JP2014095827A - レーザ描画装置及びレーザ描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザ描画装置は、レーザ光を出射するレーザ光出射部3と、レーザ光出射部をX方向に移動させる移動機構と、描画パターンに基づいてレーザ光をY方向にスイープさせながら出射させるスイープ機構と、被描画基板10をY方向に送り出す機構と、移動機構及びスイープ機構をそれぞれ制御する制御部5とを具備し、制御部は描画パターンに基づいてn回多重描画させ、各描画は、走査の開始位置がY方向にYs/nずつずれて実施される。ただし、YsはY方向のスイープ長であり、nは描画回数であって2以上の自然数である。
【選択図】図1
Description
同一のものであることを示している。本実施形態の記載は本発明の技術的思想を理解する
ために合目的的に解釈され、本実施形態の記載に限定解釈されるべきものではない。
第1の実施形態は、1本のレーザ光で、走査の開始位置をY方向にずらしながら、多重描画によって、小さな円パターンを形成するものである。図1は、第1の実施形態のレーザ描画装置の構成を示す模式図である。図1において、矢印に示すようなX(横)方向、そのX方向と直交するY(縦)方向を用いて以下説明する。図1に示すように、レーザ描画装置20は、ステージ1と、キャリッジ2と、ヘッド部3と、レーザ光発生部4と、制御部5と、オンオフ切替部6とを有する。図1では、X方向の両端矢印はヘッド部3の移動方向を、Y方向の両端矢印はステージ1の移動方向をそれぞれ示す。
レーザ描画装置において、レーザ光が複数であり、走査の開始位置が各レーザ光に対してそれぞれ異なるように設定してよい。第2の実施形態のレーザ描画装置と第1の実施形態のレーザ描画装置20との主な相違点は、複数のレーザ光に対してそれぞれ異なった描画領域が設定される点である。
上記第2の実施形態のレーザ描画装置を用いて以下の条件で実際にマスクブランクス10上のフォトレジスト11に円形パターンを形成した。まず、マスクブランクス10としてガラス基板上に遮光性クロム膜及び低反射性クロム膜を合計100〜150[nm]程度の膜厚で成膜したものを製造した。そのマスクブランクス10上に500[nm]程度の膜厚でフォトレジストを塗布し、レーザ描画装置のステージ1に固定した。そして、以下の(実施例1)、(実施例2)の条件でフォトレジスト11に5回多重描画し、現像、エッチングした。(実施例1)、(実施例2)の条件では、矩形の描画データdのY方向の大きさは、円形が形成されるように選択した。
レーザ光の数・・・5つ
描画グリッドの大きさ・・・X方向:0.25[μm]、Y方向:0.25[μm]
矩形の描画データdの大きさ・・・X方向:0.25[μm]、Y方向:0.45[μm]、
描画パターンD・・・矩形の描画データdを、X方向に1[μm]のピッチで、Y方向に1[μm]のピッチで配置したもの
描画領域・・・基本描画領域と、その基本描画領域のX方向の大きさを(m−1)×0.5[μm]、Y方向の大きさを(m−1)×42[μm]だけ大きくした領域,(m=2,3,4,5)
レーザ光の数・・・5つ
描画グリッドの大きさ・・・X方向:0.162[μm]、Y方向:0.162[μm]
矩形の描画データdの大きさ・・・X方向:0.162[μm]、Y方向:0.290[μm]
描画パターンD・・・矩形の描画データdを、X方向に0.81[μm]のピッチで、Y方向に0.81[μm]のピッチで配置したもの
描画領域・・・基本描画領域と、その基本描画領域のX方向の大きさを0.324[μm]、Y方向の大きさを42[μm]ずつ大きくした4つの領域
2 キャリッジ
3 ヘッド部
4 レーザ光発生部
5 制御部
6 オンオフ切替部
10 マスクブランクス
20 レーザ描画装置
Claims (9)
- レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光出射部をX方向に移動させる移動機構と、
前記レーザ光をY方向にスイープさせながら、描画パターンに基づいて出射させるスイープ機構と、
被描画基板をY方向に送り出す機構と、
前記移動機構及び前記スイープ機構をそれぞれ制御する制御部とを具備したレーザ描画装置であって、
前記制御部は前記描画パターンに基づいてn回多重描画させ、
各描画は、走査の開始位置がY方向にYs/nずつずれて実施される
ことを特徴とするレーザ描画装置。
