JP2010026217A

JP2010026217A - 描画方法および描画装置

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Publication number: JP2010026217A
Application number: JP2008186989A
Authority: JP
Inventors: Sayuri Azuma; 小由里東
Original assignee: SK ELECTRONICS KK; SK Electronics Co Ltd
Current assignee: SK ELECTRONICS KK; SK Electronics Co Ltd
Priority date: 2008-07-18
Filing date: 2008-07-18
Publication date: 2010-02-04
Anticipated expiration: 2028-07-18
Also published as: JP5135592B2

Abstract

【課題】パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供する。
【解決手段】ストライプパターンＬ１のＸ方向の長さは、ストライプパターンＬ２のＸ方向の長さよりも大きい。この場合、レーザ光の照準位置ＰＴが移動する領域（照準移動領域）ＲがストライプパターンＬ１，Ｌ２間にあるとき、および照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１に重なるときには、レーザ光を出射するヘッド部の移動速度が相対的に低く設定される。照準移動領域ＲがストライプパターンＬ２に重なるときには、ヘッド部の移動速度が相対的に高く設定される。
【選択図】図１０

Description

本発明は、フォトマスクの製造のために、マスクブランクスにパターンを描画する描画方法および描画装置に関する。

従来より、フォトマスクの製造には、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置が用いられる（例えば特許文献１参照）。描画装置は、一方向（以下、Ｙ方向と呼ぶ）に移動可能なステージを有する。ステージの上方には、レーザ光を出射するためのヘッド部がＹ方向に垂直な一方向（以下、Ｘ方向と呼ぶ）に移動可能に設けられる。

ステージ上にマスクブランクスが固定される。その状態で、ヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス上に向けてレーザ光を出射する。これにより、マスクブランクス上のＸ方向に沿ったストライプ状の領域においてパターンの描画が行われる。

次いで、ステージがＹ方向に沿って移動することにより、マスクブランクスの位置がＹ方向にずらされる。その状態で、上記同様にヘッド部がＸ方向に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス上に向けてレーザ光が出射される。これにより、上記のストライプ状の領域と隣接する他のストライプ状の領域において、パターンの描画が行われる。

このように、Ｘ方向に沿ったストライプ状の領域において描画を行う毎に、マスクブランクスの位置をＹ方向にずらすことにより、マスクブランクスの全面において描画を行うことができる。
特開２００２−２４４２７２号公報

実際の描画装置では、Ｘ方向におけるパターンの縁部の描画精度が、Ｙ方向におけるパターンの縁部の描画精度に比べて低くなる。ここで、パターンの縁部の描画精度とは、描画すべきパターンの縁部の位置と実際に描画されるパターンの縁部の位置とのずれの小ささをいう。

そこで、例えば、パターンの縁部でレーザ光のエネルギー強度を下げてレーザ光のビーム径が比較的小さく調整されることによりパターンの縁部での描画精度の向上が図られる。しかしながら、ビーム径を安定に変化させることは困難である。そのため、Ｘ方向におけるパターンの縁部の描画精度を十分に向上させることができない。

本発明の目的は、パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供することである。

（１）第１の発明に係る描画方法は、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行うための描画方法であって、描画パターンに対応する描画データを作成するステップと、レーザ光を出射するためのレーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させることにより、レーザ光の照準位置をマスクブランクスの一面上で第１の方向およびその逆方向に往復移動させるステップと、レーザ光出射部の往復移動ごとに、マスクブランクスとレーザ光出射部とを相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動させるステップと、レーザ光出射部の第１の方向への移動中に、描画データに基づいて、レーザ光出射部からのレーザ光の出射または非出射を制御するステップと、第１の方向においてレーザ光出射部によるレーザ光の照射領域が描画パターンと一致するように、描画データに基づいて第１の方向におけるレーザ光出射部の移動速度を制御するステップとを備えたものである。

