JP2014170200A - フォトマスクの多重描画方法及びこれを用いて製造されたフォトマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1回で描画する従来の描画時よりも小さい出力でフォトマスクブランクス上のフォトレジスト膜に同一の描画パターンを複数回描画するフォトマスクの多重描画方法であって、各回の描画間隔を前記フォトレジスト膜が光化学反応により脱色する時間よりも長い時間に設定して描画する。このようにすると、フォトレジスト膜を光化学反応により脱色させてレーザ光のエネルギーをより効率よくフォトレジスト膜に付与し、現像したフォトレジスト膜のパターンの縁部をより急峻に形成することができる。
【選択図】図1
Description
第1の実施形態では、レーザ描画装置を用いてポジ型フォトレジスト膜に同一の描画パターンを3回描画する方法について説明する。図1は、第1の実施形態の多重描画方法を説明する図であり、図1(a)は1回目の描画を示す断面図であり、図1(b)は2回目の描画を示す断面図であり、図1(c)は3回目の描画を示す断面図であり、図1(d)は現像後のフォトレジスト膜のパターンを示す断面図である。なお、第1の実施形態の多重描画方法では各描画時のレーザ光のフォーカス位置及びレーザ光の偏光方向は一定であり、また、その他の条件も特に言及しない限り一定である。
図2は、従来の1回で描画する描画方法を示す図であり、図2(a)は描画を示す断面図であり、図2(b)は現像後のフォトレジスト膜のパターンを示す図である。図2(a)に示すように、図示しないレーザ描画装置のレーザ光出射部からレーザ光L0をフォトマスクブランクス11上に形成されたフォトレジスト膜12に照射する。
上記第1の実施形態の多重描画方法において、描画回数を5回とし、レーザ光のビーム径を0.25[μm]としてフォトレジスト膜のパターンを形成後マスクブランク上の遮光膜にパターンを形成したところ、線幅0.5[μm]のラインアンドスペースを均一に形成することができた。また、同様の条件において描画間隔をフォトレジスト膜が光化学反応により脱色する時間よりも短い時間にすると、形成されたラインアンドスペースに不均一な部分ができた。また、同じレーザ光のビーム径で上記従来の1回で描画する描画方法では、形成されたラインアンドスペースの線幅は1.25[μm]程度であった。このことから、第1の実施形態の多重描画方法において描画回数を5回としてパターンを形成すると、各回の描画においてフォトレジスト膜を脱色させてから描画することでフォトレジスト膜全体でパターンを均一に形成することができ、そのフォトレジスト膜のパターンをエッチングマスクとして遮光膜をエッチングすることで不均一なパターンの形成を抑えられることが分かる。また、各回の描画においてフォトレジスト膜を段階的に脱色させることでフォトレジスト膜のパターンの縁部を急峻に形成でき、1回で描画するよりもフォトレジスト膜のパターンの解像度を大幅に向上させることができる。
第2の実施形態では、第1の実施形態で説明した多重描画方法において、レーザ光のフォーカス位置をフォトレジスト膜の膜厚の範囲で深部方向にずらしていく実施態様について説明する。第2の実施形態の多重描画方法では各描画時のレーザ光の偏光方向は一定であり、また、その他の条件も特に言及しない限り一定である。
第3の実施形態の多重描画方法では、上記第1の実施形態の多重描画方法において、各回の描画時のレーザ光に対してそれぞれ異なった偏光方向を設定する実施態様について説明する。なお、第3の実施形態の多重描画方法では各描画時のレーザ光のその他の条件は特に言及しない限り一定である。
2、12、22 フォトレジスト
G1、G2 ガウス分布
L1 レーザ光
L21、L22、L23 レーザ光
P1、P2、P3 感光領域
F1、F2、F3 フォーカス位置
D1、D2、D3 レーザ光のフォーカス位置の偏光方向
Claims (5)
- レーザ描画装置を用いて1回で描画する従来の描画時よりも小さい出力でフォトマスクブランクス上のフォトレジスト膜に同一の描画パターンを複数回描画するフォトマスクの多重描画方法であって、
各回の描画間隔を前記フォトレジスト膜が光化学反応により脱色する時間よりも長い時間に設定して描画することを特徴とするフォトマスクの多重描画方法。 - 前記フォトレジスト膜の膜厚の範囲でレーザ光のフォーカス位置を描画毎にずらしながら描画することを特徴とする請求項1記載のフォトマスクの多重描画方法。
- レーザ光の偏光方向を描画毎にずらしながら描画することを特徴する請求項1又は請求項2に記載のフォトマスクの多重描画方法。
- 前記レーザ描画装置は、ラスター走査方式であるとともにスウィープ機構を備え、
レーザ光のスウィープによる1ストライプの描画をn回繰り返すことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のフォトマスクの多重描画方法。 - 請求項1乃至4記載のフォトマスクの多重描画方法を用いて形成されたフォトマスク。
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