ただし、Ys:Y方向のスイープ長、n:描画回数(2以上の自然数)。 - 前記各描画は、走査の開始位置がさらにX方向にk×X1ずつずれて実施される
ことを特徴とする請求項1記載のレーザ描画装置。
ただし、X1:1回のスイープで描画される描画グリッドのX方向の幅、k:自然数。 - 前記レーザ光が複数であり、
前記走査の開始位置は、各描画時に出射されるレーザ光に対してそれぞれ異なるように設定される
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ描画装置。 - 前記各描画は、X方向に描画された第1の領域と前記第1の領域の次に描画された第2の領域とがY方向に対して8〜12μmの範囲内で帯状に重複するように実施され、
前記第1の領域と前記第2の領域との重複した帯状の部分は、n回の多重描画によってY方向にYs/nずつずれる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のレーザ描画装置。 - 前記描画パターンは、矩形の描画データがX方向に前記描画グリッドのX方向の幅X1の整数倍のピッチで配置されていると共にY方向に前記描画グリッドのY方向の長さY1の整数倍のピッチで配置されてなり、
前記矩形の描画データの大きさは、X方向が描画グリッドのX方向の幅X1と同じであると共にY方向が描画グリッドのY方向の長さY1の1〜2.5倍である
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のレーザ描画装置。 - レーザ光を出射するレーザ光出射部と、
前記レーザ光出射部をX方向に移動させる移動機構と、
前記レーザ光をY方向にスイープさせながら、描画パターンに基づいて出射させるスイープ機構と、
被描画基板をY方向に送り出す機構と、
前記移動機構及び前記スイープ機構をそれぞれ制御する制御部とを具備したレーザ描画装置を用いたレーザ描画方法であって、
描画パターンを準備する工程と、
各描画に対する走査の開始位置をY方向にYs/nずつずらしてそれぞれ設定する工程と、
前記描画パターンに基づいてn回多重描画させる工程とを含む
ことを特徴とするレーザ描画方法。
ただし、Ys:Y方向のスイープ長、n:描画回数(2以上の自然数)。 - 前記各描画は、走査の開始位置がさらにX方向にk×X1ずつずれて実施される
ことを特徴とする請求項6記載のレーザ描画方法。
ただし、X1:1回のスイープで描画される描画グリッドのX方向の幅、k:自然数。 - 前記レーザ光が複数であり、
前記走査の開始位置が各描画時に出射されるレーザ光に対してそれぞれ異なるように設定される工程をさらに含む
ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載のレーザ描画方法。 - 前記描画パターンは、矩形の描画データがX方向に前記描画グリッドのX方向の幅X1の整数倍のピッチで配置されていると共にY方向に前記描画グリッドのY方向の長さY1の整数倍のピッチで配置されてなり、
前記矩形の描画データの大きさは、X方向が描画グリッドのX方向の幅X1と同じであると共にY方向が描画グリッドのY方向の長さY1の1〜2.5倍である
ことを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか1項に記載のレーザ描画方法。
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CN112415858A (zh) * | 2019-08-21 | 2021-02-26 | 株式会社斯库林集团 | 描绘方法以及描绘装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004333942A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Hoya Corp | パターン描画方法及びフォトマスクの製造方法 |
JP2004354415A (ja) * | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Tadahiro Omi | パターン描画方法及びパターン描画装置 |
JP2010026217A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Sk Electronics:Kk | 描画方法および描画装置 |
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