JP2010008497A

JP2010008497A - 近赤外線遮蔽体及びそれを用いたディスプレイ用前面板

Info

Publication number: JP2010008497A
Application number: JP2008164742A
Authority: JP
Inventors: Yusuke Takatori; 祐介高取; Noriaki Otani; 紀昭大谷
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 2008-06-24
Filing date: 2008-06-24
Publication date: 2010-01-14

Abstract

【課題】優れた近赤外線吸収機能及びネオンカット機能を有し、かつ高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性が向上した近赤外線遮蔽体及びそれを用いたディスプレイ用前面板を提供する。
【解決手段】本発明の近赤外線遮蔽体１０は、基材１と、前記基材１の一方の主面に配置されている近赤外線吸収層２を含み、前記近赤外線吸収層２は近赤外線吸収色素と可視光線吸収色素とを含み、前記近赤外線吸収色素はスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物とシアニン化合物（Ａ）とを含み、前記可視光線吸収色素はシアニン化合物（Ｂ）とを含む。また、本発明のディスプレイ用前面板は、基板上に、上記の本発明の近赤外線遮蔽体が配置されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、ネオンカット機能を有する近赤外線遮蔽体及びそれを用いたディスプレイ用前面板に関する。

プラズマディスプレイパネル(ＰＤＰ)は近赤外線や電磁波などを発生して、近赤外線通信や他の電子機器の誤作動を引き起こすことから、通常、ＰＤＰの前面板に、波長８００〜１２００ｎｍの領域の近赤外線を吸収する近赤外線遮蔽体を設けている。従来からこのような近赤外線遮蔽体として、例えば、樹脂に近赤外線吸収化合物を分散又は溶解させてフィルム状に構成したものが知られている。また、これらの近赤外線遮蔽体の長時間の使用における光学特性の安定性を向上させるために、近赤外線吸収化合物を分散させる樹脂のガラス転移温度を一定温度以上にする方法（特許文献１）や、近赤外線吸収化合物の分散又は溶解に用いた溶剤の残留溶剤量を低減させる方法（特許文献２）などが提案されている。

一方、プラズマディスプレイパネルは、ネオンオレンジ光を発光するため、プラズマディスプレイパネルの前面板にネオンカット機能を付与し、色の再現性やコントラスト調整などを可能とする必要があった。一般的には、ＰＤＰの前面板の粘着層や近赤外線遮蔽体中に可視光線吸収化合物を含ませることで、ＰＤＰの前面板にネオンカット機能を付与することが知られている。

最近では、近赤外線吸収色素としてフタロシアニン系色素を、可視光線吸収色素としてポルフィリン系色素又はアザポルフィリン系色素を用いることにより、近赤外線吸収機能とネオンカット機能を有するとともに、長時間の使用における光学特性の安定性を向上させた近赤外線遮蔽体が提案されている（特許文献３）。
特開平１１−３１６３０９号公報特許第３３４１７４１号公報特許第３９０４０２８号公報

しかし、上記の特許文献３に記載のネオンカット機能を付与された近赤外線遮蔽体は、高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性は不十分であるという問題点があった。

本発明は、前記従来の問題を解決するため、優れた近赤外線吸収機能及びネオンカット機能を有し、かつ高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性が向上した近赤外線遮蔽体及びそれを用いたディスプレイ用前面板を提供する。

本発明の近赤外線遮蔽体は、基材と、前記基材の一方の主面に配置されている近赤外線吸収層とを含む近赤外線遮蔽体であって、前記近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素と可視光線吸収色素とを含み、前記近赤外線吸収色素は、スルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物と、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有し、かつ下記式（１）で表される構造を有するカチオンを含むシアニン化合物（Ａ）とを含み、前記可視光線吸収色素は、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有し、かつ下記式（１）で表される構造を有するカチオンを含むシアニン化合物（Ｂ）とを含む。

但し、式（１）の中、Ｑ₁及びＱ₂は、それぞれ独立して、Ｎ原子と一緒に５員環の含窒素複素環、５員環の含窒素複素環を含む縮合環、６員環の含窒素複素環又は６員環の含窒素複素環を含む縮合環を完成するために必要な原子群を示し、Ｒ₁及びＲ₂は、炭素数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２〜４の整数を示す。

本発明のディスプレイ用前面板は、基板上に、上記の本発明の近赤外線遮蔽体が配置されている。

本発明によれば、優れた近赤外線吸収機能及びネオンカット機能を有し、かつ高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性が向上した近赤外線遮蔽体及びそれを用いたディスプレイ用前面板を提供できる。本発明によれば、好ましくは、さらにコストが低下した近赤外線遮蔽体及びそれを用いたディスプレイ用前面板を提供できる。

本発明のシアニン化合物（Ａ）は、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンと下記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体であることが好ましい。

但し、式（２）の中、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換若しくは未置換のモルホリノ基、置換若しくは未置換のチオモルホリノ基、置換若しくは未置換のピペラジノ基、又は置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｍは遷移金属原子を示す。

また、本発明のシアニン化合物（Ｂ）は、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体であることが好ましい。

また、本発明の近赤外線遮蔽体の前記近赤外線吸収層は、前記近赤外線吸収色素と前記可視光線吸収色素とを分散させる樹脂を含むことが好ましい。また、前記樹脂は、ガラス転移温度が８０℃以上であることが好ましい。

また、本発明の近赤外線遮蔽体は、ハードコート層と反射防止層とをさらに含み、前記ハードコート層と反射防止層とが、前記近赤外線吸収層が配置された前記基材の一方の主面の反対面に配置されていることが好ましい。

