CN102122118A - 激光直写装置 - Google Patents
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Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102540765A (zh) * | 2012-02-13 | 2012-07-04 | 志圣科技(广州)有限公司 | 一种高精度平行光曝光机的pcb板定位装置及其定位方法 |
CN102950382A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-03-06 | 宁波大学 | 用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及其方法 |
CN102990223A (zh) * | 2011-09-15 | 2013-03-27 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
CN104111590A (zh) * | 2014-07-04 | 2014-10-22 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于复合涡旋双瓣聚焦光斑的激光直写装置 |
CN104238285A (zh) * | 2014-09-10 | 2014-12-24 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 可动态调焦的激光直写式光刻系统 |
CN104977814A (zh) * | 2015-06-26 | 2015-10-14 | 吉林大学 | 用于激光加工的曝光开关与曝光强度控制装置、激光加工设备、激光加工控制方法 |
CN105700302A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-06-22 | 天津中精微仪器设备有限公司 | 一种快速光刻系统 |
CN106444306A (zh) * | 2016-08-09 | 2017-02-22 | 电子科技大学 | 一种对称弹性夹持结构下轴线的高精度找正装置及方法 |
CN106735873A (zh) * | 2017-01-09 | 2017-05-31 | 中电科天之星激光技术(上海)有限公司 | 一种透明塑料内雕装置 |
CN107463070A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-12-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曝光用光源系统 |
CN108303858A (zh) * | 2018-03-09 | 2018-07-20 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种无掩模光刻系统及其曝光方法 |
CN109631758A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-04-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 样品中心的检测装置及检测方法 |
CN109991878A (zh) * | 2017-12-29 | 2019-07-09 | 晶石科技(中国)股份有限公司 | 一种智能手机曲面玻璃激光直写系统控制方法 |
CN113210361A (zh) * | 2021-05-27 | 2021-08-06 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种自动调焦激光清洗输出装置及输出方法 |
CN113380278A (zh) * | 2018-11-20 | 2021-09-10 | 中国科学院上海高等研究院 | 基于纳米光刻的光盘读取方法、读取装置及光盘读写装置 |
CN113909696A (zh) * | 2021-08-24 | 2022-01-11 | 清华大学 | 镜面加工装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5434875A (en) * | 1994-08-24 | 1995-07-18 | Tamar Technology Co. | Low cost, high average power, high brightness solid state laser |
WO2007147407A1 (en) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Danmarks Tekniske Universitet | Light beam generation |
CN101096064A (zh) * | 2007-07-10 | 2008-01-02 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 模块化的激光直刻装置 |
CN101226274A (zh) * | 2007-11-29 | 2008-07-23 | 上海交通大学 | 压电驱动的可变形反射镜及其制造方法 |
CN101561637A (zh) * | 2009-05-15 | 2009-10-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 基于光子筛的激光直写光刻系统 |
CN201345033Y (zh) * | 2009-01-21 | 2009-11-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 高速多光束并行激光直写装置 |
-
2011
- 2011-02-23 CN CN 201110042855 patent/CN102122118A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5434875A (en) * | 1994-08-24 | 1995-07-18 | Tamar Technology Co. | Low cost, high average power, high brightness solid state laser |
WO2007147407A1 (en) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Danmarks Tekniske Universitet | Light beam generation |
CN101096064A (zh) * | 2007-07-10 | 2008-01-02 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 模块化的激光直刻装置 |
CN101226274A (zh) * | 2007-11-29 | 2008-07-23 | 上海交通大学 | 压电驱动的可变形反射镜及其制造方法 |
CN201345033Y (zh) * | 2009-01-21 | 2009-11-11 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 高速多光束并行激光直写装置 |
