JP2010034390A - Multilayer printed wiring board - Google Patents

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer printed wiring board the deformation of which can be reduced while suppressing an increase in thickness. <P>SOLUTION: The multilayer printed wiring board 1 includes: an insulating resin layer 11; an electronic component 13 bonded onto the insulating resin layer 11; spacers 14 bonded onto the insulating resin layer 11; reinforcing members 16; and an interlayer adhesion layer 12 provided in a gap around the electronic component 13 and reinforcing members 16 and containing a resin; and an insulating resin layer 21 provided on the adhesion layer. The reinforcing members 16 are made of a shape memory alloy and enclose the electronic component in plan view. The reinforcing members 16 are embedded in the spacers 14. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂層を備えた多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to a multilayer printed wiring board provided with a resin layer.

従来、パターニングされた配線層が形成された樹脂層を備えた多層プリント配線板が知られている。樹脂層は、加熱による反りや歪み等により変形しやすいため、変形を抑制するための技術が望まれている。   Conventionally, a multilayer printed wiring board having a resin layer on which a patterned wiring layer is formed is known. Since the resin layer is easily deformed due to warping or distortion caused by heating, a technique for suppressing the deformation is desired.

特許文献1には、絶縁性基材と、絶縁性基材の一方の面に形成された配線パターンと、絶縁性基材の他方の面に形成された矯正材とを備えた部品内蔵基板が開示されている。矯正材は、シリコンと同程度またはそれ以下の熱膨張係数を有する石英等の材料によって構成されている。このように、特許文献1の部品内蔵基板では、低熱膨張係数の矯正材によって、絶縁性基材を補強している。   Patent Document 1 discloses a component-embedded substrate including an insulating base material, a wiring pattern formed on one surface of the insulating base material, and a correction material formed on the other surface of the insulating base material. It is disclosed. The correction material is made of a material such as quartz having a thermal expansion coefficient comparable to or lower than that of silicon. Thus, in the component-embedded substrate of Patent Document 1, the insulating base material is reinforced by the correction material having a low thermal expansion coefficient.

しかしながら、特許文献1の部品内蔵基板では、熱膨張率の異なる絶縁性基材と矯正材とを接合しているため、加熱した際に、反りや歪みによって変形するといった問題があった。   However, in the component-embedded substrate of Patent Document 1, since the insulating base material and the correction material having different thermal expansion coefficients are joined, there is a problem that when heated, the substrate is deformed due to warpage or distortion.

そこで、特許文献2及び特許文献3に記載の配線基板は、絶縁層と、絶縁層に形成された配線部と、絶縁層の上下面の略全面に設けられた一対の補強層とを備えている。   Therefore, the wiring boards described in Patent Document 2 and Patent Document 3 include an insulating layer, a wiring portion formed in the insulating layer, and a pair of reinforcing layers provided on substantially the entire upper and lower surfaces of the insulating layer. Yes.

このように特許文献2及び3に記載の配線基板では、絶縁層の両面に補強層を設けることによって、加熱した際の反りを低減することができた。
特開2006−351819号公報 特開2007−059821号公報 特開2006−339421号公報
Thus, in the wiring board of patent document 2 and 3, the curvature at the time of heating was able to be reduced by providing a reinforcement layer on both surfaces of an insulating layer.
JP 2006-351819 A JP 2007-059821 A JP 2006-339421 A

しかしながら、特許文献2及び3の技術では、絶縁層の上下面の略全面に補強層を設けているので、電子部品と補強層が重なる。このため、配線板の全体の厚みが大きくなるといった課題がある。   However, in the techniques of Patent Documents 2 and 3, since the reinforcing layer is provided on substantially the entire upper and lower surfaces of the insulating layer, the electronic component and the reinforcing layer overlap. For this reason, there exists a subject that the whole thickness of a wiring board becomes large.

本発明は、上述した課題を解決するために創案されたものであり、厚みの増大を抑制しつつ、変形を低減できる多層プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的としている。   The present invention was created to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a multilayer printed wiring board capable of reducing deformation while suppressing an increase in thickness and a method for manufacturing the multilayer printed wiring board. Yes.

請求項1に係る発明は、第1樹脂層と、前記第1樹脂層上に接着された電子部品と、形状記憶合金からなり、平面視にて前記電子部品を囲繞する補強部材と、前記電子部品及び前記補強部材の周りの空隙に設けられた樹脂を含む接着層と、前記接着層上に設置された第2樹脂層とを備えたことを特徴とする多層プリント配線板である。   The invention according to claim 1 includes a first resin layer, an electronic component bonded on the first resin layer, a shape memory alloy, a reinforcing member surrounding the electronic component in a plan view, and the electronic A multilayer printed wiring board comprising: an adhesive layer including a resin provided in a space around a component and the reinforcing member; and a second resin layer disposed on the adhesive layer.

請求項2に係る発明は、前記電子部品を囲繞するスペーサを備え、前記補強部材は、前記スペーサに埋め込まれ、または、接着されていることを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板である。   The invention according to claim 2 includes a spacer that surrounds the electronic component, and the reinforcing member is embedded in or adhered to the spacer. It is.

請求項3に係る発明は、前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、可撓性を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の多層プリント配線板である。   The invention according to claim 3 is the multilayer printed wiring board according to claim 1 or 2, wherein the first resin layer and the second resin layer have flexibility.

請求項4に係る発明は、前記第1樹脂層または前記第2樹脂層には、ビアホールが形成され、前記ビアホールには、導電性ペーストまたは金属めっきからなる貫通電極が形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多層プリント配線板である。   The invention according to claim 4 is characterized in that a via hole is formed in the first resin layer or the second resin layer, and a through electrode made of conductive paste or metal plating is formed in the via hole. The multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 3.