この描画方法においては、レーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動されることにより、レーザ光の照準位置がマスクブランクスの一面上で第１の方向およびその逆方向に往復移動する。レーザ光出射部の往復移動ごとにマスクブランクスとレーザ光出射部とが相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動される。それにより、レーザ光の照準位置が徐々に第２の方向にずらされる。

レーザ光出射部の第１の方向への移動中に、描画データに基づいて、レーザ光出射部からのレーザ光の出射または非出射が制御される。この場合、レーザ光出射部によるレーザ光の照射領域が第１の方向において描画パターンと一致するように、描画データに基づいて第１の方向におけるレーザ光出射部の移動速度が制御される。

このように、第１の方向におけるレーザ光出射部の移動速度が制御されることにより、レーザ光のエネルギー強度を変化させずにビーム径を一定に維持した状態で、第１の方向における描画パターンの縁部の描画を行うことができる。それにより、第１の方向における描画パターンの縁部の描画精度を十分に向上させることができる。

（２）レーザ光出射部の第１の方向への移動の際に、レーザ光出射部によるレーザ光の照準位置を一定長さずつ第２の方向に繰り返し移動させてもよい。

それにより、レーザ光出射部の第１の方向への移動時に、より広い面積の描画を行うことが可能となる。そのため、描画効率を向上させることができる。この場合、第２の方向におけるレーザ光の照射位置の繰り返し移動が一定周期で行われる場合においても、レーザ光出射部の第１の方向への移動速度が制御されることにより、描画パターンの縁部の描画精度を十分に向上させることができる。

（３）描画データを作成するステップにおいて、第１の方向に沿った複数の第１の線と第２の方向に沿った複数の第２の線とからなるグリッド上に描画パターンを表すとともに、第１の方向における描画パターンの縁部がグリッドのいずれかの第２の線と一致するように複数の第２の線の間隔を調整し、レーザ光出射部の移動速度を制御するステップにおいて、グリッドの複数の第２の線の間隔に基づいて、レーザ光出射部の移動速度を制御してもよい。

この場合、描画データに基づいて、第１の方向におけるレーザ光の照射領域の縁部と描画パターンの縁部とを確実に一致させることが可能となる。それにより、第１の方向における描画パターンの縁部の描画精度をより十分に向上させることができる。

（４）第２の発明に係る描画装置は、レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、描画パターンに対応する描画データを作成する描画データ作成部と、レーザ光を出射するためのレーザ光出射部と、レーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させることにより、レーザ光の照準位置をマスクブランクスの一面上で第１の方向およびその逆方向に往復移動させる第１の移動機構と、レーザ光出射部の往復移動ごとに、マスクブランクスとレーザ光出射部とを相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動させる第２の移動機構と、第１の方向においてレーザ光出射部によるレーザ光の照射領域が描画パターンと一致するように、描画データに基づいて第１の方向におけるレーザ光出射部の移動速度を制御するとともに、レーザ光出射部の第１の方向への移動中に、描画データに基づいて、レーザ光出射部からのレーザ光の出射または非出射を制御する制御手段とを備えたものである。

この描画装置においては、第１の移動機構により、レーザ光出射部が第１の方向およびその逆方向に往復移動される。それにより、レーザ光の照準位置がマスクブランクスの一面上で第１の方向およびその逆方向に往復移動する。また、第２の移動機構により、レーザ光出射部の往復移動ごとにマスクブランクスとレーザ光出射部とが相対的に第１の方向と交差する第２の方向に移動される。それにより、レーザ光の照準位置が徐々に第２の方向にずらされる。

描画データ作成部により作成された描画データに基づいて、レーザ光出射部の第１の方向への移動中に、レーザ光出射部からのレーザ光の出射または非出射が制御される。この場合、レーザ光出射部によるレーザ光の照射領域が第１の方向において描画パターンと一致するように、描画データに基づいて第１の方向におけるレーザ光出射部の移動速度が制御される。

