JP2009541785A - 光ビームの生成 - Google Patents
光ビームの生成 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009541785A JP2009541785A JP2009515703A JP2009515703A JP2009541785A JP 2009541785 A JP2009541785 A JP 2009541785A JP 2009515703 A JP2009515703 A JP 2009515703A JP 2009515703 A JP2009515703 A JP 2009515703A JP 2009541785 A JP2009541785 A JP 2009541785A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phase
- electromagnetic radiation
- symbol
- spatial
- light modulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/50—Optics for phase object visualisation
- G02B27/52—Phase contrast optics
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06E—OPTICAL COMPUTING DEVICES; COMPUTING DEVICES USING OTHER RADIATIONS WITH SIMILAR PROPERTIES
- G06E3/00—Devices not provided for in group G06E1/00, e.g. for processing analogue or hybrid data
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/32—Micromanipulators structurally combined with microscopes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Abstract
Description
この1対1の関係は、これらのシステムにおける位相変調器の設計を簡単にする。この種の方法およびシステムは、位相コントラスト画像形成方法およびシステムと称される。
1935年にフリッツ・ゼルニケ(Fritz Zernik)が位相コントラスト技術を提案したがその位相コントラスト技術は、空間フィルタ原理に従い、また観測強度が対象によってもたらされる位相シフトに線形的に関係するという利点を有する。
近似ガウス強度プロフィールを有する強力に集束したレーザビームにおいて、放射圧力散乱の成分および勾配力の成分と組み合わせて、レーザビームの焦点の近くに配置され安定した平衡状態の点をもたらすことは、よく知られている。散乱力は、光学的強度に比例して、入射レーザビームの方向に作用する。勾配力は、光学的強度に比例して、強度勾配の方向を指す。
所定のシンボルsの1組の複製を有する電磁放射を生成するステップであって、所定のシンボルsは、電磁放射の伝播方向に交差、好ましくは直交する物体面o(x,y)におけるそれぞれの所望の位置(xs,ys)に位置し、かつ空間振幅a(x−xs,y−ys)、空間位相φ(x−xs,y−ys)および空間偏光ベクトルp(x−xs,y−ys)を有するステップと、
電磁放射をフーリエ変換するステップと、
フーリエ変換された電磁放射に、フーリエ変換されたシンボルsの複素共役であるS*の位相−Φ(u,v)を掛け合わせる、つまり、位相シフトとするステップと、
空間的に変調された放射を逆フーリエ変換し、それによって所望の位置(x’s,y’s)で逆フーリエ面(x’,y’)を通って伝播する1組の光ビームを形成するステップと、
物体面において、シンボルsの対応する複製の移動によって、光ビームを移動させるステップとを含む。
所定のシンボルsの1組の複製を有する電磁放射を生成するための空間的に変調された光源であって、所定のシンボルsは、電磁放射の伝播方向に交差し、好ましくは直交する物体面o(x,y)におけるそれぞれの所望の位置(xs,ys)に位置し、かつ空間振幅a(x−xs,y−ys)、空間位相φ(x−xs,y−ys)および空間偏光ベクトルp(x−xs,y−ys)を有する光源と、
電磁放射をフーリエ変換するためのフーリエ変換レンズと、
フーリエ変換された電磁放射を、フーリエ変換されたシンボルsの複素共役であるS*の位相−Φ(u,v)だけ位相シフトするための第1の空間光変調器と、
空間的に変調された放射を逆フーリエ変換し、それによって所望の位置(x’s,y’s)で逆フーリエ面(x’,y’)を介して伝播する1組の光ビームを形成するためのフーリエ変換レンズと、
対応する光ビームを移動させて、シンボルsの複製の位置を制御するためのコントローラとを備える。
本発明によると、このよく知られた特徴は、制御可能な位置で高強度の光ビームを生成するために利用される。したがって、光ビームの数Nは、物体面o(x,y)において、生成された光ビームのN個の所望の位置(x’s,y’s)に対応するN個の位置(xs,ys)で、シンボルsのN個の複製が生成されることによって求められる。光ビームの位置(x’s,y’s)は、シンボルsに対応する複製の位置(xs,ys)を、対応して変化させるによって変えることができる。
本発明による方法およびシステムは、特にCO2およびNd:YAGレーザベースのシステムを使用して、2次元表面および3次元表面に対するレーザ機械加工、マーキング、烙印、トリミング、硬化処理、スクライビング、ラベル付け、溶接、および切断処理に利用することもできる。位相変調されたシンボルに関しては、エネルギーはシステム内で吸収されず(それにより、光学ハードウェアの損傷を防止する)、代わりに、実質的にすべてのエネルギーを利用して所望の光ビームの強度レベルを高める。高パワーを、対象物上の選択された領域に、同時に送達することができる。
・双安定素子、光子スイッチおよびスマートピクセルなどの光電子素子アレイに対してバイアスまたは保持ビームを発生させるための、効率的で動的なスポットアレイ発生器。
・例えば、並列に更新できる周期的および斜め周期メッシュグリッド照明等のマシンビジョン用途のための構造化光(無損失)の生成。
・例えば、Geドープシリカへの導波路の高出力レーザ直接書き込み等のフォトリソグラフィー用途(逐次走査の必要のない並列レーザ3次元直接書き込み)。
・純粋な位相変調(放射フォーカセイタ)を用いた一般的な空間光強度変調
・レーザビーム成形(動的)
・レーザ走査装置を必要としない高効率の並列パターン投影
・動的赤外シーン投影(DIRSP)
・回折格子およびマスク生成のための露光装置
・LIDAR用途
・並列レーザ印刷
・レーザショー用途
・大気探査等
