1100 nm is 15% or less. The near-infrared shielding function may be imparted by kneading and dispersing a near-infrared absorber in a plastic film, a functional layer, or an adhesive layer described later, or a near-infrared shielding layer may be newly provided. The near-infrared shielding function can be imparted by using a near-infrared absorbing agent or by providing a layer that reflects near-infrared rays by metal free electrons such as a conductive thin film.

本発明においては、近赤外線吸収剤を樹脂バインダー中に分散もしくは溶解した塗料を塗布乾燥して形成した近赤外線遮蔽層を用いること、あるいはハードコート層や後述する接着層に上記近赤外線吸収剤を含有させる態様が好ましく用いられる。   In the present invention, a near-infrared shielding layer formed by applying and drying a paint in which a near-infrared absorber is dispersed or dissolved in a resin binder is used, or the near-infrared absorber is applied to a hard coat layer or an adhesive layer described later. The mode of inclusion is preferably used.

近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。   Near-infrared absorbers include organic near-infrared absorbers such as phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, diimonium compounds, or titanium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, zinc sulfide, cesium-containing oxides An inorganic near infrared absorber such as tungsten can be used.

上記した近赤外線遮蔽層を新たに設ける場合は、基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に、基材に塗工形成して設けることができる。   When the above-described near-infrared shielding layer is newly provided, it can be provided by coating the base material between the base material and the conductive mesh or on the opposite surface of the base material from the conductive mesh. .

近赤外線遮蔽機能を基材より視認側に付与する場合は、耐光性に優れる無機系近赤外線吸収剤を用いるのが好ましい。   In the case where the near infrared shielding function is imparted to the viewer side from the base material, it is preferable to use an inorganic near infrared absorber having excellent light resistance.

色調調整機能は、ディスプレイから発光される特定波長の光を吸収して色純度や白色度を向上させるための機能である。特に赤色発光の色純度を低下させるオレンジ光を遮蔽するのが好ましく、波長580〜620nmの範囲に吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。更に、白色度を向上させるために波長480〜500nmに吸収極大を有する色素を含有させるのが好ましい。色調調整機能は、上記した波長の光を吸収する色素を含有する層を新たに設けてもよいし、上述の近赤外線遮蔽層、ハードコート層あるいは後述する接着層に色素を含有させてもよい。   The color tone adjustment function is a function for improving color purity and whiteness by absorbing light of a specific wavelength emitted from the display. In particular, it is preferable to shield orange light that reduces the color purity of red light emission, and it is preferable to include a dye having an absorption maximum in a wavelength range of 580 to 620 nm. Furthermore, it is preferable to contain a dye having an absorption maximum at a wavelength of 480 to 500 nm in order to improve whiteness. For the color tone adjustment function, a layer containing a dye that absorbs light having the above-described wavelength may be newly provided, or a dye may be contained in the above-described near-infrared shielding layer, hard coat layer, or adhesive layer described later. .

可視光透過率調整機能は、可視光の透過率を調整するための機能であり、染料や顔料を含有させて調整することができる。可視光透過率調整機能は、基材、近赤外線遮蔽層、ハードコート層、あるいは後述する接着層に付与してもよいし、新たに透過率調整層を設けてもよい。   The visible light transmittance adjusting function is a function for adjusting the visible light transmittance, and can be adjusted by containing a dye or a pigment. The visible light transmittance adjusting function may be imparted to the base material, the near-infrared shielding layer, the hard coat layer, or an adhesive layer described later, or a transmittance adjusting layer may be newly provided.

上述した色調調整機能を有する層及び可視光透過率調整機能を有する層をそれぞれ新たに設ける場合、これらの層は基材と導電性メッシュとの間、もしくは基材に対して導電性メッシュとは反対面に設けることができる。   When a layer having the above-described color tone adjusting function and a layer having a visible light transmittance adjusting function are newly provided, these layers are between the base material and the conductive mesh, or the conductive mesh with respect to the base material. It can be provided on the opposite side.