本発明によれば、形状記憶合金からなる補強部材により電子部品を囲繞している。これにより、補強部材と電子部品とを重ねることなく、電子部品と同じ高さに配置することや接着層の中に補強部材を埋設することができる。この結果、全体の厚みが大きくなることを抑制しつつ、反り等の変形を抑制できる。   According to the present invention, the electronic component is surrounded by the reinforcing member made of the shape memory alloy. Accordingly, the reinforcing member and the electronic component can be arranged at the same height as the electronic component without being overlapped, or the reinforcing member can be embedded in the adhesive layer. As a result, deformation such as warpage can be suppressed while suppressing an increase in the overall thickness.

(第1実施形態)
以下、図面を参照して、本発明による第1実施形態を説明する。図1は、第1実施形態における多層プリント配線板の断面図である。図2は、電子部品近傍の平面図である。以下の説明において、図1に矢印で示す上下を上下方向とする。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer printed wiring board according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view of the vicinity of the electronic component. In the following description, the up and down directions indicated by arrows in FIG.

図1及び図2に示すように、第1実施形態による多層プリント配線板1は、3層構造に構成されている。多層プリント配線板1は、第1基材2と、第2基材3と、第3基材4とを備えている。   As shown in FIG.1 and FIG.2, the multilayer printed wiring board 1 by 1st Embodiment is comprised by the 3 layer structure. The multilayer printed wiring board 1 includes a first base material 2, a second base material 3, and a third base material 4.

第1基材2は、絶縁性樹脂層11と、層間接着層12と、電子部品13と、スペーサ14と、銅配線15と、一対の補強部材16とを備えている。尚、絶縁性樹脂層11が、請求項に記載の第1樹脂層に相当する。   The first substrate 2 includes an insulating resin layer 11, an interlayer adhesive layer 12, an electronic component 13, a spacer 14, a copper wiring 15, and a pair of reinforcing members 16. The insulating resin layer 11 corresponds to the first resin layer described in the claims.

絶縁性樹脂層11は、可撓性を有する。絶縁性樹脂層11は、約25μmの厚みを有するポリイミドフィルムからなる。   The insulating resin layer 11 has flexibility. The insulating resin layer 11 is made of a polyimide film having a thickness of about 25 μm.

層間接着層12は、熱可塑性エポキシフィルムからなる。層間接着層12は、絶縁性樹脂層11の上面と後述する絶縁性樹脂層21の下面との間に設けられている。即ち、層間接着層12は、電子部品13、スペーサ14、補強部材16の周りの空隙に充填されている。これにより、層間接着層12は、第1基材2と第2基材3とを接着するとともに、電子部品13の位置ズレを抑制する充填剤としても機能する。   The interlayer adhesive layer 12 is made of a thermoplastic epoxy film. The interlayer adhesive layer 12 is provided between the upper surface of the insulating resin layer 11 and the lower surface of an insulating resin layer 21 described later. That is, the interlayer adhesive layer 12 is filled in the gap around the electronic component 13, the spacer 14, and the reinforcing member 16. Thereby, the interlayer adhesive layer 12 functions as a filler that bonds the first base material 2 and the second base material 3 and suppresses the positional deviation of the electronic component 13.

電子部品13は、層間接着層12を介して、絶縁性樹脂層11に接着されている。電子部品13は、略直方体形状に形成されている。電子部品13の上面には、電極パッド13aが設けられている。   The electronic component 13 is bonded to the insulating resin layer 11 via the interlayer adhesive layer 12. The electronic component 13 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape. An electrode pad 13 a is provided on the upper surface of the electronic component 13.

スペーサ14は、ガラスエポキシ樹脂等の硬質材からなる。スペーサ14の高さは、電子部品13と同じ高さに構成されている。スペーサ14の中央部には、電子部品13を設置するための開口部14aが形成されている。スペーサ14は、層間接着層12を介して、絶縁性樹脂層11に接着されている。スペーサ14は、電子部品13と所定の間隔を開けて配置されている。スペーサ14の上面には、パターニングされた銅配線15が形成されている。   The spacer 14 is made of a hard material such as glass epoxy resin. The height of the spacer 14 is the same as that of the electronic component 13. An opening 14 a for installing the electronic component 13 is formed at the center of the spacer 14. The spacer 14 is bonded to the insulating resin layer 11 via the interlayer adhesive layer 12. The spacer 14 is disposed at a predetermined interval from the electronic component 13. A patterned copper wiring 15 is formed on the upper surface of the spacer 14.

補強部材16は、反り等による変形を抑制するためのものである。図1及び図2に示すように、補強部材16は、電子部品13よりも厚みの小さい正方形の板状に形成されている。補強部材16の中央部には、電子部品13の平面積よりも大きい、開口部16aが形成されている。補強部材16の開口部16aには、電子部品13が配置されている。これにより、平面視において、電子部品13が、補強部材16によって囲繞される。補強部材16は、形状記憶合金であるTi−Ni合金からなる。即ち、補強部材16は、所定の温度(例えば、200℃)になると、図1及び図2に示す元の形状に戻る。尚、ここでいう所定の温度とは、リフロー工程における加熱温度や、耐熱信頼性試験における加熱温度等のことである。一対の補強部材16は、スペーサ14の上端部及び下端部に埋め込まれている。一対の補強部材16は、平面視にて、スペーサ14の同じ位置に埋め込まれている。   The reinforcing member 16 is for suppressing deformation due to warpage or the like. As shown in FIGS. 1 and 2, the reinforcing member 16 is formed in a square plate shape having a thickness smaller than that of the electronic component 13. An opening 16 a that is larger than the plane area of the electronic component 13 is formed in the central portion of the reinforcing member 16. The electronic component 13 is disposed in the opening 16 a of the reinforcing member 16. Thereby, the electronic component 13 is surrounded by the reinforcing member 16 in plan view. The reinforcing member 16 is made of a Ti—Ni alloy that is a shape memory alloy. That is, the reinforcing member 16 returns to the original shape shown in FIGS. 1 and 2 when it reaches a predetermined temperature (for example, 200 ° C.). The predetermined temperature here refers to the heating temperature in the reflow process, the heating temperature in the heat resistance reliability test, and the like. The pair of reinforcing members 16 are embedded in the upper end portion and the lower end portion of the spacer 14. The pair of reinforcing members 16 are embedded in the same position of the spacer 14 in plan view.