好ましくは、シンボルは、ビームの中心における振幅とビームの外側の平均振幅との高コントラスト比を有する光ビームを発生させるように設計される。
シンボルsの複製は、そのシンボルsのほぼ同一のコピーであって、サイズを変更することができる。好ましくは、その複製は、それぞれサイズが異なる可能性のある同一のコピーであるが、複製の生成に利用される構成要素の変化は、システムの性能に全く影響を及ぼすことのない差異の小さな複製の生成につながり得る。また、ピクセル化された構成要素を複製の生成に利用することによって、ピクセルサイズの整数倍でない変位で複製が再配置されると、複製がわずかに変化することがある。
電磁放射は、レーザ、メーザ、位相固定レーザダイオードアレイ等のような、電磁放射のコヒーレント光源によって生成することができる。
電磁放射は、レーザ光源と比較してスペックルノイズを低減する利点を有する、水銀ランプ、キセノンランプ等のような高圧アークランプによって生成されてもよい。
白熱ランプまたはLEDを、電磁放射源として使用することもできる。
セイコーエプソン社は、透明な液晶素子の高解像度行列を有する透過型液晶SLM(LC‐SLM)を生産し、そのLC‐SLMは、屈折率を変えて、それにより素子の光路長を変えるために、各素子の相対的誘電率を電気的に変調することができる。
浜松ホトニクス社は、VGAまたはXGA分解能を有する動的に制御可能なPAL−SLMを生産する。
テキサス・インスツルメンツ社は、各々が2つの位置の間で傾斜しているミラーのアレイを有するディジタルミラーデバイス(DMD)を生産する。
フーリエ面においてシンボルsの複素共役フーリエ変換であるS*の位相だけ位相シフトさせるだけでなく、S*の逆振幅とも掛け合わせることができる。
このシステムは、合成された強度パターンの可変スケーリングのためのズーム手段をさらに備えてよい。画像形成システムのズーミングは、動的に制御可能であってもよい。
本発明の好ましい実施形態において、2つ以上のビームは、微小対象物の捕捉をさらに改良するために、選択された交差角で、互いに交差することができ、好ましくは交点に焦点を有する。例えば、微小対象物が複数のビームの交点で捕捉される場合、個々のビームの合焦要件は緩和される。
ビームは互いに、180°の交差角で交差する。すなわちビームは実質的に同一の伝播軸に沿って伝播してもよいが、反対方向に伝播してもよく、実質的に同じであるがわずかに変位した位置に焦点を有することが好ましい。それにより、ビームの伝播軸に沿った顕著な補足力を形成し、好ましくは反対方向に伝播するビームの一致する焦点で、微小対象物を捕捉する。
本発明の上記のおよびその他の特徴と利点は、添付の図面を参照して、例示的な実施形態を詳細に説明することにより、当業者にはより明らかになるであろう。
場合によっては、第1の空間光変調器6の位相シフトは、コンピュータ12の任意選択可能な位相制御手段によって調節可能であり、かつ制御可能である。この位相制御手段は、位相シフトを最大コントラストに対して調整するように、すなわち、光ビームの外側で光強度がゼロになるように、さらに構成することができる。
図3は、1f位相コントラスト画像形成システム40を示す。レーザ41は、ビームエキスパンダ42によって均一な強度の平面光波に拡張される光ビームを射出し、その光ビームを第2の空間光変調器43へと導く。例えば、第2空間光変調器43に示され、図5に詳細に示された4つの代表的なシンボルSは、第2空間光生成器43により生成可能である。光ビームは、第2の空間光変調器43と撮像レンズ44とを透過する。レンズ44の後側焦点面に位置する第1の空間光変調器45は、フーリエ変換された入射電磁放射を、シンボルsの複素共役フーリエ変換であるS*の位相だけ位相シフトする。例えば、第1空間光変調器45に示され、図4に詳しく描かれた代表的な位相パターンは、第1光変調器45によって生成可能である。なお、第2の空間光変調器43で符号化された光の位相および/または振幅および/または偏光のゼロ次回折部分において、この位相パターンに位相シフトθがさらに追加される。光ビームは、レンズ44の像平面46を通り抜け、動的合焦システム47は、作業体48上にビームを導く。結果として得られる代表的なビームパターンが作業体48に描かれる。図1に示されたシステムについて説明したのと同様に、システム40は、コンピュータ49によって制御される。
図6において、第1の空間光変調器のスイッチがオフされることで、図5の2値振幅シンボルの1つの画像が弱まっているのがわかる。
Claims (18)
- 所定のシンボルsの1組の複製を有する電磁放射を生成するステップであって、所定のシンボルsは、前記電磁放射の伝播方向に交差する物体面o(x,y)におけるそれぞれの所望の位置(xs,ys)に位置し、かつ空間振幅a(x−xs,y−ys)、空間位相φ(x−xs,y−ys)および空間偏光ベクトルp(x−xs,y−ys)を有するステップと、
前記電磁放射をフーリエ変換するステップと、
前記フーリエ変換された電磁放射を、前記シンボルsの複素共役フーリエ変換であるS*の位相−Φ(u,v)だけ位相シフトするステップと、
前記空間的に変調された放射を逆フーリエ変換し、それによって所望の位置(x’s,y’s)で逆フーリエ面(x’,y’)を通って伝播する1組の光ビームを形成するステップと、
前記シンボルsの対応する前記複製の移動によって、光ビームを移動させるステップと
を含む、1組の光ビームを合成する方法。 - 前記位相シフトするステップは、前記フーリエ変換された電磁放射に前記シンボルsの複素共役フーリエ変換であるS*の逆振幅を掛け合わせるステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 位相シフトされた前記電磁放射を、フーリエ面のゼロ次回折領域において、前記逆フーリエ面における強度コントラストを高めるために位相シフト値θだけ位相シフトするステップをさらに含む、請求項1または2に記載の方法。
- θは実質的にπに等しい、請求項3に記載の方法。
- 電磁放射を生成する前記ステップは、第2の空間光変調器の個々の分解素子によって、入射電磁放射の変調をするために前記空間光変調器で実行される、前記請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記第2の空間光変調器は、入射する電磁放射を位相変調および/または振幅変調および/または偏光変調するように構成される、請求項5に記載の方法。
- 放射源のパワーが制御される、請求項1から6のいずれか1つに記載の方法。
- 位相シフト値θは、前記逆フーリエ面の少なくとも一部の強度レベルがゼロであるように選択される、請求項2から7のいずれか1つに記載の方法。
- 前記シンボルsは、2進符号化シンボルである前記請求項のいずれかに記載の方法。
- 所定のシンボルsの1組の複製を有する電磁放射を生成するための光源であって、所定のシンボルsは、前記電磁放射の伝播方向に交差する物体面o(x,y)におけるそれぞれの所望の位置(xs,ys)に位置し、かつ空間振幅a(x−xs,y−ys)、空間位相φ(x−xs,y−ys)および空間偏光ベクトルp(x−xs,y−ys)を有する光源と、