CN101561637A (zh) * | 2009-05-15 | 2009-10-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 基于光子筛的激光直写光刻系统 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102990223A (zh) * | 2011-09-15 | 2013-03-27 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
CN102990223B (zh) * | 2011-09-15 | 2016-02-10 | 株式会社迪思科 | 激光加工装置 |
CN102540765A (zh) * | 2012-02-13 | 2012-07-04 | 志圣科技(广州)有限公司 | 一种高精度平行光曝光机的pcb板定位装置及其定位方法 |
CN102950382A (zh) * | 2012-11-15 | 2013-03-06 | 宁波大学 | 用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及其方法 |
CN102950382B (zh) * | 2012-11-15 | 2015-04-22 | 宁波大学 | 用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及其方法 |
CN104111590A (zh) * | 2014-07-04 | 2014-10-22 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于复合涡旋双瓣聚焦光斑的激光直写装置 |
CN104238285A (zh) * | 2014-09-10 | 2014-12-24 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 可动态调焦的激光直写式光刻系统 |
CN104238285B (zh) * | 2014-09-10 | 2017-02-08 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 可动态调焦的激光直写式光刻系统 |
CN104977814B (zh) * | 2015-06-26 | 2017-07-21 | 吉林大学 | 用于激光加工的曝光开关和曝光强度的控制装置、激光加工设备、激光加工控制方法 |
CN104977814A (zh) * | 2015-06-26 | 2015-10-14 | 吉林大学 | 用于激光加工的曝光开关与曝光强度控制装置、激光加工设备、激光加工控制方法 |
CN105700302A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-06-22 | 天津中精微仪器设备有限公司 | 一种快速光刻系统 |
CN106444306A (zh) * | 2016-08-09 | 2017-02-22 | 电子科技大学 | 一种对称弹性夹持结构下轴线的高精度找正装置及方法 |
CN106735873A (zh) * | 2017-01-09 | 2017-05-31 | 中电科天之星激光技术(上海)有限公司 | 一种透明塑料内雕装置 |
CN107463070A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-12-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曝光用光源系统 |
CN107463070B (zh) * | 2017-09-22 | 2019-08-30 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曝光用光源系统 |
CN109991878A (zh) * | 2017-12-29 | 2019-07-09 | 晶石科技(中国)股份有限公司 | 一种智能手机曲面玻璃激光直写系统控制方法 |
CN108303858A (zh) * | 2018-03-09 | 2018-07-20 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种无掩模光刻系统及其曝光方法 |
CN113380278A (zh) * | 2018-11-20 | 2021-09-10 | 中国科学院上海高等研究院 | 基于纳米光刻的光盘读取方法、读取装置及光盘读写装置 |
CN113380278B (zh) * | 2018-11-20 | 2023-03-31 | 中国科学院上海高等研究院 | 基于纳米光刻的光盘读取方法、读取装置及光盘读写装置 |
CN109631758A (zh) * | 2019-01-02 | 2019-04-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 样品中心的检测装置及检测方法 |
CN113210361A (zh) * | 2021-05-27 | 2021-08-06 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种自动调焦激光清洗输出装置及输出方法 |
CN113210361B (zh) * | 2021-05-27 | 2022-02-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种自动调焦激光清洗输出装置及输出方法 |
CN113909696A (zh) * | 2021-08-24 | 2022-01-11 | 清华大学 | 镜面加工装置 |
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Assignee: SUZHOU HUAWEINA NANO TECHNOLOGY CO., LTD. Assignor: Shanghai Optical Precision Machinery Inst., Chinese Academy of Sciences Contract record no.: 2012310000016 Denomination of invention: Y-shaped waveguide laser direct writing device License type: Exclusive License Open date: 20110713 Record date: 20120217 |
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Application publication date: 20110713 |
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EC01 | Cancellation of recordation of patent licensing contract |
Assignee: SUZHOU HUAWEINA NANO TECHNOLOGY CO., LTD. Assignor: Shanghai Optical Precision Machinery Inst., Chinese Academy of Sciences Contract record no.: 2012310000016 Date of cancellation: 20150413 |
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