JP2010033012A - 光源装置及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】非点隔差を低減させることが可能な光源装置、その光源装置を用いることにより高品質な画像を表示可能な画像表示装置を提供すること。
【解決手段】ビーム光を射出する光源部であるＢ光用半導体レーザ１１Ｂと、光源部から射出したビーム光が入射する第１入射面を備え、第１入射面へ入射したビーム光を透過させる第１光学素子である補正用平行平板１４と、第１光学素子を透過したビーム光が入射する第２入射面を備え、第２入射面へ入射したビーム光を透過させる第２光学素子であるダイクロイックミラー１７、１８と、を有し、第１入射面は、第１入射面へ入射するビーム光の主光線に対して第１軸を中心として回転する方向へ傾けられ、第２入射面は、第２入射面へ入射するビーム光の主光線に対して、第１軸に略垂直な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられる。
【選択図】図１

Description

本発明は、光源装置及び画像表示装置、特に、ビーム光の走査により画像を表示する画像表示装置に用いられる光源装置の技術に関する。

近年、プロジェクタは、付加価値を創出する観点から、超高画質化、小型化、低消費電力化に関する開発が進められている。また、半導体レーザの高出力化及び多色化に伴い、レーザ光源を用いるプロジェクタやディスプレイの開発が活発化している。プロジェクタ等の光源として従来用いられているＵＨＰランプと比較すると、レーザ光源は、色再現性が高い、瞬時点灯が可能、長寿命である等の利点がある。また、レーザ光源は、従来の光源に比べて発光効率が高いこと、少ない光学要素で構成できエネルギー損失が低減できることから、低消費電力化にも適している。

レーザ光源を用いる画像表示装置として、画像信号に応じて変調されたレーザ光を二次元方向へ走査させるものがある。一般に、レーザ光の走査により画像を表示するには、それぞれ異なるレーザ光源から射出した複数の色光を一本の光線に合成し、走査光学系により走査させる構成が採用されている（例えば、特許文献１参照）。例えば、特許文献１の図５に示されるように、平行平板であるダイクロイックミラーを用いると、簡易な構成により複数の色光を合成できる。レーザ光の主光線に対して４５度傾けて配置されたダイクロイックミラーに対して二方向からレーザ光を入射させることにより、ダイクロイックミラーを透過する色光とダイクロイックミラーで反射する色光とを合成する。

特開２００３−２１８００号公報

レーザ光源は、レーザ光の回折による広がりの影響を考慮して、例えば、被照射面上でビームウェストを形成するように若干集光させたレーザ光を射出する。これにより、走査光学系から離れた被照射面の位置に、画素に相当する面積のスポットを形成する。レーザ光源から発散しているレーザ光や、集光光学系で集光させたレーザ光を、傾けて配置された平行平板へ透過させると、非点隔差を増大させることとなる。非点隔差は、互いに垂直な二方向について結像位置がずれる場合の、結像位置間の距離を指す。非点隔差の増大は、被照射面における所望の径のスポットの形成、集光位置の正確な調整を困難にさせ、画像の品質を低下させるという問題を生じる。本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、非点隔差を低減させることが可能な光源装置、その光源装置を用いることにより高品質な画像を表示可能な画像表示装置を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る光源装置は、ビーム光を射出する光源部と、光源部から射出したビーム光が入射する第１入射面を備え、第１入射面へ入射したビーム光を透過させる第１光学素子と、第１光学素子を透過したビーム光が入射する第２入射面を備え、第２入射面へ入射したビーム光を透過させる第２光学素子と、を有し、第１入射面は、第１入射面へ入射するビーム光の主光線に対して第１軸を中心として回転する方向へ傾けられ、第２入射面は、第２入射面へ入射するビーム光の主光線に対して、第１軸に略垂直な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられることを特徴とする。

第１光学素子及び第２光学素子は、互いに垂直な方向について非点隔差を生じさせることにより、互いの非点隔差を補償し合う。第１入射面及び第２入射面のうち少なくとも一方の傾きを調整することにより、光源装置において生じる非点隔差を低減させる。これにより、非点隔差を低減させることが可能な光源装置を得られる。

また、本発明の好ましい態様としては、第１光学素子は、第１入射面へ入射した光を透過させる平行平板であることが望ましい。これにより、第１光学素子の傾きを適宜調整することにより、第２光学素子で生じる非点隔差を低減させることができる。

また、本発明の好ましい態様としては、第２光学素子は、第２入射面へ入射した光を透過させる平行平板であって、第１光学素子の厚さは、第２光学素子の厚さと略同じであることが望ましい。これにより、第１光学素子と第２光学素子とで、非点隔差を打ち消し合う構成にできる。

また、本発明の好ましい態様としては、第２光学素子は、第２入射面へ入射した光を透過させる平行平板であって、第１軸を中心とする回転方向について第１入射面及び主光線がなす角度は、第２軸を中心とする回転方向について第２入射面及び主光線がなす角度と略同じであることが望ましい。これにより、第１光学素子と第２光学素子とで、非点隔差を打ち消し合う構成にできる。

また、本発明の好ましい態様としては、第１光学素子へ第１ビーム光を入射させる光源部である第１光源部と、第２光学素子へ第２ビーム光を入射させる第２光源部と、を有し、第２光学素子は、第１光源部から射出し第１光学素子を透過した第１ビーム光を透過させ、かつ第２光源部から射出し第２入射面とは反対側の面へ入射した第２ビーム光を反射させることにより、第１ビーム光及び第２ビーム光を合成することが望ましい。これにより、異なる光源部からのビーム光を合成するための構成によって発生する非点隔差の低減が可能となる。

また、本発明の好ましい態様としては、第２光学素子の射出側に配置され、第１ビーム光及び第２ビーム光を集光する集光光学系を有することが望ましい。各ビーム光について共通の集光光学系を用いることで、光源装置は、少ない部品点数の小型かつ簡易な構成により、集光された各ビーム光を射出することができる。

また、本発明の好ましい態様としては、第１ビーム光は第１色光であって、第２ビーム光は第２色光であって、第２光学素子は、第１色光を透過させ第２色光を反射させるダイクロイックミラーであることが望ましい。これにより、複数の色光を一本の光線に合成することができる。

また、本発明の好ましい態様としては、第３色光を射出する第３光源部と、第１色光及び第２色光を透過させ第３色光を反射させるダイクロイックミラーを有することを特徴とする。これにより、第１色光及び第２色光と第３色光とを合成することができる。