前記電磁放射をフーリエ変換するためのフーリエ変換レンズと、
前記フーリエ変換された電磁放射を、前記シンボルsの複素共役フーリエ変換であるS*の位相−Φ(u,v)だけ位相シフトするための第1の空間光変調器と、
前記空間的に変調された放射を逆フーリエ変換し、それによって所望の位置(x’s,y’s)で逆フーリエ面(x’,y’)を通って伝播するための1組の光ビームを形成するためのフーリエ変換レンズと、
対応する光ビームを移動させて、前記シンボルsの複製の位置を制御するためのコントローラとを備える、1組の光ビームを合成するシステム。 - 前記第1の空間光変調器は、前記シンボルsのフーリエ変換であるS*の逆振幅を掛け合わせるようにさらに構成される、請求項10に記載のシステム。
- 前記第1の空間光変調器は、位相シフトされた前記電磁放射を、フーリエ面のゼロ次回折領域において、前記逆フーリエ面内の強度コントラストを高めるために位相値θだけ位相シフトするようにさらに構成される、請求項10または11に記載のシステム。
- θは実質的にπに等しい、請求項12に記載のシステム。
- 前記光源は、第2の空間光変調器を備え、前記第2の空間光変調器の個々の分解素子によって、入射電磁放射を位相変調および/または振幅変調および/または偏光変調する、請求項10から13のいずれか1つに記載のシステム。
- 前記シンボルsは、2進符号化シンボルである、請求項10から14のいずれか1つに記載のシステム。
- 前記生成された光ビームのうち少なくとも2つを、選択された交差角度で互いに交差するように配向する光学機器をさらに備える、請求項1から15のいずれか1つに記載のシステム。
- 前記生成された光ビームのうち少なくとも2つを、実質的に180°で互いに交差するように配向する光学機器をさらに備える請求項1〜16のいずれか1つに記載のシステム。
- 交差する光ビームのそれぞれの焦点がわずかにずれている、請求項16または17に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US81455306P | 2006-06-19 | 2006-06-19 | |
DKPA200600834 | 2006-06-19 | ||
US60/814,553 | 2006-06-19 | ||
DKPA200600834 | 2006-06-19 | ||
PCT/DK2007/000294 WO2007147407A1 (en) | 2006-06-19 | 2007-06-18 | Light beam generation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009541785A true JP2009541785A (ja) | 2009-11-26 |
JP5155310B2 JP5155310B2 (ja) | 2013-03-06 |
Family
ID=38460989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009515703A Expired - Fee Related JP5155310B2 (ja) | 2006-06-19 | 2007-06-18 | 光ビームの生成 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8125713B2 (ja) |
EP (1) | EP2035883B1 (ja) |
JP (1) | JP5155310B2 (ja) |
CA (1) | CA2656048C (ja) |
WO (1) | WO2007147407A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014073397A1 (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置 |
JP2016170440A (ja) * | 2016-06-08 | 2016-09-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8203788B2 (en) * | 2007-09-17 | 2012-06-19 | Danmarks Tekinske Universitet | Electromagnetic beam converter |
US8177318B2 (en) * | 2008-03-25 | 2012-05-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Orifice health detection device |
US8449068B2 (en) * | 2009-02-19 | 2013-05-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Light-scattering drop detector |
US8529011B2 (en) * | 2008-03-25 | 2013-09-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Drop detection mechanism and a method of use thereof |
TWI392861B (zh) * | 2008-07-08 | 2013-04-11 | Ind Tech Res Inst | 散射光學量測方法與裝置 |
JP4740403B2 (ja) * | 2009-07-16 | 2011-08-03 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 回折格子及びそれを用いた有機el素子、並びにそれらの製造方法 |
US8511786B2 (en) * | 2009-10-19 | 2013-08-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Light scattering drop detect device with volume determination and method |
SE535786C2 (sv) * | 2010-01-19 | 2012-12-18 | Volvo Technology Corp | System för döda vinkeln-varning |
US8355127B2 (en) | 2010-07-15 | 2013-01-15 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | GRIN lens array light projector and method |
