JP2010037281A - イミダゾリウム塩の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の目的は高純度が要求されるイミダゾリウム塩を高収率で得ることのできる製造方法を提供することである。
【解決手段】
本製造方法は以下の工程を含む。
工程1:イミダゾールを4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る工程。
工程2:反応溶液(C)から脱溶媒して粗イミダゾリウム塩(B)を得る工程。
工程3:粗イミダゾリウム塩(B)のアルコール溶液(D)を製造する工程。
工程4:高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)を50〜500MPaの高圧下に置いた後、降圧速度2〜100MPa/minで降圧しながらイミダゾリウム塩結晶(E)を濾別する工程。
【選択図】なし
【解決手段】
本製造方法は以下の工程を含む。
工程1:イミダゾールを4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る工程。
工程2:反応溶液(C)から脱溶媒して粗イミダゾリウム塩(B)を得る工程。
工程3:粗イミダゾリウム塩(B)のアルコール溶液(D)を製造する工程。
工程4:高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)を50〜500MPaの高圧下に置いた後、降圧速度2〜100MPa/minで降圧しながらイミダゾリウム塩結晶(E)を濾別する工程。
【選択図】なし
Description
本発明は特に高純度が要求されるイミダゾリウム塩の製造方法である。
イミダゾリウム塩は医薬品、農薬、電解液等に使用される用途があるが、特に電気二重層キャパシタ等の電気化学キャパシタ用の電解液に使用される場合は、高純度(例えば99重量%以上)であることが要求される。イミダゾリウム塩を高純度に精製する方法としては、再結晶法等により精製する方法等が挙げられる。
特開2006−32983
特開2008−34883
イミダゾリウム塩の精製は、主としてイミダゾリウム塩のアルコール溶液を冷却して再結晶を生成することにより行なわれている。しかし、冷却による再結晶では、再結晶に使用する溶媒量が多く、また、再結晶によって得られた結晶を洗浄する際に再び溶媒を使用するため、溶媒の使用量がさらに増加する。また、得られた結晶から溶媒を除去するために加熱除去等を行わなければならない。以上の観点から大量の溶媒を使用せず、また加熱工程が不要である、特に高純度が要求されるイミダゾリウム塩を高収率で得る工業的な方法は知られていない。
すなわち、本発明の目的は、イミダゾリウム塩を少量の溶媒もしくは溶媒を使用せず、高収率で得ることのできるイミダゾリウム塩の製造方法を提供することである。
すなわち、本発明の目的は、イミダゾリウム塩を少量の溶媒もしくは溶媒を使用せず、高収率で得ることのできるイミダゾリウム塩の製造方法を提供することである。
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち本発明は、以下の工程を含むことを特徴とするイミダゾリウム塩の製造方法である。
工程1:イミダゾール類を4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る工程。
工程2:反応溶液(C)から脱溶媒して粗イミダゾリウム塩(B)を得る工程。
工程3:粗イミダゾリウム塩(B)のアルコール溶液(D)を製造する工程。
工程4:高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)に50〜500MPa の圧力を加圧してイミダゾリウム塩を精製する工程。
工程1:イミダゾール類を4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る工程。
工程2:反応溶液(C)から脱溶媒して粗イミダゾリウム塩(B)を得る工程。
工程3:粗イミダゾリウム塩(B)のアルコール溶液(D)を製造する工程。
工程4:高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)に50〜500MPa の圧力を加圧してイミダゾリウム塩を精製する工程。
本発明の製造方法によると、少量の溶媒を使用し、かつ得られた結晶から溶媒を除去する加熱工程必要とせず、高純度のイミダゾリウム塩を高収率で得ることができる。
本発明のイミダゾリウム塩の製造方法の各工程1〜4について説明する。
(工程1)
イミダゾール類を4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る方法は、公知の方法で行なうことができ、特に制限されることはない。
(工程1)
イミダゾール類を4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る方法は、公知の方法で行なうことができ、特に制限されることはない。
イミダゾール類としては、アルキルイミダゾールが好ましく、N-アルキル(アルキル)イミダゾールがさらに好ましい。例えば、1,2−ジメチルイミダゾール、1−エチル−2メチルイミダゾール、1−エチル−4メチルイミダゾール、1−エチルイミダゾール、1−エチル−2,4ジメチルイミダゾール、及び1,2,4−トリメチルイミダゾリウム等が挙げられる。
酸交換反応とは、4級化して得られたイミダゾリウム塩(A)に酸を加えて、イミダゾリウム塩(A)の対アニオンを該酸のアニオンに交換する反応である。
4級化としては、例えば、上記イミダゾール類をジアルキル炭酸、ハロゲン化アルキル、ジアルキル硫酸等で4級化する方法が挙げられる。
4級化としては、例えば、上記イミダゾール類をジアルキル炭酸、ハロゲン化アルキル、ジアルキル硫酸等で4級化する方法が挙げられる。
酸としては、例えば、フッ酸、塩酸、硫酸等の無機強酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等のカルボン酸等が挙げられる。
上記反応は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の溶媒中で行なわれる。
上記反応は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の溶媒中で行なわれる。
(工程2)
反応溶液(C)から脱溶媒する温度は、得られる粗イミダゾリウム塩(B)の融点以上で行う。温度が高すぎると、副反応が起こりやすくなるため、得られる粗イミダゾリウム塩(B)の融点より5〜50℃高い温度が好ましく、10〜30℃高い温度がより好ましい。また、脱溶媒の際の圧力が高いと、脱溶媒時間が長くなり得られる粗イミダゾリウム塩(B)が着色したり、得られる粗イミダゾリウム塩(B)に不純物および、溶媒が残存したり、次工程に悪影響を与える可能性が考えられる。そのため、減圧度は3.0kPa以下が好ましく、1.3kPa以下がより好ましい。
反応溶液(C)から脱溶媒する温度は、得られる粗イミダゾリウム塩(B)の融点以上で行う。温度が高すぎると、副反応が起こりやすくなるため、得られる粗イミダゾリウム塩(B)の融点より5〜50℃高い温度が好ましく、10〜30℃高い温度がより好ましい。また、脱溶媒の際の圧力が高いと、脱溶媒時間が長くなり得られる粗イミダゾリウム塩(B)が着色したり、得られる粗イミダゾリウム塩(B)に不純物および、溶媒が残存したり、次工程に悪影響を与える可能性が考えられる。そのため、減圧度は3.0kPa以下が好ましく、1.3kPa以下がより好ましい。
(工程3)
粗イミダゾリウム塩(B)を溶解するアルコールとしては、炭素数1〜4の飽和脂肪族モノアルコールが好ましく、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、t−ブチルアルコール等、及びそれらの混合物が挙げられる。
粗イミダゾリウム塩(B)を溶解するアルコール量が多いと、得られる精製イミダゾリウム塩の収率が低くなるため、加えるアルコールの重量は、粗イミダゾリウム塩(B)の重量に対して1〜10重量%であることが好ましく、3〜7重量%以下であることがより好ましい。