また、本発明の好ましい態様としては、第１入射面で反射した光を検出する光検出部を有し、光源部が射出するビーム光の光量が、光検出部による検出結果に基づいて制御されることが望ましい。これにより、第１入射面で反射した光を有効に利用して、安定した光量のビーム光を射出することができる。

また、本発明の好ましい態様としては、第１色光を射出する第１光源部と、第２色光を射出する第２光源部と、第２光源部から射出した第２色光を分岐させる第２色光用光分岐部と、を有し、第１色光は、第１光学素子を用いて分岐され、第２色光用光分岐部は、第２色光の主光線に対して略垂直な入射面を備えることが望ましい。これにより、非点隔差を増大させずに第２色光の一部を光検出部へ入射させる構成にできる。

さらに、本発明に係る光源装置は、ビーム光を射出する光源部と、光源部から射出したビーム光が入射する第１入射面を備え、第１入射面へ入射したビーム光を透過させる第１光学素子と、第１光学素子を透過したビーム光が入射する第２入射面を備え、第２入射面へ入射したビーム光を透過させる第２光学素子と、を有し、第１入射面は、第１入射面へ入射するビーム光の主光線に対して第１軸を中心として回転する方向へ傾けられ、第２入射面は、第２入射面へ入射するビーム光の主光線に対して、第１軸に略垂直な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられ、第１光学素子を保持することにより、第１入射面と、第１入射面へ入射するビーム光の主光線とがなす角度を定める保持部を有することを特徴とする。

第１光学素子は、第２光学素子で生じる非点隔差を低減させるように傾きが調整される。保持部は、傾きが調整された状態の第１光学素子を保持する。これにより、非点隔差を低減させる構成を実現することができる。

また、本発明の好ましい態様としては、第１入射面と、第１入射面へ入射するビーム光の主光線とがなす角度が調整された状態で第１光学素子を固定する固定部を有することが望ましい。これにより、非点隔差を低減させる状態で第１光学素子を保持することができる。

また、本発明の好ましい態様としては、保持部は、基材に設置され、基材に対する保持部の傾きを調整するための傾き調整部を有することが望ましい。傾き調整部による保持部の傾きの調整により、第１入射面とビーム光の主光線とがなす角度を調整できる。

また、本発明の好ましい態様としては、保持部に対する前記第１光学素子の傾きを調整するための傾き調整部を有することが望ましい。傾き調整部による第１光学素子の傾きの調整により、第１入射面とビーム光の主光線とがなす角度を調整できる。

さらに、本発明に係る画像表示装置は、ビーム光を射出する上記の光源装置と、光源装置から射出したビーム光を走査させる走査光学系と、を有し、走査光学系によるビーム光の走査により画像を表示することを特徴とする。上記の光源装置を用いることにより、非点隔差を低減させ、所望の径のスポットを形成すること、集光位置を正確に調整することが可能となる。これにより、高品質な画像を表示可能な画像表示装置を得られる。

本発明の実施例１に係る画像表示装置の概略構成を示す図である。 図１に示す光源装置の上面構成及び走査光学系を示す図である。 Ｂ光の光路に設けられた各要素の側面構成を示す図である。 Ｇ光の光路に設けられた各要素の側面構成を示す図である。 実施例１の変形例に係る光源装置の上面構成及び走査光学系を示す図である。 本発明の実施例２に係る光源装置の上面構成及び走査光学系を示す図である。 Ｂ光の光路に設けられた各要素及び光検出部の側面構成を示す図である。 Ｇ光の光路に設けられた各要素及び光検出部の側面構成を示す図である。 Ｒ光の光路に設けられた各要素及び光検出部の側面構成を示す図である。 本発明の実施例３に係る光源装置の上面構成及び走査光学系を示す図である。 Ｂ光の光路に設けられた各要素の側面構成を示す図である。 本発明の実施例４に係る光源装置の特徴部分を模式的に表した図である。 本発明の実施例５に係る光源装置の特徴部分を模式的に表した図である。

以下に図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する。

図１は、本発明の実施例１に係る画像表示装置１の概略構成を示す。画像表示装置１は、画像信号に応じて変調されたレーザ光を走査させることにより画像を表示する。画像表示装置１は、複数の色光を一本の光線に合成して射出する光源装置１０と、光源装置１０から射出した各色光を走査させる走査光学系２０とを有する。光源装置１０が有する青色（Ｂ）光用半導体レーザ１１Ｂ、緑色（Ｇ）光用半導体レーザ１１Ｇ、赤色（Ｒ）光用半導体レーザ１１Ｒは、ビーム光であるレーザ光を射出する光源部である。図中、光源装置１０からレーザ光を射出する方向をＺ軸方向とする。Ｘ軸は、Ｚ軸に垂直な軸である。Ｙ軸は、Ｚ軸及びＸ軸に垂直な軸である。

Ｂ光用半導体レーザ１１Ｂは、画像信号に応じて変調されたＢ光をＸ軸方向へ射出する。画像信号に応じた変調は、振幅変調、パルス幅変調のいずれを用いても良い。コリメータ光学系１２Ｂは、Ｂ光用半導体レーザ１１ＢからのＢ光を平行化する。集光光学系１３Ｂは、コリメータ光学系１２Ｂで平行化されたＢ光を集光することにより、スクリーン２５の被照射面付近にてビームウェストを形成する。コリメータ光学系１２Ｂ及び集光光学系１３Ｂは、平行化及び集光の機能を持つ共通の光学系としても良い。

補正用平行平板１４は、集光光学系１３ＢからのＢ光を透過させる。補正用平行平板１４は、透明部材、例えばガラスを用いて構成された平行平板であって、Ｂ光についての非点隔差の補正のために設けられている。Ｂ光用反射ミラー１６は、補正用平行平板１４を透過したＢ光を反射させる。Ｂ光用反射ミラー１６は、Ｂ光を反射させる高反射性部材、例えば誘電体多層膜を基材に形成して構成されている。Ｂ光は、Ｂ光用反射ミラー１６での反射により光路が略９０度折り曲げられ、Ｘ軸方向からＺ軸方向へ進行方向が変換される。