CN102122118A (zh) * | 2011-02-23 | 2011-07-13 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光直写装置 |
JP5802109B2 (ja) * | 2011-10-26 | 2015-10-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置 |
GB2499579B (en) * | 2012-02-07 | 2014-11-26 | Two Trees Photonics Ltd | Lighting device |
WO2014039487A1 (en) * | 2012-09-04 | 2014-03-13 | Purdue Research Foundation | Ultra-thin, planar, plasmonic metadevices |
US9500531B2 (en) * | 2013-03-25 | 2016-11-22 | University Of Rochester | Wavefront sensing apparatus, method and applications |
CN104090386A (zh) * | 2014-07-30 | 2014-10-08 | 东南大学 | 一种调控光场偏振态分布的方法 |
WO2016087393A1 (en) | 2014-12-01 | 2016-06-09 | Danmarks Tekniske Universitet | Multi-wavelength generalized phase contrast system and method |
CN104634285B (zh) * | 2015-02-28 | 2017-04-05 | 河南科技大学 | 一种对比度值可调控的散斑产生装置及其产生方法 |
WO2016188143A1 (en) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Methods and systems for generating non-diffracting light sheets for multicolor fluorescence microscopy |
US10208927B2 (en) | 2016-03-01 | 2019-02-19 | LumenFlow Corp. | Control of light uniformity using fresnel field placement of optical elements |
DE102016104381A1 (de) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronische Leuchtvorrichtung, Verfahren zum Beleuchten einer Szene, Kamera sowie mobiles Endgerät |
DE102016217785A1 (de) | 2016-09-16 | 2018-03-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optische Anordnung zur Erzeugung von Lichtfeldverteilungen und Verfahren zum Betrieb einer optischen Anordnung |
DE102017203655B4 (de) * | 2017-03-07 | 2019-08-22 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Formung von Strahlung für die Laserbearbeitung |
DE102019135033A1 (de) | 2019-12-19 | 2021-06-24 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Erzeugen eines Lichtfeldes mit mehreren lokalisierten Nullstellen |
US11624900B2 (en) * | 2019-12-24 | 2023-04-11 | National Taiwan University | System for quantitative differential phase contrast microscopy with isotropic transfer function |
CN115185097B (zh) * | 2022-09-14 | 2022-12-06 | 华东交通大学 | 一种用于产生贝塞尔艾里时空光场的装置与方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69622406D1 (de) * | 1995-04-28 | 2002-08-22 | Forskningsct Riso Roskilde | Phasenkontrastbilderzeugung |
JP3918044B2 (ja) * | 1996-11-01 | 2007-05-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像形成装置 |
AU2001222241A1 (en) * | 2000-01-19 | 2001-07-31 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser machinning device |
JP4606831B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2011-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 |
EP1630588B1 (en) | 2004-08-31 | 2011-10-12 | Hamamatsu Photonics K.K. | Method of forming an optical pattern, optical pattern formation system, and optical tweezer |
-
2007
- 2007-06-18 WO PCT/DK2007/000294 patent/WO2007147407A1/en active Application Filing
- 2007-06-18 EP EP07722671A patent/EP2035883B1/en not_active Not-in-force