本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに直接、あるいはガラス板、アクリル板、ポリカーボネート板等の公知の高剛性基板を介して装着することができる。本発明のディスプレイ用フィルターには、ディスプレイあるいは高剛性基板に貼り付けるための接着層を設けるのが好ましい。
上記の高剛性基板は、通常、0.5〜5mmの厚みを有する基板であって、かかる高剛性基板は、本発明のディスプレイ用フィルターを構成する基材には含まれない。
The display filter of the present invention can be attached to the display directly or via a known high-rigidity substrate such as a glass plate, an acrylic plate, or a polycarbonate plate. The display filter of the present invention is preferably provided with an adhesive layer for adhering to a display or a highly rigid substrate.
The high-rigidity substrate is usually a substrate having a thickness of 0.5 to 5 mm, and the high-rigidity substrate is not included in the base material constituting the display filter of the present invention.

接着層には、前述したように近赤外線遮蔽機能、色調調整機能、あるいは可視光透過率調整機能を付与することができる。また、接着層に、ディスプレイを衝撃から保護するための衝撃緩和機能を付与することは好ましい態様である。接着層に衝撃緩和機能を付与するには、接着層の厚みを100μm以上にすることが好ましく、300μm以上がより好ましい。上限の厚みは、接着層のコーティング適性を考慮して3000μm以下が好ましい。   As described above, the adhesive layer can be provided with a near-infrared shielding function, a color tone adjusting function, or a visible light transmittance adjusting function. Moreover, it is a preferable aspect to provide the adhesive layer with an impact relaxation function for protecting the display from impact. In order to impart an impact relaxation function to the adhesive layer, the thickness of the adhesive layer is preferably 100 μm or more, and more preferably 300 μm or more. The upper limit thickness is preferably 3000 μm or less in consideration of the coating suitability of the adhesive layer.

接着層には、公知の接着材あるいは粘着材を用いることができる。粘着材としては、アクリル、シリコーン、ウレタン、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニルなどが挙げられる。接着材としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−1、2−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1、3−ブタジエン、ポリ−1、3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルフォン、フェノキシ樹脂などが挙げられる。   A well-known adhesive material or an adhesive material can be used for an adhesive layer. Examples of the adhesive material include acrylic, silicone, urethane, polyvinyl butyral, and ethylene-vinyl acetate. Adhesives include bisphenol A type epoxy resins, tetrahydroxyphenylmethane type epoxy resins, novolac type epoxy resins, resorcin type epoxy resins, polyolefin type epoxy resins and other epoxy resins, natural rubber, polyisoprene, poly-1, 2- (Di) enes such as butadiene, polyisobutene, polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, etc. Polyesters such as polyethers, polyvinyl acetate, polyvinyl propionate, polyurethane, ethyl cellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, phenoxy resin Etc., and the like.

以下に、本発明のディスプレイ用フィルターの構成例のいくつかを例示するが、本発明はこれらに限定されることはない。尚、下記構成の中で、接着層がディスプレイ側となる。
1)接着層/近赤外線遮蔽層/基材/導電性メッシュ/ハードコート層
2)接着層/近赤外線遮蔽層/基材/導電性メッシュ/ハードコート層/反射防止層
3)接着層/基材/導電性メッシュ/ハードコート層
4)接着層/基材/導電性メッシュ/ハードコート層/反射防止層
上記1)及び2)の近赤外線遮蔽層は、色調調整機能を併せ持つものであり、上記3)及び4)の接着層は、近赤外線遮蔽機能と色調調整機能を併せ持つものである。また、上記1)及び3)のハードコート層は、防眩機能を併せ持つことができる。
Hereinafter, some examples of the configuration of the display filter of the present invention will be exemplified, but the present invention is not limited thereto. In the following configuration, the adhesive layer is on the display side.
1) Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Substrate / conductive mesh / hard coat layer 2) Adhesive layer / Near-infrared shielding layer / Substrate / conductive mesh / hard coat layer / antireflection layer 3) Adhesive layer / base Material / conductive mesh / hard coat layer 4) Adhesive layer / base material / conductive mesh / hard coat layer / antireflection layer The near-infrared shielding layers of the above 1) and 2) also have a color tone adjusting function. The adhesive layers 3) and 4) have both a near-infrared shielding function and a color tone adjustment function. Further, the hard coat layers 1) and 3) can have an antiglare function.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例で作製されたディスプレイ用フィルターの各サンプルの評価方法を以下に示す。
(1)表面層の中心線平均粗さRa
表面層の中心線平均粗さRaを、表面粗さ測定器SE−3400((株)小坂研究所製)を用いて測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. In addition, the evaluation method of each sample of the filter for a display produced in the present Example is shown below.
(1) Centerline average roughness Ra of the surface layer
The center line average roughness Ra of the surface layer was measured using a surface roughness measuring instrument SE-3400 (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.).