粗イミダゾリウム塩(B)を溶解するアルコールとしては、炭素数1〜4の飽和脂肪族モノアルコールが好ましく、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコール、t−ブチルアルコール等、及びそれらの混合物が挙げられる。
粗イミダゾリウム塩(B)を溶解するアルコール量が多いと、得られる精製イミダゾリウム塩の収率が低くなるため、加えるアルコールの重量は、粗イミダゾリウム塩(B)の重量に対して1〜10重量%であることが好ましく、3〜7重量%以下であることがより好ましい。
(工程4)
高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)に50〜500MPa の圧力を加圧してイミダゾリウム塩を精製する。
精製工程は再結晶工程と濾別工程とからなる。
(工程4−1)再結晶工程
加圧する圧力が低いと得られるイミダゾリウム塩結晶(E)の収率が低下し、逆に圧力が高すぎると得られるイミダゾリウム塩結晶(E)の純度が低下する。このため、本発明の製造方法においては、加圧する圧力は50〜500MPaであり、100〜400MPaが好ましく、150MPa〜300MPaが特に好ましい。加圧する圧力が50MPa未満であるとイミダゾリウム塩結晶(E)の収率が低下し、500MPaを超えると得られるイミダゾリウム塩結晶(E)の純度が低下する。
高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)に50〜500MPa の圧力を加圧してイミダゾリウム塩を精製する。
精製工程は再結晶工程と濾別工程とからなる。
(工程4−1)再結晶工程
加圧する圧力が低いと得られるイミダゾリウム塩結晶(E)の収率が低下し、逆に圧力が高すぎると得られるイミダゾリウム塩結晶(E)の純度が低下する。このため、本発明の製造方法においては、加圧する圧力は50〜500MPaであり、100〜400MPaが好ましく、150MPa〜300MPaが特に好ましい。加圧する圧力が50MPa未満であるとイミダゾリウム塩結晶(E)の収率が低下し、500MPaを超えると得られるイミダゾリウム塩結晶(E)の純度が低下する。
粗イミダゾリウム塩(B)のアルコール溶液(D)に50〜500MPaの圧力を加圧することにより結晶を生成させることができる。
オニウム塩が仕込まれた槽内を大気圧から50〜500MPaの圧力に加圧する加圧速度は20〜50MPa/minにすることが好ましい。加圧速度を50MPa/min以下にすることで結晶の純度を良くすることができる。
槽内が目的の最高圧力に到達した時点で、再結晶工程は終了したものとみなせるが、その
最高圧力で一定時間保持した後に、次の工程に移ってもよい。
オニウム塩が仕込まれた槽内を大気圧から50〜500MPaの圧力に加圧する加圧速度は20〜50MPa/minにすることが好ましい。加圧速度を50MPa/min以下にすることで結晶の純度を良くすることができる。
槽内が目的の最高圧力に到達した時点で、再結晶工程は終了したものとみなせるが、その
最高圧力で一定時間保持した後に、次の工程に移ってもよい。
(工程4−2)濾別工程
上記記載の方法により得られたイミダゾリウム塩結晶(E)を降圧しながら濾別する。この濾別する際、降圧を急激に行うとイミダゾリウム塩結晶(E)が溶け出し収率が低下する。そのため、降圧を2〜100MPa/minにすることが好ましく、10〜60MPa/minにすることがより好ましく、20〜50MPa/minにすることが特に好ましい。
上記記載の方法により得られたイミダゾリウム塩結晶(E)を降圧しながら濾別する。この濾別する際、降圧を急激に行うとイミダゾリウム塩結晶(E)が溶け出し収率が低下する。そのため、降圧を2〜100MPa/minにすることが好ましく、10〜60MPa/minにすることがより好ましく、20〜50MPa/minにすることが特に好ましい。
また降圧の際は、いきなり0MPaまで降圧せず、降圧途中で、例えば最高到達圧力の約半分の圧力付近で一定時間保持することでイミダゾリウム塩結晶(E)内部に取り込まれた不純物を取り除くことができ、イミダゾリウム塩結晶(E)の純度を高めることができる。保持圧力は50〜200MPaが好ましく、100〜150MPaがより好ましい。保持時間は0〜60分が好ましく、10〜30分がより好ましい。
このようにして得られたイミダゾリウム塩結晶(E)の結晶に対して、前記晶析操作を2回以上繰り返すことで、より純度の高いイミダゾリウム塩結晶(E)を得ることができる。晶析操作は2〜5回の範囲で繰り返し実施することが好ましい。
この方法により、少量の溶媒を使用し、かつ得られた結晶から溶媒を除去する加熱工程を必要とせず、純度が高いイミダゾリウム塩結晶(E)を高収率で得ることができる。
上記(工程4)は、例えば株式会社神戸製鋼社製の高圧晶析装置を使用して行なうことができる。
イミダゾリウム塩の純度は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により定量できる。HPLCの条件は、カラム:ポリマーコート型充填剤を充填したもの、移動相:リン酸緩衝液(pH2〜3)、流速:0.8ml/min、検出器:UV、温度:40℃である(例えば、機器:型名(LC−10A)、メーカー(島津製作所)、カラム:ODS C18−MG(4.6mmφ×25cm)メーカー(資生堂)、移動相:リン酸の濃度10mmol/l、過塩素酸ナトリウムの濃度100mmol/lの水溶液、流速:0.8ml/min、検出器:UV(210nm)、RI(示差屈折率)注入量:20μl、カラム温度:40℃)。1H−NMR(例えば機器:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)、19F−NMR(例えば機器:XL−300(バリアン製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)及び13C−NMR(例えば機器:AL−300(日本電子製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)等によって特定することができる。
本発明の製造方法が適用されるイミダゾリウム塩(F)は、下記の一般式(1)で表される化合物に本発明の製造方法を適用することが好ましい。
式中、R1、R3はC1〜C6のアルキル基、R2、R4、R5はC1〜C6のアルキル基又は水素原子である。
化合物(1)のなかでも、カチオンが一般式(1)において、R1、R2及びR3のうち、少なくとも1個が異なるアルキル基であるイミダゾリウムカチオン、例えば1−エチル−2,3ジメチルイミダゾリウム、並びに、1−エチル−3メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム及び1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムであるカチオンに、本発明の製造方法を適用することが好ましい。
一方、X−としては、ハロゲンの強い電子吸引性によりアニオンの解離度が高くなるため、BF4 −、PF6 −等の弗化物アニオン、Cl−、Br−等のハロゲン系アニオン等が挙げられる。
これらの中で、低粘度、低融点の観点から弗化物アニオンが好ましい。
弗化物アニオンで例えば、PF6−n1(CF3)n1 −[n1は0〜5である]、BF4−n2(CF3)n2 −[n2は0〜3である]、AsF6−n3(CF3)n3 −[n3は0〜5である]、SbF6−n4(CF3)n4 −[n4は0〜5である]、AlF4−n5(CF3)n5 −[n5は0〜3である]、SiF5−n6(CF3)n6 −[n6は0〜4である]、N(RfSO3)2 −、C(RfSO3)3 −およびRfSO3 −[Rfは炭素数1〜12のフルオロアルキル基]等が挙げられる。
これらの中で、PF6 −、PF5(CF3)−、PF4(CF3)2 −、BF4 −、BF3(CF3)−、BF2(CF3)2 −、AsF6 −、SbF6 −、AlF4 −、及びSiF5 −からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。
さらに、PF6 −、BF4 −からなる群より選ばれる少なくとも1種がさらに好ましい。
これらの中で、低粘度、低融点の観点から弗化物アニオンが好ましい。
