JP2009532858A - 回転可能な汚染バリア及び回転可能な汚染バリアを備えるリソグラフィ装置 - Google Patents
回転可能な汚染バリア及び回転可能な汚染バリアを備えるリソグラフィ装置 Download PDFInfo
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Abstract
【選択図】 なし
Description
放射源からの汚染物質を捕捉するブレード構造と、
静止フレームと結合していて、ブレード構造を回転可能に支承する軸受構造と、
軸受構造内のブレード構造のバランスをとるために、回転中心軸に対して変位している偏心質量要素と、
を含む。
回転可能な汚染バリアのブレード構造を支承する軸受構造と、
ブレード構造の回転中に、軸受構造内のブレード構造の検出したアンバランスの信号を供給するアンバランスセンサと、
ブレード構造上又はそれへの1つ又は複数の偏心質量要素を提供する位置及びこのような質量の大きさを計算する計算ユニットであって、アンバランスセンサに通信可能に結合している計算ユニットと、
を備える。
真空環境内に位置する軸受構造でブレード構造を支承するステップと、
ブレード構造の回転中に、軸受構造内のブレード構造のアンバランスを検出するステップと、
検出したアンバランスに基づいて、ブレード構造上又はそれに偏心質量要素を提供する位置及びこのような質量の大きさを計算するステップと、
を含む。
アンバランスにするために、汚染バリアの偏心質量要素を調整するステップと、
汚染バリアの振動により洗浄するために、アンバランスと一緒に汚染バリアを回転するステップと、
を含む。洗浄は、汚染バリアの通常の動作中間隔を置いて行うことができる。
放射ビームを受光する回転可能な汚染バリアであって、放射源からの汚染物質を捕捉するように構成されているブレード構造と、静止フレームと結合し、ブレード構造を回転可能に支承するように構成されている軸受構造と、軸受構造でブレード構造のバランスをとるために、回転中心軸に対して変位している偏心質量要素とを備える、回転可能な汚染バリアと、
放射ビームを調整する照明システムと、
パターン付放射ビームを形成するために、放射ビームにその断面のパターンを付与することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
基板のターゲット部分上にパターン付放射ビームを投影する投影システムと、
を備える。
[0019] 放射ビームB(例えば、UV放射又はEUV放射)を調節するように構成されている照明システム(イルミネータ)ILと、
[0020] パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、いくつかのパラメータによりパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成されている第1のポジショナPMに接続している支持構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
[0021] 基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、いくつかのパラメータにより基板を正確に位置決めするように構成されている第2のポジショナPWに接続している基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
[0022] 基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ又は複数のダイを含む)上に、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを投影するように構成されている投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSと、
を含む。
Claims (19)
- EUV放射システムと一緒に使用するための回転可能な汚染バリアであって、
放射源からの汚染物質を捕捉するブレード構造と、
静止フレームと結合し、前記ブレード構造を回転可能に支承する軸受構造と、
前記軸受構造で前記ブレード構造のバランスをとるために、回転中心軸に対して変位している偏心質量要素と、
を含むバリア。 - 複数の偏心質量要素が、前記回転中心軸に沿って横方向に変位している少なくとも2つの面内に位置する、請求項1に記載のバリア。
- 前記偏心質量要素を、前記回転中心軸に対して変位させることができる、請求項1に記載のバリア。
- 前記軸受構造の前記汚染バリアの検出されたアンバランスの信号を供給するアンバランスセンサと、
前記信号に応じて前記偏心質量要素を自動的に調整する調整ユニットと、
をさらに備える、請求項3に記載のバリア。 - 前記アンバランスセンサが、前記偏心質量要素が位置する横方向の面と同じか又は平行な前記横方向の面内の前記ブレード構造の偏心による変位を測定する、請求項4に記載のバリア。
- 前記軸受構造が、真空環境内で動作し、且つ気体軸受を備える、請求項1に記載のバリア。
- 前記ブレード構造が、回転可能なシャフトと前記回転可能なシャフトに装着されている複数の緊密に詰め込まれたブレードとを備え、前記ブレードが回転可能なシャフトに対して半径方向に配向している、請求項1に記載のバリア。
- 前記偏心質量要素が、前記回転可能なシャフトへの質量の追加、前記回転可能なシャフト上又は前記回転可能なシャフト内の質量のシフト、前記回転可能なシャフトからの質量の除去、又はこれらの任意の組合せを含む、請求項7に記載のバリア。
- 前記回転可能なシャフトが、EUV放射及び/又はデブリにより複数のブレードに与える熱エネルギーに対して熱安定化される、請求項7に記載のバリア。
- 前記回転シャフトが、前記軸受構造に支承されているシャフト部分と前記ブレード構造へのマウントを提供するシャフト部分を結合する熱安定化結合素子を備える、請求項9に記載のバリア。
- 前記軸受構造に支承されている前記シャフト部分が、モリブデンを含む合金を含み、前記結合素子が、タンタルを含む合金からなる、請求項10に記載のバリア。
- 回転可能な汚染バリアのバランスをとるためのバランスユニットであって、
前記回転可能な汚染バリアのブレード構造を支承する軸受構造と、
前記ブレード構造の回転中に、前記軸受構造内の前記ブレード構造の検出したアンバランスの信号を供給するアンバランスセンサと、
前記ブレード構造上又はそれへの1つ又は複数の偏心質量要素を提供する位置及びこのような質量の大きさを計算する計算ユニットであって、前記アンバランスセンサに通信可能に結合している計算ユニットと、
を備えるバランスユニット。 - 前記計算ユニットが、横方向の面と同じ又は平行な横方向の面内の1つ又は複数の偏心質量要素の位置を計算し、前記アンバランスセンサユニットが、前記アンバランスを検出する、請求項12に記載のバランスユニット。
- 前記軸受構造が、真空環境内に装着され、且つ気体軸受を備える、請求項13に記載のバランスユニット。
- 前記アンバランスセンサユニットが、回転した場合に、前記ブレード構造が前記軸受構造に加える力を測定する複数の力センサを備える、請求項12に記載のバランスユニット。
- EUV放射システムで使用するための回転可能な汚染バリアのバランスをとるための方法であって、
真空環境内に位置する軸受構造内にブレード構造を支承するステップと、
前記ブレード構造の回転中に、前記軸受構造内の前記ブレード構造のアンバランスを検出するステップと、
前記検出したアンバランスに基づいて、前記ブレード構造上又はそれへの偏心質量要素を提供する位置及びこのような質量の大きさを計算するステップと、
を含む方法。 - 前記軸受構造で前記ブレード構造のバランスをとるために、前記ブレード構造に偏心質量要素を提供するステップと、
前記アンバランス信号に応じて、前記偏心質量要素を自動的に調整するステップと、
をさらに含む、請求項16に記載の方法。 - EUV放射システムと一緒に使用するための回転可能な汚染バリアを洗浄するための方法であって、
アンバランスにするために前記汚染バリアの偏心質量要素を調整するステップと、
前記汚染バリアを振動により洗浄するために、前記アンバランスを含む汚染バリアを回転するステップと、
を含む方法。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを受光するように構成された回転可能な汚染バリアであって、放射源からの汚染物質を捕捉するブレード構造と、静止フレームと結合し、前記ブレード構造を回転可能に支承する軸受構造と、前記軸受構造で前記ブレード構造のバランスをとるために、回転中心軸に対して変位している偏心質量要素とを備える、回転可能な汚染バリアと、
放射ビームを調節する照明システムと、
パターン付放射ビームを形成するために、前記放射ビームにその断面のパターンを付与することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付放射ビームを投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィ装置。
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