JP2009520091A - 合成ポリマーを含み、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物 - Google Patents

Abstract

本発明は、合成ミクロゲルポリマーを含み、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物を提供する。特に、この組成物は、特に清浄化または濯ぎ操作において有用である硬質表面の親水性化を可能にする。

Description

本発明の一つの対象は、ミクロゲル型の合成ポリマーを含み、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物である。

本発明の一つの対象物は、特に、産業用、家庭用または公共施設用の硬質表面の、特に、セラミック、タイル、窓、金属、メラミン、熱硬化性樹脂または可塑性樹脂の処理を意図し、これらに特に汚損性物質に対する持続的抗沈積および／または抗付着特性を与えることを目的とした清浄化または濯ぎ組成物であり、さらに、これらに静電防止、光沢または滑り抵抗特性を与えることができるものである。

本発明の一つの対象物は、特に、硬質表面の処理を意図した清浄化または濯ぎ組成物であって、特に、
この表面に沈積した水滴の乾燥（例えば、無機塩の沈積）により、
周囲の空気中に存在（超高層ビルの清浄化の場合）するまたは接触により沈積（床、トイレ等の清浄化の場合）する無機または有機粒子の付着により、
脂肪性有機化合物（料理用油）の飛び散りによる沈積により、
石鹸およびこれらの金属塩の沈積により、または
ヒドロコロイドまたは多糖類型の植物起源の化合物の沈積により
マークが後に残ることを防止するために、汚損性物質に対する持続的な親水性抗沈積および／または抗付着特性を硬質表面に与えることができる組成物である。

市販の洗剤配合物は、産業用、家庭用または公共施設用の硬質表面を効率的に清浄化することを可能にする。これらは、通常、界面活性剤類、特に、非イオン性とアニオン性のまたは非イオン性とカチオン性の界面活性剤の水溶液、溶媒、乾燥を容易にするためのアルコール、および、場合により、金属イオン封鎖剤、およびｐＨを調節するための塩基または酸からなる。これらの洗剤配合物の頻出する不利益は、硬質表面がその後に水と接触すると、乾燥中に、マークが形成されることである。さらに、これらの配合物で処理することは、大部分の場合、防止的ではなく純粋に蓄積的であるだけである。すなわち、産業用または家庭用清浄化剤は、汚染された硬質表面の清浄化において効果的であるが、これが将来的に汚れることを防止または制限すること、さらにはその後のこの清浄化を促進することを可能にはしない。

硬質表面を処理および／または修飾するため、特に、硬質表面を清浄化するために、合成ポリマーを含む組成物を用いることが知られている。

すなわち、硬質表面を親水性化するために、線状ポリマーまたはコポリマー、例えば、アクリル酸のカチオン性モノマー、および場合により、アクリルアミドのような他のモノマーから誘導されるコポリマーを使用することが提案されている。このような用途およびこのような組成物は、特に、公文書ＥＰ−Ａ−１ １９６ ５２７、ＥＰ−Ａ−１ １９６ ５２８およびＥＰ−Ａ−１ １９６ ５２３に記載されている。

しかしながら、表面を処理および／または修飾するための新規組成物が、および／または、特に、特定の機能について優れた性能の組成物および／または新規特性を有する組成物および／または廉価な組成物および／または活性材料の量がより少ない組成物を提供するための合成ポリマーの新規使用が求められている。

本発明は、合成ポリマーを含む、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物であって、該ポリマーは、
コアモノマーＣから誘導される単位Ｃと架橋性モノマーＲから誘導される架橋性単位Ｒとを含む化学的に架橋されたポリマーコア、および
場合により、該コアの周囲におけるマクロ分子分岐を含むミクロゲルであることを特徴とする組成物を提供することにより、前述の要求の少なくとも一つを満たす。

本発明は、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物における、特に硬質表面を清浄化または濯ぐための組成物における、このミクロゲルの使用にも関する。

特に、このミクロゲルは
硬質表面の親水性化、
硬質表面の清浄化の容易化、および／または
硬質表面のその後の清浄化の容易化
に貢献することができる。

すなわち、このミクロゲルは、特に、前述の表面に沈積し得る汚損性物質に対する抗沈積および／または抗付着特性を提供することができる。

処理および／または修飾は、特に、硬質表面に持続的特性を提供することができる。

（定義）
本出願において、「ミクロゲル」という用語は、コアと、場合により、コアの周囲においてコアに結合しているマクロ分子分岐とを含むマクロ分子コポリマー化合物を意味すると解される。これらは、当業者に知られている、程度の差はあるが複合的な構造である。コアの周囲にマクロ分子分岐を含むミクロゲルを表すために、「スターコポリマー」という用語が用いられることがある。「スターコポリマー」という用語と「ミクロゲル」という用語は部分的に重複し、周囲にマクロ分子分岐を含む化学的に架橋したポリマーコアを含む化合物であるという点が共通部分である。本出願において、「分岐」の代わりに「アーム」という用語も用いられ、同じ概念を含む。分岐の数は、通常、コアの性質および／またはミクロゲルを調製するための方法と関係する。

本出願において、「コアＣ」という用語は、化学的に架橋したポリマーコアを含んでいるがコアの周囲にマクロ分子分岐を含まないミクロゲルを意味する。このようなコアＣは、界面活性剤の不存在下、または少量（たとえば、１０重量％未満、好ましくは５重量％未満、特に１重量％未満）の界面活性剤の存在下に、１個の重合性基を有するコアモノマーＣと少なくとも２個の重合性基を有する架橋性モノマーＲ（架橋性モノマー）とを共重合することにより得ることができる。このように、これらは、特に、熱力学的平衡またはこの近くにおいて大量の界面活性剤の存在下に乳化重合により得られるポリマーである「ナノラテックス」から区別される。ナノラテックスは、水性組成物への導入中に、コアＣと異なる挙動を示すポリマーである。

本出願において、「Ｃ−分岐」という用語は、化学的に架橋したポリマーコアと、コアの周囲におけるマクロ分子分岐を含むミクロゲルを意味する。このようなミクロゲルは、特に、「アームファースト」型のプロセスにより、または「コアファースト」型のプロセスにより調製することができる。後者の場合、以下に定めるようなコアＣの周囲におけるマクロ分子分岐の成長により得ることができる。プロセスおよびミクロゲルは、あとで詳細に示す。Ｃ−分岐ミクロゲルは、特に、マクロ分子分岐の存在によりナノラテックスと異なる。

本出願において、「モノマーから誘導される単位」という表現は、このモノマーから重合により直接得ることができる単位を意味する。すなわち、例えば、アクリル酸またはメタクリル酸エステルから誘導される単位は、例えばアクリル酸もしくはメタクリル酸エステルまたは酢酸ビニルエステルを重合し、続いてこれを加水分解することによりそれぞれ得られる式−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−、−ＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＯＯＨ）−または−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−で示される単位を含まない。アクリル酸またはメタクリル酸から誘導される単位は、例えば、モノマー（例えば、アクリル酸またはメタクリル酸エステル）を重合し、続いて得られたポリマーを反応（例えば、加水分解により）させて式−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＯＯＨ）−または−ＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＯＯＨ）−で示される単位を得ることにより得られる単位を含む。ビニルアルコールから誘導される単位は、例えば、モノマー（例えば、ビニルエステル）を重合し、続いて得られたポリマーを反応（例えば、加水分解により）させて式−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−で示される単位を得ることにより得られる単位を含む。

典型的には、ブロックまたは分岐（Ｍｉｋｔｏ型ミクロゲルの場合）の理論的平均分子量Ｍ_{ｂｌｏｃｋ}またはＭ_{ｂｒａｎｃｈ}は、以下の式に従って計算される。

式中、Ｍ_ｉはモノマーｉの分子量、ｎ_ｉはモノマーｉのモル数、ｎ_{ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ}は、ブロックまたは分岐のマクロ分子鎖が結合する官能基のモル数である。官能基は、転移剤（または転移基）または開始剤、前のブロック、コア等から生じ得る。これが前のブロックまたはコアである場合、モル数は、この前のブロックまたはコアのマクロ分子分岐が結合した化合物、例えば転移剤（例えば転移基）または開始剤のモル数であると考えられる。

分岐の測定された分子量は、分岐をコアに集める前またはコアの形成前に、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）により測定される数平均分子量である。

ブロックの測定された分子量は、ブロックの形成後に、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）により測定される数平均分子量であり、場合により、そこから、前に形成されたブロックの測定された分子量が差し引かれる。

理論的分岐発生係数は、式：ｒ＝ｎ_{Ｒｄｉｆｕｎｃｔ}／ｎ_{ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ}（式中、ｎ_{Ｒｄｉｆｕｎｃｔ}は、ジエチレン性不飽和架橋性モノマーＲ_{ｄｉｆｕｎｃｔ}のモル数である）により与えられる。この係数が大きい程、Ｃ−分岐ミクロゲルの場合、分岐数がより大きい。ミクロゲルの分岐の実際の数は、通常、この係数に等しくないと言われている。この係数は、通常、ミクロゲルを調製するためのプロセスの関数として調節されると言われており：実際のまたは測定された分岐数が同じである場合、これは通常、「アームファースト」型プロセスよりも「コアファースト」型プロセスに適用される。

ミクロゲルＭ_ｓｔａｒの測定された分子量は、Ｚｉｍｍプロットを用いて静的光散乱実験により測定される重量平均分子量である。

架橋されたポリマー有機コアを有するコポリマーについての分岐ｎ_ａｒｍの測定数は、式：Ｍ_ｓｔａｒ＝Ｍ_Ｗ×ｎ_ａｒｍにより与えられる（式中、Ｍ_Ｗは、スターコポリマーと同じ方法により、しかし架橋性モノマーＲを用いることなく得られたブロックコポリマーについて、Ｚｉｍｍプロットを用いて静的光散乱実験により測定される重量平均分子量である）。

本出願において、「疎水性」という用語は、「水に対して親和性を有さない」というこの通常の意味において用いられ；このことは、これをなす有機ポリマーが単独（同じ組成および同じ分子量を有する）にて、１重量％を超える濃度で、２５℃にて蒸留水中で巨視的二相溶液を形成することを意味している。

本出願において、「親水性」という用語も、「水に対して親和性を有する」というこの通常の意味において用いられ、すなわち、１重量％を超える濃度で、２５℃にて蒸留水中で巨視的二相溶液を形成することができないことを意味している。

本出願において、ブロックまたは分岐の親水性（それぞれ疎水性）は、ブロックまたは分岐と同じ組成および同じ分子量のマクロ分子鎖が有する親水的性質を意味し、コアおよび／または他のブロックへの結合が生じない。

「カチオン性または潜在的カチオン性単位」という表現は、カチオン性または潜在的カチオン性基を含む単位を意味すると解される。カチオン性単位または基は、ミクロゲルが導入される媒体のｐＨに拘わらず、少なくとも一つの陽電荷（通常、塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸基またはメチル硫酸基のような一以上のアニオンと組み合わされる）を有する単位または基である。潜在的カチオン性単位または基は、中性である、またはミクロゲルが導入される媒体のｐＨに依り少なくとも一つの陽電荷を有して良い単位または基である。この場合、これらは、中性型またはカチオン性型の潜在的カチオン性単位と呼ばれる。拡張解釈では、カチオン性または潜在的カチオン性モノマーに言及することができる。

「アニオン性または潜在的アニオン性単位」という表現は、アニオン性または潜在的アニオン性基を含む単位を意味すると解される。アニオン性単位または基は、ミクロゲルがこの中に存在する媒体のｐＨに拘わらず、少なくとも一つの陰電荷（通常、例えばナトリウムのようなアルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物のカチオンのような一以上のカチオンと、またはアンモニウムのような一以上のカチオン性化合物と組み合わされる）を有する単位または基である。潜在的アニオン性単位または基は、中性である、またはミクロゲルがこの中に存在する媒体のｐＨに依り少なくとも一つの陰電荷を有して良い単位または基である。この場合、これらは、中性型またはアニオン性型の潜在的アニオン性単位として知られている。拡張解釈では、アニオン性または潜在的アニオン性モノマーに言及することができる。

「中性単位」という表現は、ミクロゲルがこの中に存在する媒体のｐＨに拘わらず、電荷を有さない単位を意味すると解される。

「持続的抗沈積および／または抗付着特性」という用語は、処理された表面がこれらの特性を、その後の汚損性物質（例えば、雨水、流通機構からの水、濯ぎ性生成物が添加されたまたは添加されていない濯ぎ水、飛び散った脂肪、石鹸等）との接触の後を含む長期間にわたって維持することを意味すると解される。この持続特性は、約１０回の濯ぎサイクルを超えて、実際、１００回の濯ぎサイクルを超える多くの濯ぎが成される特定の場合でも（例えば、トイレの場合）、観察され得る。

「このように処理された表面に、抗沈積特性を与える」という上記表現は、特に、主に水性である媒体中で汚損性物質と接触させられた処理表面が、この汚損性物質を「捕獲」する傾向が無く、このように、表面への汚損性物質の沈積を著しく低減させることを意味する。

「このように処理された表面に、抗付着特性を与える」という上記表現は、特に、処理された表面が、この上に沈積された汚損性物質と極僅かにしか相互作用することができず、これにより、汚染された処理表面から汚損性物質を容易に除去することが可能になることを意味し、これは、処理表面と接触させられた汚損性物質の乾燥中、汚損性物質と表面との間に形成された結合が非常に弱く、従って、清浄化操作中にこれらの結合を破壊するために必要なエネルギーが少ない（すなわち、労力が少ない）からである。

ミクロゲルの存在が、配合物の「清浄化性能を向上させる」ことを可能にすると言った場合、これは、同じ量の清浄化配合物（特に、手で食器を洗うための配合物）について、ミクロゲルを含む配合物が、これを欠く配合物よりも多くの数の汚染対象を清浄化することが可能になることを意味する。

さらに、ミクロゲルの硬質表面上への沈積は、この表面に帯電防止性を与えることを可能にし、この特性は、合成表面の場合に特に有利である。

硬質表面の処理用の配合物中にミクロゲルが存在すると、表面を親水性にし、この親水性を向上させることが可能になる。

表面の親水性化の特性は、さらに、表面上の濃厚物の形成を減少させることを可能にし、この利点は、特に浴室における窓および鏡用の清浄化配合物において利用することができる。さらに、表面の乾燥速度が、ポリマーの適用によるこの処理の直後に、および水性媒体とのその後のおよび繰り返される接触の後にも、著しく改良される。

「硬質表面」という用語は、広い意味で解すべきであり、家庭用、公共施設用または産業用表面に等しく良好であり得る非布地表面を意味する。

これらは、任意の材料から、特に以下のタイプの材料から成ることができる。

セラミック（浴室流し、バスタブ、壁または床タイル、便器などの表面）、
ガラス（建物または乗り物の内側窓または外側窓、または鏡のような表面）、
金属（反応器の内側または外側壁、刃物、パネル、パイプなどのような表面）、
合成樹脂（例えば、電動機付き乗物（自動車、トラック、バス、電車、航空機等）の車体または内側表面、オフィス、キッチン等の内側用のメラミンまたは熱硬化性合成樹脂表面）、
プラスチック（例えば、乗り物、特に自動車の内側用のポリ塩化ビニルまたはポリアミド）。

本発明による「硬質表面」は、あまり多孔質ではなく非繊維性である表面であり、すなわち、布地表面（天然、人工または合成材料からなる織物、作り付けカーペット、衣類等）から区別されるべきである。

本発明用のミクロゲル、これらの特徴、およびこれらを調製するために用いられるプロセスに関する、およびこれらの組成物に関する詳細を以下に挙げる。

（ミクロゲル）
本発明用のミクロゲル、これらの調製に用いられるプロセスに関する詳細を以下に挙げる。

ミクロゲルは、
コアモノマーＣから誘導される単位Ｃと架橋性モノマーＲから誘導される架橋性単位Ｒとを含む化学的に架橋されたポリマーコア、および
場合により、該コアの周囲におけるマクロ分子分岐
を含む。

ミクロゲルがコアの周囲にマクロ分子分岐を含まない場合、ミクロゲルは実際には「コアＣ」で示されるスター構造を有しない単純なミクロゲルである。以下の「コアＣ」の項目に詳細を挙げる。

ミクロゲルがコアの周囲にマクロ分子分岐を含む場合、ミクロゲルは、「Ｃ−分岐」で示される（化学的に架橋したポリマーコアを有する）スター構造を有する。以下の「Ｃ−分岐」の項目に詳細を挙げる。

いずれの場合にも、ミクロゲルは、好ましくは、あとで説明するような制御下のラジカル重合プロセスを用いるプロセスにより得ることができる。

ミクロゲルは、特に、コアＣおよびコアの周囲にマクロ分子分岐を含むスターコポリマー（Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲル）と異なる。マクロ分子分岐の各々は、
コアに結合しているまたは少なくとも部分的にコアに含まれている中間ブロックＡ、および
ブロックＡに結合している周囲ブロックＢを各々が含んでおり、
ブロックＡおよびＢは以下の通りである。

ブロックＡが親水性でありブロックＢが疎水性である、または
ブロックＡが親水性でありブロックＢが親水性およびカチオン性または潜在的カチオン性である。

（コアＣ）
コアＣは、
単一の重合性基を含む少なくとも一つのコアモノマーＣ、好ましくは、モノエチレン性不飽和モノマー、および
少なくとも二つの重合性基を含む少なくとも一つの架橋性モノマーＲ、好ましくは、多エチレン性不飽和モノマー
を含むモノマーのブレンドの重合により、好ましくは制御下のラジカル重合により得ることができる化学的に架橋したコポリマーである。

一つの特定の実施形態によれば、コアモノマーＣと架橋性モノマーＲとのモル比は１以上である。

一つの特定の実施形態によれば、
コアＣは、遊離基の供給源の存在下に、「前駆体」制御または転移剤を用いる制御下のラジカル重合により得られる、
架橋性モノマーＲは、ジエチレン性不飽和モノマーＲ_{ｄｉｆｕｎｃｔ}である、および
分岐の生成についての理論的係数ｒは、０．２５以上である。

コアＣの調製は、「アームファースト」型プロセスによりＣ−分岐ミクロゲルを調製するためのプロセスの第１のステップ（ステップａ）に対応し得ると言われている。このようなプロセスを、あとで詳細に説明している。

すなわち、コアＣは、
コアモノマーＣから誘導され得るコア単位Ｃ、および
架橋性モノマーＲから誘導され得る架橋性単位Ｒ
を含む。

もちろん、単位ＣおよびモノマーＣが、幾つかの異なる単位を含む、または幾つかの異なるモノマーから誘導されることは排除されない。

（Ｃ−分岐ミクロゲル）
Ｃ−分岐ミクロゲルの構造は知られている。用いることができる構造、および有用なプロセスも、特に、文献ＷＯ ９９／５８５８８、ＥＰ １１２３３３２、ＷＯ ２００４／０１４５３５およびＷＯ ２００５／１１６０９７に記載されている。

すなわち、Ｃ−分岐ミクロゲルは、以下のミクロゲルから選択することができる。

各分岐が同じ化学的性質であり、同じ単位を少なくとも９０モル％含む、Ｃ−分岐_ＨＯＭＯ、
各分岐が同じ化学的性質であり、各々が、単位Ａを含む少なくとも一つのブロックＡおよび単位Ｂを含む少なくとも一つのブロックＢを含んでおり、ブロックＢがブロックＡと異なる、Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}、
各分岐が同じ化学的性質であり、各々が、単位Ａを９０モル％未満および単位Ａと異なる単位Ｂを９０モル％未満含んでおり、ランダムにまたは勾配をもって分布している、Ｃ−分岐_ｒａｎｄ、および
単位Ａを含む少なくとも一つの分岐Ａおよび単位Ａと異なる単位Ｂを含む少なくとも一つの分岐Ｂを含んでおり、分岐Ａと分岐Ｂが異なる化学的性質である、Ｃ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}。

ミクロゲルがＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルである場合、ブロックＡは、慣例的に、コアに結合している中間ブロックとして定義され、ブロックＢは、慣例的に、ブロックＡに結合している周囲ブロックとして定義される。

コアの周囲のマクロ分子分岐は、Ｃ−分岐_ＨＯＭＯ、Ｃ−分岐_ｒａｎｄまたはＣ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲルについては単位Ａおよび／またはＢにより、Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルについてはブロックＡの単位Ａにより、コアに結合している。コアの周囲のマクロ分子分岐は、コアの少なくとも一つの部分を構成してよい。Ｃ−分岐_ＨＯＭＯ、Ｃ−分岐_ｒａｎｄまたはＣ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲルについての単位Ａおよび／またはＢ、またはＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルについてのブロックＡは、この場合、少なくとも部分的にコアに含まれる。これは、コアＣが、コア単位Ｃとして、分岐と同じ単位を含む：すなわち、Ｃ−分岐_ＨＯＭＯ、Ｃ−分岐_ｒａｎｄまたはＣ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲルについては単位Ａおよび／またはＢ、またはＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルについては単位Ａを含むということになる。

このようなミクロゲルは、特に、「コアファースト」として知られているプロセス、「アームファースト」として知られているプロセス、およびミセルの化学的架橋のプロセスを含む、当業者に知られているプロセスにより得ることができる。これらのプロセスを、あとで詳細に説明する（「用いたプロセス」）。これらのプロセスは、例えば、制御またはリビングラジカル重合プロセスを介して、転移剤または基を用いる制御またはリビング重合プロセスを用いてよい。Ｃ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲルの場合、「アームファースト」型プロセスが特に適している。

「コアファースト」プロセスにより得られるミクロゲルは、分岐の端部に転移基または残基を有して良い。「アームファースト」プロセスにより得られるコポリマーは、コア内に転移基または残基を有して良い。

（ミクロゲルの組成−単位の性質）
コアＣまたはＣ分岐ミクロゲルであるミクロゲルは、重合した単位を含む。以下に挙げる全ての単位を考えることができ、ミクロゲルの種々の部分（コア、分岐、ブロック等）におけるこれらの組み合わせも考えられる。特定の組み合わせを、特定の実施形態に付する。これらの特定の実施形態について、以下に挙げる全ての単位の組み合わせは、これらの特定の実施形態に適合する組み合わせに限定されると解される。