第2基材3は、第1基材2の上面に接着されている。第2基材3は、絶縁性樹脂層21と、銅配線22と、貫通電極24とを備えている。絶縁性樹脂層21には、銅配線22まで貫通されたビアホール25が形成されている。尚、絶縁性樹脂層21が、請求項に記載の第2樹脂層に相当する。   The second base material 3 is bonded to the upper surface of the first base material 2. The second base material 3 includes an insulating resin layer 21, a copper wiring 22, and a through electrode 24. A via hole 25 penetrating to the copper wiring 22 is formed in the insulating resin layer 21. The insulating resin layer 21 corresponds to the second resin layer described in the claims.

絶縁性樹脂層21は、可撓性を有する。絶縁性樹脂層21は、約25μmの厚みを有するポリイミドフィルムからなる。絶縁性樹脂層21は、層間接着層12上に接着されている。   The insulating resin layer 21 has flexibility. The insulating resin layer 21 is made of a polyimide film having a thickness of about 25 μm. The insulating resin layer 21 is bonded onto the interlayer adhesive layer 12.

銅配線22は、絶縁性樹脂層21上に形成されている。銅配線22は、所望の形状にパターニングされている。銅配線22は、約12μmの厚みを有する。   The copper wiring 22 is formed on the insulating resin layer 21. The copper wiring 22 is patterned into a desired shape. The copper wiring 22 has a thickness of about 12 μm.

貫通電極24は、ビアホール25の内部に埋設されている。貫通電極24の一部は、ビアホール25から突出して、層間接着層12に埋設されている。貫通電極24は、熱硬化性樹脂からなるバインダに錫が混入された導電性ペーストからなる。貫通電極24の上端部は、銅配線22に接続されている。貫通電極24の下端部は、第1基材2の銅配線15、または、電極パッド13aに接続されている。   The through electrode 24 is embedded in the via hole 25. A part of the through electrode 24 protrudes from the via hole 25 and is embedded in the interlayer adhesive layer 12. The through electrode 24 is made of a conductive paste in which tin is mixed in a binder made of a thermosetting resin. The upper end portion of the through electrode 24 is connected to the copper wiring 22. The lower end portion of the through electrode 24 is connected to the copper wiring 15 of the first base material 2 or the electrode pad 13a.

第3基材4は、第2基材3の上面に接着されている。第3基材4は、絶縁性樹脂層31と、銅配線32と、層間接着層33と、ビアホール35に形成された貫通電極34とを備えている。第3基材4は、銅配線32のパターンと貫通電極34の配置が異なる以外は第2基材3と同様の構成を有する。   The third base material 4 is bonded to the upper surface of the second base material 3. The third base material 4 includes an insulating resin layer 31, a copper wiring 32, an interlayer adhesive layer 33, and a through electrode 34 formed in the via hole 35. The third substrate 4 has the same configuration as the second substrate 3 except that the pattern of the copper wiring 32 and the arrangement of the through electrodes 34 are different.

次に、上述した第1実施形態による多層プリント配線板1の製造方法について説明する。図3〜図6は、第1基材の作製方法を説明する図である。図7〜図13は、第3基材の作製方法を説明する図である。図14は、第1〜第3基材の積層工程を説明する図である。   Next, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board 1 by 1st Embodiment mentioned above is demonstrated. 3-6 is a figure explaining the preparation methods of a 1st base material. 7-13 is a figure explaining the preparation methods of a 3rd base material. FIG. 14 is a diagram for explaining a lamination process of the first to third base materials.

まず、第1基材2の作製方法について説明する。   First, the manufacturing method of the 1st base material 2 is demonstrated.

図3に示すように、熱プレス機によって、ポリイミドフィルムからなる絶縁性樹脂層11の上面に、熱可塑性エポキシフィルムからなる層間接着材料12aを貼り合わせる。   As shown in FIG. 3, an interlayer adhesive material 12a made of a thermoplastic epoxy film is bonded to the upper surface of an insulating resin layer 11 made of a polyimide film by a hot press.

次に、図4に示すように、層間接着材料12aを介して、絶縁性樹脂層11の上面の所定の位置に電子部品13を接着する。ここで、電子部品13は、電極パッド13aが上側になるように設置される。   Next, as shown in FIG. 4, the electronic component 13 is bonded to a predetermined position on the upper surface of the insulating resin layer 11 through the interlayer adhesive material 12 a. Here, the electronic component 13 is installed so that the electrode pad 13a is on the upper side.

次に、図5に示すように、層間接着材料12aを介して、絶縁性樹脂層11の上面の所定の位置に電子部品13と同じ高さのスペーサ14を接着する。スペーサ14には、形状記憶合金からなる補強部材16が設けられている。ここで、電子部品13がスペーサ14の開口部14aに収容されるように、且つ、電子部品13とスペーサ14の内壁との間に所定の間隔が空くように、スペーサ14が配置される。これにより、スペーサ14及び補強部材16によって電子部品13が囲繞される。   Next, as shown in FIG. 5, a spacer 14 having the same height as the electronic component 13 is bonded to a predetermined position on the upper surface of the insulating resin layer 11 via an interlayer adhesive material 12 a. The spacer 14 is provided with a reinforcing member 16 made of a shape memory alloy. Here, the spacer 14 is disposed so that the electronic component 13 is accommodated in the opening 14 a of the spacer 14 and a predetermined interval is provided between the electronic component 13 and the inner wall of the spacer 14. Accordingly, the electronic component 13 is surrounded by the spacer 14 and the reinforcing member 16.

次に、図6に示すように、スペーサ14の上面に銅配線15が形成される。   Next, as shown in FIG. 6, a copper wiring 15 is formed on the upper surface of the spacer 14.

これにより、第1基材2が完成する。   Thereby, the 1st base material 2 is completed.