本発明において、近赤外線吸収層が上記のようなスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物、シアニン化合物（Ａ）、シアニン化合物（Ｂ）を含むことにより、優れた近赤外線吸収機能及びネオンカット機能を有し、かつ高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性が向上した近赤外線遮蔽体を提供することができる。また、本発明において、上記のスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物、シアニン化合物（Ａ）、シアニン化合物（Ｂ）などを含む近赤外線吸収層を単層にすることで、コストを低下させることができる。また、本発明において、近赤外線遮蔽機能を発揮する近赤外線吸収色素として上記のシアニン化合物（Ａ）を含み、ネオンカット機能を発揮する可視光線吸収色素として上記のシアニン化合物（Ｂ）を含むことにより、これらの色素の劣化が抑えられ、本発明の近赤外線遮蔽体の高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性が向上すると思われる。

本発明において、「高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性」は、耐熱試験及び耐湿熱試験前後における、近赤外線遮蔽体の波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域における分光透過率の変化率及びＣＩＥ１９３１ＸＹＺ表色系の色度図で示される透過光の色度の変化率で表す。ここで「耐熱試験」は、温度８０℃の条件下にて、５００時間保存することをいい、「耐湿熱試験」とは、温度６０℃、相対湿度９０％の条件下にて、５００時間保存することをいう。また、「分光透過率の変化率」ΔＴ、及び「色度の変化率」Δｘ、Δｙを、それぞれ下記の数式（１）及び（２）から算出する。なお、ΔＴが小さい程、分光透過率の変化が少ないことを表し、Δｘ及びΔｙの値が小さい程、色度の変化が少ないことを表す。

（数１）
分光透過率の変化率ΔＴ（％）＝｛｜Ｔ_int(WL)−Ｔ_end(WL)｜／Ｔ_int(WL)｝×１００

数式（１）の中、Ｔ_int(WL)は上記保存前の波長ＷＬでの分光透過率、Ｔ_end(WL)は上記保存後の波長ＷＬでの分光透過率を表す。

（数２）
Δｘ＝｜ｘ_int−ｘ_end｜
Δｙ＝｜ｙ_int−ｙ_end｜

数式（２）の中、ｘ_int及びｙ_intは上記保存前の透過光の色度、ｘ_end及びｙ_endは上記保存後の透過光の色度を表す。

以下、本発明を詳細に説明する。

（実施形態１）
実施形態１では、本発明の近赤外線遮蔽体の一例について説明する。図１は、本発明の近赤外線遮蔽体の一例を示す断面図である。本実施形態の近赤外線遮蔽体１０は、基材１と、基材１の一方の主面に配置された近赤外線吸収層２から形成されている。

〈基材〉
基材１は、透光性を有していれば特に限定されない。例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、トリアセチルセルロース樹脂などの材料をフィルム状又はシート状に加工したものを用いることができる。前記フィルム状又はシート状に加工する方法としては、例えば、押し出し成形法、カレンダー成形法、圧縮成形法、射出成形法、及び上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。なお、上記材料には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。また、前記基材１として、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムがさらに好ましい。

前記基材１の厚みは素材により異なるが、通常１０〜５００μｍであればよく、ポリエステルフィルムを用いる場合には、３５〜２６０μｍが好ましく、５０〜２００μｍがさらに好ましい。前記基材の厚みが薄い場合には、ハンドリング性が不良となる。一方、前記基材の厚みが厚い場合にはコスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。

〈近赤外線吸収層〉
近赤外線吸収層２は、近赤外線吸収色素を含むことが必要である。本発明の近赤外線吸収層２における近赤外線吸収色素は、スルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物と、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有し、かつ下記式（１）で表される構造を有するカチオンを含むシアニン化合物（Ａ）とを含むことが必要である。

上記のＱ₁若しくはＱ₂を含む５員環又は６員環の含窒素複素環としては、例えば、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、チアゾリン環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、オキサゾリン環、セレナゾール環、ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環、セレナゾリン環、テルラゾール環、ベンゾテルラゾール環、ナフトテルラゾール環、テルラゾリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキサリン環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、テトラゾール環、及びピリミジン環などが挙げられる。これらの中では、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾ〔４，５−ｂ〕キノキサリン環、チアジアゾール環、テトラゾール環、及びピリミジン環が好ましい。これらの５員環又は６員環の含窒素複素環は、更にベンゼン環、ナフトキノン環と縮合して、５員環の含窒素複素環を含む縮合環又は６員環の含窒素複素環を含む縮合環になる。

上記のＱ₁若しくはＱ₂を含む５員環又は６員環の含窒素複素環は置換基を有していても良い。好ましい置換基（原子）の例としては、ハロゲン原子、置換又は未置換のアルキル基、アリール基などが挙げられる。また、ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、アルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましい。またアルキル基の置換基の例としては、メトキシ基などのアルコキシ基、メチルチオ基などのアルキルチオ基が挙げられる。アリール基としては、フェニル基が好ましい。

上記のＲ₁及びＲ₂で表されるアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜８の直鎖状、環状、又は分岐鎖状のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜６の直鎖状、環状、又は分岐鎖状のアルキル基であることがさらに好ましい。

また、上記の式（１）で表される構造を有するカチオンとしては、下記の式（３）〜（５）で表されるカチオンを用いることが好ましい。

また、本発明のシアニン化合物（Ａ）は、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンと下記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体であることが好ましい。

前記炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、及びイソヘキシル基などが挙げられる。

前記炭素数１〜８のアルキルアミノ基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−エチルイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノ基、及びＮ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ基などが挙げられる。

前記置換若しくは未置換のモルホリノ基としては、例えば、モルホリノ基、２−メチルモルホリノ基、３−メチルモルホリノ基、２−エチルモルホリノ基、２−ｎ−プロピルモルホリノ基、３−ｎ−ブチルモルホリノ基、２，３−ジメチルモルホリノ基、２，６−ジメチルモルホリノ基、及び２−フェニルモルホリノ基などが挙げられる。