Ｇ光用半導体レーザ１１Ｇは、画像信号に応じて変調されたＧ光をＸ軸方向へ射出する。コリメータ光学系１２Ｇは、Ｇ光用半導体レーザ１１ＧからのＧ光を平行化する。集光光学系１３Ｇは、コリメータ光学系１２Ｇで平行化されたＧ光を集光することにより、スクリーン２５の被照射面付近にてビームウェストを形成する。コリメータ光学系１２Ｇ及び集光光学系１３Ｇは、平行化及び集光の機能を持つ共通の光学系としても良い。

補正用平行平板１５は、集光光学系１３ＧからのＧ光を透過させる。補正用平行平板１５は、透明部材、例えばガラスを用いて構成された平行平板であって、Ｇ光についての非点隔差の補正のために設けられている。ダイクロイックミラー１７は、補正用平行平板１５からのＧ光、及びＢ光用反射ミラー１６からのＢ光が入射する位置に配置されている。ダイクロイックミラー１７は、Ｂ光を透過させＧ光を反射させることにより、Ｂ光及びＧ光を合成する。Ｇ光は、ダイクロイックミラー１７での反射により光路が略９０度折り曲げられ、Ｘ軸方向からＺ軸方向へ進行方向が変換される。ダイクロイックミラー１７は、透明部材、例えばガラスを用いて構成された平行平板に、波長選択膜、例えば誘電体多層膜を形成して構成されている。

Ｒ光用半導体レーザ１１Ｒは、画像信号に応じて変調されたＲ光をＸ軸方向へ射出する。コリメータ光学系１２Ｒは、Ｒ光用半導体レーザ１１ＲからのＲ光を平行化する。集光光学系１３Ｒは、コリメータ光学系１２Ｒで平行化されたＲ光を集光することにより、スクリーン２５の被照射面付近にてビームウェストを形成する。コリメータ光学系１２Ｒ及び集光光学系１３Ｒは、平行化及び集光の機能を持つ共通の光学系としても良い。

ダイクロイックミラー１８は、集光光学系１３ＲからのＲ光、及びダイクロイックミラー１７で合成されたＢ光及びＧ光が入射する位置に配置されている。ダイクロイックミラー１８は、Ｂ光、Ｇ光を透過させＲ光を反射させることにより、Ｂ光、Ｇ光、及びＲ光を合成する。Ｒ光は、ダイクロイックミラー１８での反射により光路が略９０度折り曲げられ、Ｘ軸方向からＺ軸方向へ進行方向が変換される。ダイクロイックミラー１８は、透明部材、例えばガラスを用いて構成された平行平板に、波長選択膜、例えば誘電体多層膜を形成して構成されている。光源装置１０は、二つのダイクロイックミラー１７、１８を用いることにより、各色光を一本の光線に合成する。

走査光学系２０は、第１走査部２１及び第２走査部２２を有する。第１走査部２１は、第１走査方向へ光を走査させる。第１走査方向は、例えば水平方向である。第２走査部２２は、第２走査方向へ光を走査させる。第２走査方向は、第１走査方向に垂直な方向であって、例えば垂直方向である。第１走査部２１及び第２走査部２２は、スクリーン２５の被照射面において二次元方向へ光を走査させる。

第１走査部２１、第２走査部２２は、回転軸を中心として回動する可動ミラーを用いて、レーザ光を走査させる。第１走査部２１は、例えば、ＭＥＭＳ技術により作成されたＭＥＭＳミラーである。第２走査部２２は、例えばガルバノミラーである。走査光学系２０は、二次元方向へ光を走査させるものであれば良く、本実施例で説明するものに限られない。走査光学系２０は、例えば、ポリゴンミラーを用いるものや、互いに垂直な二つの回転軸を中心として回動する可動ミラーを用いるものであっても良い。

図２は、図１に示す光源装置１０の上面構成及び走査光学系２０を示す。ダイクロイックミラー１７は、Ｂ光用反射ミラー１６からのＢ光が入射する第１面３１、及び第１面３１とは反対側の第２面３２を有する。ダイクロイックミラー１７は、第１面３１へ入射したレーザ光を透過させ、第２面３２から射出させる。図示するＸＺ面内において、第１面３１へ入射するＢ光の主光線と第１面３１とがなす角度θ１は、略４５度である。

ダイクロイックミラー１７は、第１面３１へ入射するＢ光の主光線に対して、Ｙ軸に略平行な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられている。補正用平行平板１５からのＧ光は、ダイクロイックミラー１７の第２面３２で反射する。第１面３１へ入射するＢ光の主光線と、第２面３２へ入射するＧ光の主光線とは、略垂直である。Ｇ光の主光線は第２面３２での反射により略９０度折り曲げられ、ダイクロイックミラー１７を透過したＢ光の主光線と合成される。なお、第１面３１には、Ｂ光の反射を防止するための反射防止膜（ＡＲコート）を設けることが望ましい。

ダイクロイックミラー１８は、ダイクロイックミラー１７からのＢ光及びＧ光が入射する第１面３３、及び第１面３３とは反対側の第２面３４を有する。ダイクロイックミラー１８は、第１面３３へ入射したレーザ光を透過させ、第２面３４から射出させる。図示するＸＺ面内において、第１面３３へ入射するＢ光及びＧ光の主光線と第１面３３とがなす角度θ２は、略４５度である。

ダイクロイックミラー１８は、第１面３３へ入射するＢ光及びＧ光の主光線に対して、Ｙ軸に略平行な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられている。集光光学系１３ＲからのＲ光は、ダイクロイックミラー１８の第２面３４で反射する。第１面３３へ入射するＢ光及びＧ光の主光線と、第２面３４へ入射するＲ光の主光線とは、略垂直である。Ｒ光の主光線は第２面３４での反射により略９０度折り曲げられ、ダイクロイックミラー１８を透過したＢ光及びＧ光の主光線と合成される。なお、第１面３３には、Ｂ光及びＧ光の反射を防止するためのＡＲコートを設けることが望ましい。

図３は、光源装置１０のうちＢ光用半導体レーザ１１ＢからＢ光用反射ミラー１６までの光路に設けられた各要素の側面構成を示す。補正用平行平板１４は、集光光学系１３ＢからのＢ光が入射する第１面３５、及び第１面３５とは反対側の第２面３６を有する。補正用平行平板１４は、第１面３５へ入射したレーザ光を透過させ、第２面３６から射出させる。図示するＸＹ面内において、第１面３５へ入射するＢ光の主光線と第１面３５とがなす角度θ３は、略４５度である。補正用平行平板１４は、第１面３５へ入射するＢ光の主光線に対して、Ｚ軸に略平行な第１軸を中心として回転する方向へ傾けられている。なお、第１面３５及び第２面３６には、Ｂ光の反射を防止するためのＡＲコートを設けることが望ましい。

Ｂ光用半導体レーザ１１ＢからのＢ光は、ダイクロイックミラー１７の第１面３１、及びダイクロイックミラー１８の第１面３３へいずれも斜めに入射する。集光光学系１３Ｂにより集光させたレーザ光をダイクロイックミラー１７及びダイクロイックミラー１８へ透過させることにより、Ｘ軸方向のビーム径についての焦点位置が移動することとなる。補正用平行平板１４は、第２軸を中心として回転する方向へ傾けられたダイクロイックミラー１７、ダイクロイックミラー１８に対して、第２軸に垂直な第１軸を中心として回転する方向へ傾けて配置されている。集光光学系１３Ｂにより集光させたレーザ光を補正用平行平板１４へ透過させることにより、Ｙ軸方向のビーム径についての焦点位置を移動させる。

Ｂ光用半導体レーザ１１ＢからのＢ光に着目すると、補正用平行平板１４は、第１入射面である第１面３５を備える第１光学素子として機能する。ダイクロイックミラー１７及びダイクロイックミラー１８は、第２入射面である第１面３１、３３を備える第２光学素子として機能する。Ｂ光用半導体レーザ１１Ｂは、第１光学素子へ第１色光であるＢ光を入射させる第１光源部として機能する。Ｇ光用半導体レーザ１１Ｇは、第２光学素子へ第２色光であるＧ光を入射させる第２光源部として機能する。Ｒ光用半導体レーザ１１Ｒは、第３色光であるＲ光を射出する第３光源部として機能する。

補正用平行平板１４の第１面３５及び主光線がなす角度θ３と、ダイクロイックミラー１７の第１面３１及び主光線がなす角度θ１と、ダイクロイックミラー１８の第１面３３及び主光線がなす角度θ２とは、いずれも略同じである。補正用平行平板１４の厚さｄ３は、ダイクロイックミラー１７の厚さｄ１と、ダイクロイックミラー１８の厚さｄ２とを合わせた厚さに略一致する。

このように補正用平行平板１４の厚さｄ３及び傾きを設定することにより、ダイクロイックミラー１７及びダイクロイックミラー１８によるＸ軸方向のビーム径についての焦点位置の移動量と、補正用平行平板１４によるＹ軸方向のビーム径についての焦点位置の移動量とを略一致させる。ダイクロイックミラー１７、ダイクロイックミラー１８で生じる非点隔差を補正用平行平板１４により打ち消すことで、Ｂ光についての非点隔差を低減させることができる。

図４は、光源装置１０のうちＧ光用半導体レーザ１１Ｇからダイクロイックミラー１７までの光路に設けられた各要素の側面構成を示す。補正用平行平板１５は、集光光学系１３ＧからのＧ光が入射する第１面３７、及び第１面３７とは反対側の第２面３８を有する。補正用平行平板１５は、第１面３７へ入射したレーザ光を透過させ、第２面３８から射出させる。図示するＸＹ面内において、第１面３７へ入射するＧ光の主光線と第１面３７とがなす角度θ４は、略４５度である。補正用平行平板１５は、第１面３７へ入射するＢ光の主光線に対して、Ｚ軸に略平行な第１軸を中心として回転する方向へ傾けられている。なお、第１面３７及び第２面３８には、Ｇ光の反射を防止するためのＡＲコートを設けることが望ましい。

Ｇ光用半導体レーザ１１ＧからのＧ光は、ダイクロイックミラー１８の第１面３３へ斜めに入射する。集光光学系１３Ｇにより集光させたレーザ光をダイクロイックミラー１８へ透過させることにより、Ｘ軸方向のビーム径についての焦点位置が移動することとなる。補正用平行平板１５は、第２軸を中心として回転する方向へ傾けられたダイクロイックミラー１８に対して、第２軸に垂直な第１軸を中心として回転する方向へ傾けて配置されている。集光光学系１３Ｇにより集光させたレーザ光を補正用平行平板１５へ透過させることにより、Ｙ軸方向のビーム径についての焦点位置を移動させる。

Ｇ光用半導体レーザ１１ＧからのＧ光に着目すると、補正用平行平板１５は、第１入射面である第１面３７を備える第１光学素子として機能する。ダイクロイックミラー１８は、第２入射面である第１面３３を備える第２光学素子として機能する。Ｇ光用半導体レーザ１１Ｇは、第１光学素子へ第１色光であるＧ光を入射させる第１光源部として機能する。Ｒ光用半導体レーザ１１Ｒは、第２光学素子へ第２色光であるＲ光を入射させる第２光源部として機能する。

補正用平行平板１５の第１面３７及び主光線がなす角度θ４と、ダイクロイックミラー１８の第１面３３及び主光線がなす角度θ２とは、略同じである。補正用平行平板１４の厚さｄ４は、ダイクロイックミラー１８の厚さｄ２に略一致する。このように補正用平行平板１５の厚さｄ４及び傾きを設定することにより、ダイクロイックミラー１８によるＸ軸方向のビーム径についての焦点位置の移動量と、補正用平行平板１５によるＹ軸方向のビーム径についての焦点位置の移動量とを略一致させる。ダイクロイックミラー１８で生じる非点隔差を補正用平行平板１５により打ち消すことで、Ｇ光についても非点隔差を低減させることができる。Ｒ光を斜めに入射させるとともに透過させる光学素子は光源装置１０に設けられていないことから、Ｒ光については、光学素子の透過による非点隔差の発生を考慮しなくても良い。このため、Ｒ光については補正用平行平板の設置が不要となる。

このように、第１光学素子及び第２光学素子が互いに垂直な方向について非点隔差を生じさせることにより、互いに非点隔差を補償し合う。これにより、非点隔差を低減させることができるという効果を奏する。非点隔差を低減させることにより、所望の径のスポットを形成すること、集光位置を正確に調整することが可能となるため、画像表示装置１は、高品質な画像を表示することができる。

補正用平行平板１４、１５は、ダイクロイックミラー１７、１８のみならず他の要素による焦点位置の移動も含めて、非点隔差を補正するものであっても良い。他の要素による非点隔差とは、例えば、端面発光型の半導体レーザ固有の非点隔差に起因する非点隔差である。さらにＲ光の光路についても、他の要素による焦点位置の移動を補正する必要があれば、集光光学系１３Ｒとダイクロイックミラー１８との間に平行平板を設けても良い。補正用平行平板１４、１５の傾き及び厚さは、レーザ光の光路中に配置する光学素子の態様に応じて、適宜調整することとしても良い。光源装置１０は、各色光用半導体レーザ１１Ｂ、１１Ｇ、１１Ｒの配置を適宜変更しても良い。例えば、Ｚ軸方向へＢ光を射出させる向きでＢ光用半導体レーザ１１Ｂを配置することとし、Ｂ光用反射ミラー１６を省略することとしても良い。また、各色光用半導体レーザ１１Ｂ、１１Ｇ、１１Ｒを適宜入れ換えても良い。ダイクロイックミラー１７、１８の透過反射特性は、各色光用半導体レーザ１１Ｂ、１１Ｇ、１１Ｒの配置に応じて適宜設定される。

補正用平行平板１４は、少なくともＢ光用半導体レーザ１１Ｂ及びダイクロイックミラー１７の間の光路中に設けられていれば良く、特に、集光光学系１３Ｂ及びダイクロイックミラー１７の間に設けることが望ましい。補正用平行平板１５は、少なくともＧ光用半導体レーザ１１Ｇ及びダイクロイックミラー１８の間の光路中に設けられていれば良く、特に、集光光学系１３Ｇ及びダイクロイックミラー１８の間に設けることが望ましい。

図５は、本実施例の変形例に係る光源装置４０の上面構成及び走査光学系２０を示す。本変形例は、Ｂ光用反射ミラー１６及びダイクロイックミラー１７の間の光路中、ダイクロイックミラー１７及びダイクロイックミラー１８の間の光路中にそれぞれ補正用平行平板４１、４２が設けられたことを特徴とする。補正用平行平板４１、４２は、透明部材、例えばガラスを用いて構成された平行平板である。補正用平行平板４１は、Ｇ光についての非点隔差の補正に用いられる。補正用平行平板４２は、Ｇ光及びＢ光についての非点隔差の補正に用いられる。

補正用平行平板４１は、補正用平行平板４１の第１面へ入射するＢ光の主光線に対して、Ｘ軸に略平行な第１軸を中心として回転する方向へ傾けられている。補正用平行平板４１の第１面及び主光線がなす角度と、ダイクロイックミラー１７の第１面３１及び主光線がなす角度と、ダイクロイックミラー１８の第１面３３及び主光線がなす角度とは、いずれも略同じである。補正用平行平板４１の厚さは、ダイクロイックミラー１７の厚さに略一致する。なお、上記の光源装置１０の場合、Ｂ光用反射ミラー１６における光路の折り曲げのために、補正用平行平板１４の第１軸はＺ軸に略平行となる向きに変換されている。Ｂ光用反射ミラー１６での光路の折り曲げが無い場合を想定すると、上記の光源装置１０と本変形例に係る光源装置４０とで、第１軸の向きは一致する。

補正用平行平板４２は、補正用平行平板４２の第１面へ入射するＢ光及びＧ光の主光線に対して、Ｘ軸に略平行な第１軸を中心として回転する方向へ傾けられている。補正用平行平板４２の第１面及び主光線がなす角度と、ダイクロイックミラー１７の第１面３１及び主光線がなす角度と、ダイクロイックミラー１８の第１面３３及び主光線がなす角度とは、いずれも略同じである。補正用平行平板４２の厚さは、ダイクロイックミラー１７の厚さに略一致する。なお、上記の光源装置１０の場合、ダイクロイックミラー１７における光路の折り曲げのために、補正用平行平板１５の第１軸はＺ軸に略平行となる向きに変換されている。本変形例の場合、略同じ厚さで形成された補正用平行平板４１及び補正用平行平板４２を用いて、非点隔差を低減させることができる。

図６は、本発明の実施例２に係る光源装置５０の上面構成及び走査光学系２０を示す。本実施例に係る光源装置５０は、上記実施例１の画像表示装置１に適用される。本実施例は、補正用平行平板１４、１５で反射した光を用いて光源部の自動出力制御（Automatic
Power Control；ＡＰＣ）を行うことを特徴とする。上記実施例１と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、本実施例に係る光源装置５０は、集光光学系１３Ｒ及びダイクロイックミラー１８の間の光路中に設けられたＲ光用ビームスプリッタ５１を有する。

図７は、光源装置５０のうちＢ光用半導体レーザ１１ＢからＢ光用反射ミラー１６までの光路に設けられた各要素及び光検出部５２の側面構成を示す。補正用平行平板１４は、第１面３５へ入射した光の一部を第１面３５で反射させ、他の一部を透過させる。補正用平行平板１４は、Ｂ光についての非点隔差を補正する他、集光光学系１３Ｂからの光の一部を光検出部５２の方向へ分岐するビームスプリッタとして機能する。補正用平行平板１４は、第１面３５のＡＲコートを省略することで、第１面３５へ入射した光のうちの僅かな一部を表面反射させ、第１面３５へ入射した光の殆どを透過させる構成にできる。光検出部５２は、第１面３５で反射した光が入射する位置に設けられている。光検出部５２は、第１面３５で反射した光を検出する。

図８は、光源装置５０のうちＧ光用半導体レーザ１１Ｇからダイクロイックミラー１７までの光路に設けられた各要素及び光検出部５３の側面構成を示す。補正用平行平板１５は、第１面３７へ入射した光の一部を第１面３７で反射させ、他の一部を透過させる。補正用平行平板１５は、Ｇ光についての非点隔差を補正する他、集光光学系１３Ｇからの光の一部を光検出部５３の方向へ分岐するビームスプリッタとして機能する。補正用平行平板１５は、第１面３７のＡＲコートを省略することで、第１面３７へ入射した光のうちの僅かな一部を表面反射させ、第１面３７へ入射した光の殆どを透過させる構成にできる。光検出部５３は、第１面３７で反射した光が入射する位置に設けられている。光検出部５３は、第１面３７で反射した光を検出する。

図９は、光源装置５０のうちＲ光用半導体レーザ１１Ｒからダイクロイックミラー１８までの光路に設けられた各要素及び光検出部５５の側面構成を示す。Ｒ光用ビームスプリッタ５１は、第２光源部であるＲ光用半導体レーザ１１Ｒから射出した第２色光であるＲ光を分岐させる第２色光用光分岐部として機能する。Ｒ光用ビームスプリッタ５１は、二つの直角プリズムの接合面に形成された誘電体多層膜５４を有する。誘電体多層膜５４は、集光光学系１３ＲからのＲ光の主光線に対して略４５度の傾きをなして設けられている。Ｒ光用ビームスプリッタ５１は、集光光学系１３Ｒから入射した光の一部を誘電体多層膜５４で反射させ、他の一部を透過させる。

集光光学系１３ＲからのＲ光の主光線に対して略垂直な入射面及び射出面を備えるＲ光用ビームスプリッタ５１を用いることで、非点隔差を増大させずにＲ光の一部を光検出部５５へ入射させる構成にできる。光検出部５５は、誘電体多層膜５４で反射した光が入射する位置に設けられている。光検出部５５は、Ｒ光用ビームスプリッタ５１で分岐された光を検出する。なお、上記の光検出部５２、５３、５５は、入射した光を電子信号に変換する受光素子、例えば、フォトダイオードを用いて構成されている。

図６に戻って、光源装置５０、又は光源装置５０を有する画像表示装置１は、各色光用半導体レーザ１１Ｂ、１１Ｇ、１１Ｒの駆動を制御する不図示の制御部を有する。制御部は、Ｂ光を検出する光検出部５２による検出結果に基づいて、Ｂ光用半導体レーザ１１Ｂをフィードバック制御する。また、制御部は、Ｇ光を検出する光検出部５３による検出結果に基づいて、Ｇ光用半導体レーザ１１Ｇをフィードバック制御する。さらに、制御部は、Ｒ光を検出する光検出部５５による検出結果に基づいて、Ｒ光用半導体レーザ１１Ｒをフィードバック制御する。各色光用半導体レーザ１１Ｂ、１１Ｇ、１１Ｒが射出するレーザ光の光量は、ＡＰＣにより安定化される。

これにより、本実施例に係る光源装置５０は、非点隔差を低減可能である他、補正用平行平板１４、１５の第１面３５、３７で反射した光を有効に利用して、安定した光量のレーザ光を射出することができる。各色光の光量を安定化させることにより、画像表示装置１は、良好な色バランスで高品質な画像を表示することができる。

光源装置５０は、ダイクロイックミラー１７、１８に起因する非点隔差を、第１光学素子として機能する補正用平行平板１４、１５により補正するものに限られない。光検出部５２、５３へ光を導くために設けられた第１光学素子である平行平板に起因する非点隔差を、第２光学素子として機能するダイクロイックミラー１７、１８によって補正することとしても良い。第１光学素子及び第２光学素子は、互いの非点隔差を補償し合うものであれば良く、第１光学素子の第１入射面、及び第２光学素子の第２入射面のうち少なくとも一方の傾きを調整することで、光源装置５０において生じる非点隔差の低減を図れる。第１光学素子、第２光学素子は、入射面に対して主光線が傾けられた状態で入射した光を透過させるいずれの光学素子であっても良い。また、Ｒ光についての他の要素で発生する非点隔差を補正する場合においては、Ｒ光用ビームスプリッタ５１に代えて、入射面にＡＲコートを施さない平行平板を用いても良い。

図１０は、本発明の実施例３に係る光源装置６０の上面構成及び走査光学系２０を示す。図１１は、光源装置６０のうちＢ光用半導体レーザ１１ＢからＢ光用反射ミラー１６までの光路に設けられた各要素の側面構成を示す。本実施例に係る光源装置６０は、上記実施例１の画像表示装置１に適用される。本実施例は、第２光学素子として機能するダイクロイックミラー１８の射出側に配置された集光光学系６１を有することを特徴とする。上記実施例１と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。光源装置６０のうちＧ光用半導体レーザ１１Ｇからダイクロイックミラー１７までの光路に設けられた各要素の側面構成は、図１１に示すＢ光についての各要素の側面構成と同様である。

集光光学系６１は、平行化及び集光の機能を持つ光学系である。集光光学系６１は、Ｂ光、Ｇ光、及びＲ光を平行化及び集光させる。一本の光線に合成された各色光の光路中に集光光学系６１を配置することで、共通の集光光学系６１を用いて各色光を平行化及び集光させることができる。これにより、光源装置６０は、少ない部品点数の小型かつ簡易な構成により、平行化及び集光された各色光を射出することができる。なお、集光光学系６１は、平行化のためのコリメータ光学系と、集光のための集光光学系とに分離させることとしても良い。上記各実施例に係る光源装置は、光源部が半導体レーザである場合に限られず、半導体レーザ励起固体（Diode Pumped Solid State；ＤＰＳＳ）レーザや、波長変換素子を用いて波長変換されたレーザを射出するもの等であっても良い。上記各実施例に係る光源装置は、画像表示装置以外に、レーザ光を走査させる電子機器、例えばレーザプリンタ等に適用しても良い。

図１２は、本発明の実施例４に係る光源装置の特徴部分を模式的に表した図である。本実施例は、第１光学素子７２を保持する保持部７４を有することを特徴とする。本実施例で説明する構成は、上記実施例１〜３のいずれの構成に適用しても良い。図中、本実施例の特徴部分を構成する第１光学素子７２、保持部７４、基材７５、傾き調整部７６、固定部７７は、断面により表している。

光源部である半導体レーザ７１は、画像信号に応じて変調されたレーザ光をＸ軸方向へ射出する。第１光学素子７２は、半導体レーザ７１からのレーザ光を透過させる。第１光学素子７２は、レーザ光が入射する第１入射面７８、レーザ光を射出させる射出面７９を備える。第１入射面７８は、第１入射面７８へ入射するレーザ光の主光線に対して、Ｚ軸に略平行な第１軸を中心として回転する方向へ傾けられている。第１入射面７８と、第１入射面７８へ入射するレーザ光の主光線とは、角度θ５をなしている。第２光学素子７３は、第１光学素子７２からのレーザ光を透過させる。第２光学素子７３のうちレーザ光が入射する第２入射面は、第２入射面へ入射するレーザ光の主光線に対して、Ｙ軸に略平行な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられている。