次に、第3基材4の作製方法について説明する。   Next, a method for producing the third substrate 4 will be described.

まず、図7に示すように、絶縁性樹脂層31の上面に銅箔32Aが形成された片面銅張積層材(片面CCL)を準備する。次に、銅箔32Aの上面にエッチングレジストをラミネートする。その後、エッチングレジストに銅配線32のパターンを露光、現像して、レジスト膜51をパターニングする。   First, as shown in FIG. 7, a single-sided copper-clad laminate (single-sided CCL) in which a copper foil 32 </ b> A is formed on the upper surface of the insulating resin layer 31 is prepared. Next, an etching resist is laminated on the upper surface of the copper foil 32A. Thereafter, the pattern of the copper wiring 32 is exposed and developed on the etching resist, and the resist film 51 is patterned.

次に、図8に示すように、レジスト膜51から露出している銅箔32Aを塩化第2銅浴または塩化第2鉄浴によってエッチングする。これにより、パターニングされた銅配線32が絶縁性樹脂層31上に形成される。この後、レジスト膜51を除去する。   Next, as shown in FIG. 8, the copper foil 32A exposed from the resist film 51 is etched with a cupric chloride bath or a ferric chloride bath. As a result, a patterned copper wiring 32 is formed on the insulating resin layer 31. Thereafter, the resist film 51 is removed.

次に、図9に示すように、絶縁性樹脂層31の下面に熱可塑性エポキシフィルムからなる層間接着材料33aを熱プレス機によって貼り合せる。   Next, as shown in FIG. 9, an interlayer adhesive material 33a made of a thermoplastic epoxy film is bonded to the lower surface of the insulating resin layer 31 by a hot press.

次に、図10に示すように、熱プレス機によって、約25μmの厚みを有するポリイミドフィルムからなるマスクフィルム52を層間接着材料33aの下面に貼り合せる。   Next, as shown in FIG. 10, a mask film 52 made of a polyimide film having a thickness of about 25 μm is bonded to the lower surface of the interlayer adhesive material 33a by a hot press.

次に、図11に示すように、YAGレーザ装置によって、マスクフィルム52側からレーザを照射する。これにより、銅配線32まで貫通する直径約100μmのビアホール35をマスクフィルム52、層間接着材料33a及び絶縁性樹脂層31に形成する。この後、CF及びO混合ガスを用いたプラズマデスミア処理を行って、ビアホール35のスミアを除去する。 Next, as shown in FIG. 11, the YAG laser device irradiates the laser from the mask film 52 side. Thereby, a via hole 35 having a diameter of about 100 μm that penetrates to the copper wiring 32 is formed in the mask film 52, the interlayer adhesive material 33 a, and the insulating resin layer 31. Thereafter, a plasma desmear process using a mixed gas of CF 4 and O 2 is performed, and the smear in the via hole 35 is removed.

次に、図12に示すように、エポキシ系の熱硬化性樹脂からなるバインダに錫が混入された導電性ペーストをスクリーン印刷法により穴埋め充填する。これにより、銅配線32と接続された貫通電極34が形成される。   Next, as shown in FIG. 12, a conductive paste in which tin is mixed in a binder made of an epoxy-based thermosetting resin is filled in by a screen printing method. Thereby, the through electrode 34 connected to the copper wiring 32 is formed.

次に、図13に示すように、マスクフィルム52を除去する。これにより、貫通電極34の下端部が、層間接着材料33aの下面から露出する。   Next, as shown in FIG. 13, the mask film 52 is removed. Thereby, the lower end part of the penetration electrode 34 is exposed from the lower surface of the interlayer adhesive material 33a.

この結果、貫通電極34が下方へ突出しているIVH(Interstitial Via Hole)構造の第3基材4が完成する。   As a result, the third substrate 4 having an IVH (Interstitial Via Hole) structure in which the through electrode 34 protrudes downward is completed.

第2基材3の作製工程は、第3基材4と略同様のため省略する。尚、第2基材3の絶縁性樹脂層21の下面には、層間接着層12を形成するための層間接着材料12bが接着される。   Since the manufacturing process of the 2nd base material 3 is substantially the same as the 3rd base material 4, it abbreviate | omits. An interlayer adhesive material 12b for forming the interlayer adhesive layer 12 is bonded to the lower surface of the insulating resin layer 21 of the second base material 3.

次に、図14に示すように、各貫通電極24、34と電極パッド13aまたは銅配線15、22とが接続されるように、第1基材2、第2基材3、第3基材4を位置合わせする。この後、各層2〜4の周りの雰囲気を1kPa以下に減圧する。この状態で、熱プレス機によって、各層2〜4を加熱しつつ加圧する。これにより、層間接着材料12a、12b、33aが軟化して、電子部品13、スペーサ14、補強部材16等の周りの空隙に充填される。また、この加熱により、導電性ペーストからなる貫通電極24、34も硬化される。この後、冷却することによって、層間接着材料12a、12b、33aが硬化して層間接着層12、33となり、各層2〜4が接着される。これにより、各層2〜4が、一括で積層される。   Next, as shown in FIG. 14, the first base material 2, the second base material 3, and the third base material are connected so that the through electrodes 24 and 34 and the electrode pads 13 a or the copper wirings 15 and 22 are connected. 4 is aligned. Thereafter, the atmosphere around each layer 2 to 4 is reduced to 1 kPa or less. In this state, the layers 2 to 4 are pressurized while being heated by a hot press. Thereby, the interlayer adhesive materials 12a, 12b, and 33a are softened and filled in the gaps around the electronic component 13, the spacer 14, the reinforcing member 16, and the like. Moreover, the through electrodes 24 and 34 made of a conductive paste are also cured by this heating. Thereafter, by cooling, the interlayer adhesive materials 12a, 12b, and 33a are cured to form the interlayer adhesive layers 12 and 33, and the layers 2 to 4 are bonded. Thereby, each layer 2-4 is laminated | stacked collectively.