前記置換若しくは未置換のチオモルホリノ基としては、例えば、チオモルホリノ基、２−メチルチオモルホリノ基、３−メチルチオモルホリノ基、２−エチルチオモルホリノ基、２−ｎ−プロピルチオモルホリノ基、３−ｎ−ブチルチオモルホリノ基、２，３−ジメチルチオモルホリノ基、２，６−ジメチルチオモルホリノ基、及び２−フェニルチオモルホリノ基などが挙げられる。

前記置換若しくは未置換のピペラジノ基としては、例えば、ピペラジノ基、２−メチルピペラジノ基、３−メチルピペラジノ基、４−メチルピペラジノ基、２−エチルピペラジノ基、４−ｎ−プロピルピペラジノ基、３−ｎ−ブチルピペラジノ基、２，４−ジメチルピペラジノ基、２，６−ジメチルピペラジノ基、４−フェニルピペラジノ基、及び２−ピリミジルピペラジノ基などが挙げられる。

前記置換若しくは未置換のフェニル基としては、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、４−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−クロロ−４−ブロモフェニル基、４−アミノフェニル基、２，４−ジアミノフェニル基、２，４−ジニトロフェニル基、２−アセチルフェニル基、４−アセチルフェニル基、２−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−メチルチオフェニル基、及び４−メチルチオフェニル基などが挙げられる。

なお、上記式（２）において、有機溶媒への溶解性に優れている観点から、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ独立して、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基又はフェニル基であることが好ましい。

Ｍで表される遷移金属原子しては、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｓｎなどが挙げられる。特にＮｉ、Ｃｕなどが好ましい。

また、上記式（１）で表される構造を有するカチオンにおいてＱ₁、Ｑ₂、Ｒ₁、Ｒ₂及びｎなどを適宜に選択することにより、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有するシアニン化合物（Ａ）とすることができる。さらに、シアニン化合物（Ａ）が上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で示される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体である場合は、上記式（１）の中のＱ₁、Ｑ₂、Ｒ₁、Ｒ₂、ｎ及び上記式（２）の中のＲ₃、Ｒ₄、Ｍなどを適宜に選択することにより、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有するシアニン化合物（Ａ）とすることができる。

また、本発明に用いるシアニン化合物（Ａ）は、市販品として入手可能であり、例えば、“ＴＺ−１０９Ｄ”（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、“ＣＹＰ−４６４６（Ｆ）”（日本化薬株式会社製）、“ＣＹ−４０ＭＣ（Ｆ）”（日本化薬株式会社製）、“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”（住友精化株式会社製）、“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”（住友精化株式会社製）などが挙げられる。中でも、上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で示される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体である、“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”及び“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”などが好ましい。

本発明において、上記のシアニン化合物（Ａ）は、一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

前記スルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物としては、例えば、下記式（６）及び（７）で表される構造を有する化合物を用いることができる。

但し、式（６）及び式（７）の中で、Ｒ₅〜Ｒ₁₂は、それぞれ独立して、分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜８の直鎖状の置換若しくは未置換のアルキル基を示し、Ｘ^-、Ｙ^2-はそれぞれ１価と２価のカウンターアニオンを示す。

上記分岐鎖状のアルキル基の具体例としては、１−メチルエチル（ｉｓｏ−プロピル）、１，１−ジメチルエチル（ｔｅｒｔ−ブチル）、１−メチルプロピル（ｓｅｃ−ブチル）、１，１−ジメチルプロピル、２−メチルプロピル（ｉｓｏ−ブチル）、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル（ｉｓｏ−アミル）、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、３−エチルブチル、２−エチルブチルなどの炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。中でも、好ましいものは炭素数１〜１０、更に好ましくは炭素数３〜６の上記分岐鎖状のアルキル基である。

また、炭素数１〜８の直鎖状のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルなどが挙げられる。これらの直鎖状のアルキル基に結合し得る置換基の例としては、シアノ、ヒドロキシ、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。

本発明において、上記のＲ₅〜Ｒ₁₂のうちの少なくとも１つは分岐鎖状のアルキル基であることが好ましい。また、Ｒ₅〜Ｒ₁₂はそれぞれ異なるアルキル基であっても、一部又は全てが同じアルキル基であってもよい。

また、上記の式（６）の中、Ｘ^-としては、例えば、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオン、パーフロロアルカンスルホン酸イミドイオンなどの有機スルホン酸イオンが挙げられる。

また、上記の式（７）中、Ｙ^2-としては、例えば、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、Ｒ酸（例えば、２−ナフトール−３，６−ジスルホン酸）イオン、Ｇ酸（例えば、７−ヒドロキシナフタレンスルホン酸）イオン、Ｈ酸（例えば、１−アミノ−８−ナフトール−３，６−ジスルホン酸）イオン、ベンゾイルＨ酸イオン、ｐ−クロロベンゾイルＨ酸イオン、クロルアセチルＨ酸イオン、Ｃ酸（例えば、３−アミノ−６−クロロトルエン−４，４−スルホン酸）イオン、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸イオン、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸イオン、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸イオンなどのナフタレンジスルホン酸誘導体イオン、４，４’−ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸イオン、ナフタル酸イオン、ナフタリン−２，３’−ジカルボン酸イオン、ジフェン酸イオン、スチルベン−４，４’−ジカルボン酸イオン、６−スルホ−２−オキシ−３−ナフトエ酸イオン、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸イオン、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸イオン、２−（４−スルホニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸イオン、６−（３−メチル−５−ピラゾニル）−１，３−ジスルホン酸イオン、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸イオンなどが挙げられる。

本発明において、スルホン酸イミド誘導体としては特に限定されないが、例えば、パーフロロアルカンスルホン酸イミドイオンなどを用いることが好ましく、特に、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンのようなトリフルオロメタンスルホン酸イミドイオンなどを用いることがさらに好ましい。

上記のスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物の市販品としては、例えば、“ＣＩＲ−１０８５”（日本カーリット株式会社製）、“ＣＩＲ−ＲＬ”（日本カーリット株式会社製）、“ＩＲＧ−０６８”（日本化薬株式会社製）及び“ＩＲＧ−０２２”（日本化薬株式会社製）などが挙げられる。