20cm×20cmサイズのサンプル1枚から任意の5箇所以上について計測し、その平均値を表面層のRa値とした。
・測定条件:
送り速さ;0.5mm/S
カットオフ値λc;
Raが20nm以下の場合、λc=0.08mm
Raが20nmより大きく100nm以下の場合、λc=0.25mm
Raが100nmより大きく2000nm以下の場合、λc=0.8mm
評価長さ;8mm
尚、上記測定条件で測定するに際し、まずカットオフ値λc=0.8mmで測定し、その結果、Raが100nmより大きい場合はそのRaを採用する。一方、上記測定の結果、Raが100nm以下の場合は、λc=0.25mmで再測定し、その結果、Raが20nmより大きい場合は、そのRaを採用する。一方、上記の再測定の結果、Raが20nm以下の場合は、λc=0.08mmで測定し、そのRaを採用する。
・Ra:表面粗さ測定器SE−3400((株)小坂研究所製)でRaと定義されたパラメータ。JIS B0601−1982の方法に基づいて測定した。
Measurements were made at any five or more locations from one 20 cm × 20 cm sample, and the average value was taken as the Ra value of the surface layer.
·Measurement condition:
Feeding speed: 0.5mm / S
Cut-off value λc;
When Ra is 20 nm or less, λc = 0.08 mm
When Ra is greater than 20 nm and less than or equal to 100 nm, λc = 0.25 mm
When Ra is greater than 100 nm and less than or equal to 2000 nm, λc = 0.8 mm
Evaluation length: 8mm
In the measurement under the above measurement conditions, first, the measurement is performed with the cut-off value λc = 0.8 mm. As a result, when Ra is larger than 100 nm, the Ra is adopted. On the other hand, if Ra is 100 nm or less as a result of the above measurement, the measurement is performed again at λc = 0.25 mm. If Ra is larger than 20 nm, Ra is adopted. On the other hand, if Ra is 20 nm or less as a result of the re-measurement, measurement is performed at λc = 0.08 mm, and the Ra is adopted.
Ra: A parameter defined as Ra by a surface roughness measuring instrument SE-3400 (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). It measured based on the method of JISB0601-1982.

(2)導電性メッシュの厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡((株)日立製S―800、加速電圧26kV、観察倍率3000倍)にて観察し、導電性メッシュの厚みを計測した。
(2) Conductive mesh thickness A sample cross section is cut out with a microtome, and the cross section is observed with an electrolytic emission scanning electron microscope (Hitachi S-800, acceleration voltage 26 kV, observation magnification 3000 times). The thickness of the sex mesh was measured.

20cm×20cmサイズのサンプル1枚から任意の5箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの厚みとした。   Measurement was made at an arbitrary five locations from one 20 cm × 20 cm sample, and the average value was taken as the thickness of the conductive mesh.

(3)導電性メッシュの線幅及びピッチ
(株)キーエンス製デジタルマイクロスコープ(VHX−200)を用いて、倍率450倍で表面観察を行った。その測長機能を用いて、格子状導電性メッシュのピッチを測長した。20cm×20cmサイズのサンプル1枚から、任意の25箇所について計測し、その平均値を導電性メッシュの線幅、ピッチとした。なお、導電性メッシュのピッチとは、メッシュ構造のある開口部と、この開口部と1辺を共有する隣接する開口部との重心間の距離とする。
(3) Line width and pitch of conductive mesh Surface observation was performed at a magnification of 450 times using a Keyence digital microscope (VHX-200). Using the length measurement function, the pitch of the grid-like conductive mesh was measured. Measurements were made at 25 arbitrary locations from one 20 cm × 20 cm sample, and the average values were taken as the line width and pitch of the conductive mesh. Note that the pitch of the conductive mesh is a distance between the centers of gravity of an opening having a mesh structure and an adjacent opening sharing one side with the opening.