（５）レーザ光出射部は、第１の方向への移動の際に、レーザ光の照準位置を一定長さずつ第２の方向に繰り返し移動させてもよい。

本発明によれば、レーザ光のエネルギー強度を変化させずにビーム径を一定に維持した状態で、第１の方向における描画パターンの縁部の描画を行うことができる。それにより、第１の方向における描画パターンの縁部の描画精度を十分に向上させることができる。

以下、本発明の一実施の形態に係る描画方法および描画装置について図面を参照しながら説明する。

（１）構成
図１は、本実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。図１において、水平面内で互いに直交する２方向をＸ方向およびＹ方向と定義する。

図１に示すように、描画装置１００は、ステージ１、ステージ駆動部１ａ、キャリッジ２、ヘッド部３、レーザ光発生部４、データ処理部５、オンオフ切替部６およびスウィ−プ制御部７を備える。

ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。マスクブランクス１０は、例えばガラス基板上にクロム（Ｃｒ）等からなる遮光性薄膜が形成された構成を有する。ステージ１は、ステージ駆動部１ａによりＹ方向に沿って移動する。

ステージ１の上方において、Ｘ方向に沿うようにキャリッジ２が設けられる。キャリッジ２には、ヘッド部３が取り付けられる。ヘッド部３は、キャリッジ２に沿ってＸ方向に移動可能に構成される。

レーザ光発生部４は、例えばクリプトンイオンレーザを有し、レーザ光を発生する。そのレーザ光は、図示しない光学系および反射鏡によってオンオフ切替部６を通してヘッド部３に導かれ、ヘッド部３からステージ１上のマスクブランクス１０に向けて出射される。オンオフ切替部６により、レーザ光の出射のオンオフが切り替えられる。

スウィ−プ制御部７は、ヘッド部３からのレーザ光の出射方向を一定の周期でＸ方向と交差する方向に繰り返し変化させる。それにより、マスクブランクス１０上でレーザ光が照射されるべき位置が一定の周期でＹ方向に繰り返し移動する。以下の説明において、マスクブランクス１０上でレーザ光が照射されるべき位置をレーザ光の照準位置と呼ぶ。また、レーザ光の出射方向の変化によりレーザ光の照準位置が移動することをレーザ光のスウィ−プと呼ぶ。レーザ光のスウィ−プについては後述する。

データ処理部５は、マスクブランクス１０上に描画すべきパターンに対応する描画データを作成し、その描画データに基づいてヘッド部３、オンオフ切替部６およびスウィ−プ制御部７を制御する。

（２）動作
次に、図１に示した描画装置１００の動作の概要について説明する。図２〜図４は、描画装置１００の動作の概要について説明するための模式的平面図である。ここでは、描画装置１００の全体の動作の理解を容易にするために、スウィ−プ制御部７によるレーザ光のスウィ−プについては説明を省略する。

まず、図２（ａ）に示すように、ヘッド部３がキャリッジ２の一端部にある状態で、ヘッド部３の下方にマスクブランクス１０の端部が位置するように、ステージ１の位置が調整される。続いて、図２（ｂ）に示すように、ヘッド部３がキャリッジ２の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、Ｘ方向に沿ったマスクブランクス１０上のストライプ領域Ｐ１において、パターンの描画が行われる。

続いて、図３（ｃ）に示すように、ヘッド部３がレーザ光の出射を停止した状態でキャリッジ２の一端部に戻るとともに、ステージ１がストライプ領域Ｐ１の幅分だけＹ方向に移動する。

そして、図３（ｄ）に示すように、ヘッド部３が再びキャリッジ２の一端部から他端部に移動しつつ所定のタイミングでマスクブランクス１０に向けてレーザ光を出射する。これにより、ストライプ領域Ｐ１に隣接するマスクブランクス１０上のストライプ領域Ｐ２において、パターンの描画が行われる。

このようにして、ストライプ領域毎にパターンの描画が行われる。最終的に、図４（ｅ）に示すように、マスクブランクス１０の全面（複数のストライプ領域Ｐ１〜Ｐｚ）において描画が行われる。ここで、Ｚは２以上の整数である。