本発明において、上記のスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物は、一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

上記のスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物は、９５０〜１２００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物であれば、より好ましい。また、シアニン化合物（Ａ）は、８００〜９００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する化合物であれば、より好ましい。両者を組み合わせることにより、８００ｎｍ〜１２００ｎｍの波長領域におけるほぼ全ての近赤外線を吸収することができる。

また、近赤外線吸収層２は、必要に応じて、上記のシアニン化合物（Ａ）及びスルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物に加えて、ジイモニウム系、フタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、ナフタロシアニン系及びシアニン系などの近赤外線吸収色素をさらに含んでもよい。

近赤外線吸収層２は、可視光線吸収色素を含むことも必要である。本発明の近赤外線吸収層２における可視光線吸収色素は、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンを含むシアニン化合物（Ｂ）を含むことが必要である。ここで、式（１）の説明については、上記の記述を準用する。なお、上記式（１）で表される構造を有するカチオンにおいてＱ₁、Ｑ₂、Ｒ₁、Ｒ₂及びｎなどを適宜に選択することにより、好ましくはｎを２にすることにより、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有するシアニン化合物（Ｂ）とすることができる。

また、本発明のシアニン化合物（Ｂ）は、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体であることが好ましい。ここで、式（２）の説明については、上記の記述を準用する。なお、シアニン化合物（Ｂ）が上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で示される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体である場合は、上記式（１）の中のＱ₁、Ｑ₂、Ｒ₁、Ｒ₂、ｎ及び上記式（２）の中のＲ₃、Ｒ₄、Ｍなどを適宜に選択することにより、好ましくはｎを２にすることにより、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有するシアニン化合物（Ｂ）とすることができる。

また、本発明のシアニン化合物（Ｂ）は、市販品として入手可能であり、例えば、上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体である“ＳＤ５０−Ｅ０９Ｖ”（住友精化株式会社製）などが挙げられる。

本発明において、上記のシアニン化合物（Ｂ）は、一種又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

また、近赤外線吸収層２は、必要に応じて、上記のシアニン化合物（Ｂ）に加えて、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域に最大吸収を有する、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオール金属錯体系、及びピロメテン系などの可視光線吸収色素をさらに含んでもよい。

本発明の近赤外線吸収層２は、前記近赤外線吸収色素と可視光線吸収色素とを分散させる樹脂を含む。前記近赤外線吸収色素又は可視光線吸収色素は、樹脂中に分散あるいは溶解された状態で、塗布法により、基材の一方の主面に配置される。

前記樹脂としては、近赤外線吸収色素若しくは可視光線吸収色素を均一に溶解又は分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂などを好適に用いることができる。中でも、色素混合時の透明性、耐熱性、耐溶剤性に優れるアクリル樹脂が好ましい。

また、上記の樹脂のガラス転移温度は、８０℃以上であることが好ましい。樹脂のガラス転移温度が８０℃未満の場合、色素と樹脂との相互作用、色素間の相互作用などが起こり、色素の変性が発生する傾向がある。

また、本発明の近赤外線吸収層２における前記近赤外線吸収色素の含有量は、樹脂に対し、１〜１５重量％であればよく、１〜１０重量％であることが好ましく、前記シアニン化合物（Ａ）の含有量は、特に限定されないが、樹脂に対し、０．１〜１０重量％であればよく、０．５〜３重量％であることが好ましい。樹脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収機能を達成するために近赤外線吸収層の塗工量を増やす必要があり、これに伴って十分な乾燥をするには高温及び／又は長時間を要し、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。一方、樹脂中の近赤外線吸収色素の量が多い場合には、色素間の相互作用が強くなり、色素の経時的な変性が起こりやすくなる。

また、本発明の近赤外線吸収層２における前記可視光線吸収色素であるシアニン化合物（Ｂ）の含有量は、樹脂に対し、０．１〜１０重量％であればよく、０．２〜５重量％であることが好ましい。樹脂中の可視光線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収機能を達成するために近赤外線吸収層の塗工量を増やす必要があり、これに伴って十分な乾燥をするには高温及び／又は長時間を要し、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。一方、樹脂中の可視光線吸収色素の量が多い場合には、色素間の相互作用が強くなり、色素の経時的な変性が起こりやすくなる。

前記近赤外線吸収層２は、前記近赤外線吸収色素、可視光線吸収色素及び樹脂などを含む塗布液を前記基材上に塗布・乾燥することにより、単層として前記基材の一方の主面に配置される。また、塗工性の観点から、前記塗布液を有機溶媒により希釈することが好ましい。なお、上記の有機溶媒の添加量は、特に制限されず、塗工液における樹脂の含有量が５〜３０重量％程度となるように用いればよい。

前記有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−メチルシクロヘキシルアルコールなどのアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリンなどのグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテートなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸ｎ−ブチルなどのエステル類、及びアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコールなどのケトン類が挙げられ、これらは単独又は２種以上を混合して使用することができる。

好ましくは、色素の溶解性に優れるケトン類を、塗布液に使用する全有機溶媒に対し、３０〜８０重量％含有させ、その他の有機溶媒は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、有機溶媒の沸点は、６０〜１８０℃が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗布液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい傾向がある。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する有機溶媒量が増え、経時安定性が不良となる傾向がある。

前記近赤外線吸収色素、可視光線吸収色素、樹脂、及び有機溶媒などを含む塗布液
を基材上に塗布して、基材１の一方の主面に近赤外線吸収層２を形成する方法は特に限定されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法を用いることができる。

前記近赤外線吸収色素、可視光線吸収色素、樹脂、及び有機溶媒などを含む塗布液
を基材上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーターによる乾燥などが挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。