(4)表面層(ハードコート層)の厚み
ミクロトームにてサンプル断面を切り出し、その断面を電解放射型走査電子顕微鏡((株)日立製S―800、加速電圧15kV、観察倍率2000倍)にて観察し、表面層の厚みを計測する。
(4) Thickness of surface layer (hard coat layer) A sample cross section was cut out with a microtome, and the cross section was cut with an electrolytic emission scanning electron microscope (S-800, Hitachi, Ltd., acceleration voltage 15 kV, observation magnification 2000 times). Observe and measure the thickness of the surface layer.

各実施例・比較例について、20cm×20cmサイズのサンプル1枚から任意の10箇所を選び、図1に示すように、任意の2箇所の開口部上に存在する表面層最下点(表面層の視認側の表面の最下点)と表面層下部(表面層の基材側の表面)との距離の平均値((Hr1+Hr2)/2)を算出し、10箇所における平均値を表面層の厚み(Hr)とする。なおHr1、Hr2は、基材表面に対して法線とする。   For each of the examples and comparative examples, 10 arbitrary positions were selected from one sample of 20 cm × 20 cm size, and as shown in FIG. 1, the lowest point of the surface layer (surface layer) existing on the arbitrary two openings The average value ((Hr1 + Hr2) / 2) of the distance between the lowermost point of the surface on the viewing side) and the lower part of the surface layer (surface on the base material side of the surface layer) The thickness (Hr). Hr1 and Hr2 are normal to the substrate surface.

また、表面層中の粒子濃度が低く顕微鏡視野内に凸構造が1つしか見られない場合には、図2に示すように凸部を視野の中央部に配置し、視野端部の表面層厚み(Hr1、Hr2)を用いて、同様の方法にて表面層厚みを算出する。   Further, when the particle concentration in the surface layer is low and only one convex structure can be seen in the microscope field of view, the convex part is arranged in the center of the field of view as shown in FIG. Using the thicknesses (Hr1, Hr2), the surface layer thickness is calculated by the same method.

表面層下部とその下の層の境界が確認しにくい場合には、確認しやすい場所を選んで観測する。
(5)透光性粒子の平均粒子径
ディスプレイ用フィルターサンプルを光学顕微鏡(検査・研究顕微鏡 DMLB HC /ライカマイクロシステムズ社製)にて観察し、顕微鏡写真を撮る(撮像条件:透過モード、倍率;500倍、コンデンサユニット;最下位置に設定)。フィルターの任意の10ヶ所で写真を撮像し、得られた10枚の写真の任意の100μm四方の領域内において、粒子の全形が上記領域内に存在するすべての粒子をスケールで測定して個々の粒子の粒子径(dm)(単位:μm)を求め、dmを四捨五入したデータ群を用いて、1μm毎の個数分布を得る(dmを四捨五入した値(d)が、1μm毎の個数分布における各チャンネルの代表値となる)。この個数分布データを用いて下記式により体積基準の体積平均径を算出する。尚、粒子の形状が円形でない場合は、粒子の最大径をその粒子の粒子径とした。
If it is difficult to confirm the boundary between the lower part of the surface layer and the layer below it, select a place where it is easy to confirm.
(5) Average particle diameter of translucent particles A display filter sample is observed with an optical microscope (inspection / research microscope DMLB HC / Leica Microsystems) and a photomicrograph is taken (imaging conditions: transmission mode, magnification; 500 times, capacitor unit; set to the lowest position). Photographs are taken at any 10 locations of the filter, and in any 100 μm square area of the 10 photographs obtained, all the particles whose entire shape is present in the above area are measured on a scale and individually measured. The particle size (dm) (unit: μm) of the particles is obtained, and a data distribution obtained by rounding dm is used to obtain a number distribution for each 1 μm (the value (d) obtained by rounding dm is the number distribution for each 1 μm). (Representative value for each channel). Using this number distribution data, the volume-based volume average diameter is calculated by the following formula. When the particle shape is not circular, the maximum particle diameter is defined as the particle diameter of the particle.