本実施の形態では、データ処理部５により作成される描画データに基づいて、ヘッド部３のＸ方向への移動速度が変化する。それにより、Ｘ方向におけるパターンの描画精度を向上させることができる。ヘッド部３の移動速度の変化については後述する。

（３）レーザ光のスウィ−プ
次に、レーザ光のスウィ−プについて説明する。図５は、レーザ光のスウィ−プについて説明するための図である。図５においては、ストライプ領域Ｐｘ（１≦ｘ≦ｚ）にパターンが描画される場合について説明する。

上記のように、スウィ−プ制御部７により、ヘッド部３から出射されるレーザ光の照射位置が一定の周期でＹ方向に繰り返し移動する。すなわち、レーザ光がＹ方向にスウィ−プする。

本実施の形態では、図５（ａ）に示すように、レーザ光の照準位置ＰＴがＹ方向に沿って一定の長さ（以下、スウィ−プ長と呼ぶ）移動する。この場合、レーザ光の照準位置ＰＴが移動する領域（以下、照準移動領域と呼ぶ）Ｒは、Ｙ方向にスウィ−プ長Ｄｈを有しかつＸ方向にレーザ光のビーム径Ｄｏを有する。スウィ−プ長Ｄｈは、ストライプ領域Ｐ１〜Ｐｚの各々のＹ方向の幅に等しい。

レーザ光の照準位置ＰＴが一定の周期で移動するとともに、ヘッド部３（図１）がＸ方向に移動することにより、図５（ｂ）に示すように、照準移動領域ＲがＸ方向に徐々にずれる。それにより、ストライプ領域Ｐｘの全体にレーザ光の照準位置ＰＴが移動する。

パターンを描画すべき位置（露光位置）とレーザ光の照準位置ＰＴとが重なったときに、オンオフ切替部６（図１）によりレーザ光の出射がオンされる。それにより、所望のパターンの描画を行うことができる。

ここで、ヘッド部３がＸ方向に移動する状態でレーザ光の照準位置ＰＴをＹ方向に沿って移動させるためには、レーザ光の出射方向の変化の方向（レーザ光を振る方向）をＹ方向に対して傾斜した方向に設定する必要がある。レーザ光を振る方向がＹ方向に対してなす角度（以下、アジマス角と呼ぶ）は、ヘッド部３の移動速度に応じてスウィ−プ制御部７により適宜調整される。

図６は、ヘッド部３の移動速度とアジマス角との関係について説明するための模式図である。

図６（ａ）に示すように、例えばヘッド部３が等しい速度Ｓ１でＸ方向に移動する場合、レーザ光を振る方向ＤＬとＹ方向とのなす角度（アジマス角）θが速度Ｓ１に応じた一定の値に設定される。それにより、レーザ光の照準位置ＰＴ（図５（ａ））をＹ方向に移動させることができる。

なお、レーザ光を振る角度および速度は一定であり、レーザ光を振る角度のうち一部範囲においてのみレーザ光の出射がオンされる。この場合、アジマス角θに応じてレーザ光の出射のオンオフのタイミングを調整することにより、スウィ−プ長Ｄｈ（図５（ａ））を一定に維持することができる。具体的には、マスクブランクス１０上に一定のスウィ−プ長Ｄｈ分レーザ光を照射する場合、アジマス角θが比較的大きければレーザ光の出射がオンされる期間が比較的長くなり、アジマス角θが比較的小さければレーザ光の出射がオンされる期間が比較的短くなる。

ここで、本実施の形態では、上記のように、描画データに基づいてヘッド部３の移動速度が変化する。

図６（ｂ）に示すように、例えばヘッド部３の移動速度が速度Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３に変化する。速度Ｓ２は速度Ｓ１よりも高く、速度Ｓ３は速度Ｓ１よりも低い。この場合、ヘッド部３が速度Ｓ２で移動するときのアジマス角θ２が、ヘッド部３が速度Ｓ１で移動するときのアジマス角θ１よりも大きく設定される。また、ヘッド部３が速度Ｓ３で移動するときのアジマス角θ３が、ヘッド部３が速度Ｓ１で移動するときのアジマス角θ１よりも小さく設定される。