また、近赤外線吸収層２の厚さは、２〜１２μｍが好ましく、２．５〜７μｍがより好ましい。近赤外線吸収層２の厚さが２μｍ未満では、目的とする近赤外線吸収機能を達成するために、樹脂に対する近赤外線吸収色素の添加量を増加させる必要があり、未溶解の近赤外線吸収色素が生じる傾向がある。また、厚さが１２μｍを超えると、クラックが生じやすい傾向がある。

（実施形態２）
図２は、本発明の近赤外線遮蔽体の他の一例を示す断面図である。図２において、図１に示した近赤外線遮蔽体と同じ構成部材には同じ符号を付し、その説明を省略する。また、同じ部材は同様の効果を有する。

本実施形態の近赤外線遮蔽体１０は、基材１と、基材１の一方の主面に配置された近赤外線吸収層２と、この基材１の他方の主面に配置されたハードコート層３と、このハードコート層３の上に配置された反射防止層４から形成されている。また、上記反射防止層４は、屈折率の異なる３つの層から形成され、ハードコート層３側から中屈折率層４ａ、高屈折率層４ｂ、低屈折率層４ｃの順に配置されている。

<ハードコート層>
ハードコート層３の材料は、硬度が高く透光性を有する材料であれば特に限定されない。例えば、ウレタン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系などの熱硬化型樹脂組成物、電離放射線硬化型樹脂組成物などを用いることができる。特に表面硬度が高い電離放射線硬化型樹脂組成物を用いることがより好ましい。また、上記ハードコート層３は、無機微粒子をさらに含むことが好ましい。無機微粒子を含むことによってハードコート層３は、より高い表面硬度が得られるとともに、樹脂などの硬化による収縮を緩和できる。無機微粒子の材料としては、例えば、二酸化珪素（シリカ）、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、酸化ジルコニウムなどを用いることができる。また、上記無機微粒子は、微粒子状のものであればよく、その一次粒子径は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましい。この範囲内であれば、樹脂中における分散性が向上するからである。なお、ここで、微粒子の１次粒子径の測定は、近赤外線遮蔽体をマイクロトーム（ｍｉｃｒｏｔｏｍｅ）でカットし、カットした近赤外線遮蔽体断面片における微粒子の映像を透過型電子顕微鏡などの電子顕微鏡を用いて倍率２０万倍で撮影し、微粒子の一番長い径とそれに直交方向の一番長い径を計測し、両者を平均して長軸短軸の平均径を算出することにより行なわれる。なお、少なくとも３００個の微粒子の長軸短軸の平均径を算出し、それらの平均値を微粒子の１次粒子径とする。以下においても同様である。

基材１の上にハードコート層３を形成する方法は特に限定されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法を用いることができる。ハードコート層３の厚さは、０．５μｍ〜１０μｍが好ましく、１μｍ〜７μｍがより好ましい。

<反射防止層>
反射防止層４の平均反射率は、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの領域において０．０５％以上２％以下の範囲、波長６５０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域において０．０５％以上４％以下の範囲が好ましい。さらに、反射防止層４の反射光の表色は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ^*ａ^*ｂ^*）表色系において、−８≦ａ^*≦８、−２０≦ｂ^*≦２の範囲が好ましく、−４≦ａ^*≦３、−１５≦ｂ^*≦０の範囲がより好ましく、−１≦ａ^*≦１、−１０≦ｂ^*≦０がより一層好ましい。反射防止層４を上述のように設定することにより、広い波長領域において反射率が低く、反射光の色度が無彩色領域である近赤外線遮蔽体が得られる。また、例えば、上記のような近赤外線遮蔽体をディスプレイ用前面板に用いた場合、ディスプレイの表示品位を高品質化できる。

ハードコート層３の上に反射防止層４を形成する方法は特に限定されず、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法を用いることができる。

中屈折率層４ａは、屈折率ｎ_mが１．５３以上１．６５以下の範囲、より好ましくは１．５７以上１．６３以下の範囲であり、その材料が透光性を有していれば特に限定されない。その材料としては、例えば、屈折率の高い無機微粒子を有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物などを好適に用いることができる。上記有機物成分としては、例えば、熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物を用いることができる。また、上記無機微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウムなどの微粒子を用いることができる。特に、高い導電性を有するＩＴＯ微粒子又はＡＴＯ微粒子を用いれば、中屈折率層４ａの帯電を防止する効果が得られるのでより好ましい。また、上記無機微粒子は、微粒子状のものであればよく、その一次粒子径は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましい。この範囲内であれば、樹脂中における分散性が向上するからである。

中屈折率層４ａの屈折率ｎ_mとその厚さｄ_mとの積ｎ_mｄ_m（光学厚さ）は、１１０ｎｍ以上１６３ｎｍ以下の範囲が好ましく、１２５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲がより好ましい。

高屈折率層４ｂは、屈折率ｎ_hが１．７０以上１．９５以下の範囲、より好ましくは１．７６以上１．８４以下の範囲であり、その材料が透光性を有していれば特に限定されない。その材料としては、例えば、屈折率の最も高い無機微粒子である酸化チタン微粒子を有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物を好適に用いることができる。上記有機物成分としては、例えば、熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物を用いることができ、この高屈折率層４ｂは、コーティング組成物が強固に架橋した膜として形成される。また、酸化チタン微粒子としては光触媒作用が弱く、かつ屈折率も高いルチル構造の酸化チタン微粒子を用いることがより好ましい。アナターゼ構造の酸化チタン微粒子は、光触媒作用があり、紫外線の照射によりこの膜を構成する樹脂成分や基材などの有機物を分解してしまうからである。酸化チタン微粒子の量は、硬化後の高屈折率層４ｂの全重量の５０重量％以上６５重量％以下が好ましい。また、上記屈折率を満足できるのであれば、例えば酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズなどの導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子を添加することにより、高屈折率層４ｂに帯電防止機能を付与できる。