D = Σ(v×d) / Σ v
( v =(N×d )/Σ(N×d ) )
D:透光性粒子の平均粒子径(μm)
:1μm毎の個数分布における、各チャンネルの体積基準%
:各チャンネルにおける個数
:各チャンネルの代表値
(6)表示画像の視認性の評価
プラズマテレビ(松下電器産業(株)社製のTH−42PX500)のディスプレイパネルから純正の全面フィルターを取り外した後、以下の実施例及び比較例で作製したサンプルを、表面層が観賞側となるようにパネルに直に設置した。さらに、外光として3波長蛍光灯(東芝ライテック(株)製のネオラインラピッドマスター;3波長形昼白色FLR40S N−EDL/M)を、パネルの鉛直照度と水平照度がそれぞれ100ルクスと70ルクスとなるように設置した。
D = Σ (v n × d n ) / Σ v n
(V n = (N n × d n 3 ) / Σ (N n × d n 3 ))
D: Average particle diameter of translucent particles (μm)
v n : volume-based% of each channel in the number distribution every 1 μm
N n : number in each channel
d n: After removing the genuine entire filter from the display panel evaluation Plasma TV visibility representative value (6) the display image of each channel (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. of TH-42PX500), the following exemplary The samples prepared in the examples and comparative examples were placed directly on the panel so that the surface layer was on the viewing side. Furthermore, a three-wavelength fluorescent lamp (Neoline Rapid Master manufactured by Toshiba Lighting & Technology Corp .; three-wavelength daylight white FLR40S N-EDL / M) is used as external light, and the vertical illuminance and horizontal illuminance of the panel are 100 lux and 70 lux, respectively. It installed so that it might become.

次に、パネル点灯の状態で、パネルから1.3m離れた位置で、表示画像の視認性を目視で、以下の基準で評価した。
◎:表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が見えない(極めて良)
○:表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が不鮮明である(良)
△:表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が僅かに不鮮明である(可)
×:表示画像への蛍光灯の映り込み像の輪郭が鮮明に見える(不可)
(7)視感透過率
ディスプレイ用フィルターサンプルについて、分光光度計(島津製作所製、UV3150PC)を用いて、観察者側(樹脂層側)からの入射光に対する透過率を波長300〜1300nmの範囲で測定し、可視光波長領域(380〜780nm)の視感透過率を求める。
(実施例1)
以下の要領でディスプレイ用フィルターを作製した。
<導電性メッシュの作製>
光学用ポリエステルフィルム(東レ(株)製のルミラー(登録商標)QT96、厚み100μm)の片面に、常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層(厚み0.02μm)を形成した。さらにその上に、同じく常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法により、金属層(A)となる銅層(厚み3μm)を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法により、層(B)となる窒化銅層(0.02μm)を形成した。
Next, the visibility of the display image was visually evaluated according to the following criteria at a position 1.3 m away from the panel in a panel lighting state.
◎: The outline of the reflected image of the fluorescent lamp in the display image is not visible (very good)
○: The outline of the reflected image of the fluorescent lamp in the display image is unclear (good)
Δ: The outline of the reflected image of the fluorescent lamp on the display image is slightly blurred (possible)
×: The outline of the reflected image of the fluorescent lamp on the display image looks clear (impossible)
(7) Luminous transmittance With respect to the filter sample for display, using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3150PC), the transmittance for incident light from the observer side (resin layer side) is in a wavelength range of 300 to 1300 nm. Measure and obtain the luminous transmittance in the visible light wavelength region (380 to 780 nm).
Example 1
A display filter was prepared as follows.
<Production of conductive mesh>
On one side of an optical polyester film (Lumirror (registered trademark) QT96 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 100 μm), a nickel layer (thickness 0.02 μm) by vacuum deposition under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa at room temperature. ) Was formed. Furthermore, a copper layer (thickness 3 μm) to be a metal layer (A) was formed thereon by a vacuum vapor deposition method at a room temperature and under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa. Further, a copper nitride layer (0.02 μm) to be a layer (B) was formed on the copper layer by a vacuum vapor deposition method at a room temperature and under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa.

続いて、上記窒化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が10μm、ピッチが200μmであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層(A)の厚みは3μmであり、窒化銅からなる層(B)の厚みは0.02μmであり、ニッケル層、金属層(A)、及び層(B)からなる導電性メッシュの厚みは、3.04μmであった。
<ハードコート層の塗工>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを35質量部、N−ビニルピロリドンを12質量部、メチルメタクリレートを3質量部、メチルエチルケトンを50質量部含む塗液を作製した(HC塗剤1)。
このHC塗剤1に、透光性粒子として平均粒子径3.5μmのアクリル系粒子(綜研化学製のケミスノー(登録商標)MXシリーズ)を5質量%添加してハードコート層用の塗料を作製した。尚、上記のアクリル系粒子の濃度は、ハードコート層の全固形分(有機溶媒を除く全成分)100質量%に対する濃度であり、以下の実施例も同義である。
Subsequently, a photoresist layer was applied and formed on the surface of the copper nitride, the photoresist layer was exposed and developed through a mask having a lattice mesh pattern, and then an etching process was performed to produce a conductive mesh. This conductive mesh had a line width of 10 μm and a pitch of 200 μm. Moreover, the thickness of the metal layer (A) made of copper constituting the conductive mesh is 3 μm, the thickness of the layer (B) made of copper nitride is 0.02 μm, the nickel layer, the metal layer (A), And the thickness of the electroconductive mesh which consists of a layer (B) was 3.04 micrometer.
<Coating of hard coat layer>
A coating liquid containing 35 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 12 parts by mass of N-vinylpyrrolidone, 3 parts by mass of methyl methacrylate, and 50 parts by mass of methyl ethyl ketone was prepared (HC coating agent 1).
A coating material for a hard coat layer is prepared by adding 5% by mass of acrylic particles having an average particle diameter of 3.5 μm (Chemisen (registered trademark) MX series manufactured by Soken Chemical) as translucent particles to HC coating agent 1. did. In addition, the density | concentration of said acrylic particle is a density | concentration with respect to 100 mass% of the total solid (all components except an organic solvent) of a hard-coat layer, and the following Examples are also synonymous.

上記で得られた導電層の導電メッシュ上に、上記のハードコート層用塗料をマイクログラビアコーターでwet塗布量7g/mとなるように塗工し、80℃で乾燥後、紫外線1.0J/cmを照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。
<ディスプレイ用フィルターの作製>
<Neカット機能を有する近赤外線遮蔽層の積層>
近赤外線吸収色素として、日本化薬(株)製 KAYASORB(登録商標) IRG−068を14.5質量部、日本触媒(株)製 イーエクスカラー(登録商標) IR−10Aを8質量部、さらに593nmに主吸収ピークを有する有機色素として、山田化学工業(株)製TAP−2を2.9質量部、メチルエチルケトン2000質量部に攪拌混合して溶解させた。この溶液を透明高分子樹脂バインダー溶液として、日本触媒(株)製 ハルスハイブリッド(登録商標) IR−G205(固形分濃度29%溶液)2000質量部と攪拌混合して塗料を作製した。
On the conductive mesh of the conductive layer obtained above, the above hard coat layer coating was applied with a micro gravure coater to a wet coating amount of 7 g / m 2 , dried at 80 ° C. / Cm 2 was irradiated and cured to form a hard coat layer.
<Preparation of display filter>
<Lamination of near-infrared shielding layer having Ne-cut function>
As a near-infrared absorbing dye, 14.5 parts by mass of KAYASORB (registered trademark) IRG-068 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 8 parts by mass of eXcolor (registered trademark) IR-10A manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. As an organic dye having a main absorption peak at 593 nm, TAP-2 manufactured by Yamada Chemical Industry Co., Ltd. was stirred and mixed in 2.9 parts by mass and 2000 parts by mass of methyl ethyl ketone and dissolved. This solution was stirred and mixed with 2000 parts by mass of Hals Hybrid (registered trademark) IR-G205 (solid content 29% solution) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. as a transparent polymer resin binder solution to prepare a paint.

ハードコート層を形成した側と反対側の光学用ポリエステルフィルム面に、ダイコーターを用いて上記塗料を塗工し、120℃で乾燥して、厚み10μmの近赤外線遮蔽層を積層した。
<粘着剤層の積層>
厚みが25μmのアクリル系透明粘着剤からなる粘着剤層を上記の近赤外線遮蔽層の上に積層した。尚、ディスプレイ用フィルター全体の可視光視感透過率が40%となるように、上記粘着剤層にカーボンブラックを含有させた。
The paint was applied to the optical polyester film side opposite to the side on which the hard coat layer was formed using a die coater, dried at 120 ° C., and a near-infrared shielding layer having a thickness of 10 μm was laminated.
<Lamination of adhesive layer>
A pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic transparent pressure-sensitive adhesive having a thickness of 25 μm was laminated on the near-infrared shielding layer. Note that carbon black was included in the pressure-sensitive adhesive layer so that the visible light transmittance of the entire display filter was 40%.