次に、カバーレイ(CL)やソルダレジスト(SR)等の表面保護層や、表面に錫めっきや金めっき等を外部に露出している電極パッド(図示略)に形成する。その後、外形加工等の加工を行う。この結果、図1に示す多層プリント配線板1が完成する。尚、この後、多層プリント配線板1を表面実装するためのリフロー工程や耐熱信頼性試験等が行われる。   Next, a surface protection layer such as a coverlay (CL) or solder resist (SR), or an electrode pad (not shown) with tin plating or gold plating exposed to the outside is formed on the surface. Thereafter, processing such as external processing is performed. As a result, the multilayer printed wiring board 1 shown in FIG. 1 is completed. After this, a reflow process for mounting the multilayer printed wiring board 1 on the surface, a heat reliability test, and the like are performed.

上述したように第1実施形態による多層プリント配線板1では、所定の温度(例えば、200℃)に達した際に、元の形状に戻る形状記憶合金からなる補強部材16によって電子部品13を囲繞している。これにより、反り等による変形の大きいリフロー工程や耐熱信頼性試験等で250℃以上に加熱した際でも、反りや歪み等の変形を抑制して、平坦性の低下を抑制することができる。このため、電子部品13の実装不良を低減することができる。   As described above, in the multilayer printed wiring board 1 according to the first embodiment, the electronic component 13 is surrounded by the reinforcing member 16 made of a shape memory alloy that returns to its original shape when a predetermined temperature (for example, 200 ° C.) is reached. is doing. Thereby, even when it is heated to 250 ° C. or higher in a reflow process or a heat resistance reliability test with a large deformation due to warpage or the like, it is possible to suppress deformation such as warpage or distortion and suppress a decrease in flatness. For this reason, the mounting defect of the electronic component 13 can be reduced.

また、多層プリント配線板1では、電子部品13を囲繞するように補強部材16を構成している。このため、平面視にて、電子部品13と補強部材16とを同じ位置に重ねることなく、スペーサ14に埋設することができるので、全体の厚みを増大させることなく、上述の変形抑制の効果を奏することができる。   In the multilayer printed wiring board 1, the reinforcing member 16 is configured to surround the electronic component 13. For this reason, in the plan view, the electronic component 13 and the reinforcing member 16 can be embedded in the spacer 14 without overlapping at the same position, so that the above-described deformation suppressing effect can be achieved without increasing the overall thickness. Can play.

(第2実施形態)
次に、上述した実施形態を部分的に変更した第2実施形態について説明する。図15は、第2実施形態における電子部品近傍の平面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment in which the above-described embodiment is partially changed will be described. FIG. 15 is a plan view of the vicinity of an electronic component in the second embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to embodiment mentioned above, and description is abbreviate | omitted.

図15に示すように、第2実施形態では、補強部材16Aが環状に形成されている。補強部材16Aの中央部には、電子部品13を囲繞するための開口部16Aaが形成されている。尚、第2実施形態においても、補強部材16Aはスペーサ14に埋設されている。   As shown in FIG. 15, in the second embodiment, the reinforcing member 16A is formed in an annular shape. An opening 16Aa for enclosing the electronic component 13 is formed at the center of the reinforcing member 16A. In the second embodiment, the reinforcing member 16A is embedded in the spacer 14.

(第3実施形態)
次に、上述した実施形態を部分的に変更した第3実施形態について説明する。図16は、第3実施形態による多層プリント配線板の断面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment in which the above-described embodiment is partially changed will be described. FIG. 16 is a cross-sectional view of a multilayer printed wiring board according to the third embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to embodiment mentioned above, and description is abbreviate | omitted.

図16に示すように、第3実施形態による多層プリント配線板1Bでは、接着材41を介して、スペーサ14の上面及び下面に形状記憶合金からなる補強部材16Bが接着されている。補強部材16Bの形状は、上述した実施形態と同様である。このように構成しても、補強部材16Bを層間接着層12に埋設することによって、全体の厚みの増大を抑制できる。また、補強部材16Bの厚みだけスペーサ14を薄くすることによっても、全体の厚みの増大を抑制できる。   As shown in FIG. 16, in the multilayer printed wiring board 1 </ b> B according to the third embodiment, the reinforcing member 16 </ b> B made of a shape memory alloy is bonded to the upper surface and the lower surface of the spacer 14 via the adhesive material 41. The shape of the reinforcing member 16B is the same as that of the above-described embodiment. Even if comprised in this way, the increase in the whole thickness can be suppressed by embedding reinforcement member 16B in interlayer adhesion layer 12. Moreover, the increase in the whole thickness can also be suppressed by making the spacer 14 thinner by the thickness of the reinforcing member 16B.

(第4実施形態)
次に、上述した実施形態を部分的に変更した第4実施形態について説明する。図17は、第4実施形態による多層プリント配線板の断面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment in which the above-described embodiment is partially changed will be described. FIG. 17 is a cross-sectional view of a multilayer printed wiring board according to the fourth embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to embodiment mentioned above, and description is abbreviate | omitted.

図17に示すように、第4実施形態による多層プリント配線板1Cでは、樹脂層42と一対の銅箔43とを有する両面CCLによってスペーサ14Cを構成している。ここで、外側の銅箔43と内側の銅箔43との間には、所定の間隔が形成されるようにパターニングされている。形状記憶合金からなる補強部材16Cは、外側の銅箔43と内側の銅箔43との間に配置される。補強部材16Cの形状は、上述した実施形態と同様である。これにより、銅箔43、43を補強部材16Cの位置決め部材として機能させることができる。この結果、補強部材16Cを容易に設置することができる。   As shown in FIG. 17, in the multilayer printed wiring board 1 </ b> C according to the fourth embodiment, the spacer 14 </ b> C is configured by a double-sided CCL having a resin layer 42 and a pair of copper foils 43. Here, the outer copper foil 43 and the inner copper foil 43 are patterned so as to form a predetermined interval. The reinforcing member 16 </ b> C made of a shape memory alloy is disposed between the outer copper foil 43 and the inner copper foil 43. The shape of the reinforcing member 16C is the same as that of the above-described embodiment. Thereby, copper foil 43, 43 can be functioned as a positioning member of reinforcing member 16C. As a result, the reinforcing member 16C can be easily installed.