弗化物アニオンで例えば、PF6−n1(CF3)n1 −[n1は0〜5である]、BF4−n2(CF3)n2 −[n2は0〜3である]、AsF6−n3(CF3)n3 −[n3は0〜5である]、SbF6−n4(CF3)n4 −[n4は0〜5である]、AlF4−n5(CF3)n5 −[n5は0〜3である]、SiF5−n6(CF3)n6 −[n6は0〜4である]、N(RfSO3)2 −、C(RfSO3)3 −およびRfSO3 −[Rfは炭素数1〜12のフルオロアルキル基]等が挙げられる。
これらの中で、PF6 −、PF5(CF3)−、PF4(CF3)2 −、BF4 −、BF3(CF3)−、BF2(CF3)2 −、AsF6 −、SbF6 −、AlF4 −、及びSiF5 −からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。
さらに、PF6 −、BF4 −からなる群より選ばれる少なくとも1種がさらに好ましい。
イミダゾリウムカチオンと弗化物アニオンの組み合わせとしては、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスホネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスホネート、1,2,3−トリメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1,2,3−トリメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスホネート及び1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスホネートが好ましい。
本発明の製造方法で得られる高純度のイミダゾリウム塩を使用して、非水溶媒に溶解することで得られる電気化学素子用電解液は、経時的な性能劣化が極めてわずかである。
また、本発明の電気化学素子用電解液を使用して、電気化学キャパシタ等の電気化学素子を製造することができる。
また、本発明の電気化学素子用電解液を使用して、電気化学キャパシタ等の電気化学素子を製造することができる。
以下、実施例および比較例により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下、特に記載のないかぎり、「部」は「重量部」、%は重量%を意味する。
以下の製造例、実施例において、イミダゾリウム塩の純度は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により定量できる。
HPLCの条件は、カラム:ポリマーコート型充填剤を充填したもの、移動相:リン酸緩衝液(pH2〜3)、流速:0.8ml/min、検出器:UV、温度:40℃である(例えば、機器:型名(LC−10A)、メーカー(島津製作所)、カラム:ODS C18−MG(4.6mmφ×25cm)メーカー(資生堂)、移動相:リン酸の濃度10mmol/l、過塩素酸ナトリウムの濃度100mmol/lの水溶液、流速:0.8ml/min、検出器:UV(210nm)、RI(示差屈折率)注入量:20μl、カラム温度:40℃)。
イミダゾリウム塩の構造は、1H−NMR(機器:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)、19F−NMR(機器:XL−300(バリアン製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)及び13C−NMR(機器:AL−300(日本電子製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)等によって特定した。
水分はカールフィシャー電量滴定法により測定した。
残存溶媒量はガスクロマトグラフィー[機器:GC−17A(株式会社島津製作所製)、昇温:50〜220℃まで5℃/min、検出器:FID、カラム:DBWAX(LENGTH:30m、ID:0.53mm、FILM:1.5μm J&W Scientific社製)]により定量した。
以下の製造例、実施例において、イミダゾリウム塩の純度は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により定量できる。
HPLCの条件は、カラム:ポリマーコート型充填剤を充填したもの、移動相:リン酸緩衝液(pH2〜3)、流速:0.8ml/min、検出器:UV、温度:40℃である(例えば、機器:型名(LC−10A)、メーカー(島津製作所)、カラム:ODS C18−MG(4.6mmφ×25cm)メーカー(資生堂)、移動相:リン酸の濃度10mmol/l、過塩素酸ナトリウムの濃度100mmol/lの水溶液、流速:0.8ml/min、検出器:UV(210nm)、RI(示差屈折率)注入量:20μl、カラム温度:40℃)。
イミダゾリウム塩の構造は、1H−NMR(機器:AVANCE300(日本ブルカー株式会社製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)、19F−NMR(機器:XL−300(バリアン製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)及び13C−NMR(機器:AL−300(日本電子製)、溶媒:重水素化ジメチルスルホキシド、周波数:300MHz)等によって特定した。
水分はカールフィシャー電量滴定法により測定した。
残存溶媒量はガスクロマトグラフィー[機器:GC−17A(株式会社島津製作所製)、昇温:50〜220℃まで5℃/min、検出器:FID、カラム:DBWAX(LENGTH:30m、ID:0.53mm、FILM:1.5μm J&W Scientific社製)]により定量した。
以下、上記製造例で製造したイミダゾリウム塩に圧力を加圧して精製する工程を行った。本実施例においては株式会社神戸製鋼所製小型圧力晶析分離試験装置を用いた。
実施例1
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器、及び窒素ガス導入管を取り付けた反応フラスコにメチルアミン(70%水溶液)31部とアンモニア(28%水溶液)32部の混合液を仕込み、撹拌しながら均一溶液にした。温度を45℃以下に保ちながら滴下ロートからグリオキザール(40%水溶液)69部、アセトアルデヒド(30%水溶液)107部の混合液を滴下した。グリオキザールとアセトアルデヒドの混合液の滴下は5時間かけて滴下し、滴下終了後、40℃で1時間反応させた。次に、温度80℃、常圧から徐々に5.0kPaまで減圧し脱水を行い、続いて、温度105℃、圧力1.0kPaの条件で単蒸留により粗精製し、1、2−ジメチルイミダゾールを得た。純度は94%であった。
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器、及び窒素ガス導入管を取り付けた反応フラスコにメチルアミン(70%水溶液)31部とアンモニア(28%水溶液)32部の混合液を仕込み、撹拌しながら均一溶液にした。温度を45℃以下に保ちながら滴下ロートからグリオキザール(40%水溶液)69部、アセトアルデヒド(30%水溶液)107部の混合液を滴下した。グリオキザールとアセトアルデヒドの混合液の滴下は5時間かけて滴下し、滴下終了後、40℃で1時間反応させた。次に、温度80℃、常圧から徐々に5.0kPaまで減圧し脱水を行い、続いて、温度105℃、圧力1.0kPaの条件で単蒸留により粗精製し、1、2−ジメチルイミダゾールを得た。純度は94%であった。
次に、還流コンデンサ付きステンレス製のオートクレーブに得られた1、2−ジメチルイミダゾールを100部、ジメチル炭酸135部、及びメタノール192部を仕込み均一に溶解させた。次いで、130℃まで昇温した。圧力0.8MPaで80時間反応を行った。反応物の1H−NMR分析を行ったところ、1、2−ジメチルイミダゾリウムモノメチル炭酸塩が生成していることがわった。得られた反応混合物395部をフラスコにとり、撹拌下においてホウフッ化水素酸水溶液207部(純度42重量%)を室温下約30分かけて徐々に滴下した。滴下に伴い炭酸ガスが発生した。泡の発生がおさまった後、反応液をロータリーエバポレーターに移し、溶剤を全量除去した。フラスコ内には、黄褐色透明の液状80部残った。この液を1H−NMR分析したところ、主成分は、TMI・BF4であった。