- 2007-06-18 JP JP2009515703A patent/JP5155310B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-18 US US12/305,264 patent/US8125713B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-18 CA CA2656048A patent/CA2656048C/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014073397A1 (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置 |
JP2014095863A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 光照射装置 |
KR20150085823A (ko) * | 2012-11-12 | 2015-07-24 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
US9739992B2 (en) | 2012-11-12 | 2017-08-22 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light irradiation device |
US10295812B2 (en) | 2012-11-12 | 2019-05-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light irradiation device |
KR102018412B1 (ko) * | 2012-11-12 | 2019-09-04 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
JP2016170440A (ja) * | 2016-06-08 | 2016-09-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2007147407A1 (en) | 2007-12-27 |
US20090310206A1 (en) | 2009-12-17 |
CA2656048A1 (en) | 2007-12-27 |
EP2035883A1 (en) | 2009-03-18 |
EP2035883B1 (en) | 2012-07-25 |
JP5155310B2 (ja) | 2013-03-06 |
CA2656048C (en) | 2014-09-09 |
US8125713B2 (en) | 2012-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5155310B2 (ja) | 光ビームの生成 | |
JP3962088B2 (ja) | 位相コントラスト画像形成 | |
JP4820750B2 (ja) | 複数の位相コントラストフィルタによる所望波面の生成 | |
JP4664031B2 (ja) | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 | |
CN102906630B (zh) | 使用漫射面来减少光斑的系统和方法 | |
KR101020149B1 (ko) | 3차원 미세패턴 형성장치 | |
US11487094B2 (en) | Optical system for spatiotemporal shaping the wavefront of the electric field of an input light beam to create three-dimensional illumination | |
WO2009130603A2 (en) | Spatial light modulator with structured mirror surfaces | |
WO2016087393A1 (en) | Multi-wavelength generalized phase contrast system and method | |
US20110181929A1 (en) | Laser processing device and laser processing method | |
US8203788B2 (en) | Electromagnetic beam converter | |
KR101577096B1 (ko) | 광 제어 장치 및 광 제어 방법 | |
CN108919499B (zh) | 一种产生位置和强度独立可控多个聚焦光斑的方法 | |
KR101942975B1 (ko) | 고속 홀로그램 기록 장치 | |
Glückstad | Light Beam Generation | |
WO2016174262A1 (en) | 3d light projection device | |
CN114019763B (zh) | 一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置 | |
CN117930600A (zh) | 基于dmd实现双光束时空调制及扫描的打印方法及系统 | |
KR20170072114A (ko) | 내부 전반사 (tir) 구조를 갖는 디지털 홀로그래픽 디스플레이 장치 및 방법 | |
CN117687129A (zh) | 一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法 | |
Zhu et al. | Double-light-path multiplexing enabled light shaping efficiency enhancement for digital micromirror device | |
CN114220585A (zh) | 基于自适应光学的双光束操纵系统及样品操作方法 | |
JP2005250173A (ja) | レーザー照射方法及びレーザー照射装置 | |
Chen et al. | A new method of laser direct writing binary beam-shaping element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100610 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120710 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120711 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20121005 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20121015 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121113 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |