JP2010028093A - 気圧測定モジュール、基板処理装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明によると、側面に第1流入部と第2流入部が具備された連結部材と、前記連結部材の一端に連結された第1気圧測定センサと、前記連結部材の他端に連結された第2気圧測定センサとを含むが、前記連結部材には、前記第1流入部と前記第1気圧測定センサを連結する第1通路と、前記第2流入部と前記第2気圧測定センサを連結する第2通路が形成され、前記第1通路と前記第2通路は、分離されるように提供された気圧測定モジュール、気圧測定装置及び方法が提供される。このような本発明によると、大気圧センサの誤作動の問題を解決して、誤作動の防止のために使われた不必要な装備と誤作動に対応することにかかる時間及び人力の浪費を減らすことができる。
【選択図】図2
Description
制御手段160は、第1気圧測定センサ152で測定された第1測定値と第2気圧測定センサ153で測定された第2測定値を比較して、比較した結果に基づいて駆動器113を制御する。
110 チャンバ
120 ガス供給部材
130 プラズマ生成部材
140 排気部材
150 気圧測定モジュール
Claims (12)
- 側面に基板の出入のための開口が形成され、前記開口を開閉するドアが具備された工程チャンバと、
前記ドアを駆動させる駆動器と、
前記工程チャンバの外部気圧を測定する第1気圧測定センサと、
前記工程チャンバの内部気圧を測定する第2気圧測定センサと、
前記第1気圧測定センサで測定された第1測定値と前記第2気圧測定センサで測定された第2測定値を比較し、該比較した結果に基づいて前記駆動器を制御する制御手段と、
を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1気圧測定センサと前記第2気圧測定センサは、
側面に第1流入部と第2流入部が具備された連結部材の両端に各々連結され、
前記連結部材には、前記第1流入部と前記第1気圧測定センサを連結する第1通路と、
前記第2流入部と前記第2気圧測定センサを連結する第2通路が形成され、
前記第1通路と前記第2通路は、分離されるように提供される
ことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第1流入部は、前記工程チャンバの内部と連通されるように補助管を具備する
ことを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記第2流入部は、前記連結部材に形成された孔として提供される
ことを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記連結部材は、棒形状である
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうち、何れか一つに記載の基板処理装置。 - 側面に第1流入部と第2流入部が具備された連結部材と、
前記連結部材の一端に連結された第1気圧測定センサと、
前記連結部材の他端に連結された第2気圧測定センサと、を含むが、
前記連結部材には、
前記第1流入部と前記第1気圧測定センサを連結する第1通路と、
前記第2流入部と前記第2気圧測定センサを連結する第2通路が形成され、
前記第1通路と前記第2通路は、分離されるように提供される
ことを特徴とする気圧測定モジュール。 - 前記第1流入部は、前記連結部材から垂直に分岐される補助管を含む
ことを特徴とする請求項6に記載の気圧測定モジュール。 - 前記第2流入部は、前記連結部材に形成された孔として提供される
ことを特徴とする請求項7に記載の気圧測定モジュール。 - 前記連結部材は、棒形状である
ことを特徴とする請求項6乃至請求項8のうち、何れか一つに記載の気圧測定モジュール。 - 基板の出入のための開口と前記開口を開閉するドアが具備され、基板に対する工程が実行される空間を内部に提供する工程チャンバによって基板を処理する基板処理方法において、
前記開口を通じて前記工程チャンバ内部に基板を搬入するステップと、
前記開口を前記ドアによって閉鎖するステップと、
前記基板に対する工程を実行するステップと、
前記工程チャンバの外部気圧と内部気圧を測定するステップと、
前記測定された外部気圧と前記測定された内部気圧を比較するステップと、
前記測定された内部気圧が前記測定された外部気圧に対して既に設定された誤差範囲以内になると、前記開口を前記ドアによって開放するステップと、
前記開口を通いて前記基板を搬出するステップと、
を含む基板処理方法。 - 前記工程チャンバの外部気圧と内部気圧を測定するステップは、
側面に第1流入部と第2流入部が具備された連結部材と、
前記連結部材の一端に連結された第1気圧測定センサと、
前記連結部材の他端に連結された第2気圧測定センサと、を含むが、
前記連結部材には、
前記第1流入部と前記第1気圧測定センサを連結する第1通路と、
前記第2流入部と前記第2気圧測定センサを連結する第2通路が形成され、
前記第1通路と前記第2通路は分離されるように提供された気圧測定モジュールによる
ことを特徴とする請求項10に記載の基板処理方法。 - 前記基板に対する工程を実行するステップは、前記工程チャンバ内部が真空状態で実行される
ことを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の基板処理方法。
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JPH05283367A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | 気密室の常圧復帰装置 |
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