作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール3部投入し、95℃で溶解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で250MPaまで加圧した。250MPaで10分間保持した後、20MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで10分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は30ppm、残存溶媒量は23ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.36%であった。収率は84%であった。
実施例2
実施例1で作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにイソプロピルアルコール(以下、IPAと記載する。)5部投入し、90℃で溶解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで5分間保持した後、50MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで15分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は25ppm、残存溶媒量は18ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.61%であった。収率は76%であった。
実施例1で作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにイソプロピルアルコール(以下、IPAと記載する。)5部投入し、90℃で溶解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで5分間保持した後、50MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで15分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は25ppm、残存溶媒量は18ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.61%であった。収率は76%であった。
実施例3
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器、及び窒素ガス導入管を取り付けた反応フラスコにエチルアミン(70%水溶液)31部とアンモニア(28%水溶液)32部の混合液を仕込み、撹拌しながら均一溶液にした。温度を45℃以下に保ちながら滴下ロートからグリオキザール(40%水溶液)69部、アセトアルデヒド(30%水溶液)71部の混合液を滴下した。グリオキザールとアセトアルデヒドの混合液の滴下は5時間かけて滴下し、滴下終了後、40℃で1時間反応させた。次に、温度80℃、常圧から徐々に5.0kPaまで減圧し脱水を行い、続いて、温度105℃、圧力1.0kPaの条件で単蒸留により粗精製し、1−エチル−2−メチルイミダゾールを得た。純度は95%であった。
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器、及び窒素ガス導入管を取り付けた反応フラスコにエチルアミン(70%水溶液)31部とアンモニア(28%水溶液)32部の混合液を仕込み、撹拌しながら均一溶液にした。温度を45℃以下に保ちながら滴下ロートからグリオキザール(40%水溶液)69部、アセトアルデヒド(30%水溶液)71部の混合液を滴下した。グリオキザールとアセトアルデヒドの混合液の滴下は5時間かけて滴下し、滴下終了後、40℃で1時間反応させた。次に、温度80℃、常圧から徐々に5.0kPaまで減圧し脱水を行い、続いて、温度105℃、圧力1.0kPaの条件で単蒸留により粗精製し、1−エチル−2−メチルイミダゾールを得た。純度は95%であった。
次に、還流コンデンサ付きステンレス製のオートクレーブに得られた1−エチル−2−メチルイミダゾールを100部、ジメチル炭酸135部、及びメタノール192部を仕込み均一に溶解させた。次いで、130℃まで昇温した。圧力0.8MPaで80時間反応を行った。反応物の1H−NMR分析を行ったところ、1−エチル−2、3−ジメチルイミダゾリウムモノメチル炭酸塩が生成していることがわった。得られた反応混合物427部をフラスコにとり、撹拌下においてホウフッ化水素酸水溶液207部(純度42重量%)を室温下約30分かけて徐々に滴下した。滴下に伴い炭酸ガスが発生した。泡の発生がおさまった後、反応液をロータリーエバポレーターに移し、溶剤を全量除去した。フラスコ内には、黄褐色透明の液状83部残った。この液を1H−NMR分析したところ、主成分は、1−エチル−2、3−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(以下EDMI・BF4と略す)であった。
作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール3部投入し、120℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から15MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで5分間保持した後、50MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで15分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は30ppm、残存溶媒量は21ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.91%であった。収率は85%であった。
実施例4
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにt−ブチルアルコール5部投入し、140℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から25MPa/minの速度で200MPaまで加圧した。200MPaで10分間保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は42ppm、残存溶媒量は28ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.21%であった。収率は82%であった。
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにt−ブチルアルコール5部投入し、140℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から25MPa/minの速度で200MPaまで加圧した。200MPaで10分間保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は42ppm、残存溶媒量は28ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.21%であった。収率は82%であった。
実施例5
実施例3で作成したEDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA4部投入し、85℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から20MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。200MPaで6分間保持した後、15MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで20分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は29ppm、残存溶媒量は32ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.64%であった。収率は78%であった。