(第5実施形態)
次に、上述した実施形態を部分的に変更した第5実施形態について説明する。図18は、第5実施形態による多層プリント配線板の断面図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment in which the above-described embodiment is partially changed will be described. FIG. 18 is a cross-sectional view of a multilayer printed wiring board according to the fifth embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to embodiment mentioned above, and description is abbreviate | omitted.

図18に示すように、第5実施形態の多層プリント配線板1Dでは、4つの基材2、3、5、6が積層された4層構造に構成されている。   As shown in FIG. 18, the multilayer printed wiring board 1 </ b> D of the fifth embodiment has a four-layer structure in which four base materials 2, 3, 5, and 6 are laminated.

第4基材5は、絶縁性樹脂層61と、絶縁性樹脂層61の下面に形成された銅配線62とを備えている。第4基材5は、層間接着層63を介して第1基材2の下面に接着されている。   The fourth substrate 5 includes an insulating resin layer 61 and a copper wiring 62 formed on the lower surface of the insulating resin layer 61. The fourth substrate 5 is bonded to the lower surface of the first substrate 2 via the interlayer adhesive layer 63.

第5基材6は、絶縁性樹脂層65と、絶縁性樹脂層65の下面に形成された銅配線66とを備えている。第5基材6は、層間接着層67を介して第4基材5の下面に接着されている。   The fifth substrate 6 includes an insulating resin layer 65 and a copper wiring 66 formed on the lower surface of the insulating resin layer 65. The fifth substrate 6 is bonded to the lower surface of the fourth substrate 5 via the interlayer adhesive layer 67.

多層プリント配線板1Dでは、基材2、3、5、6に形成されたビアホール45に形成される貫通電極44を銅めっきにより構成している。また、貫通電極44の一部は、全ての基材2、3、5、6を貫通するように形成されている。   In the multilayer printed wiring board 1 </ b> D, the through electrode 44 formed in the via hole 45 formed in the base material 2, 3, 5, 6 is configured by copper plating. A part of the through electrode 44 is formed so as to penetrate all the base materials 2, 3, 5, 6.

次に、第5実施形態による多層プリント配線板1Dの製造方法について説明する。図19及び図20は、第5実施形態による多層プリント配線板の製造方法を説明する図である。   Next, a method for manufacturing the multilayer printed wiring board 1D according to the fifth embodiment will be described. 19 and 20 are diagrams for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the fifth embodiment.

まず、図19に示すように、中央部が開口されたスペーサ14を絶縁性樹脂層11に層間接着材料12aを介して設置する。スペーサ14の上下面の内周部には、形状記憶合金からなる補強部材16が埋設されている。この後、リフロー工程によって、スペーサ14の開口部14aの中に電子部品13を設置する。ここで電子部品13は、有鉛または無鉛の半田46を介して、絶縁性樹脂層11の上面の銅配線15と接続される。   First, as shown in FIG. 19, a spacer 14 having an opening at the center is placed on the insulating resin layer 11 via an interlayer adhesive material 12a. Reinforcing members 16 made of a shape memory alloy are embedded in the inner peripheral portions of the upper and lower surfaces of the spacer 14. Then, the electronic component 13 is installed in the opening part 14a of the spacer 14 by a reflow process. Here, the electronic component 13 is connected to the copper wiring 15 on the upper surface of the insulating resin layer 11 via leaded or lead-free solder 46.

次に、図20に示すように、片面CCLを用いて作製された第2基材3を第1基材2の上面に層間接着層63を介して接着する。その後、層間接着層67を介して、第1基材2の下面に第4基材5を作製するための片面CCLを接着する。次に、第4基材5の所定の位置にレーザでビアホール45を形成する。この後、銅めっきをすることによって、ビアホール45の内壁面に貫通電極44を形成する。その後、片面CCLの銅箔をパターニングすることによって、銅配線62が形成された第4基材5が完成する。   Next, as shown in FIG. 20, the second base material 3 manufactured using the single-sided CCL is bonded to the upper surface of the first base material 2 through an interlayer adhesive layer 63. Thereafter, a single-sided CCL for producing the fourth substrate 5 is bonded to the lower surface of the first substrate 2 through the interlayer adhesive layer 67. Next, a via hole 45 is formed at a predetermined position of the fourth base material 5 with a laser. Thereafter, the through electrode 44 is formed on the inner wall surface of the via hole 45 by performing copper plating. Then, the 4th base material 5 in which the copper wiring 62 was formed is completed by patterning the copper foil of single-sided CCL.

次に、図18に示すように、層間接着層67を介して、第4基材5の下面に第5基材6を作製するための片面CCLを接着する。その後、レーザにより、第1基材2、第2基材3、第4基材5及び第5基材6を貫通するビアホール45を形成する。また、第5基材6を貫通するビアホール45も同時に形成する。次に、銅めっきすることによって、ビアホール45の内壁面に貫通電極44を形成する。その後、片面CCLの銅箔をパターニングすることによって、銅配線66が形成された第5基材6が完成する。   Next, as shown in FIG. 18, a single-sided CCL for producing the fifth substrate 6 is bonded to the lower surface of the fourth substrate 5 through an interlayer adhesive layer 67. Thereafter, a via hole 45 penetrating the first base material 2, the second base material 3, the fourth base material 5 and the fifth base material 6 is formed by a laser. In addition, a via hole 45 penetrating the fifth substrate 6 is also formed at the same time. Next, the through electrode 44 is formed on the inner wall surface of the via hole 45 by copper plating. Then, the 5th base material 6 in which the copper wiring 66 was formed is completed by patterning the copper foil of single sided CCL.