また、マスクブランクス１０上にスウィ−プ長Ｄｈ分レーザ光を照射する場合、ヘッド部３が速度Ｓ２で移動するときにレーザ光の出射がオンされる期間は、ヘッド部３が速度Ｓ１で移動するときにレーザ光の出射がオンされる期間よりも長く設定される。また、ヘッド部３が速度Ｓ３で移動するときにレーザ光の出射がオンされる期間は、ヘッド部３が速度Ｓ１で移動するときにレーザ光の出射がオンされる期間よりも短く設定される。

このように、ヘッド部３の移動速度に応じてアジマス角およびレーザ光の出射のオンオフのタイミングが調整される。それにより、レーザ光の照準位置ＰＴがＹ方向に沿って一定のスウィ−プ長ずつ繰り返し移動する。すなわち、Ｙ方向へのレーザ光のスウィ−プ速度は一定となる。

（４）描画データ
次に、描画データの詳細について説明する。描画装置１００においては、データ処理部５により作成された描画データに基づいてヘッド部３、オンオフ切替部６およびスウィ−プ制御部７が制御され、マスクブランクス１０上におけるパターンの描画が行われる。

図７および図８は、描画データの作成方法について説明するための模式図である。図７（ａ）には、描画すべきパターンの一例が示される。図７（ｂ）〜図８（ｄ）には、描画データの作成工程が示される。

図７（ａ）の例では、Ｙ方向に沿って延びる複数（本例では２つ）のストライプパターンＬ１および複数（本例では２つ）のストライプパターンＬ２が交互に配置される。ストライプパターンＬ１のＸ方向の長さは、ストライプパターンＬ２のＸ方向の長さよりも大きい。隣り合うストライプパターンＬ１，Ｌ２間の距離はストライプパターンＬ１のＸ方向の長さに等しい。図７（ａ）のストライプパターンＬ１，Ｌ２を描画する場合、次のようにして描画データが作成される。

まず、図７（ｂ）に示すように、描画データの描画範囲Ｔ１上にストライプパターンＬ１，Ｌ２が表される。描画範囲Ｔ１には、Ｘ方向に沿った複数の第１の線ＳＸおよびＹ方向に沿った複数の第２の線ＳＹからなるグリッドが設定される。第１および第２の線ＳＸ，ＳＹにより形成される複数の矩形領域（以下、基本領域と呼ぶ）が、レーザ光の出射のオンオフを設定するための基本単位となる。なお、描画範囲Ｔ１は、マスクブランクス１上の描画対象となる領域に対応する。

初期状態として、全ての第１の線ＳＸの間隔および全ての第２の線ＳＹの間隔が等しく設定される。本例では、初期状態において、第１の線ＳＸの間隔および第２の線ＳＹの間隔が、ストライプパターンＬ１，Ｌ２のＸ方向の長さ、および隣り合うストライプパターンＬ１，Ｌ２間の距離より小さく設定される。

なお、以下の説明では、Ｘ方向におけるストライプパターンＬ１，Ｌ２の長さをストライプパターンＬ１，Ｌ２の幅と呼ぶ。

図８（ｃ）に示すように、各ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部がいずれかの第２の線ＳＹと一致するように第２の線ＳＹの間隔が調整される。本例では、ストライプパターンＬ１と重なる領域Ｒ１において第２の線ＳＹの間隔が縮められ、ストライプパターンＬ１と重なる領域Ｒ２において第２の線ＳＹの間隔が伸ばされる。また、隣り合うストライプパターンＬ１，Ｌ２間の領域Ｒ３において第２の線ＳＹの間隔が縮められる。