実施例3で作成したEDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA4部投入し、85℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から20MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。200MPaで6分間保持した後、15MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで20分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は29ppm、残存溶媒量は32ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.64%であった。収率は78%であった。
実施例6
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール7部投入し、65℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで10分間保持した後、50MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで15分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は15ppm、残存溶媒量は18ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.97%であった。収率は86%であった。
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール7部投入し、65℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで10分間保持した後、50MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。150MPaで15分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は15ppm、残存溶媒量は18ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.97%であった。収率は86%であった。
実施例7
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール5部投入し、80℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で150MPaまで加圧した。150MPaで10分間保持した後、30MPa/minの速度で50MPaまで降圧した。150MPaで5分保持した後、10MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は28ppm、残存溶媒量は15ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.94%であった。収率は78%であった。
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール5部投入し、80℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で150MPaまで加圧した。150MPaで10分間保持した後、30MPa/minの速度で50MPaまで降圧した。150MPaで5分保持した後、10MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は28ppm、残存溶媒量は15ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.94%であった。収率は78%であった。
実施例8
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA9部投入し、70℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から60MPa/minの速度で400MPaまで加圧した。400MPaで15分間保持した後、50MPa/minの速度で200MPaまで降圧した。200MPaで10分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は40ppm、残存溶媒量は31ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.72%であった。収率は82%であった。
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA9部投入し、70℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から60MPa/minの速度で400MPaまで加圧した。400MPaで15分間保持した後、50MPa/minの速度で200MPaまで降圧した。200MPaで10分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は40ppm、残存溶媒量は31ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.72%であった。収率は82%であった。
実施例9
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール5部投入し、120℃で溶融した。溶融した粗EDMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で150MPaまで加圧した。150MPaで5分間保持した後、20MPa/minの速度で80MPaまで降圧した。80MPaで10分保持した後、40MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は42ppm、残存溶媒量は28ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.92%であった。収率は75%であった。
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール5部投入し、120℃で溶融した。溶融した粗EDMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で150MPaまで加圧した。150MPaで5分間保持した後、20MPa/minの速度で80MPaまで降圧した。80MPaで10分保持した後、40MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は42ppm、残存溶媒量は28ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.92%であった。収率は75%であった。
実施例10
実施例3のホウフッ化水素酸水溶液207部の代わりに、HPF6水溶液(純度62%)235部を使用した以外は同一の操作を実施した。黄褐色透明液状の粗1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート(以下粗EDMI・PF6と略す)が81部残った。この液を1H−NMR分析したところ、主成分は、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート(以下EDMI・PF6と略す)であった。
実施例3のホウフッ化水素酸水溶液207部の代わりに、HPF6水溶液(純度62%)235部を使用した以外は同一の操作を実施した。黄褐色透明液状の粗1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート(以下粗EDMI・PF6と略す)が81部残った。この液を1H−NMR分析したところ、主成分は、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウムヘキサフルオロフォスフェート(以下EDMI・PF6と略す)であった。