この結果、図18に示す多層プリント配線板1Dが完成する。   As a result, the multilayer printed wiring board 1D shown in FIG. 18 is completed.

(第6実施形態)
次に、上述した実施形態を部分的に変更した第6実施形態について説明する。図21は、第6実施形態の製造工程における図14相当図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Sixth embodiment)
Next, a sixth embodiment in which the above-described embodiment is partially changed will be described. FIG. 21 is a view corresponding to FIG. 14 in the manufacturing process of the sixth embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to embodiment mentioned above, and description is abbreviate | omitted.

図21に示すように、第6実施形態による多層プリント配線板1Eでは、電子部品13の電極パッド13aが下向きに設置されている。また、電極パッド13aは、導電性ペーストからなる貫通電極71によって、第1基材2の絶縁性樹脂層11の下面に形成された銅配線15と接続されている。貫通電極71は、絶縁性樹脂層11に形成されたビアホール72に形成されている。   As shown in FIG. 21, in the multilayer printed wiring board 1E according to the sixth embodiment, the electrode pads 13a of the electronic component 13 are installed downward. In addition, the electrode pad 13 a is connected to the copper wiring 15 formed on the lower surface of the insulating resin layer 11 of the first base 2 by a through electrode 71 made of a conductive paste. The through electrode 71 is formed in the via hole 72 formed in the insulating resin layer 11.

(第7実施形態)
次に、上述した実施形態を部分的に変更した第7実施形態について説明する。図22は、第7実施形態の製造工程における図14相当図である。尚、上述した実施形態と同様の構成には、同じ符号を付けて説明を省略する。
(Seventh embodiment)
Next, a seventh embodiment in which the above-described embodiment is partially changed will be described. FIG. 22 is a view corresponding to FIG. 14 in the manufacturing process of the seventh embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structure similar to embodiment mentioned above, and description is abbreviate | omitted.

図22に示すように、第7実施形態による多層プリント配線板1Fでは、電極パッド13aが電子部品13の上下面の両方に設けられている。上側の電極パッド13aは、導電性ペーストからなる貫通電極24によって第2基材3の銅配線22に接続されている。下側の電極パッド13aは、導電性ペーストからなる貫通電極71によって、第1基材2の絶縁性樹脂層11の下面に形成された銅配線15と接続されている。   As shown in FIG. 22, in the multilayer printed wiring board 1 </ b> F according to the seventh embodiment, the electrode pads 13 a are provided on both the upper and lower surfaces of the electronic component 13. The upper electrode pad 13a is connected to the copper wiring 22 of the second substrate 3 by a through electrode 24 made of a conductive paste. The lower electrode pad 13a is connected to the copper wiring 15 formed on the lower surface of the insulating resin layer 11 of the first substrate 2 by a through electrode 71 made of a conductive paste.

以上、実施形態を用いて本発明を詳細に説明したが、本発明は本明細書中に説明した実施形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載及び特許請求の範囲の記載と均等の範囲により決定されるものである。以下、上記実施形態を一部変更した変更形態について説明する。   As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail using embodiment, this invention is not limited to embodiment described in this specification. The scope of the present invention is determined by the description of the scope of claims and the scope equivalent to the description of the scope of claims. Hereinafter, modified embodiments in which the above-described embodiment is partially modified will be described.

上述した各構成の材料、形状、数値等は、一例であって適宜変更可能である。   The materials, shapes, numerical values, and the like of each configuration described above are examples and can be changed as appropriate.

例えば、補強部材を、Fe−Mg−Si合金等の他の形状記憶合金によって構成してもよい。   For example, the reinforcing member may be made of another shape memory alloy such as an Fe—Mg—Si alloy.

また、絶縁性樹脂層は、可撓性樹脂によって構成することが好ましい。例えば、絶縁性樹脂層は、ポリイミド樹脂、液晶ポリマー、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)等の他の樹脂によって構成してもよい。絶縁性樹脂層として、UV(紫外線)照射によって硬化する樹脂を適用してもよい。   The insulating resin layer is preferably made of a flexible resin. For example, the insulating resin layer may be composed of other resins such as polyimide resin, liquid crystal polymer, PET (polyethylene terephthalate), and PEN (polyethylene naphthalate). As the insulating resin layer, a resin that is cured by UV (ultraviolet) irradiation may be applied.

また、片面CCLとしては、銅箔にポリイミドワニスを塗布してワニスを硬化させた、いわゆるキャスティング法により作製された片面CCLを適用してもよい。他の片面CCLとして、ポリイミド樹脂フィルム上にシード層をスパッタした後、シード層上に銅を成長させた片面CCLを適用してもよい。他の片面CCLとして、圧延または電解銅箔とポリイミド樹脂フィルムとを接着剤によって貼り合わせた片面CCLを適用してもよい。   Moreover, as single-sided CCL, you may apply the single-sided CCL produced by what is called the casting method which apply | coated polyimide varnish to copper foil and hardened the varnish. As another single-sided CCL, a single-sided CCL in which copper is grown on the seed layer after the seed layer is sputtered on the polyimide resin film may be applied. As another single-sided CCL, a single-sided CCL obtained by bonding rolled or electrolytic copper foil and a polyimide resin film with an adhesive may be applied.

また、層間接着層としては、ポリイミド系樹脂等からなる他の熱可塑性樹脂フィルム、エポキシ系樹脂等からなる熱硬化性フィルム、ワニス状の樹脂を適用してもよい。   As the interlayer adhesive layer, another thermoplastic resin film made of polyimide resin or the like, a thermosetting film made of epoxy resin or the like, or a varnish-like resin may be applied.

また、ビアホールを形成する際に、炭酸ガスレーザ装置、エキシマレーザ装置等によってレーザを照射してもよい。更に、ビアホールをドリル加工や化学エッチング等によって形成してもよい。   Further, when forming the via hole, laser irradiation may be performed by a carbon dioxide laser device, an excimer laser device, or the like. Further, the via hole may be formed by drilling or chemical etching.