高屈折率層４ｂの屈折率ｎ_hとその厚さｄ_hとの積ｎ_hｄ_h（光学厚さ）は２２５ｎｍ以上３２５ｎｍ以下の範囲が好ましく、２５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲がより好ましい。

また、上記高屈折率層４ｂ中の有機物成分の一部は、屈折率が１．６０以上１．８０以下の範囲、より好ましくは１．６５以上１．７５以下の範囲である有機物成分であることが好ましい。高屈折率層４ｂ中の無機微粒子の量を低減しても、屈折率を高めることができるからである。無機微粒子の量を低減することにより、高屈折率層４ｂ中における有機物成分の架橋の低下を防止でき、有機物成分の硬化を促進し、この層の耐擦傷性を向上させることができる。上記有機物成分の屈折率が１．６０未満では、高屈折率層４ｂ中の無機微粒子量の低減効果が不十分となり、その屈折率が１．８０を超えると反射光の黄色味が強くなる傾向があり好ましくない。屈折率が１．６０以上１．８０以下の範囲にある高屈折率の有機物成分としては、芳香環、硫黄、臭素などを含む有機化合物などを用いることができ、より具体的には、例えば、ジフェニルスルフィドやその誘導体などを用いることができる。

低屈折率層４ｃは、屈折率ｎ_lが１．３０以上１．４７以下の範囲、より好ましくは１．３５以上１．４５以下の範囲であり、その材料が透光性を有していれば特に限定されない。その材料としては、例えば、フッ素系又はシリコーン系有機化合物、二酸化珪素（シリカ）、フッ化マグネシウムなどの無機微粒子又は二酸化珪素（シリカ）、フッ化マグネシウムなどの屈折率の低い粒子を中空状にした無機微粒子を有機物成分中に均一に分散させたコーティング組成物を好適に用いることができる。上記有機物成分としては、例えば、熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物などの架橋可能な有機物を用いることができる。

低屈折率層４ｃの屈折率ｎ_lとその厚さｄ_lとの積ｎ_lｄ_l（光学厚さ）は、１１０ｎｍ以上１６３ｎｍ以下の範囲が好ましく、１２５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下の範囲がより好ましい。

なお、中屈折率層４ａ、高屈折率層４ｂ、及び低屈折率層４ｃの材料として、電離放射線硬化型樹脂組成物である紫外線硬化型樹脂組成物を用いる場合には、窒素などの不活性ガスをパージして、酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下になる条件下で紫外線照射を行うことが好ましい。これにより、酸素による重合阻害を防止することができる。

本実施形態の反射防止層４は、外光の反射を低減できるものであれば、上述の構成に特に限定されるものではない。例えば、反射防止層の層数は、反射の程度と反射光の品位、コストなどに応じて一層、二層、三層構造のように適宜の層構造とすることが可能である。なお、反射防止層が２層以上の層から形成されている場合には、反射防止層の最上層を、前述したような低屈折率層とする。

一般に、一層構造で反射防止を行うためには、ハードコート層の上に低屈折率層を配置し、その屈折率と厚さの積である光学厚さはλ／４（λは可視光線波長を示しており、人間の目の視感度が高い光の波長５５０ｎｍに設定されることが多い）とすると、反射率が低くなり好ましい。二層構造の場合、人間の目の視感度の高い波長のみの反射率を低減させるためには、ハードコート層の上に基材側から高屈折率層、低屈折率層の順に配置し、それぞれの光学厚さはλ／４、λ／４とし、広い波長領域で反射率を低くするためには、ハードコート層の上に基材側から高屈折率層、低屈折率層の順に配置し、それぞれの光学厚さはλ／２、λ／４とする。

なお、実施形態１の近赤外線遮蔽体のみでもディスプレイ用の前面板の部材として使用できるが、実施形態２に示したように、反射防止機能などの複数の機能を備えた近赤外線遮蔽体を使用することがより好ましい。また、複数の機能を備えた近赤外線遮蔽体の別の例として、例えば、電磁波遮蔽機能を有するフィルムに反射防止機能及び近赤外線遮蔽機能を備えた近赤外線遮蔽体が挙げられる。このような複数の機能を備えた近赤外線遮蔽体は、フィルムフィルタとして使用することができる。

（実施形態３）
図３は、本発明のディスプレイ用前面板の一例を示す断面図である。本実施形態のディスプレイ用前面板２０は、基板１１と、基板１１の一方の主面に配置された近赤外線遮蔽体１２及び他方の主面に配置された電磁波遮蔽体１３と、電極（アース）１４から形成されている。

基板１１の材料は、透光性を有し、ディスプレイを保護するために十分な強度を備えた材料であれば特に限定されず、例えば強化ガラスなどのガラス基材やプラスチック基材などを用いればよい。基板１１の厚さもディスプレイの種類や基板の材質によって異なり、特に限定されず、通常は０．１〜２０ｍｍ、好ましくは０．１〜１５ｍｍのものが用いられる。

近赤外線遮蔽体１２としては、例えば、実施形態２の近赤外線遮蔽体１０をそのまま用いることができる。基板１１への近赤外線遮蔽体１２の接着は、適宜接着剤又は粘着剤で基板上に貼り合わせればよい。この場合、近赤外線遮蔽体１２は、その近赤外線吸収層が配置された主面が基板１１側になるように配置される。

電磁波遮蔽体１３としては、透光性を有し、電磁波を遮蔽する機能を有するものであれば特に限定されず、例えば透明基材上に透明導電薄膜や導電性メッシュなどを配置したものなど従来公知のものを用いることができる。

本実施形態によれば、近赤外線の遮蔽性に優れ、高温、高湿下の長時間保存における近赤外線吸収性能が低下しない近赤外線遮蔽体の機能と、電磁波遮蔽体の機能と、ネオンカット機能とを有するディスプレイ用前面板が得られる。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されない。

実施例で使用した特性値の測定方法及び効果の評価方法は下記のとおりである。

＜光線透過率＞
分光光度計“Ｕ−ＢｅｓｔＶ−５７０型”（日本分光株式会社製）を用い、波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲での分光透過率を測定した。