作成した粗EDMI・PF6100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール5部投入し、90℃で溶融した。溶融した粗EDMI・PF6を常圧から30MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで5分間保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は39ppm、残存溶媒量は26ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.54%であった。収率は83%であった。
実施例11
実施例10で作成した粗EDMI・PF6100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA6部投入し、70℃で溶解した。溶解した粗EDMI・PF6を常圧から35MPa/minの速度で250MPaまで加圧した。250MPaで8分間保持した後、30MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで15分保持した後、10MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は30ppm、残存溶媒量は23ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.86%であった。収率は78%であった。
実施例10で作成した粗EDMI・PF6100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA6部投入し、70℃で溶解した。溶解した粗EDMI・PF6を常圧から35MPa/minの速度で250MPaまで加圧した。250MPaで8分間保持した後、30MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで15分保持した後、10MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は30ppm、残存溶媒量は23ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.86%であった。収率は78%であった。
実施例12
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器、及び窒素ガス導入管を取り付けた反応フラスコにメチルアミン(70%水溶液)31部とアンモニア(28%水溶液)32部の混合液を仕込み、撹拌しながら均一溶液にした。温度を45℃以下に保ちながら滴下ロートからメチルグリオキザール(30%水溶液)114部、アセトアルデヒド(30%水溶液)107部の混合液を滴下した。メチルグリオキザールとアセトアルデヒドの混合液の滴下は5時間かけて行い、滴下終了後、40℃で1時間反応させた。次に、温度80℃、常圧から徐々に5.0kPaまで減圧し脱水を行い、続いて、温度120℃、圧力1.0kPaの条件で精密蒸留により精製し、1,2,4−トリメチルイミダゾールを得た。
撹拌装置、温度計、滴下ロート、還流冷却器、及び窒素ガス導入管を取り付けた反応フラスコにメチルアミン(70%水溶液)31部とアンモニア(28%水溶液)32部の混合液を仕込み、撹拌しながら均一溶液にした。温度を45℃以下に保ちながら滴下ロートからメチルグリオキザール(30%水溶液)114部、アセトアルデヒド(30%水溶液)107部の混合液を滴下した。メチルグリオキザールとアセトアルデヒドの混合液の滴下は5時間かけて行い、滴下終了後、40℃で1時間反応させた。次に、温度80℃、常圧から徐々に5.0kPaまで減圧し脱水を行い、続いて、温度120℃、圧力1.0kPaの条件で精密蒸留により精製し、1,2,4−トリメチルイミダゾールを得た。
次に、還流コンデンサ付きステンレス製のオートクレーブに得られた1,2,4−トリメチルイミダゾールを100部、ジメチル炭酸135部、及びメタノール192部を仕込み均一に溶解させた。次いで、130℃まで昇温した。圧力0.8MPaで80時間反応を行った。反応物の1H−NMR分析を行ったところ、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムモノメチル炭酸塩が生成していることがわかった。得られた反応混合物395部をフラスコにとり、撹拌下においてホウフッ化水素酸水溶液207部(純度42%)を室温下約30分かけて徐々に滴下した。滴下に伴い炭酸ガスが発生した。泡の発生がおさまった後、反応液をロータリーエバポレーターに移し、溶剤を全量除去した。フラスコ内には、黄褐色透明液状の粗1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(以下粗TeMI・BF4と略す)が81部残った。この液を1H−NMR分析したところ、主成分は、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(以下TeMI・BF4と略す)であった。
作成した粗TeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール5部投入し、75℃で解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で200MPaまで加圧した。200MPaで10分間保持した後、25MPa/minの速度で130MPaまで降圧した。130MPaで15分保持した後、40MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は39ppm、残存溶媒量は24ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.61%であった。収率は80%であった。
実施例13
実施例12で作成した粗TeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA6部投入し、85℃で溶解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で400MPaまで加圧した。400MPaで5分間保持した後、40MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は36ppm、残存溶媒量は39ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.31%であった。収率は83%であった。
実施例12で作成した粗TeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにIPA6部投入し、85℃で溶解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で400MPaまで加圧した。400MPaで5分間保持した後、40MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は36ppm、残存溶媒量は39ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.31%であった。収率は83%であった。
実施例14
実施例12で作成した粗TeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにn−プロピルアルコール9部投入し、95℃で溶解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から40MPa/minの速度で200MPaまで加圧した。200MPaで5分間保持した後、40MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで15分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は36ppm、残存溶媒量は39ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.25%であった。収率は83%であった。