また、ビアホールのプラズマデスミア処理は、Arガス等の不活性ガスによって行ってもよい。更に、薬液等を用いたウェットデスミア処理よりビアホールのスミアを除去してもよい。   Further, the plasma desmear treatment of the via hole may be performed with an inert gas such as Ar gas. Furthermore, smears in via holes may be removed by wet desmear treatment using a chemical solution or the like.

また、貫通電極を構成する導電性ペーストには、電気抵抗の小さい金属粒子と低融点金属とをバインダに混入したものを適用することができる。ここで、電気抵抗が小さい金属粒子には、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、銅(Cu)から選択される少なくとも1種類の金属粒子を適用してもよい。また、低融点金属粒子には、ビスマス(Bi)、インジウム(In)、鉛(Pb)、亜鉛(Zn)から選択される少なくとも1種類の低融点金属粒子を適用してもよい。ここで、低融点金属粒子としては、銅配線と合金化が可能な錫等が好ましい。   Moreover, what mixed the metal particle with low electrical resistance and a low melting-point metal in the binder can be applied to the electrically conductive paste which comprises a penetration electrode. Here, at least one type of metal particles selected from nickel (Ni), silver (Ag), and copper (Cu) may be applied to the metal particles having low electrical resistance. The low melting point metal particles may be at least one kind of low melting point metal particles selected from bismuth (Bi), indium (In), lead (Pb), and zinc (Zn). Here, the low melting point metal particles are preferably tin that can be alloyed with copper wiring.

また、スペーサをポリイミド系樹脂等の軟質材によって構成してもよい。更に、スペーサには、汎用の両面CCL、TH(Through Hole)めっきまたはLVH(Laser Via Hole)めっき等を導通したCCLを適用してもよい。   Moreover, you may comprise a spacer with soft materials, such as a polyimide-type resin. Furthermore, general-purpose double-sided CCL, CCL in which TH (Through Hole) plating or LVH (Laser Via Hole) plating is conducted may be applied to the spacer.

第1実施形態による多層プリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the multilayer printed wiring board by 1st Embodiment. 電子部品近傍の平面図である。It is a top view of an electronic component vicinity. 第1基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 1st substrate. 第1基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 1st substrate. 第1基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 1st substrate. 第1基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 1st substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第3基材の作製方法を説明する図である。It is a figure explaining the preparation methods of the 3rd substrate. 第1〜第3基材の積層工程を説明する図である。It is a figure explaining the lamination process of the 1st-3rd substrate. 第2実施形態における電子部品近傍の平面図である。It is a top view of the electronic component vicinity in 2nd Embodiment. 第3実施形態による多層プリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the multilayer printed wiring board by 3rd Embodiment. 第4実施形態による多層プリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the multilayer printed wiring board by 4th Embodiment. 第5実施形態による多層プリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the multilayer printed wiring board by 5th Embodiment. 多層プリント配線板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of a multilayer printed wiring board. 多層プリント配線板の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of a multilayer printed wiring board. 第6実施形態の製造工程における図14相当図である。FIG. 15 is a view corresponding to FIG. 14 in the manufacturing process of the sixth embodiment. 第7実施形態の製造工程における図14相当図である。FIG. 15 is a view corresponding to FIG. 14 in the manufacturing process of the seventh embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1、1B、1C、1D、1E、1F 多層プリント配線板
2 第1基材
3 第2基材
4 第3基材
5 第4基材
6 第5基材
11、21、31、61、65 絶縁性樹脂層
12、33、63、67 層間接着層
12a、12b、33a 層間接着材料
13 電子部品
13a 電極パッド
14、14C スペーサ
14a 開口部
15、22、32、62、66 銅配線
16、16A、16B、16C 補強部材
16a、16Aa 開口部
24、34、44、71 貫通電極
25、35、45、72 ビアホール
32A、43 銅箔
41 接着材
42 樹脂層
46 半田
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1B, 1C, 1D, 1E, 1F Multilayer printed wiring board 2 1st base material 3 2nd base material 4 3rd base material 5 4th base material 6 5th base materials 11, 21, 31, 61, 65 Insulation Resin layer 12, 33, 63, 67 Interlayer adhesive layer 12a, 12b, 33a Interlayer adhesive material 13 Electronic component 13a Electrode pad 14, 14C Spacer 14a Openings 15, 22, 32, 62, 66 Copper wiring 16, 16A, 16B 16C Reinforcing member 16a, 16Aa Opening 24, 34, 44, 71 Through electrode 25, 35, 45, 72 Via hole 32A, 43 Copper foil 41 Adhesive 42 Resin layer 46 Solder

Claims (4)

第1樹脂層と、
前記第1樹脂層上に接着された電子部品と、
形状記憶合金からなり、平面視にて前記電子部品を囲繞する補強部材と、
前記電子部品及び前記補強部材の周りの空隙に設けられた樹脂を含む接着層と、
前記接着層上に設置された第2樹脂層とを備えたことを特徴とする多層プリント配線板。
A first resin layer;
An electronic component bonded on the first resin layer;
A reinforcing member made of a shape memory alloy and surrounding the electronic component in plan view;
An adhesive layer including a resin provided in a gap around the electronic component and the reinforcing member;
A multilayer printed wiring board, comprising: a second resin layer disposed on the adhesive layer.
前記電子部品を囲繞するスペーサを備え、
前記補強部材は、前記スペーサに埋め込まれ、または、接着されていることを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板。
A spacer surrounding the electronic component;
The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the reinforcing member is embedded in or adhered to the spacer.
前記第1樹脂層及び前記第2樹脂層は、可撓性を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the first resin layer and the second resin layer have flexibility. 前記第1樹脂層または前記第2樹脂層には、ビアホールが形成され、
前記ビアホールには、導電性ペーストまたは金属めっきからなる貫通電極が形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多層プリント配線板。
Via holes are formed in the first resin layer or the second resin layer,
The multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein a through electrode made of a conductive paste or metal plating is formed in the via hole.
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