一つの有利な実施形態によれば、ミクロゲルは、コアの中に、および／またはコアの周囲におけるマクロ分子分岐の中に、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位または双性イオン性単位を含む。すなわち、これらの単位は、コアＣの中に、またはＣ−分岐ミクロゲルの中に含まれ得る。これらは、コア単位Ｃ、および／または、コアの周囲におけるマクロ分子分岐の中に含まれる単位である。

コア単位Ｃは、特に、
カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｃ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｃ_Ｚ、
アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ｃ_Ａ、または
親水性もしくは疎水性中性単位Ｃ_Ｎである。

架橋性単位Ｒは、好ましくは多エチレン性不飽和、より好ましくはジエチレン性不飽和Ｒ_{ｄｉｆｕｎｃｔ}である少なくとも２つの重合性基を含む架橋性モノマーＲから誘導される単位であることが好ましい。

単位Ａは、特に、
カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ａ_Ｚ、
アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ａ_Ａ、または
親水性もしくは疎水性中性単位Ａ_Ｎである。

単位Ｂは、特に、
カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚ、
アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ｂ_Ａ、または
親水性もしくは疎水性中性単位Ｂ_Ｎである。

一つの特定の実施形態によれば、ミクロゲルは、
ブロックＡが、コアに結合されたまたはコアに少なくとも部分的に含まれる親水性中間ブロックであり、
ブロックＢが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含み、ブロックＡに結合された周囲ブロックである、
Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルである。

この実施形態において、好ましくは、
コアＣが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
中間ブロックＡが、中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含み、および
周囲ブロックＢが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含む。

もう一つの特定の実施形態によれば、ミクロゲルは、
ブロックＡが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ａ_Ｚを含み、コアに結合されたまたはコアに少なくとも部分的に含まれる中間ブロックであり、
ブロックＢが、ブロックＡに結合された親水性周囲ブロックである、
Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルである。

この実施形態において、好ましくは、
コアが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
中間ブロックＡが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔを含み、および
周囲ブロックＢが、中性親水性単位Ｂ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含む。

もう一つの特定の実施形態によれば、ミクロゲルは、
分岐Ａが、親水性分岐であり、および
分岐Ｂが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚ
を含む、Ｃ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}である。

この実施形態において、好ましくは、
コアが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
分岐Ａが、中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含み、および
分岐Ｂが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含む。

もう一つの特定の実施形態によれば、ミクロゲルは、分岐が
アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ａ_Ａおよび／または親水性もしくは疎水性中性単位Ａ_Ｎ、および
カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚ
を含む、Ｃ−分岐_ｒａｎｄミクロゲルである。

この実施形態において、好ましくは、
コアが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
分岐が、
アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ａ_Ａ、
カチオン性単位Ｂ_ｃａｔ、および
潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔおよび／または親水性中性単位Ｂ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含む。

潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔがそこから誘導される潜在的カチオン性モノマーＡ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔの例として、以下のものが挙げられる。

α，β−モノエチレン性不飽和カルボン酸のω−（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ）アルキルアミド、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルアクリルアミドまたはメタクリルアミド、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリルアミドまたはメタクリルアミド、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミドまたはメタクリルアミド、または、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチルアクリルアミドまたはメタクリルアミド；
α，β−モノエチレン性不飽和アミノエステル、例えば、２−（ジメチルアミノ）エチルアクリレート（ＡＤＡＭ）、２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート（ＤＭＡＭまたはＭＡＤＡＭ）、３−（ジメチルアミノ）プロピルメタクリレート、２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エチルメタクリレート、２−（ジペンチルアミノ）エチルメタクリレートまたは２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレート；
ビニルピリジン；
ビニルアミン；
ビニルイミダゾリン；および
アミン官能基の前駆体モノマー、例えば、単純な酸性または塩基性加水分解により第１アミン官能基を生成するＮ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド等。

潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔがそこから誘導されるカチオン性モノマーＡ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔの例として、以下のものが挙げられる。

アンモニウムアクリロイルまたはアクリロイルオキシモノマー、例えば、
トリメチルアンモニウムプロピルメタクリレート塩、特に、塩化物；
トリメチルアンモニウムエチルアクリルアミドクロリドまたはブロミド、またはトリメチルアンモニウムメタクリルアミドクロリドまたはブロミド；
トリメチルアンモニウムブチルアクリルアミドメチルスルフェートまたはトリメチルアンモニウムメタクリルアミドメチルスルフェート；
トリメチルアンモニウムプロピルメタクリルアミドメチルスルフェート（ＭＡＰＴＡ ＭｅＳ）；
（３−メタクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＭＡＰＴＡＣ）；
（３−アクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリドまたはメチルスルフェート（ＡＰＴＡＣまたはＡＰＴＡ ＭｅＳ）；
（メタクリロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウムクロリドまたはメチルスルフェート；
（アクリロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウム（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）塩、例えば、（アクリロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウムクロリド；または（アクリロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウムメチルスルフェート（ＡＤＡＭＱＵＡＴ ＣｌまたはＡＤＡＭＱＵＡＴ ＭｅＳ）；
メチルジエチルアンモニウムエチルアクリレートメチルスルフェート（ＡＤＡＥＱＵＡＴ ＭｅＳ）；
ベンジルジメチルアンモニウムエチルアクリレートクロリドまたはメチルスルフェート（ＡＤＡＭＱＵＡＴ ＢＺ ８０）；
１−エチル−２−ビニルピリジニウムまたは１−エチル−４−ビニルピリジニウムブロミド、クロリドまたはメチルスルフェート；
Ｎ，Ｎ−ジアルキルジアリルアミンモノマー、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルジアリルアンモニウムクロリド（ＤＡＤＭＡＣ）；
ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＤＩＱＵＡＴクロリド）；
ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ−（３−メチルスルフェート−２−ヒドロキシプロピル）トリメチルアンモニウムメチルスルフェート（ＤＩＱＵＡＴメチルスルフェート）；および
式：

（式中、Ｘ⁻は、アニオン、好ましくはクロリドまたはメチルスルフェートである）
で示されるモノマー。

中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＢ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＣ_{Ｎｐｈｉｌｅ}がそこから誘導される中性親水性モノマーＡ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＢ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＣ_{Ｎｐｈｉｌｅ}の例として、以下のものが挙げられる。

α，β−エチレン性不飽和酸のヒドロキシアルキルエステル、例えば、ヒドロキシエチルまたはヒドロキシプロピルアクリレートおよびメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート、等；
α，β−エチレン性不飽和アミド、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド等；
ポリエチレンオキシド型の水溶性ポリオキシアルキレン化セグメントを有するα，β−エチレン性不飽和モノマー、例えば、ポリエチレンオキシドα−メタクリレート（Ｌａｐｏｒｔｅ製のＢｉｓｏｍｅｒ Ｓ２０Ｗ、Ｓ１０等）またはα，ω−ジメタクリレート、Ｒｈｏｄｉａ製のＳｉｐｏｍｅｒ ＢＥＭ（ω−ベヘニルポリオキシエチレンメタクリレート）、Ｒｈｏｄｉａ製のＳｉｐｏｍｅｒ ＳＥＭ−２５（ω−トリスチリルフェニルポリオキシエチレンメタクリレート）等；
ビニルアルコール；
親水性単位またはセグメントのα，β−エチレン性不飽和前駆体モノマー、例えば、一旦重合すると、加水分解してビニルアルコール単位またはポリビニルアルコールセグメントを生成することができる酢酸ビニル；
ビニルピロリドン；
ウレイド型のα，β−エチレン性不飽和モノマー、および特に、２−イミダゾリジノンエチルのメタクリルアミド（Ｒｈｏｄｉａ製のＳｉｐｏｍｅｒ ＷＡＭ ＩＩ）；および
非エチレングリコールメチルエーテルアクリレートまたは非エチレングリコールメチルエーテルメタクリレート。

中性疎水性単位をそこから誘導することができる中性疎水性モノマーの例として、以下のものを挙げることができる。

ビニル芳香族モノマー、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等；
ビニルまたはビニリデンハライド、例えば、ビニルクロリドまたはビニリデンクロリド；
α，β−モノエチレン性不飽和酸のＣ_１−Ｃ_１２アルキルエステル、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等；
不飽和カルボン酸のビニルまたはアリルエステル、例えば、ビニルまたはアリルアセテート、プロピオネート、バーサテート、ステアレート等；
３から１２個の炭素原子を含むα，β−モノエチレン性不飽和ニトリル、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等；
α−オレフィン、例えば、エチレン等；
共役ジエン、例えば、ブタジエン、イソプレンまたはクロロプレン；
ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）鎖を発生することができるモノマー。すなわち、部分Ｂはシリコーン、例えば、ポリジメチルシロキサン鎖または、ジメチルシロキシ単位を含むコポリマーであってよい；および
ジエチレングリコールエチルエーテルアクリレートまたはジエチレングリコールエチルエーテルメタクリレート。

アニオン性または潜在的アニオン性単位をそこから誘導することができるアニオン性または潜在的アニオン性モノマーＡ_Ａおよび／またはＢ_Ａおよび／またはＣ_Ａの例としては、以下のものが挙げられる。

少なくとも一つのカルボン酸官能基を有するモノマー、例えば、α，β−エチレン性不飽和カルボン酸または対応する無水物、例えば、アクリル酸、無水アクリル酸、メタクリル酸、無水メタクリル酸、マレイン酸、無類マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、Ｎ−メタクリロイルアラニン、Ｎ−アクリロイルグリシンおよびこれらの水溶性塩；
カルボキシレート官能基の前駆体モノマー、例えば、重合後に加水分解によりカルボン酸官能基を発生するｔｅｒｔ−ブチルアクリレート；
少なくとも一つのスルフェートまたはスルホネート官能基を有するモノマー、例えば、２−スルホオキシエチルメタクリレート、ビニルベンゼンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スルホエチルアクリレートまたはメタクリレート、スルホプロピルアクリレートまたはメタクリレート、およびこれらの水溶性塩；および
少なくとも一つのホスホネートまたはホスフェート官能基を有するモノマー、例えば、ビニルホスホン酸等、エチレン性不飽和ホスフェートエステル、例えば、ヒドロキシエチルメタクリレートから誘導されるホスフェート（Ｒｈｏｄｉａ製のＥＭＰＩＣＲＹＬ６８３５）およびポリオキシアルキレンメタクリレートから誘導されるもの、およびこれらの水溶性塩。

双性イオン性単位Ａ_Ｚおよび／またはＢ_Ｚおよび／またはＣ_Ｚをそこから誘導することができる双性イオン性モノマーＡ_Ｚおよび／またはＢ_Ｚおよび／またはＣ_Ｚの例としては、以下のものが挙げられる。

カルボキシベタイン基を有するモノマー；
スルホベタイン基を有するモノマー、例えば、スルホプロピルジメチルアンモニウムエチルメタクリレート（ＳＰＥ）、スルホエチルジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、スルホブチルジメチルアンモニウムエチルメタクリレート、スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニウムエチルメタクリレート（ＳＨＰＥ）、スルホプロピルジメチルアンモニウムプロピルアクリルアミド、スルホプロピルジメチルアンモニウムプロピルメタクリルアミド（ＳＰＰ）、スルホヒドロキシプロピルジメチルアンモニウムプロピルメタクリルアミド（ＳＨＰＰ）、スルホプロピルジエチルアンモニウムエチルメタクリレート、またはスルホヒドロキシプロピルジエチルアンモニウムエチルメタクリレート；および
ホスホベタイン基を有するモノマー、例えば、ホルファトエチルトリメチルアンモニウムエチルメタクリレート。