実施例12で作成した粗TeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにn−プロピルアルコール9部投入し、95℃で溶解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から40MPa/minの速度で200MPaまで加圧した。200MPaで5分間保持した後、40MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで15分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は36ppm、残存溶媒量は39ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.25%であった。収率は83%であった。
比較例1
実施例3で作成したEDMI・BF4100部に200部のメタノールを加えて、30℃で溶解した。−10℃の冷蔵庫に10時間放置し、結晶を析出させた。その後ろ過にて、溶媒を除去した結晶の重量に対して等量のエタノールで撹拌洗浄を25℃で5分間行った。洗浄後の結晶をろ過にて回収した。結晶を125℃で3時間、減圧下、メタノール、エタノール、水分を留去した。乾燥後の水分は45ppm、残存溶媒量は29ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.92%であった。収率は63%であった。
実施例3で作成したEDMI・BF4100部に200部のメタノールを加えて、30℃で溶解した。−10℃の冷蔵庫に10時間放置し、結晶を析出させた。その後ろ過にて、溶媒を除去した結晶の重量に対して等量のエタノールで撹拌洗浄を25℃で5分間行った。洗浄後の結晶をろ過にて回収した。結晶を125℃で3時間、減圧下、メタノール、エタノール、水分を留去した。乾燥後の水分は45ppm、残存溶媒量は29ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.92%であった。収率は63%であった。
比較例2
実施例12で作成したTeMI・BF4100部に100部のエタノールを加えて、30℃で溶解した。−10℃の冷蔵庫に10時間放置し、結晶を析出させた。その後ろ過にて、溶媒を除去した結晶の重量に対して等量のエタノールで撹拌洗浄を25℃で5分間行った。洗浄後の結晶をろ過にて回収した。結晶を125℃で3時間、減圧下、メタノール、エタノール、水分を留去した。乾燥後の水分は42ppm、残存溶媒量は31ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.86%であった。収率は60%であった。
実施例12で作成したTeMI・BF4100部に100部のエタノールを加えて、30℃で溶解した。−10℃の冷蔵庫に10時間放置し、結晶を析出させた。その後ろ過にて、溶媒を除去した結晶の重量に対して等量のエタノールで撹拌洗浄を25℃で5分間行った。洗浄後の結晶をろ過にて回収した。結晶を125℃で3時間、減圧下、メタノール、エタノール、水分を留去した。乾燥後の水分は42ppm、残存溶媒量は31ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は99.86%であった。収率は60%であった。
比較例3
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール3部投入し、95℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で550MPaまで加圧した。550MPaで15分間保持した後、50MPa/minの速度で200MPaまで降圧した。200MPaで10分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は23ppm、残存溶媒量は22ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は96.88%であった。収率は88%であった。
実施例3で作成した粗EDMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにメタノール3部投入し、95℃で溶解した。溶解した粗EDMI・BF4を常圧から50MPa/minの速度で550MPaまで加圧した。550MPaで15分間保持した後、50MPa/minの速度で200MPaまで降圧した。200MPaで10分保持した後、50MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は23ppm、残存溶媒量は22ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は96.88%であった。収率は88%であった。
比較例4
実施例1で作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール4部投入し、100℃で解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から10MPa/minの速度で45MPaまで加圧した。45MPaで15分間保持した後、10MPa/minの速度で20MPaまで降圧した。20MPaで5分保持した後、20MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は49ppm、残存溶媒量は56ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は98.21%であった。収率は43%であった。
実施例1で作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにエタノール4部投入し、100℃で解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から10MPa/minの速度で45MPaまで加圧した。45MPaで15分間保持した後、10MPa/minの速度で20MPaまで降圧した。20MPaで5分保持した後、20MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は49ppm、残存溶媒量は56ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は98.21%であった。収率は43%であった。
比較例5
実施例12で作成したTeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにテトラヒドロフラン5部投入し、70℃で溶解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで10分間保持した後、25MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。15MPaで5分保持した後、35MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は39ppm、残存溶媒量は45ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は97.35%であった。収率は72%であった。
実施例12で作成したTeMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにテトラヒドロフラン5部投入し、70℃で溶解した。溶解した粗TeMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で300MPaまで加圧した。300MPaで10分間保持した後、25MPa/minの速度で150MPaまで降圧した。15MPaで5分保持した後、35MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は39ppm、残存溶媒量は45ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は97.35%であった。収率は72%であった。
比較例6