＜色度＞
ＣＩＥ１９３１ＸＹＺ表色系の色度図により、透過光の色度（ｘ、ｙ）を算出した。

＜耐熱性試験＞
耐熱性試験は、温度８０℃の条件下にて、５００時間保存することで行った。

＜耐湿熱性試験＞
耐湿熱性試験は、温度６０℃、相対湿度９０％の条件下にて、５００時間保存することで行った。

＜経時安定性＞
上記のとおり、耐熱性試験前後及び耐湿熱性試験前後の分光透過率及び色度を測定し、その分光透過率の変化率ΔＴ並びに上記色度変化Δｘ及びΔｙを、それぞれ上記の数式（１）及び（２）から算出した。

（実施例１）
まず、基材として、表裏両面を易接着処理した厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ株式会社製“Ｕ−３４”）を準備した。

次に、近赤外線吸収層の材料として下記の（ａ）〜（ｇ）を準備した。
（ａ）スルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物として、カウンターアニオンとしてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸イオンを含むジイモニウム化合物“ＣＩＲ−ＲＬ”（日本カーリット株式会社製）：７．５重量部
（ｂ）シアニン化合物（Ａ）として、上記の式（１）で表される構造を有するカチオンと上記の式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属（銅）錯体アニオンとの対イオン結合体からなる化合物“ＳＤ５０−Ｅ０４Ｎ”（最大吸収波長８７７ｎｍ、住友精化株式会製）：１重量部
（ｃ）シアニン化合物（Ａ）として、上記の式（１）で表される構造を有するカチオンと上記の式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属（銅）錯体アニオンとの対イオン結合体からなる化合物“ＳＤ５０−Ｅ０５Ｎ”（最大吸収波長８３３ｎｍ、住友精化株式会製）：１重量部
（ｄ）シアニン化合物（Ｂ）として、上記の式（１）で表される構造を有するカチオンと上記の式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属（銅）錯体アニオンとの対イオン結合体からなる化合物“ＳＤ５０−Ｅ０９Ｖ”（最大吸収波長５８０ｎｍ、住友精化株式会製）：１．３重量部
（ｅ）アクリル樹脂（三菱レイヨン株式会社製“ダイヤナールＢＲ−５２”、ガラス転移温度１０５℃）：１００重量部
（ｆ）メチルエチルケトン：３７５重量部
（ｇ）トルエン：３７５重量部

続いて、これらの材料を混合・撹拌させた塗布液を、乾燥後の厚さが４μｍになるようにマイクログラビアコータ（株式会社安井精機製）を用い、上記基材上に塗布して近赤外線吸収層を形成し、実施例１の近赤外線遮蔽体を作製した。

（実施例２）
実施例１における（ｂ）及び（ｃ）を、下記の（ｈ）、（ｉ）及び（ｊ）とする以外は実施例１と同様の材料を用いた。
（ｈ）シアニン化合物（Ａ）として、上記の式（１）で表わされる構造を有するカチオンを含むシアニン化合物“ＴＺ−１０９Ｄ”（最大吸収波長８７５ｎｍ、株式会社ＡＤＥＫＡ製）：０．４重量部
（ｉ）シアニン化合物（Ａ）として、上記の式（１）で表わされる構造を有するカチオンを含むシアニン化合物“ＣＹＰ−４６４６（Ｆ）”（最大吸収波長８４５ｎｍ、日本化薬株式会社製）：０．４重量部
（ｊ）シアニン化合物（Ａ）として、上記の式（１）で表わされる構造を有するカチオンを含むシアニン化合物“ＣＹ−４０ＭＣ（Ｆ）”（最大吸収波長８２０ｎｍ、日本化薬株式会社製）：０．５重量部

続いて、これらの材料を混合・撹拌させた塗布液を用い、実施例１と同様にして実施例２の近赤外線遮蔽体を作製した。

（実施例３）
実施例１と同様に形成した近赤外線遮蔽体の近赤外線吸収層が配置された基材の一方の主面の反対面（以下、基材の反対面という）に、基材側から順番に、ハードコート機能を有するハードコート層及び反射防止機能を有する低屈折率層を形成し、実施例３の近赤外線遮蔽体を作製した。

先ず、下記のとおり、ハードコート層の形成に用いる無機微粒子を分散させた電離放射線硬化型樹脂組成物を調製した。

（１）アンチモンドープ酸化スズ微粒子（三菱マテリアル株式会社製、一次粒子径２０ｎｍ）：５．５重量部
（２）酸化ジルコニウム微粒子（第一稀元素化学工業株式会社製、一次粒子径１０ｎｍ）：４．５重量部
（３）“Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０”（ビックケミー・ジャパン株式会社製、分散剤）：１．０重量部
（４）アセチルアセトン：５．０重量部
（５）プロピレングリコールモノメチルエーテル：３０重量部
以上の成分を有する組成物に、液の攪拌分散用のビーズとして直径０．３ｍｍのジルコニアビーズを入れ、ペイントシェーカーで３時間分散した後、ジルコニアビーズを取除き、ＡＴＯ：ＺｒＯ₂の重量比が５５：４５の分散液を調製した。上記で調製した分散液に、紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート：２重量部、紫外線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：２．７重量部、“ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７”（チバスペシャルティケミカルズ株式会社製、光重合開始剤）：０．３重量部を添加してハードコート層の形成に用いる塗料（以下、ハードコート層用塗料と記す）を調製した。

上記で調製したハードコート層用塗料を、実施例１と同様に作製した近赤外線遮蔽体の基材の反対面に、マイクログラビアコータを用いて塗布し、乾燥させた。続いて塗膜に紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の線量で照射して塗膜を硬化させ、膜厚１．５μｍのハードコート層を形成した。