例えば、「アームファースト」プロセスにおいてまたは「コアファースト」プロセスにおいて用いられる、または、コアＣを調製するために用いられる、架橋性単位Ｒをそこから誘導することができる架橋性モノマーＲは、少なくとも２個のエチレン性不飽和および多くとも１０個の不飽和を含むと共にラジカル経路を介して反応性であると知られている有機化合物から選択することができる。

好ましくは、これらのモノマーは、２または３個のエチレン性不飽和を有する。

すなわち、特に、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニルエステル、ビニルエーテル、ジエン、スチレン、α−メチルスチレンおよびアリル誘導体が挙げられる。これらのモノマーは、エチレン性不飽和以外の官能基、例えば、ヒドロキシル、カルボキシル、エステル、アミド、アミノまたは置換アミノ、メルカプト、シラン、エポキシまたはハロ官能基も含んでよい。

これらの族に属するモノマーは、ジビニルベンゼンおよびジビニルベンゼン誘導体、ビニルメタクリレート、無水メタクリル酸、アリルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、フェニレンジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール２００ジメタクリレート、ポリエチレングリコール４００ジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート、１，３−グリセロールジメタクリレート、ジウレタンジメタクリレートまたはトリメチロールプロパントリメタクリレートである。多官能性アクリレートの族については、特に、ビニルアクリレート、ビスフェノールＡエポキシジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール６００ジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、エチルオキシル化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、脂肪族ウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシル化グルセロールトリアクリレート、脂肪族ウレタントリアクリレート、トリメチロールプロパンテトラアクリレート、またはジペンタエリスリトールペンタアクリレートが挙げられる。ビニルエーテルに関しては、特に、ビニルクロトネート、ジエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテルまたはトリエチレングリコールジビニルエーテルが挙げられる。アリル誘導体については、特に、ジアリルフタレート、ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、ジアリルマレエート、ソジウムジアリルオキシアセテート、ジアリルフェニルホスフィン、ジアリルピロカルボネート、ジアリルスクシネート、Ｎ，Ｎ’−ジアリルタルタルジアミド、Ｎ，Ｎ’−ジアリル−２，２，２−トリフルオロアセトアミド、ジアリルオキシ酢酸のアリルエステル、１，３−ジアリルウレア、トリアリルアミン、トリアリルトリメセート、トリアリルシアヌレート、トリアリルトリメリテートまたはトリアリル−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオンが挙げられる。アクリルアミド誘導体については、特に、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスメタクリルアミド、グリオキサールビスアクリルアミドまたはジアクリルアミド酢酸が挙げられる。スチレン誘導体に関しては、特に、ジビニルベンゼンおよび１，３−ジイソプロペニルベンゼンが挙げられる。ジエンモノマーの場合、特に、ブタジエン、クロロプレンおよびイソプレンが挙げられる。

多エチレン性不飽和モノマーとしては、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド、ジビニルベンゼンン、エチレングリコールジアクリレートまたはトリメチロールプロパントリアクリレートが好ましい。

これらの多エチレン性不飽和モノマーは、単独でまたは混合物として用いることができる。さらに、これらは、コアモノマー、好ましくはモノエチレン性不飽和コアモノマーの存在下に重合されることが好ましい。

一つの特定の様式によれば、
ミクロゲルは、
カチオン性または潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔ；
中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＢ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＣ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含み、
カチオン性または潜在的カチオン性単位と中性親水性単位との重量比は１以上である。

有利には、全てのカチオン性または潜在的カチオン性単位、通常、単位Ｂ_ｃａｔの、中性単位、通常、単位Ａ_Ｎに対する重量比は１以上である。

ミクロゲルは、特に、粉末の形態、液体中の分散体の形態、または溶媒（水または他の溶媒）中の溶液の形態で存在し得る。この形態は、通常、ミクロゲルの使用に関する要求に依存する。これは、ミクロゲルを調製するためのプロセスにも関係する。

分岐を有するミクロゲルは、好ましくは、少なくとも１０個の分岐、通常、多くとも約２５０個の分岐を含む。分岐の数は、調製方法の選択、および用いられるコアのタイプにより調節することができる。これは、当業者に知られている。適切なミクロゲルは、例えば、理論的分岐発生係数０．２５以上で、ジエチレン性不飽和モノマーＲ_{ｄｉｆｕｎｃｔ}である架橋性モノマーＲの、遊離基供給源の存在下における、「前駆体」制御または転移剤を用いる制御下のラジカル重合により得られるミクロゲルである。

分岐は、分子量（理論的または測定値）が１０００ｇ／モルから１０００００ｇ／モルの間である。これは、好ましくは、１００００ｇ／モルから３００００ｇ／モルの間である。これらの分岐において、ブロックは、分子量が１０００ｇ／モルから９９０００ｇ／モルの間、好ましくは２０００ｇ／モルから２８０００ｇ／モルの間である。

（ミクロゲルを調製するために用いられるプロセス）
前述のようなミクロゲルの調製を可能にする任意のプロセスを用いることができる。

特に有利なプロセスは、転移剤または基を利用する、制御またはリビング重合を使用し、例えば、制御またはリビングラジカル重合プロセスにより成される。この重合は、特に、コア、マクロ分子分岐、ブロックおよびブロックコポリマーの成長により、コア、マクロ分子分岐、ブロックおよびブロックコポリマーを調製することを可能にする。多くの制御またはリビングラジカル重合プロセスおよび／または多くの転移剤または基が記載されている。これらは、当業者に知られている。他の方法、特に、開環重合（特に、アニオン性またはカチオン性）、アニオンまたはカチオン重合またはグラフト法を用いることを排除しないと言われている。

リビングまたは制御重合プロセスの例としては、特に、以下のものを参照することができる。

キサンテート型制御剤により制御されるラジカル重合を用いる、出願ＷＯ ９８／５８９７４、ＷＯ ００／７５２０７およびＷＯ ０１／４２３１２のプロセス；
出願ＷＯ ９８／０１４７８の、ジチオエステルまたはトリチオカルボネート型制御剤により制御されるラジカル重合プロセス；
特にポリオルガノシロキサンブロックを含むコポリマーを得るための、出願ＷＯ ０２／０８３０７に記載のプロセス；
出願ＷＯ ９９／３１１４４からの、ジチオカルバメート型制御剤により制御されるラジカル重合プロセス；
出願ＷＯ ０２／２６８３６からの、ジチオカルバゼート型制御剤により制御されるラジカル重合プロセス；
出願ＷＯ ０２／１０２２３からの、ジチオホスホロエステル型制御剤により制御されるラジカル重合プロセス；
（場合により、制御ラジカル重合により前述のように得られるブロックコポリマーは、この硫黄含有端部鎖の精製のための反応、例えば、加水分解、酸化、還元、熱分解または置換型プロセスによる反応を起こす）；
ニトロキシド前駆体の存在下における重合を利用する、出願ＷＯ ９９／０３８９４のプロセス；
原子転移ラジカル重合（ＡＴＲＰ）を利用する、出願ＷＯ ９６／３０４２１のプロセス；
Ｏｔｕら，Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｒａｐｉｄ．Ｃｏｍｍｕｎ．，３，１２７（１９８２）の教示に従うｉｎｉｆｅｒｔｅｒ型制御剤により制御されるラジカル重合プロセス；
Ｔａｔｅｍｏｔｏら，Ｊａｐ．５０，１２７，９９１（１９７５），Ｄａｉｋｉｎ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．Ｌｔｄ．Ｊａｐａｎ ａｎｄ Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉら，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２８，２０９３（１９９５）の教示に従う変性性ヨウ素転移により制御されるラジカル重合プロセス；
Ｄ．Ｂｒａｕｎら，Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．１１１，６３（１９９６）により開示されている、テトラフェニルエタン誘導体により制御されるラジカル重合プロセス；
Ｗａｙｌａｎｄら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１６，７９７３（１９９４）により記載されている、有機コバルト錯体により制御されるラジカル重合プロセス；および
ジフェニルエチレンにより制御されるラジカル重合プロセス（ＷＯ ００／３９１６９またはＷＯ ００／３７５０７）。

−Ｓ−ＣＳ−基を有する転移剤または基（または制御剤）（キサンテート、ジチオエステル、トリチオカルボネート等）を用いる制御またはリビングラジカル重合が、特に有利である。

分岐を有するミクロゲルを調製する第１の実用的プロセスは、「コアファースト」型プロセスである。このようなプロセスは、以下のステップを含む。

ステップａ）
場合により少なくとも一つのモノエチレン性不飽和コアモノマー（コアモノマーＣ）；
少なくとも一つの架橋性モノマーＲ；
遊離基の供給源；および
制御または転移剤
を含む組成物を、重合、好ましくは制御ラジカル重合してコアＣ（化学的に架橋したポリマーコア）を得る；
ステップｂ）
モノエチレン性不飽和モノマーＡおよび／またはＢから、重合、好ましくは制御ラジカル重合により、Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}またはＣ−分岐_ｒａｎｄまたはＣ−分岐_Ｈｏｍｏミクロゲルのマクロ分子分岐を成長させて、コアに結合した分岐を得る。Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルの調製については、ステップｂ）は、モノマーＡから出発して中間体ブロックＡを成長させてコアに結合したブロックＡを得るためのステップｂ１）、次に、モノマーＢからブロックＢを成長させて、ブロックＡに結合したブロックＢを得るためのステップｂ２）を含む。

「コアファースト」プロセスのステップａ）は、コアまたはランダムミクロゲルを調製するステップである。得られる生成物は、第１発生コポリマーまたはポリマーまたはミクロゲルとして知られる場合がある。

「コアファースト」プロセスのステップｂ）は、コアからマクロ分子分岐を成長させるためのステップである。得られる生成物は、第２発生コポリマーまたはポリマーまたはミクロゲルとして知られる場合がある。

「コアファースト」プロセスのステップｂ２）は、前のブロックから第２ブロックを成長させるためのステップである。得られる生成物は、第３発生コポリマーまたはポリマーまたはミクロゲルとして知られる場合がある。

モノエチレン性不飽和コアモノマー（コアモノマーＣ）は、分岐のモノマーと同じであってもよい。これは、場合により、異なっていてもよい。

スターコポリマーを調製するための第２の実用的プロセスは、「アームファースト」型プロセスである。このようなプロセスは、以下のステップを含み得る。

ステップａ’）
単位Ａおよび／またはＢを含み、好ましくは、端部に制御または転移基を有する分岐を構成するマクロ分子鎖の、好ましくは制御ラジカル重合による調製。ミクロゲルがＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルの場合、マクロ分子鎖はブロックコポリマーであり、好ましくは、ブロックＡの端部に制御または転移基を含む；
ステップｂ’）
少なくとも一つの架橋性の、好ましくは多エチレン性不飽和モノマーＲ；
場合により、遊離基の供給源；
場合により、コアモノマー（コアモノマーＣ）、好ましくは、モノエチレン性不飽和コアモノマー；および
ステップａ’）からのマクロ分子鎖
を含む組成物の鎖への重合、好ましくは制御ラジカル重合。