ここで、第２の線ＳＹの間隔の調整方法の一例を説明する。図７（ａ）の例において、ストライプパターンＬ１の幅をＣＤＷ１とし、ストライプパターンＬ２の幅をＣＤＷ２とし、隣り合うストライプパターンＬ１，Ｌ２間の距離をＣＤＧとする。また、初期状態における第２の線ＳＹの間隔をｄ_０とする。

そして、次式（１）が成立するように自然数ｎ_１を求め、次式（２）が成立するように自然数ｎ_２を求め、次式（３）が成立するように自然数ｎ_３を求める。

さらに、ＣＤＷ１＝ｎ_１ｄ_１となるｄ_１を求め、ＣＤＷ２＝ｎ_２ｄ_２となるｄ_２を求め、ＣＤＧ＝ｎ_２ｄ_２となるｄ_２を求める。これにより、ストライプパターンＬ１と重なる領域Ｒ１における第２の線ＳＹの間隔（ｄ_１）、およびストライプパターンＬ２と重なる領域Ｒ２における第２の線ＳＹの間隔（ｄ_２）を決定することができる。また、隣り合うストライプパターンＬ１，Ｌ２間の領域Ｒ３における第２の線ＳＹの間隔（ｄ_３）を決定することができる。

続いて、図８（ｄ）に示すように、ストライプパターンＬ１，Ｌ２と重なる基本領域がレーザ光の出射対応領域ＲＬとして設定される。このようにして、描画データＩＤ１が完成する。出射対応領域ＲＬに対応するマスクブランクス１０上の領域に向けてレーザ光が出射される。

（５）ヘッド部の移動速度の調整
本実施の形態では、描画データＩＤ１の第２の線ＳＹの間隔に応じてヘッド部３のＸ方向における移動速度が調整される。

具体的には、第２の線ＳＹの間隔が大きい領域に対応するマスクブランクス１０の部分にレーザ光の照準が向けられているときには、ヘッド部３の移動速度が相対的に速く設定される。第２の線ＳＹの間隔が小さい領域に対応するマスクブランクス１０上の部分にレーザ光の照準が向けられているときには、ヘッド部３の移動速度が相対的に遅く設定される。

この場合、ヘッド部３の移動速度が一定である場合に比べて、Ｘ方向におけるストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部を高精度に描画することが可能となる。

図９および図１０は、ヘッド部３の移動速度とストライプパターンＬ１，Ｌ２の描画精度との関係について説明するための模式図である。図９には、ヘッド部３の移動速度が一定である場合の照準移動領域Ｒの移動状況が示される。図１０には、ヘッド部３の移動速度が調整される場合の照準移動領域Ｒの移動状況が示される。

なお、図９および図１０では、ストライプ領域Ｐｘ（図７（ａ）参照）において、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の一部が描画される場合について説明する。また、理解を容易にするため、照準移動領域Ｒの移動経路がＹ方向に徐々にずれるように示される。

図９に示すように、ヘッド部３の移動速度が一定である場合、照準移動領域Ｒが一定の間隔Ｔ１で移動する。照準位置ＰＴ（図５（ａ））がストライプパターンＬ１，Ｌ２と重なるときに、ヘッド部３からレーザ光が出射される。

この場合、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の位置と照準移動領域Ｒの縁部の位置とがずれる場合がある。その場合には、例えばレーザ光のエネルギー強度を下げてビーム径を小さくした状態で、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の描画を行う必要がある。

しかしながら、レーザ光のエネルギー強度を変化させてビーム径を所望の値に安定に調整することは困難である。したがって、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の描画精度にばらつきが生じやすくなる。

それに対して、本実施の形態では、描画データにおいて、各ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部がいずれかの第２の線ＳＹと一致するように第２の線ＳＹの間隔が調整されるとともに、その第２の線ＳＹの間隔に応じてヘッド部３のＸ方向における移動速度が調整される。

具体的には、図１０に示すように、照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１，Ｌ２間にあるとき、および照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１に重なるときには、ヘッド部３の移動速度が相対的に低く設定される。照準移動領域ＲがストライプパターンＬ２に重なるときには、ヘッド部３の移動速度が相対的に高く設定される。