その後、中空シリカ微粒子分散電離放射線硬化型低屈折率塗料（触媒化成工業株式会社製、“ＥＬＣＯＭＰ−５０１３”）を、上記のハードコート層の上に、マイクログラビアコータを用いて塗布し、乾燥させた。続いて、塗膜に紫外線を８００ｍＪ／ｃｍ²の線量で照射して塗膜を硬化させ、厚さ約１００ｎｍであり、屈折率が１．４０の低屈折率層を形成し、実施例３の近赤外線遮蔽体を作製した。

（実施例４）
実施例２と同様に作製した近赤外線遮蔽体の基材の反対面に、実施例３と同様に、基材側から順番に、ハードコート機能を有するハードコート層及び反射防止機能を有する低屈折率層を形成し、実施例４の近赤外線遮蔽体を作製した。

（比較例１）
可視光線吸収色素として、テトラアザポルフィリン化合物を用いた以外は、実施例２と同様の材料を用い、実施例２と同様にして比較例１の近赤外線遮蔽体を作製した。

（比較例２）
可視光線吸収色素を含まない以外は、実施例２と同様にして比較例２の近赤外線遮蔽体を作製した。

得られた実施例１〜４及び比較例１、２の近赤外線遮蔽体の分光透過率を測定した。その結果、実施例１〜４の近赤外線遮蔽体は、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域の吸収が強く、また波長５８０ｎｍ付近に吸収を有していることが分かった。

また、得られた実施例１〜４及び比較例１、２の近赤外線遮蔽体を用いて上記のとおり耐熱試験及び耐湿熱試験を行い、試験前後のこれらの近赤外線遮蔽体の分光透過率を測定し、ＣＩＥ１９３１ＸＹＺ表色系の色度図から透過光の色度（ｘ，ｙ）も算出した。さらに、実施例１〜４及び比較例１、２の近赤外線遮蔽体の高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性を示す、耐熱試験及び耐湿熱試験前後の分光透過率の変化率及び色度の変化率を上記の式（１）及び式（２）で算出し、その結果を下記表１に示した。

表１の耐熱試験及び耐湿熱試験における分光透過率の変化率及び色度の変化率の結果から明らかなように、実施例１〜４は、可視光吸収色素にシアニン化合物（Ｂ）を含んでない比較例１及び２に比べ、耐熱試験及び耐湿熱試験のいずれにおいても、波長８２０〜９００ｎｍの近赤外線領域における分光透過率の変化率が小さく優れている。特に実施例１及び３においては、耐熱試験及び耐湿熱試験のいずれにおいても、比較例１及び２に比べ色度の変化率が小さく優れている。以上により、実施例１〜４の近赤外線遮蔽体は、高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性が優れていることが分かる。

本発明によれば、優れた近赤外線吸収機能及びネオンカット機能を有し、かつ高温、高湿下の長時間の保存における経時安定性に優れた近赤外線遮蔽体を提供でき、各種ディスプレイ、特に、ＰＤＰに好適な近赤外線遮蔽体を提供できる。

本発明の近赤外線遮蔽体の一例を示す断面図である。本発明の近赤外線遮蔽体の他の一例を示す断面図である。本発明のディスプレイ用前面板の一例を示す断面図である。

符号の説明

１基材
２近赤外線吸収層
３ハードコート層
４反射防止層
４ａ中屈折率層
４ｂ高屈折率層
４ｃ低屈折率層
１０、１２近赤外線遮蔽体
１１基板
１３電磁波遮蔽体
１４電極
２０ディスプレイ用前面板

Claims

基材と、前記基材の一方の主面に配置されている近赤外線吸収層とを含む近赤外線遮蔽体であって、
前記近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素と可視光線吸収色素とを含み、
前記近赤外線吸収色素は、スルホン酸イミド誘導体を含むジイモニウム化合物と、
波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有し、かつ下記式（１）で表される構造を有するカチオンを含むシアニン化合物（Ａ）とを含み、
前記可視光線吸収色素は、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有し、かつ下記式（１）で表される構造を有するカチオンを含むシアニン化合物（Ｂ）とを含む近赤外線遮蔽体。

（但し、式（１）の中、Ｑ₁及びＱ₂は、それぞれ独立して、Ｎ原子と一緒に５員環の含窒素複素環、５員環の含窒素複素環を含む縮合環、６員環の含窒素複素環又は６員環の含窒素複素環を含む縮合環を完成するために必要な原子群を示し、Ｒ₁及びＲ₂は、炭素数１〜８のアルキル基を示し、ｎは２〜４の整数を示す。）
前記シアニン化合物（Ａ）は、波長８００〜１２００ｎｍの近赤外線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンと下記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体である請求項１に記載の近赤外線遮蔽体。

（但し、式（２）の中、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜８のアルキルアミノ基、置換若しくは未置換のモルホリノ基、置換若しくは未置換のチオモルホリノ基、置換若しくは未置換のピペラジノ基、又は置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｍは遷移金属原子を示す。）
前記シアニン化合物（Ｂ）は、波長５５０〜６２０ｎｍの可視光線領域で最大吸収を有し、かつ上記式（１）で表される構造を有するカチオンと上記式（２）で表される構造を有する置換ベンゼンジチオール金属錯体アニオンとの対イオン結合体である請求項１又は２に記載の近赤外線遮蔽体。
前記近赤外線吸収層は、前記近赤外線吸収色素と前記可視光線吸収色素とを分散させる樹脂を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の近赤外線遮蔽体。
前記樹脂は、ガラス転移温度が８０℃以上である請求項４に記載の近赤外線遮蔽体。
前記近赤外線遮蔽体は、ハードコート層と反射防止層とをさらに含み、前記ハードコート層と反射防止層とが、前記近赤外線吸収層が配置された前記基材の一方の主面の反対面に配置されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の近赤外線遮蔽体。
基板上に、請求項１〜６のいずれか１項に記載の近赤外線遮蔽体が配置されているディスプレイ用前面板。