(実施例2〜4、比較例1、2)
実施例1のHC塗剤1に含有させる透光性粒子の平均粒子径及び含有量を表1のように変更した。また、ハードコート層用塗料のwet塗布量も表1のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
(実施例5)
以下の導電性メッシュに変更する以外は、実施例1と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。
<導電性メッシュの作製>
光学用ポリエステルフィルム(東レ(株)製のルミラー(登録商標)QT96、厚み100μm)の片面に、常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法によりニッケル層(厚み0.02μm)を形成した。さらにその上に、同じく常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法により、金属層(A)となる銅層(厚み3μm)を形成した。更に、上記銅層の上に、同じく常温にて3×10−3Paの真空下で、真空蒸着法により、層(B)となる酸化銅層(0.02μm)を形成した。
(Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 and 2)
The average particle diameter and content of the translucent particles contained in the HC coating agent 1 of Example 1 were changed as shown in Table 1. The wet coating amount of the hard coat layer coating material was also changed as shown in Table 1. Otherwise, a display filter was produced in the same manner as in Example 1.
(Example 5)
A display filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the following conductive mesh was used.
<Production of conductive mesh>
On one side of an optical polyester film (Lumirror (registered trademark) QT96 manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 100 μm), a nickel layer (thickness 0.02 μm) by vacuum deposition under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa at room temperature. ) Was formed. Furthermore, a copper layer (thickness 3 μm) to be a metal layer (A) was formed thereon by a vacuum vapor deposition method at a room temperature and under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa. Further, a copper oxide layer (0.02 μm) to be a layer (B) was formed on the copper layer by a vacuum vapor deposition method at a room temperature and under a vacuum of 3 × 10 −3 Pa.

続いて、上記酸化銅の表面にフォトレジスト層を塗工形成し、格子状メッシュパターンのマスクを介してフォトレジスト層を露光、現像し、次いでエッチング処理を施して、導電性メッシュを作製した。この導電性メッシュは、線幅が10μm、ピッチが200μmであった。また、導電性メッシュを構成する、銅からなる金属層(A)の厚みは3μmであり、酸化銅からなる層(B)の厚みは0.02μmであり、ニッケル層、金属層(A)、及び層(B)からなる導電性メッシュの厚みは、3.04μmであった。   Subsequently, a photoresist layer was applied and formed on the surface of the copper oxide, the photoresist layer was exposed and developed through a mask having a lattice mesh pattern, and then an etching process was performed to produce a conductive mesh. This conductive mesh had a line width of 10 μm and a pitch of 200 μm. Further, the thickness of the copper metal layer (A) constituting the conductive mesh is 3 μm, the thickness of the copper oxide layer (B) is 0.02 μm, the nickel layer, the metal layer (A), And the thickness of the electroconductive mesh which consists of a layer (B) was 3.04 micrometer.

(実施例6〜9)
実施例1〜4のそれぞれのハードコート層用塗料に、更に着色剤としてカーボンブラック(御国色素(株)#201)を、HC塗剤1の全固形分(有機溶媒を除く全成分)100質量%に対して、0.13質量%添加した塗料を用いる以外は、実施例1〜4と同様にしてディスプレイ用フィルターを作製した。尚、実施例6は実施例1、実施例7は実施例2、実施例8は実施例3、実施例9は実施例4に準じる。
(評価)
上記で作製したそれぞれのサンプルについて、表面層の中心線平均粗さRa、表示画像の視認性について評価した。その結果を表1に示す。
(Examples 6 to 9)
Carbon black (Oguni Dye Co., Ltd. # 201) as a colorant was further added to each of the hard coat layer paints of Examples 1 to 4, and the total solid content of HC Coating 1 (all components excluding organic solvents) was 100 masses. A filter for display was produced in the same manner as in Examples 1 to 4, except that the coating material added with 0.13% by mass with respect to% was used. In addition, Example 6 is based on Example 1, Example 7 is based on Example 2, Example 8 is based on Example 3, and Example 9 is based on Example 4.
(Evaluation)
About each sample produced above, centerline average roughness Ra of the surface layer and the visibility of the display image were evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2010048844
Figure 2010048844