これにより、ストライプパターンＬ１，Ｌ２間の領域およびストライプパターンＬ１上の領域においては、照準移動領域Ｒの移動の間隔Ｔ２が、図９の距離Ｔ１よりも小さくなる。一方、ストライプパターンＬ２上の領域においては、照準移動領域Ｒの移動の間隔Ｔ３が、図９の距離Ｔ１よりも大きくなる。これにより、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の位置と照準移動領域Ｒの縁部の位置とを正確に一致させることができる。

このようにして、ヘッド部３の移動速度を調整することにより、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の位置と照準移動領域Ｒの縁部の位置とを正確に一致させることが可能となる。したがって、レーザ光のエネルギー強度を一定に維持してストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の描画を行うことができる。その結果、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の描画精度を向上させることができる。

（６）他の実施の形態
上記実施の形態では、ヘッド部３を継続的にＸ方向に移動させてストライプ領域Ｐ１〜Ｐｚにおける描画を行うが、これに限らず、ヘッド部３のＸ方向の移動を一定周期で停止させてレーザ光のスウィ−プを行い、レーザ光のスウィ−プの周期と同期するようにヘッド部３を断続的に移動させてストライプ領域Ｐ１〜Ｐｚにおける描画を行ってもよい。

この場合、描画データの第２の線ＳＹの間隔に応じてヘッド部３の１回の移動速度（すなわち、移動距離）を調整することにより、上記同様に、Ｘ方向における照準移動領域Ｒの移動の間隔を調整することができる。それにより、ストライプパターンＬ１，Ｌ２の縁部の位置と照準移動領域Ｒの縁部の位置とを正確に一致させることができる。

なお、この場合には、ヘッド部３が停止した状態で、レーザ光の照準位置ＰＴがＹ方向に沿って移動するようにレーザ光を振るので、上記のアジマス角は０°に設定される。

また、上記実施の形態では、ヘッド部３がＹ方向に固定されてＸ方向に移動可能に設けられ、ステージ１がＸ方向に固定されてＹ方向に移動可能に設けられるが、ヘッド部３とマスクブランクスとの相対的な移動方向を維持できるのであれば、これに限らない。例えば、ヘッド部３がＸ方向に固定されてＹ方向に移動可能に設けられ、ステージ１がＹ方向に固定されてＸ方向に移動可能に設けられてもよい。さらに、ヘッド部３およびステージ１の一方がＸ方向およびＹ方向の両方に移動可能に設けられてもよい。

また、上記実施の形態では、ヘッド部３から１本のレーザ光を出射する場合について示したが、レーザ光発生部４により発生されたレーザ光を複数に分離し、その複数のレーザ光をヘッド部３から同時に出射してもよい。この場合、複数のレーザ光のマスクブランクス１０上における照準位置がＸ方向に沿った直線上に並ぶように調整される。

なお、この場合に、描画データの第２の線ＳＹの間隔に応じて複数のレーザ光の間隔を変化させてもよい。具体的には、第２の線ＳＹの間隔が大きい領域に対応するマスクブランクス１０の部分にレーザ光の照準が向けられているときには、複数のレーザ光の間隔が大きく設定され、第２の線ＳＹの間隔が小さい領域に対応するマスクブランクス１０上の部分にレーザ光の照準が向けられているときには、複数のレーザ光の間隔が小さく設定される。それにより、各パターンの縁部の位置と照準移動領域Ｒの縁部の位置とを正確に一致させることができる。したがって、各パターンの縁部の描画精度を向上させることができる。

（７）請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。

上記実施の形態においては、Ｘ方向が第１の方向の例であり、Ｙ方向が第２の方向の例であり、ヘッド部３がレーザ光出射部の例であり、キャリッジ２およびヘッド部３が第１の移動機構の例であり、ステージ駆動部１ａが第２の移動機構の例であり、データ処理部５が制御手段の例である。