保持部７４は、基材７５に設置されている。保持部７４には、半導体レーザ７１からのレーザ光を通過させる空洞が形成されている。第１光学素子７２は、保持部７４に形成された空洞を覆うようにして、保持部７４に設置されている。保持部７４は、第１光学素子７２を保持することにより、角度θ５を定めている。第１光学素子７２と保持部７４とは、例えば、接着剤を用いた貼り合わせにより一体とされている。この他、第１光学素子７２と保持部７４とは、いずれの手法により一体としても良く、例えば、保持部７４に第１光学素子７２を嵌め合わせて一体としても良い。

傾き調整部７６は、第１光学素子７２を設置する際に、基材７５に対する保持部７４の傾きを調整するために設けられている。傾き調整部７６としては、例えば、２つのネジを用いる。ネジは、基材７５のうち保持部７４が設置された側とは反対側から、保持部７４が設けられた側へ基材７５を貫いている。２つのネジは、図示する断面において、Ｘ軸方向へ並列させて設けられている。固定部７７は、基材７５に保持部７４を固定する。固定部７７は、例えば、紫外線硬化樹脂を硬化させたものである。

次に、第１光学素子７２を設置する際における角度θ５の調整について説明する。傾き調整部７６を構成するネジは、基材７５で締め込まれることにより、基材７５から保持部７４を押し上げる。基材７５に対する保持部７４の傾きは、各ネジを締め込む加減に応じて微調整される。基材７５に対する保持部７４の傾きが適宜調整されることにより、保持部７４は、第２光学素子７３で生じる非点隔差を補正させる最適な角度θ５で第１光学素子７２を保持する。

基材７５に対する保持部７４の傾きを調整した後、保持部７４及び基材７５の間に紫外線硬化樹脂を注入し、紫外線を照射させることにより、紫外線硬化樹脂を硬化させる。紫外線硬化樹脂を硬化させることにより、保持部７４及び基材７５の間に固定部７７を形成する。互いに一体とされた保持部７４と第１光学素子７２とは、固定部７７によって基材７５に固定される。このようにして、非点隔差を補正させる最適な角度θ５をなす状態で第１光学素子７２を固定させることにより、光源装置は、非点隔差を低減可能な構成にできる。

本実施例で説明する保持部７４は、非点隔差の補正のための要素、例えば、補正用平行平板１４、１５（図３、４、７、８、１１参照）、補正用平行平板４１、４２（図５参照）の保持に適している。なお、傾き調整部７６は、Ｘ軸方向へ並列させた２つのネジである場合に限られず、基材７５に対する保持部７４の傾きを調整可能な機構であれば良い。例えば、傾き調整部７６は、４つのネジとしても良い。保持部７４の４隅に対応する位置に傾き調整部７６を設けることにより、安定して保持部７４を固定することができる。固定部７７は、紫外線硬化樹脂以外の硬化樹脂、例えば熱硬化樹脂等を硬化させたものや、接着剤を硬化させたもの等であっても良い。

図１３は、本発明の実施例５に係る光源装置の特徴部分を模式的に表した図である。本実施例は、保持部７４に対する第１光学素子７２の傾きを調整するための傾き調整部８２を有することを特徴とする。上記実施例４と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。本実施例で説明する構成も、上記実施例１〜３のいずれの構成に適用しても良い。図中、本実施例の特徴部分を構成する第１光学素子７２、保持部７４、基材７５、枠部材８１、傾き調整部８２、バネ８３は、断面により表している。

保持部７４は、基材７５に設置されている。この他、保持部７４と基材７５とは、１つの部材で構成しても良い。枠部材８１は、第１光学素子７２の周囲に設けられ、第１光学素子７２を支持する。第１光学素子７２と枠部材８１とは、一体とされている。傾き調整部８２は、第１光学素子７２を設置する際に、保持部７４に対する第１光学素子７２の傾きを調整するために設けられている。傾き調整部８２としては、例えば、２つのネジを用いる。ネジは、枠部材８１のうち保持部７４側とは反対側から、保持部７４側へ枠部材８１を貫いている。２つのネジは、図示する断面において並列させて設けられている。バネ８３は、保持部７４及び枠部材８１の間に設けられている。バネ８３は、例えば、傾き調整部８２を構成するネジの１つと組み合わせられたコイルバネである。

次に、第１光学素子７２を設置する際における角度θ５の調整について説明する。バネ８３と組み合わされたネジを緩めると、バネ８３の復元力により、保持部７４から枠部材８１及び第１光学素子７２が押し上げられる。バネ８３の復元力に抗してネジを締め込むと、枠部材８１及び第１光学素子７２は、保持部７４へ押し付けられる。保持部７４に対する第１光学素子７２の傾きは、各ネジを締め込む加減に応じて微調整される。保持部７４に対する第１光学素子７２の傾きが適宜調整されることにより、保持部７４は、第２光学素子７３で生じる非点隔差を補正させる最適な角度θ５で第１光学素子７２を保持する。なお、バネ８３は、１つである場合に限られず、複数であっても良い。バネ８３は、ネジと組み合わせて設けられる場合に限られず、保持部７４及び枠部材８１の間のいずれの位置に設けることとしても良い。さらに、バネ８３は、復元力を利用可能な弾性体であれば良く、コイルバネの他、例えば板バネなどであっても良い。

保持部７４に対する第１光学素子７２の傾きを調整した後、保持部７４及び枠部材８１の間に紫外線硬化樹脂を注入し、紫外線を照射させることにより、紫外線硬化樹脂を硬化させる。紫外線硬化樹脂を硬化させることにより、保持部７４及び枠部材８１の間に固定部（図示省略）を形成する。互いに一体とされた枠部材８１と第１光学素子７２とは、固定部によって保持部７４に固定される。このようにして、非点隔差を補正させる最適な角度θ５をなす状態で第１光学素子７２を固定させることにより、光源装置は、非点隔差を低減可能な構成にできる。

本実施例で説明する保持部７４は、非点隔差の補正のための要素、例えば、補正用平行平板１４、１５（図３、４、７、８、１１参照）、補正用平行平板４１、４２（図５参照）の保持に適している。なお、傾き調整部８２は、２つのネジである場合に限られず、保持部７４に対する第１光学素子７２の傾きを調整可能な機構であれば良い。傾き調整部８２は、例えば、枠部材８１の４隅を貫くように４つのネジにて構成しても良い。このような構成とすることにより、安定して枠部材８１及び光学素子７２の傾きを保持することができる。固定部は、紫外線硬化樹脂以外の硬化樹脂、例えば熱硬化樹脂を硬化させたものや、接着剤を硬化させたもの等であっても良い。