実施例1で作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにテトラヒドロフラン7部投入し、75℃で溶解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で250MPaまで加圧した。250MPaで5分間保持した後、25MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで10分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は36ppm、残存溶媒量は29ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は96.89%であった。収率は68%であった。
実施例1で作成した粗TMI・BF4100部を圧力晶析装置に仕込み、そこにテトラヒドロフラン7部投入し、75℃で溶解した。溶解した粗TMI・BF4を常圧から30MPa/minの速度で250MPaまで加圧した。250MPaで5分間保持した後、25MPa/minの速度で100MPaまで降圧した。100MPaで10分保持した後、30MPa/minの速度で常圧まで降圧した。降圧後の水分は36ppm、残存溶媒量は29ppmであった。HPLC、19F−NMR、13C−NMR、1H−NMR分析より、得られたイミダゾリウム塩の純度は96.89%であった。収率は68%であった。
実施例1〜14および比較例1〜6について、イミダゾリウム塩の種類、使用溶媒量および使用溶媒、晶析圧力、降圧時の保持圧を表1に記載し、表2に晶析時間、純度、収率を記載した。
表1、2から、本発明の製造方法によると、少量のアルコール溶媒を使用し、かつ得られた結晶から溶媒を除去する加熱工程を必要とせず、高純度のイミダゾリウム塩を高収率で得ることができることがわかった。
表1、2から、本発明の製造方法によると、少量のアルコール溶媒を使用し、かつ得られた結晶から溶媒を除去する加熱工程を必要とせず、高純度のイミダゾリウム塩を高収率で得ることができることがわかった。
TeMI:1,2,3,4-テトラメチルイミタ゛ソ゛リウム TMI:1,2,3-トリメチルイミタ゛ソ゛リウム
EDMI:1-エチル-2,3-シ゛メチルイミタ゛ソ゛リウム
実施例1〜14および比較例1〜7の製造方法により製造したイミダゾリウム塩をプロピレンカーボネート(PCと略記する。)で1mol/Lに希釈し、電解液1〜14及び比較電解液1〜7を作成した。これらの各種電解液を使用して、コイン型の電気化学キャパシタを作製し、等価直列抵抗の変化率を評価した。これらの結果を表2に示した。
(1)等価直列抵抗の変化率
電気化学キャパシタに80℃で2.5Vの電圧を1000時間印加したときの電気化学キャパシタの1kHzでの等価直列抵抗(RE1000)と電圧印加前の1kHzでの等価直列抵抗(RE0)との比を以下の式で算出し、これを等価直列抵抗の変化率とした。なお、等価直列抵抗はインピーダンスアナライザ(ソーラトロン製SI1253、SI1286)を用いて25℃で測定した。この変化率は、値が小さいほど、経時的な性能劣化が小さく、良好な充放電特性を維持できることを意味する。
(等価直列抵抗変化率)(%)=100×[(RE1000)/(RE0)]
(1)等価直列抵抗の変化率
電気化学キャパシタに80℃で2.5Vの電圧を1000時間印加したときの電気化学キャパシタの1kHzでの等価直列抵抗(RE1000)と電圧印加前の1kHzでの等価直列抵抗(RE0)との比を以下の式で算出し、これを等価直列抵抗の変化率とした。なお、等価直列抵抗はインピーダンスアナライザ(ソーラトロン製SI1253、SI1286)を用いて25℃で測定した。この変化率は、値が小さいほど、経時的な性能劣化が小さく、良好な充放電特性を維持できることを意味する。
(等価直列抵抗変化率)(%)=100×[(RE1000)/(RE0)]
表2から、本発明の製造方法により製造されたイミダゾリウム塩を電解液として使用した電気化学キャパシタの等価直列抵抗の変化率は、小さいことがわかった。
表2から、本発明の製造方法によると、晶析時間が高圧晶析の方が、冷却晶析よりも晶析時間が短く、溶媒の量も減らせることがわかった。
また、このような高純度のイミダゾリウム塩を使用すれば、等価直列抵抗変化率の小さい、すなわち経時的な性能劣化が極めてわずかな電気化学素子用電解液を製造することができることがわかった。
表2から、本発明の製造方法によると、晶析時間が高圧晶析の方が、冷却晶析よりも晶析時間が短く、溶媒の量も減らせることがわかった。
また、このような高純度のイミダゾリウム塩を使用すれば、等価直列抵抗変化率の小さい、すなわち経時的な性能劣化が極めてわずかな電気化学素子用電解液を製造することができることがわかった。
本発明の製造方法により得られるイミダゾリウム塩は、高純度であることから、電気化学素子用電解液、特に電気化学キャパシタ用電解液、また、医薬、農薬、染料等の製造中間体として、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂硬化剤として有用である。
Claims (8)
- 以下の工程を含むことを特徴とするイミダゾリウム塩の製造方法。
工程1:イミダゾール類を4級化してイミダゾリウム塩(A)を得た後、酸交換反応により粗イミダゾリウム塩(B)を含む反応溶液(C)を得る工程。
工程2:反応溶液(C)から脱溶媒して粗イミダゾリウム塩(B)を得る工程。
工程3:粗イミダゾリウム塩(B)のアルコール溶液(D)を製造する工程。
工程4:高圧晶析装置中で、アルコール溶液(D)に50〜500MPa の圧力を加圧してイミダゾリウム塩を精製する工程。 - 工程3において、粗イミダゾリウム塩(B)の重量に対して1〜10重量%のアルコールを使用してアルコール溶液(D)を製造する請求項1に記載の製造方法。
- 工程3において、アルコールがメタノール及びエタノールからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2に記載の製造方法。
- 工程4において、アルコール溶液(D)に50〜500MPaの圧力を加圧して結晶を生成させた後、降圧速度2〜100MPa/minで降圧しながらイミダゾリウム塩結晶(E)を濾別する請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 工程4において、降圧しながらイミダゾリウム塩結晶(E)を濾別する途中で、一旦50〜200MPaに保持する請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
- イミダゾリウム塩のカチオンが、1−エチル−2,3ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−3メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、及び1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- イミダゾリウム塩のアニオンが弗化物アニオンである請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法で得られる精製イミダゾリウム塩結晶(F)を非水溶媒に溶解することを特徴とする電気化学素子用電解液の製造方法。
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JP2008202745A JP2010037281A (ja) | 2008-08-06 | 2008-08-06 | イミダゾリウム塩の製造方法 |
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CN102952078A (zh) * | 2011-08-26 | 2013-03-06 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种烷基咪唑羧酸盐离子液体的制备方法 |
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2008
- 2008-08-06 JP JP2008202745A patent/JP2010037281A/ja active Pending
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