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。

本発明は、種々のマスクブランクスへのパターンの描画に有効に利用することができる。

本実施の形態に係る描画装置の構成を示す模式図である。描画装置の動作の概要について説明するための模式的平面図である。描画装置の動作の概要について説明するための模式的平面図である。描画装置の動作の概要について説明するための模式的平面図である。レーザ光のスウィ−プについて説明するための図であるヘッド部の移動速度とアジマス角との関係について説明するための模式図である。描画データの作成方法について説明するための模式図である。描画データの作成方法について説明するための模式図である。ヘッド部の移動速度とストライプパターンの描画精度との関係について説明するための模式図である。ヘッド部の移動速度とストライプパターンの描画精度との関係について説明するための模式図である。

符号の説明

１ステージ
１ａステージ駆動部
２キャリッジ
３ヘッド部
４レーザ光発生部
５データ処理部
６オンオフ切替部
７スウィ−プ制御部
１０マスクブランクス
１００描画装置
Ｌ１，Ｌ２ストライプパターン
Ｒ照準移動領域
ＳＸ第１の線
ＳＹ第２の線

Claims

レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行うための描画方法であって、
描画パターンに対応する描画データを作成するステップと、
レーザ光を出射するためのレーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させることにより、レーザ光の照準位置を前記マスクブランクスの一面上で前記第１の方向およびその逆方向に往復移動させるステップと、
前記レーザ光出射部の往復移動ごとに、前記マスクブランクスと前記レーザ光出射部とを相対的に前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させるステップと、
前記レーザ光出射部の前記第１の方向への移動中に、前記描画データに基づいて、前記レーザ光出射部からのレーザ光の出射または非出射を制御するステップと、
前記第１の方向において前記レーザ光出射部によるレーザ光の照射領域が前記描画パターンと一致するように、前記描画データに基づいて前記第１の方向における前記レーザ光出射部の移動速度を制御するステップとを備えたことを特徴とする描画方法。
前記レーザ光出射部の前記第１の方向への移動の際に、前記レーザ光出射部によるレーザ光の照準位置を一定長さずつ前記第２の方向に繰り返し移動させることを特徴とする請求項１記載の描画方法。
前記描画データを作成するステップにおいて、前記第１の方向に沿った複数の第１の線と前記第２の方向に沿った複数の第２の線とからなるグリッド上に前記描画パターンを表すとともに、前記第１の方向における前記描画パターンの縁部が前記グリッドのいずれかの第２の線と一致するように前記複数の第２の線の間隔を調整し、
前記レーザ光出射部の移動速度を制御するステップにおいて、前記グリッドの前記複数の第２の線の間隔に基づいて、前記レーザ光出射部の移動速度を制御することを特徴とする請求項１または２記載の描画方法。
レーザ光によりマスクブランクスにパターンの描画を行う描画装置であって、
描画パターンに対応する描画データを作成する描画データ作成部と、
レーザ光を出射するためのレーザ光出射部と、
前記レーザ光出射部を第１の方向およびその逆方向に往復移動させることにより、レーザ光の照準位置を前記マスクブランクスの一面上で前記第１の方向およびその逆方向に往復移動させる第１の移動機構と、
前記レーザ光出射部の往復移動ごとに、前記マスクブランクスと前記レーザ光出射部とを相対的に前記第１の方向と交差する第２の方向に移動させる第２の移動機構と、
前記第１の方向において前記レーザ光出射部によるレーザ光の照射領域が前記描画パターンと一致するように、前記描画データに基づいて前記第１の方向における前記レーザ光出射部の移動速度を制御するとともに、前記レーザ光出射部の前記第１の方向への移動中に、前記描画データに基づいて、前記レーザ光出射部からのレーザ光の出射または非出射を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
前記レーザ光出射部は、前記第１の方向への移動の際に、レーザ光の照準位置を一定長さずつ前記第２の方向に繰り返し移動させることを特徴とする請求項４記載の描画装置。