表1の結果から、本発明の実施例は、表示画像の視認性に優れていることが分かる。特に実施例6〜9は、表面層が透光性粒子に加えて着色剤を含有しており、表示画像の視認性が一段と改良している。
一方、平均粒子径が1μm未満の透光性粒子を含有する比較例1、及び透光性粒子を含有しない比較例2は、表示画像の視認性は改良されていない。
From the results in Table 1, it can be seen that the example of the present invention is excellent in the visibility of the display image. In particular, in Examples 6 to 9, the surface layer contains a colorant in addition to the translucent particles, and the visibility of the display image is further improved.
On the other hand, in Comparative Example 1 containing translucent particles having an average particle diameter of less than 1 μm and Comparative Example 2 not containing translucent particles, the visibility of the display image is not improved.

本発明の一例のディスプレイ用フィルターの表面層の厚みを示す模式断面図。The schematic cross section which shows the thickness of the surface layer of the filter for displays of an example of this invention. 本発明の他の例のディスプレイ用フィルターの表面層の厚みを示す模式断面図。The schematic cross section which shows the thickness of the surface layer of the filter for displays of the other example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透光性粒子
2 表面層(ハードコート層)
3 基材
4 導電性メッシュ
Hm:導電性メッシュの厚み
Hr1:表面層の厚み
Hr2:表面層の厚み
1 Translucent particle 2 Surface layer (hard coat layer)
3 Substrate 4 Conductive mesh Hm: Conductive mesh thickness Hr1: Surface layer thickness Hr2: Surface layer thickness

Claims (8)

基材上に、導電性メッシュを有し、該導電性メッシュ上に表面層を有するディスプレイ用フィルターであって、
前記導電性メッシュは、前記基材側から順に、特定金属からなる金属層(A)と、前記特定金属とは異種の金属、もしくは金属化合物からなる層(B)とで構成され、
かつ前記金属層(A)の厚みが0.5〜4μm、前記層(B)の厚みが0.005〜0.1μmであり、
前記表面層は、平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有することを特徴とする、ディスプレイ用フィルター。
A display filter having a conductive mesh on a substrate and a surface layer on the conductive mesh,
The conductive mesh is composed of, in order from the base material side, a metal layer (A) made of a specific metal and a layer (B) made of a metal different from the specific metal or a metal compound,
And the thickness of the said metal layer (A) is 0.5-4 micrometers, The thickness of the said layer (B) is 0.005-0.1 micrometer,
The display filter, wherein the surface layer contains translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm.
前記表面層が、前記透光性粒子を表面層の全成分100質量%に対して2〜20質量%含有する、請求項1に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the surface layer contains 2 to 20% by mass of the translucent particles with respect to 100% by mass of all components of the surface layer. 前記表面層が、更に着色剤を含有する、請求項1または2に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the surface layer further contains a colorant. 前記表面層の中心線平均粗さRaが、300〜1000nmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to any one of claims 1 to 3, wherein a center line average roughness Ra of the surface layer is 300 to 1000 nm. 前記金属層(A)を構成する特定金属が、金、銀、銅、アルミニウム、及びニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜4のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。   The display-use filter according to claim 1, wherein the specific metal constituting the metal layer (A) is at least one selected from the group consisting of gold, silver, copper, aluminum, and nickel. 前記層(B)を構成する金属化合物が、金属酸化物、金属硫化物、及び金属窒化物からなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜5のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター。   The display-use filter according to claim 1, wherein the metal compound constituting the layer (B) is at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal sulfides, and metal nitrides. . 前記表面層が、少なくともハードコート層を含み、該ハードコート層が、平均粒子径が1〜20μmの透光性粒子を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 1, wherein the surface layer includes at least a hard coat layer, and the hard coat layer contains translucent particles having an average particle diameter of 1 to 20 μm. . 前記ハードコート層が、更に着色剤を含有する、請求項7に記載のディスプレイ用フィルター。   The display filter according to claim 7, wherein the hard coat layer further contains a colorant.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014046622A (en) * 2012-08-31 2014-03-17 Dexerials Corp Transparent conductive body, input device and electronic apparatus

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