以上のように、本発明に係る光源装置及び画像表示装置は、レーザ光を走査させることにより画像を表示する場合に適している。

１ 画像表示装置、１０ 光源装置、１１Ｂ Ｂ光用半導体レーザ、１１Ｇ Ｇ光用半導体レーザ、１１Ｒ Ｒ光用半導体レーザ、１２Ｂ、１２Ｇ、１２Ｒ コリメータ光学系、１３Ｂ、１３Ｇ、１３Ｒ 集光光学系、１４、１５ 補正用平行平板、１６ Ｂ光用反射ミラー、１７、１８ ダイクロイックミラー、２０ 走査光学系、２１ 第１走査部、２２ 第２走査部、２５ スクリーン、３１、３３、３５、３７ 第１面、３２、３４、３６、３８ 第２面、４０ 光源装置、４１、４２ 補正用平行平板、５０ 光源装置、５１ Ｒ光用ビームスプリッタ、５４ 誘電体多層膜、６０ 光源装置、６１ 集光光学系、７１ 半導体レーザ、７２ 第１光学素子、７３ 第２光学素子、７４ 保持部、７５ 基材、７６ 傾き調整部、７７ 固定部、７８ 第１入射面、７９ 射出面、８１ 枠部材、８２ 傾き調整部、８３ バネ

Claims (15)

1. ビーム光を射出する光源部と、
   前記光源部から射出した前記ビーム光が入射する第１入射面を備え、前記第１入射面へ入射した前記ビーム光を透過させる第１光学素子と、
   前記第１光学素子を透過した前記ビーム光が入射する第２入射面を備え、前記第２入射面へ入射した前記ビーム光を透過させる第２光学素子と、を有し、
   前記第１入射面は、前記第１入射面へ入射する前記ビーム光の主光線に対して第１軸を中心として回転する方向へ傾けられ、
   前記第２入射面は、前記第２入射面へ入射する前記ビーム光の主光線に対して、前記第１軸に略垂直な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられることを特徴とする光源装置。
2. 前記第１光学素子は、前記第１入射面へ入射した光を透過させる平行平板であることを特徴とする請求項１に記載の光源装置。
3. 前記第２光学素子は、前記第２入射面へ入射した光を透過させる平行平板であって、
   前記第１光学素子の厚さは、前記第２光学素子の厚さと略同じであることを特徴とする請求項２に記載の光源装置。
4. 前記第２光学素子は、前記第２入射面へ入射した光を透過させる平行平板であって、
   前記第１軸を中心とする回転方向について前記第１入射面及び前記主光線がなす角度は、前記第２軸を中心とする回転方向について前記第２入射面及び前記主光線がなす角度と略同じであることを特徴とする請求項２又は３に記載の光源装置。
5. 前記第１光学素子へ第１ビーム光を入射させる前記光源部である第１光源部と、
   前記第２光学素子へ第２ビーム光を入射させる第２光源部と、を有し、
   前記第２光学素子は、前記第１光源部から射出し前記第１光学素子を透過した前記第１ビーム光を透過させ、かつ前記第２光源部から射出し前記第２入射面とは反対側の面へ入射した前記第２ビーム光を反射させることにより、前記第１ビーム光及び前記第２ビーム光を合成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光源装置。
6. 前記第２光学素子の射出側に配置され、前記第１ビーム光及び前記第２ビーム光を集光する集光光学系を有することを特徴とする請求項５に記載の光源装置。
7. 前記第１ビーム光は第１色光であって、
   前記第２ビーム光は第２色光であって、
   前記第２光学素子は、前記第１色光を透過させ前記第２色光を反射させるダイクロイックミラーであることを特徴とする請求項５又は６に記載の光源装置。
8. 第３色光を射出する第３光源部と、
   前記第１色光及び前記第２色光を透過させ前記第３色光を反射させるダイクロイックミラーを有することを特徴とする請求項７に記載の光源装置。
9. 前記第１入射面で反射した光を検出する光検出部を有し、
   前記光源部が射出する前記ビーム光の光量が、前記光検出部による検出結果に基づいて制御されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光源装置。
10. 第１色光を射出する第１光源部と、
    第２色光を射出する第２光源部と、
    前記第２光源部から射出した前記第２色光を分岐させる第２色光用光分岐部と、を有し、
    前記第１色光は、前記第１光学素子を用いて分岐され、
    前記第２色光用光分岐部は、前記第２色光の主光線に対して略垂直な入射面を備えることを特徴とする請求項９に記載の光源装置。
11. ビーム光を射出する光源部と、
    前記光源部から射出した前記ビーム光が入射する第１入射面を備え、前記第１入射面へ入射した前記ビーム光を透過させる第１光学素子と、
    前記第１光学素子を透過した前記ビーム光が入射する第２入射面を備え、前記第２入射面へ入射した前記ビーム光を透過させる第２光学素子と、を有し、
    前記第１入射面は、前記第１入射面へ入射する前記ビーム光の主光線に対して第１軸を中心として回転する方向へ傾けられ、
    前記第２入射面は、前記第２入射面へ入射する前記ビーム光の主光線に対して、前記第１軸に略垂直な第２軸を中心として回転する方向へ傾けられ、
    前記第１光学素子を保持することにより、前記第１入射面と、前記第１入射面へ入射する前記ビーム光の主光線とがなす角度を定める保持部を有することを特徴とする光源装置。
12. 前記第１入射面と、前記第１入射面へ入射する前記ビーム光の主光線とがなす角度が調整された状態で前記第１光学素子を固定する固定部を有することを特徴とする請求項１１に記載の光源装置。
13. 前記保持部は、基材に設置され、
    前記基材に対する前記保持部の傾きを調整するための傾き調整部を有することを特徴とする請求項１１又は１２に記載の光源装置。
14. 前記保持部に対する前記第１光学素子の傾きを調整するための傾き調整部を有することを特徴とする請求項１１又は１２に記載の光源装置。
15. ビーム光を射出する請求項１〜１４のいずれか一項に記載の光源装置と、
    前記光源装置から射出した前記ビーム光を走査させる走査光学系と、を有し、
    前記走査光学系による前記ビーム光の走査により画像を表示することを特徴とする画像表示装置。

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