「アームファースト」プロセスのステップａ’）は、第１発生ポリマーまたはコポリマーの調製として知られる場合がある。

ステップｂ’）は、スターコポリマーを得るものであり、第２発生コポリマーを得るまたは調製するものとして知られる場合がある。

モノエチレン性不飽和コアモノマー（コアモノマーＣ）は、分岐のモノマーと同じであってもよい。これは、場合により、異なっていてもよい。

ステップａ’）からのマクロ分子分岐は、例えば、以下のステップを含むプロセスにより得られるブロックコポリマーである。

ステップａ’１）：
少なくとも一つのモノエチレン性不飽和モノマーＢ；
遊離基の供給源；および
少なくとも一つの制御剤
を含む組成物の、重合、好ましくは制御ラジカル重合によりブロックＢを調製する；
（このプロセスは、好ましくは、架橋性（多エチレン性不飽和）モノマーＲの不存在下に行われると解される）、
ステップａ’２）：
少なくとも一つのモノエチレン性不飽和モノマーＡ；および
場合により、遊離基の供給源
を含む組成物の、重合、好ましくは制御ラジカル重合による、ブロックＢの上でのブロックＡの成長により、ブロックコポリマーを得る；
（このプロセスは、好ましくは、架橋性（多エチレン性不飽和）モノマーＲの不存在下に行われると解される）。

ブロックコポリマーを調製するためのこのようなプロセスは公知であり、多くの公報の対象であった。

コアを形成するステップ（ステップａまたはｂ’）については、モノエチレン性不飽和コアモノマーに対する架橋性（多エチレン性不飽和）モノマーＲのモル分率は、有利には、０．００１から１の間である。好ましくは、モル分率は、０．０１から１の間である。

プロセスの第１のステップ（ステップａまたはａ’、より具体的にはａ’１）は、遊離基の供給源の存在下に行われる。しかしながら、スチレンのような特定のモノマーについては、重合の開始を可能にする遊離基は、通常１００℃を超える充分に高い温度において、モノエチレン性不飽和モノマーにより発生させることができる。この場合、さらなる遊離基供給源を加える必要はない。

用いられる遊離基の供給源は、通常、ラジカル重合開始剤である。ラジカル重合開始剤は、ラジカル重合において従来から用いられている開始剤から選択することができる。これは、例えば、以下の開始剤の一つである。

過酸化水素化合物、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシオクトエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシイソブタレート、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレート、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ポタシウムパースルフェートまたはアンモニウムパースルフェート；
アゾ化合物、例えば、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブタンニトリル）、４，４’−アゾビス（４−ペンタン酸）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２−（ｔｅｒｔ−ブチルアゾ）−２−シアノプロパン、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（１，１）−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド（ｐｒｏｐｒｉｏｎａｍｉｄｅ）、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチレンイソブチルアミジン）ジクロリド、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジクロリド、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチレンイソブチルアミド）、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチル］プロピオンアミド（ｐｒｏｐｒｉｏｎａｍｉｄｅ））、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（イソブチルアミド）ジハイドレート；
組み合わせを含む酸化還元系、例えば、
過酸化水素、アルキルペルオキシド、パーエステル、パーカーボネート等、および任意の鉄塩、チタン塩、亜鉛ホルムアルデヒドスルホキシレートまたはソジウムホルムアルデヒドスルホキシレート、および還元糖の混合物；
アルカリ金属またはアンモニウムパースルフェート、パーボレートまたはパークロレートと、アルカリ金属ビスルファイト、例えば、ソジウムメタビスルファイト、および還元糖との組み合わせ；および
アルカリ金属パースルフェートと、アリールホスフィン酸、例えば、ベンゼンホスフィン酸等、および還元糖との組み合わせ。

用いられる開始剤の量は、発生したラジカルの量が、制御または転移剤の量に対して多くとも５０モル％、好ましくは多くとも２０モル％となるように決められることが好ましい。

重合は、任意の適切な物理的形態で、例えば、水またはアルコールもしくはＴＨＦのような溶媒中の溶液、水中のエマルジョン（「ラテックス」として知られているプロセス）、またはバルクで、必要なら、種を液体および／または可溶性もしくは不溶性にするように温度および／またはｐＨを制御して、行ってよい。

先に記載の調製プロセスを行った後、例えば加水分解、オゾン分解またはアミンとの反応により、ミクロゲル中に存在し得る転移基を不活性化、除去または破壊することができると言われている。

重合後にコポリマーを官能化するステップを用いることなく、重合および場合による転移基の不活性化、除去または破壊の直後にミクロゲルを得ることが好ましいと言われている。

（組成物および用途）
組成物は、好ましくは、液体塗布キャリア、例えば、水、アルコールまたはこの混合物を含む液体組成物である。これは、通常、界面活性剤を含む。

本発明の組成物は、特に、処理すべき硬質表面に、汚損性物質に対する抗沈積および／または抗付着特性を提供することができる。これは、例えば、
家庭用の清浄化または濯ぎ組成物；これは、普遍的である、または清浄化もしくは濯ぎ用の組成物のような、より特異的なものとし得る、
浴室；この組成物は、特に、バスタブの周囲または浴室流し上への石鹸塩の沈積を防止し、これらの表面上でのカルシウム結晶の成長および／または沈積を防止し、その後の石鹸汚れの発生を遅らせる；
キッチン；この組成物は、時間と共に架橋し得る不飽和脂肪汚損性物質により汚された場合の調理台の清浄化を向上させることができ；油性汚れが、擦ることなく水で剥がれる；
床（リノリウム、タイルまたはセメント製）；この組成物は、ａｒｇｉｌｏｃａｌｃａｒｅｏｕｓ型の汚損性物質（土、砂、泥等）または埃の除去の向上を可能にし；床の上の汚れを、ブラッシングすることなく、単純な拭き取りにより努力することなく取り去ることができ；さらに、この組成物は、滑り止め特性に貢献する；
便器；この組成物は、表面への排泄物の痕跡の付着の防止を可能にする；これらの痕跡を除去するのに、水をざっと流すのみで充分であり；ブラシの使用は不必要である；
窓または鏡；この組成物は、表面への無機または有機粒子汚損性物質の沈積の防止を可能にする；
食器（手で、または自動設備を使用）；この組成物は、手で洗う場合、乾燥した食物からの残留汚れの除去を容易にし、同じ量の洗浄媒体を用いて多量の刃物または調理器具を洗うことが可能になる；刃物または調理器具の湿ったままの表面は、もはや滑らず、従って、使用者の手から逃げることがない；キュッキュッと音がする程きれいにする効果も観察される、すなわち、指で擦ると表面が「キュッキュッ」と鳴る。食器洗浄器での洗浄または濯ぎの場合、この組成物は、食物からの汚損性物質および不溶性無機カルシウムの再沈積防止を可能にし、調理器具および刃物の輝きに貢献する；この組成物は、食器洗浄器に導入する前に刃物または調理器具を「予備洗い」する必要を無くすることができる。

産業用または公共設備用の清浄化または濯ぎ組成物；これは普遍的、または、
反応器、スチール刃、流しまたはタンク、
食器、
建物の外側または内側表面、
アパートを含む建物の窓、または
瓶
を清浄化するための組成物のように、より特異的にし得る。

本発明の組成物は、任意の形態で提供することができ、種々の方法で用いることができる。すなわち、これは、以下の形態とすることができる。

特に、
清浄化または濯ぐべき表面の上に直接噴霧、または
処理すべき表面に適用する前にスポンジまたは他の物質（例えば、セルロースからなる織物または不織物品）の上に噴霧される
ことによる、このように堆積されるゲル状または非ゲル状液体、
処理すべき表面に適用する前に、水に希釈（場合により、別の溶媒を添加）されるゲル状または非ゲル状液体、
水溶性の袋に保持されたゲル状または非ゲル状液体、
泡、
エアロゾル、
特に織物または不織物である物品からなる吸収性基材（拭き取り用）に吸収された液体、
場合により、水溶性の袋に保持され、この組成物が錠剤の一部または全体をなすことができる固体、特に、錠剤。

本発明を満足に実行するには、ミクロゲルは、本発明の対象物をなす組成物中に、表面の修飾および／または処理に効果的となる量で存在する。

これは、例えば、表面に沈積し易い汚損性物質に対する抗沈積および／または抗付着特性を、この表面を与えるのに効果的な量とすることができる。

本発明の対象物を形成するこの組成物は、この用途に依り、ミクロゲルの重量の０．００１から１０％含むことができる。

本発明による組成物のｐＨまたは組成物の使用ｐＨは、用途および処理すべき表面に依存して、１から１４、実際には０．５から１４で変化し得る。極端なｐＨ値は、産業用または公共施設用の清浄化の用途において従来から用いられている。家庭用の分野では、ｐＨ値は、用途に応じて１から１３の範囲である。

この組成物は、表面に沈積したポリベタイン（Ｂ）の量が、場合による濯ぎの後および乾燥の後に、処理表面に対して０．０００１から１０ｍｇ／ｍ^２、好ましくは０．００１から５ｍｇ／ｍ^２となるような量で、硬質表面の清浄化または濯ぎのために用いることができる。

本発明の清浄化または濯ぎ組成物は、さらに、少なくとも一つの界面活性剤を含む。これは、非イオン性、アニオン性、両性、双性イオン性またはカチオン性であってよい。これは、界面活性剤の混合物または組み合わせであってもよい。

アニオン性界面活性剤のうち、例えば以下のものが挙げられる。

式：Ｒ−ＣＨ（ＳＯ_３Ｍ）−ＣＯＯＲ’で示されるアルキルエステルスルホネート（式中、ＲはＣ_８−Ｃ_２０、好ましくはＣ_１０−Ｃ_１６アルキル基を表し、Ｒ’はＣ_１−Ｃ_６、好ましくはＣ_１−Ｃ_３アルキル基を表し、およびＭはアルカリ金属（ナトリウム、カリウムまたはリチウム）カチオン、置換または非置換アンモニウム（メチル、ジメチル、トリメチルまたはテトラメチルアンモニウム、ジメチルピペリジニウム等）カチオンまたは、アルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等）から誘導されるカチオンを表す。）。特に、メチルエステルスルホネート（基ＲがＣ_１４−Ｃ_１６基）が挙げられる；
式：ＲＯＳＯ_３Ｍで示されるアルキルスルフェート（式中、ＲはＣ_５−Ｃ_２４、好ましくはＣ_１０−Ｃ_１８アルキルまたはヒドロキシアルキル基（例えば、コプラおよび獣脂から誘導される脂肪酸の塩）を表し、Ｍは水素原子または前述と同じ定義のカチオン、および平均して０．５から３０、好ましくは０．５から１０のＥＯおよび／またはＰＯ単位を有するこれらのエトキシレン化（ＥＯ）および／またはプロポキシレン化（ＰＯ）誘導体を表す。）；
式：ＲＣＯＮＨＲ’ＯＳＯ_３Ｍで示されるアルキルアミドスルフェート（式中、ＲはＣ_２−Ｃ_２２、好ましくはＣ_６−Ｃ_２０アルキル基を表し、Ｒ’はＣ_２−Ｃ_３アルキル基を表し、Ｍは水素原子または前述と同じ定義のカチオン、および平均して０．５から６０のＥＯおよび／またはＰＯ単位を有するこれらのエトキシレン化（ＥＯ）および／またはプロポキシレン化（ＰＯ）誘導体を表す。）；
飽和または不飽和Ｃ_８−Ｃ_２４、好ましくはＣ_１４−Ｃ_２０脂肪酸の塩、Ｃ_９−Ｃ_２０アルキルベンゼンスルホネート、第１または第２Ｃ_８−Ｃ_２２アルキルスルホネート、アルキルグリセロールスルホネート、ＧＢ−Ａ−１ ０８２ １７９に開示のスルホン化ポリカルボン酸、パラフィンスルホネート、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウレート、イセチオネート、アルキルスクシナメート、アルキルスルホスクシネート、スルホスクシネートのモノエステルまたはジエステル、Ｎ−アシルサルコシネート、アルキルグリコシドスルフェート、ポリエトキシカルボキシレート、モノグリセリドスルフェートおよび、脂肪酸クロリドとヒドロキシアルキルスルホネートとの縮合物；カチオンは、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムまたはリチウム）、置換または非置換アンモニウム（メチル、ジメチル、トリメチルまたはテトラメチルアンモニウム、ジメチルピペリジニウム等）残基または、アルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等）から誘導される残基であり得る）；
アルキルホスフェート、またはアルキルもしくはアルキルアリールホスフェートエステル、例えば、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＲｈｏｄａｆａｃ ＲＡ６００、Ｒｈｏｄａｆａｃ ＰＡ１５またはＲｈｏｄａｆａｃ ＰＡ２３；カチオンは、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムまたはリチウム）、置換または非置換アンモニウム（メチル、ジメチル、トリメチルまたはテトラメチルアンモニウム、ジメチルピペリジニウム等）残基または、アルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等）から誘導される残基であり得る）。

非イオン性界面活性剤がＵＳ−Ａ−４ ２８７ ０８０およびＵＳ−Ａ−４ ４７０ ９２３に記載されている。特に、アルキレンオキシド、特に、エチレンオキシドおよび、場合により、プロピレンオキシドと、アルコール、ポリオール、アルキルフェノール、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドおよび脂肪アミンとの縮合物；アミンオキシド；糖誘導体、例えば、アルキルポリグリコシドまたは、脂肪酸と糖類とのエステル、特に、スクロースモノパルミテート；長鎖（８−２８炭素原子）第３ホスフィンオキシド；ジアルキルスルホキシド；ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンとのブロックコポリマー；ソルビタンのポリアルコキシル化エステル；ソルビタンの脂肪酸エステル；疎水性を与えるように修飾されたポリ（エチレンオキシド）および脂肪酸アミド（例えば、炭素原子１０−１８個を含む脂肪酸モノおよびジエタノールアミド）が挙げられる。

特に、
特に炭素原子１２個（平均）または炭素原子１８個（平均）を有する、オキシアルキレン（オキシエチレンおよび／またはオキシプロピレン）単位を２−５０個を含むポリオキシアルキレン化Ｃ_８−Ｃ_１８脂肪族カルボン酸
特に炭素原子１２個（平均）または炭素原子１８個（平均）を有する、オキシアルキレン（オキシエチレンおよび／またはオキシプロピレン）単位を２−５０個を含むポリオキシアルキレン化Ｃ_６−Ｃ_２４脂肪族アルコール；Ｒｈｏｄｉａ製のＡｎｔａｒｏｘ Ｂ１２ＤＦ、Ａｎｔａｒｏｘ ＦＭ３３、Ａｎｔａｒｏｘ ＦＭ６３およびＡｎｔａｒｏｘ Ｖ７４、ＢＡＳＦ製のＰｌｕｒａｆａｃ ＬＦ ４００およびＰｌｕｒａｆａｃ ＬＦ ２２０、Ｒｈｏｄｉａ製のＲｈｏｄａｓｕｒｆ ＩＤ ０６０、Ｒｈｏｄａｓｕｒｆ ＩＤ ０７０およびＲｈｏｄａｓｕｒｆ ＬＡ ４２、およびＩＣＩ製のＳｙｎｐｅｒｏｎｉｃ Ａ５、Ａ７およびＡ９が挙げられる；
アミンオキシド、例えば、ドデシルジ（２−ヒドロキシエチル）アミンオキシド、
ホスフィンオキシド、例えば、テトラデシルジメチルホスフィンオキシド
が挙げられる。

両性界面活性剤のうち、
ソジウムイミノジプロピオネートまたはアルキルイミノジプロピオネート、例えば、Ｒｈｏｄｉａ製のＭｉｒａｔａｉｎｅ Ｈ２Ｃ ＨＡおよびＭｉｒａｔａｉｎｅ ＪＣ ＨＡ、
このアルキル基が炭素原子を６から２０個含むアルキルアンホアセテートまたはアルキルアンホジアセテート、例えば、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＭｉｒａｎｏｌ Ｃ２Ｍ Ｃｏｎｃ ＮＰ、
両性アルキルポリアミン誘導体、例えば、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＡｍｐｈｉｎｏｉｃ ＸＬ（登録商標）、およびＢｅｒｏｌ Ｎｏｂｅｌから販売されているＡｍｐｈｏｌａｃ ７Ｔ／Ｘ（登録商標）およびＡｍｐｈｏｌａｃ ７Ｃ／Ｘ（登録商標）
が挙げられる。

双性イオン性界面活性剤のうち、ＵＳ ５ １０８ ６６０に開示されているものが挙げられる。

好ましい双性イオン性界面活性剤は、アルキルジメチルベタイン、アルキルアミドプロピルジメチルベタイン、アルキルジメチルスルホベタインまたはアルキルアミドプロピルジメチルスルホベタイン、例えば、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＭｉｒａｔａｉｎｅ ＪＣＨＡ、Ｍｉｒａｔａｉｎｅ Ｈ２ＣＨＡまたはＭｉｒａｔａｉｎｅ ＣＢＳ、または「Ｖａｒｉｏｎ ＣＡＤＧ Ｂｅｔａｉｎｅ」および「Ｖａｒｉｏｎ ＣＡＳ Ｓｕｌｆｏｂｅｔａｉｎｅ」の名でＳｈｅｒｅｘ Ｃｏｍｐａｎｙから販売されている同じタイプの化合物、または脂肪酸と蛋白加水分解物との縮合生成物。

他の双性イオン性界面活性剤も、ＵＳ−Ａ−４ ２８７ ０８０およびＵＳ−Ａ−４ ５５７ ８５３に開示されている。

カチオン性界面活性剤のうち、特に、式：
Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４Ｎ^＋Ｘ⁻
で示される４級アンモニウム塩が挙げられる。
（式中、
同じまたは異なるＲ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、Ｈまたは、炭素原子を４個未満、好ましくは１または２個含むアルキル基を表し、これは、場合により、一以上のヒドロキシル官能基により置換されている、または、窒素原子Ｎ^＋と一緒になって、少なくとも一つの芳香族またはヘテロ環式環を形成することができる、
Ｒ^４は、Ｃ_８−Ｃ_２２、好ましくはＣ_１２−Ｃ_２２のアルキルもしくはアルケニル基、またはアリールもしくはベンジル基を表し、および
Ｘ⁻は、可溶化アニオン、例えば、ハライド（例えば、クロリド、ブロミドまたはヨージド）、スルフェートまたはアルキルスルフェート（メチルスルフェート）、カルボキシレート（アセテート、プロピオネートまたはベンゾエート）、アルキルスルホネートまたはアリールスルホネートを表す）。

特に、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、セチルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルピリジニウムクロリド、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＲｈｏｄａｑｕａｔ（登録商標）ＴＦＲおよびＲｈｏｄａｍｉｎｅ（登録商標）Ｃ１５、セチルトリメチルアンモニウムクロリド（Ｃｏｇｎｉｓ製のＤｅｈｙｑｕａｒｔ ＡＣＡおよび／またはＡＯＲ）またはココビス（２−ヒドロキシエチル）エチルアンモニウムクロリド（Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ製のＥｔｈｏｑｕａｄ Ｃ１２）が挙げられる。

他のカチオン性界面活性剤、例えば、
式： Ｒ^１’Ｒ^２’Ｒ^３’Ｒ^４’Ｎ^＋Ｘ⁻
で示される４級アンモニウム塩も挙げられる。
（式中、
同じまたは異なるＲ^１’およびＲ^２’は、Ｈまたは、炭素原子を４個未満、好ましくは１または２個含むアルキル基を表し、これは、場合により、一以上のヒドロキシル官能基により置換されている、または、窒素原子Ｎ^＋と一緒になって、ヘテロ環式環を形成することができる、
Ｒ^３’およびＲ^４’は、Ｃ_８−Ｃ_２２、好ましくはＣ_１０−Ｃ_２２のアルキルもしくはアルケニル基、またはアリールもしくはベンジル基を表し、および
Ｘ⁻は、アニオン、例えば、ハライド（例えば、クロリド、ブロミドまたはヨージド）、スルフェートまたはアルキルスルフェート（メチルスルフェート）、カルボキシレート（アセテート、プロピオネートまたはベンゾエート）、アルキルスルホネートまたはアリールスルホネートを表す）。

特に、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、例えば、ジタロウジメチルアンモニウムクロリドまたはメチルスルフェート等、またはアルキルベンジルジメチルアンモニウムクロリドが挙げられる。

（Ｃ_１０−Ｃ_２５）アルキルイミダゾリウム塩、例えば、（Ｃ_１０−Ｃ_２５）アルキルイミダゾリニウムメチルスルフェート、
置換ポリアミンの塩、例えば、Ｎ−タロウ−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリエタノール−１，３−プロピレンジアミンジクロリドまたはジ（メチルスルフェート）またはＮ−タロウ−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’−ペンタメチル−１，３−プロピレンジアミンジクロリド。

適切な界面活性剤のさらなる例は、周知の便覧「Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｔｉｖｅ Ａｇｅｎｔｓ」、第Ｉ巻、ＳｃｈｗａｒｔｚおよびＰｅｒｒｙ、および「Ｓｕｒｆａｃｅ Ａｃｔｉｖｅ Ａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｄｅｔｅｒｇｅｎｔｓ」、第ＩＩ巻、Ｓｃｈｗａｒｔｚ、ＰｅｒｒｙおよびＢｅｒｃｈ、に示されている界面活性剤として通常用いられている化合物である。

界面活性剤は、本発明の組成物の重量の０．００５から６０％、特に０．５から４０％を占め、これは、界面活性剤の性質および、清浄化組成物の目的に従う。

有利には、ミクロゲル／界面活性剤の重量比は１／１から１／１０００の間、有利には１／２から１／２００の間である。

本発明の好ましい清浄化または濯ぎ組成物は、さらに、硬質表面を清浄化または濯ぐための組成物中に存在する従来の添加剤から特に選択される少なくとも一つの他の添加剤を含むことができる。

特に、以下のものが挙げられる。

キレート剤、特に、水溶性、アミノホスホネートおよび有機ホスホネート型のもの、例えば、
１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホネート、
アミノトリ（メチレンジホスホネート）、
ビニルジホスホネート
ビニルホスホン酸またはビニルジホスホン酸のオリゴマーまたはポリマーの塩、
ビニルホスホン酸またはビニルジホスホン酸の、およびアクリル酸および／または無水マレイン酸および／またはビニルスルホン酸および／またはアクリルアミドメチルプロパンスルホン酸のランダムコオリゴマーまたはコポリマーの塩、
ホスホン化ポリカルボン酸の塩、
ホスホネート末端を含むポリアクリレート、
ビニルホスホン酸またはビニルジホスホン酸とアクリル酸とのコテロマーの塩、
例えば、Ｂｒｉｑｕｅｓｔ（登録商標）範囲のもの、またはＲｈｏｄｉａ製のＭｉｒａｐｏｌ Ａ３００または４００（清浄化組成物の合計重量の０−１０％、好ましくは０−５％の割合）；
金属イオン封鎖剤またはスケール防止剤、例えば、
ポリカルボン酸またはこれらの水溶性塩および、カルボン酸ポリマーまたはコポリマーの水溶性塩、例えば、
ポリカルボキシレートまたはヒドロキシポリカルボキシレートエーテル、
ポリ酢酸またはこれらの塩（ニトリロ酢酸、Ｎ，Ｎ−ジカルボキシメチル−２−アミノペンタン二酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミンテトラアセテート、ニトリロアセテートまたはＮ−（２−ヒドロキシエチル）ニトリロジアセテート）、
（Ｃ_５−Ｃ_２０アルキル）コハク酸の塩、
ポリカルボン酸アセタールエステル、
ポリアスパラギンまたはポリグルタミン酸の塩、
クエン酸、アジピン酸、グルコン酸または酒石酸、またはこれらの塩、
アクリル酸と無水マレイン酸とのコポリマー、またはアクリル酸ホモポリマー、例えば、Ｒｈｏｄｉａ製のＲｈｏｄｏｌｉｎｅ ＤＰ ２２６ ３５およびＢＡＳＦ製のＳｏｋａｌａｎ ＣＰ５（この清浄化組成物の合計重量の０−１０％の割合）、
スルホン化ポリビニルスチレン、またはアクリル酸、メタクリル酸等とのこれらのコポリマー（清浄化組成物の合計重量の０−１０％の割合）；
以下のタイプの無機ビルダー（界面活性剤の表面特性を向上させる洗浄力補助剤）：
アルカリ金属、アンモニウムまたはアルカノールアミンポリホスフェート、例えば、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＲｈｏｄｉａｐｈｏｓ ＨＤ７（清浄化組成物の合計重量の０−７０％の割合）、
アルカリ金属ピロホスフェート、
ＳｉＯ_２／Ｍ_２Ｏ比が１−４、好ましくは１．５−３．５、特に１．７−２．８の範囲であり得るアルカリ金属シリケート；これらは無定形シリケートまたは薄板状シリケート、例えば、ＣｌａｒｉａｎｔからＮａＳＫＳ−５、ＮａＳＫＳ−７、ＮａＳＫＳ−１１およびＮａＳＫＳ−６の名で販売されているＮａ_２Ｓｉ_２Ｏ_５のα、β、γおよびδ相、
アルカリ金属またはアルカリ土類金属ボレート、カルボネート、ビカルボネートまたはセスキカルボネート（この清浄化組成物の合計重量の約５０％までの範囲であり得る量）、
アルカリ金属シリケートハイドレート（ＳｉＯ_２／Ｍ_２Ｏ比が１．５−３．５であり得る）およびアルカリ金属（ナトリウムまたはカリウム）カルボネートの共顆粒；特に、乾燥シリケートに対する、シリケートに結合した水の含有重量が少なくとも３３／１００である共顆粒であり、シリケートとカルボネートとの重量比は５／９５−４５／５５、好ましくは１５／８５−３５／６５であり、これは例えばＥＰ−Ａ−４８８ ８６８およびＥＰ−Ａ−５６１ ６５６に開示されており、例えば、Ｒｈｏｄｉａから販売されているＮａｂｉｏｎ １５が挙げられる（ビルダーの合計量は、この清浄化または濯ぎ組成物の合計重量の９０％までであり得る）；
パーボレートまたはパーカルボネート型の漂白剤。これはアセチル化漂白活性化剤と組み合わせるまたは組み合わせなくて良く、この例として、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンアジアミン（ＴＡＥＤ）、またはクロロイソシアヌレート型の塩素化生成物、またはアルカリ金属ハイポクロライト型の塩素化生成物、または過酸化水素水溶液が挙げられる（この清浄化組成物の合計重量の０−３０％の割合）；
硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、カオリンまたはシリカ型の充填剤（この組成物の合計重量の０−５０％の割合）；
遷移金属を含む漂白触媒、特に鉄、マンガンおよびコバルト複合体、例えば、ＵＳ−Ａ−４ ７２８ ４５５、５ １１４ ６０６、５ ２８０ １１７、ＥＰ−Ａ−９０９ ８０９、ＵＳ−Ａ−５ ５５９ ２６１、ＷＯ ９６／２３８５９、９６／２３８６０および９６／２３８６１に開示されている［Ｍｎ^ＩＶ _２（μ−Ｏ）_３（Ｍｅ_３ＴＡＣＮ）_２］（ＰＦ_６）_２、［Ｆｅ^ＩＩ（ＭｅＮ_４ｐｙ）（ＭｅＣＮ）］（ＣｌＯ_４）_２、［（Ｃｏ^ＩＩＩ）（ＮＨ_３）_５（ＯＡｃ）］（ＯＡｃ）_２の型のもの（この清浄化組成物の合計重量の０−５％の割合）；
清浄化または濯ぎ媒体中に可溶性であり、組成物のｐＨに影響を与える薬剤、特に、
塩基性化添加剤（アルカリ金属ホスフェート、カルボネート、パーボレートまたはアルカリ金属ヒドロキシド）、または
場合により、清浄化用酸性化添加剤、例えば、無機酸（リン酸、ポリリン酸、スルファミン酸、塩酸、フッ化水素酸、硫酸、硝酸またはクロム酸）、カルボン酸またはポリカルボン酸（酢酸、ヒドロキシ酢酸、アジピン酸、クエン酸、蟻酸、フマル酸、グルコン酸、グルタル酸、グリコール酸、リンゴ酸、マレイン酸、乳酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸および酒石酸）、または酸の塩、例えば、重硫酸ナトリウム、またはアルカリ金属ビカルボネートおよびセスキカルボネート；
混合物の粘度および／または使用中に形成される泡の安定性を制御するために用いられるポリマー、例えば、セルロース誘導体または糖誘導体（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルグアー、カルボキシメチルグアー、カルボキシメチル−ヒドロキシプロピルグアー等）、キサンタンガム、スクシノグリカン（Ｒｈｏｄｉａから販売されているＲｈｅｏｚａｎ（登録商標））、ローカストビーンガムまたはカラギーナン（この清浄化組成物の合計重量の０−２％の割合）；
ヒドロトロープ剤、例えば、短鎖Ｃ_２−Ｃ_８アルコール、特に、エタノール、ジオールおよびグリコール、例えば、ジエチレングリコールまたはジプロピレングリコール、ソジウムキシレンスルホネートまたはソジウムナフタレンスルホネート（この清浄化組成物１００ｇ当たり０−１０ｇの割合）；
皮膚用の水和または保湿剤、例えば、グリセロールまたは尿素、または皮膚を保護するための薬剤、例えば、蛋白または蛋白加水分解物、植物油、例えば、大豆油、またはカチオン性ポリマー、例えば、カチオン性グアー誘導体（Ｒｈｏｄｉａから販売されているＪａｇｕａｒ Ｃ１３Ｓ（登録商標）、Ｊａｇｕａｒ Ｃ１６２（登録商標）またはＨｉｃａｒｅ １０００（登録商標））（この清浄化組成物の合計重量の０−４０％の割合）；
殺生物剤または殺菌剤、例えば、
カチオン性殺生物剤、例えば、
モノ（４級アンモニウム）塩、例えば、
ココアルキルベンジルジメチルアンモニウム、（Ｃ_１２−Ｃ_１４アルキル）ベンジルジメチルアンモニウム、ココアルキルジクロロベンジルジメチルアンモニウム、テトラデシルベンジルジメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、またはジオクチルジメチルアンモニウムクロリド、
ミリスチルトリメチルアンモニウムまたはセチルトリメチルアンモニウムブロミド、
モノ４級ヘテロ環式アミン塩、例えば、ラウリルピリジニウム、セチルピリジニウムまたは（Ｃ_１２−Ｃ_１４アルキル）ベンジルイミダゾリウムクロリド、
（脂肪アルキル）トリフェニルホスホニウム塩、例えば、ミリスチルトリフェニルホスホニウムブロミド、
ポリマー殺生物剤、例えば、
エピクロロヒドリンとジメチルアミンまたはジエチルアミン、
エピクロロヒドリンとイミダゾール、
１，３−ジクロロ−２−プロパノールとジメチルアミン、
１，３−ジクロロ−２−プロパノールと１，３−ビス（ジメチルアミノ）−２−プロパノール、
エチレンジクロリドと１，３−ビス（ジメチルアミノ）−２−プロパノール、または
ビス（２−クロロエチル）エーテルとＮ，Ｎ’−ビス（ジメチルアミノプロピル）尿素またはチオ尿素
の反応により誘導されるもの；
ビグアニジンポリマー塩酸塩、例えば、Ｖａｎｔｏｃｉｌ ＩＢ、
両性殺生物剤、例えば、Ｎ−［Ｎ’−（Ｃ_８−Ｃ_１８アルキル）−３−アミノプロピル］グリシン、Ｎ−｛Ｎ’−［Ｎ’’−（Ｃ_８−Ｃ_１８アルキル）−２−アミノエチル］−２−アミノエチル｝グリシンまたはＮ，Ｎ−ビス［Ｎ’−（Ｃ_８−Ｃ_１８アルキル）−２−アミノエチル］グリシン誘導体、例えば、（ドデシル）（アミノプロピル）グリシンまたは（ドデシル）（ジエチレンジアミン）グリシン、
アミン、例えば、Ｎ−（３−アミノプロピル）−Ｎ−ドデシル−１，３−プロパンジアミン、
ハロゲン化殺生物剤、例えば、ヨードフォアおよび次亜塩素酸塩、例えば、ソジウムジクロロイソシアヌレート、
フェノール性殺生物剤、例えば、フェノール、レゾルシノール、クレゾールまたはサリシル酸、
疎水性殺生物剤、例えば、
パラクロロメタキシレノールまたはジクロロメタキシレノール、
４−クロロ−ｍ−クレゾール、
レゾルシノールモノアセテート、
モノまたはポリアルキルもしくはアリールフェノール、クレゾールまたはレゾルシノール、例えば、ｏ−フェニルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールまたは６−（ｎ−アミル）−ｍ−クレゾール、
アルキルおよび／またはアリールクロロまたはブロモフェノール、例えば、ｏ−ベンジル−ｐ−クロロフェノール、
ハロゲン化ジフェニルエーテル、例えば、２’、４，４’−トリクロロ−２−ヒドロキシジフェニルエーテル（トリクロサン）または２，２’−ジヒドロキシ−５，５’−ジブロモジフェニルエーテル、
クロロフェネシン（ｐ−クロロフェニルグリセリルエーテル）（この清浄化組成物の合計重量の０−５％の割合）；
優れた清浄化または脱脂活性を有する溶媒、例えば、
オクチルベンゼン型のアルキルベンゼン、
沸点が低くとも１００℃であるオレフィン、例えば、α−オレフィン、好ましくは、１−デセンまたは１−ドデセン、
一般式：Ｒ１Ｏ（Ｒ２Ｏ）_ｍＨで示されるグリコールエーテル（式中、Ｒ１は炭素数３−８のアルキル基、および各Ｒ２はエチレンまたはプロピレンであり、ｍは、１−３で変化する数である）；モノプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、モノプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、モノエチレングリコールモノヘキシルエーテル、モノエチレングリコールモノブチルエーテルおよびこれらの混合物、
この分子構造中に炭素原子６−１６個を含むジオール；ジオールは、この脱脂特性に加えて、カルシウム塩（石鹸）の除去において役立ち得るので特に有利である；炭素原子８−１２個を含むジオールが好ましく、特に２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールである、
他の溶媒、例えば、松根油、オレンジテルペン、ベンジルアルコール、ｎ−ヘキサノール、炭素原子１−４個を有するフタル酸エステル、ブトキシプロパノール、Ｂｕｔｙｌ Ｃａｒｂｉｔｏｌおよび１−（２−（ｎ−ブトキシ）−１−メチルエトキシ）プロパン−２−オール（ブトキシプロポキシプロパノールまたはジプロピレングリコールモノブチルエーテルとしても知られている）、ジグリコールヘキシル（Ｈｅｘｙｌ Ｃａｒｂｉｔｏｌ）、ブチルトリグリコール、ジオール、例えば、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、およびこれらの混合物（この清浄化組成物の合計重量の０−３０％の割合）；
産業用清浄化剤、例えば、ホスフェート、カルボネートおよびシリケート等のアルカリ金属塩の溶液、例えば、ナトリウムまたはカリウム型（この清浄化組成物の合計重量の０−５０％の割合）；
清浄化効果が殆ど無い水溶性有機溶媒、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびこれらの混合物（この清浄化組成物の合計重量の０−４０％の割合）；
共溶媒、例えば、硬質表面上でのフィルムおよびマークの形成の低減に役立つのでｐＨが１１を超える、特に１１．７を超える組成物中で特に有利であるモノエタノールアミドおよび／またはβ−アミノアルカノール（これらは、清浄化組成物の重量の０．０５−５％の割合で用いることができる）；モノエタノールアミドおよび／またはβ−アミノアルカノールを含む溶媒系がＵＳ ５ １０８ ６６０に開示されている；
消泡剤；例えば、石鹸。石鹸は、脂肪酸のアルカリ金属塩、特に、炭素原子を約８−２４個、好ましくは約１０個−約２０個含む高級脂肪酸のナトリウム、カリウム、アンモニウムおよびアルカノールアンモニウム塩であり；特に、モノ、ジおよびトリエタノールアミン、ナトリウムおよびカリウム塩、またはヤシ油からおよび挽いたクルミ油から誘導される脂肪酸の混合物が挙げられる。石鹸の量は、組成物の合計重量に対して少なくとも０．００５重量％、好ましくは０．５−２重量％であり得る。泡修飾物質のさらなる例は、有機溶媒、疎水性シリカ、シリコーン油および炭化水素である；
研磨剤、例えば、シリカまたは炭酸カルシウム；
種々の添加剤、例えば、酵素、香料、着色剤、金属の腐食を抑制する薬剤、防腐剤、蛍光増白剤、乳白剤または真珠光沢剤など。

本発明の対象物を形成する組成物のｐＨまたはこの組成物の使用時のｐＨは、０．５−１４、好ましくは１−１４の範囲であり得る。

アルカリ型の組成物：家庭用では７．５以上、好ましくは８．５超（特に、８．５−１２、特に８．５−１１．５）のｐＨが、特に脂肪性汚損性物質の除去に用いられ、キッチンの清浄化に特に適している。

これらは、ミクロゲルの重量の０．００１−５％、好ましくは０．００５−２％をなし得る。

アルカリ性組成物は、通常、ミクロゲルに加えて、以下の添加剤から選択される少なくとも一つの添加剤を含む。

金属イオン封鎖剤またはスケール防止剤（組成物の重量の０−４０％、好ましくは１−４０％、より好ましくは２−３０％、特に５−２０％の範囲で用いられる）、
カチオン性殺生物剤または殺菌剤、特に、４級アンモニウム型、例えば、（Ｎ−アルキル）ベンジルジメチルアンモニウムクロリド、（Ｎ−アルキル）ジメチル（エチルベンジル）アンモニウムクロリド、Ｎ−ジデシルジメチルアンモニウムハライドおよびジ（Ｎ−アルキル）ジメチルアンモニウムクロリド（組成物の重量の０−６０％、好ましくは０−４０％、より好ましくは０−１５％、特に０−５％の範囲の量で用いられる）、
少なくとも一つの非イオン性、両性、双性イオン性またはアニオン性界面活性剤またはこれらの混合物；カチオン性界面活性剤が存在する場合、この組成物は、さらに、両性および／または非イオン性界面活性剤を含むことが好ましい（界面活性剤の合計量は、組成物の重量の０−８０％、好ましくは０−５０％、特に０−３５％の範囲であり得る）、
必要な場合、場合により組成物を希釈または溶解した後、７．５−１３の範囲の使用ｐＨを達成することを可能にする量のｐＨ調整剤；ｐＨ調整剤は、特に、モノエタノールアミンおよび／またはβ−アミノアルカノールおよび潜在的、しかし好ましい「共緩衝」アルカリ性材料（水性アンモニア、Ｃ_２−Ｃ_４アルカノールアミン、シリケート、ボレート、カルボネート、ビカルボネート、アルカリ金属ヒドロキシドおよびこれらの混合物からなる群より選択される）を含む緩衝系であり得る。好ましい共緩衝剤は、アルカリ金属ヒドロキシドである。

水０．５−９８重量％、好ましくは２５−９５重量％、特に４５−９０重量％、
この組成物の重量の０−６０％、好ましくは１−４５％、特に２−１５％をなし得る量の清浄化または脱脂有機溶媒、
この組成物の重量の０−１０％、好ましくは０．０５−１０％、特に０．０５−５％をなし得る量の共溶媒、例えば、モノエタノールアミンおよび／またはβ−アミノアルカノール、
この組成物の重量の０−２５％、好ましくは１−２０％、特に２−１５％をなし得る量の、清浄化効果が殆ど無い水溶性有機溶媒、
場合により、漂白剤、香料または他の従来の添加剤。

このアルカリ性組成物は、使用状態の配合物として、または、特に使用前に水に希釈させる乾燥または濃厚配合物の形態として提供することができる；これは、使用前に、１−１００００倍、好ましくは１−１０００倍に希釈することができる。

有利には、キッチン清浄化用の配合物は、
ミクロゲル０．００１−１重量％、
水溶性溶媒、特にイソプロパノール１−１０重量％、
清浄化または脱脂溶媒、特にブトキシプロパノール１−５重量％、
モノエタノールアミン０．１−２重量％、
少なくとも一つの非カチオン性界面活性剤、好ましくは両性または非イオン性界面活性剤０−５重量％、
殺菌特性を有する少なくとも一つのカチオン性界面活性剤（特に、（ｎ−アルキル）ジメチル（エチルベンジル）アンモニウムクロリドと（ｎ−アルキル）ジメチルベンジルアンモニウムクロリドとの混合物）０−１重量％、
（界面活性剤の合計量は１−５０重量％）、
スケール防止剤としてのジカルボン酸０−２重量％、
漂白剤０−５％、および
水７０−９８重量％
を含む。

このような配合物のｐＨは、好ましくは、７．５−１３、より好ましくは８−１２である。

ｐＨが５未満の酸性型の組成物が、特に、無機型の汚損性物質の除去に用いられる。これらは、便器の清浄化に特に適している。

これらは、ミクロゲルの重量の０．００１−５％、好ましくは０．０１−２％をなし得る。

酸性組成物は、通常、ミクロゲルに加えて、以下の成分を含む：
無機または有機酸性薬剤（組成物の重量の０．１−４０％、好ましくは０．５−２０％、より好ましくは０．５−１５％の範囲の量）
少なくとも一つの非イオン性、両性、双性イオン性またはアニオン性界面活性剤またはこれらの混合物（界面活性剤の合計量は、組成物の重量の０．５−２０％、好ましくは０．５−１０％の範囲となり得る）、
場合により、カチオン性殺生物剤または殺菌剤、特に、４級アンモニウム型、例えば、（Ｎ−アルキル）ベンジルジメチルアンモニウムクロリド、（Ｎ−アルキル）ジメチル（エチルベンジル）アンモニウムクロリド、Ｎ−ジデシルジメチルアンモニウムハライドおよびジ（Ｎ−アルキル）ジメチルアンモニウムクロリド（組成物の重量の０．０１−２％、好ましくは０．１−１％の範囲の量であり得る）、
場合により、増粘剤（組成物の重量の０．１−３％の範囲の量）、
場合により、漂白剤（組成物の重量の１−１０％の範囲の量）、
水０．５−９９重量％、好ましくは５０−９８重量％、
溶媒、例えばグリコールまたはアルコール（組成物の重量の０−１０％、好ましくは１−５％の範囲の量であり得る）、
場合により、香料、防腐剤、研磨剤または他の従来からの添加剤。

この酸性組成物は、好ましくは、使用状態の配合物の形態で提供される。

有利には、便器清浄化用の配合物は、以下の成分を含む：
ミクロゲル０．０５−５％、好ましくは０．０１−２％、
組成物の最終的ｐＨが０．５−４、好ましくは１−４となる量の酸性清浄化剤；この量は、通常、組成物の重量に対して０．１−約４０％、好ましくは０．５−約１５重量％の範囲であり；酸性剤は、特に、無機酸、例えば、燐酸、スルファミン酸、塩酸、フッ化水素酸、硫酸、硝酸またはクロム酸およびこれらの混合物、有機酸、特に、酢酸、ヒドロキシ酢酸、アジピン酸、クエン酸、蟻酸、フマル酸、グルコン酸、グルタル酸、グリコール酸、リンゴ酸、マレイン酸、乳酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸または酒石酸およびこれらの混合物、または酸塩、例えば、ソジウムビスルフェート、およびこれらの混合物であり得；好ましい量は、用いられる酸性清浄化剤の型に依存し：例えば、重量基準で、スルファミン酸の場合、０．２−１０％の間であり、塩酸の場合、１−１５％の間であり、クエン酸の場合、２−１５％の間であり、蟻酸の場合、５−１５％の間であり、燐酸の場合、２−３０％の間である、
少なくとも一つの界面活性剤、好ましくはアニオン性または非イオン性界面活性剤０．５−１０重量％、
場合により、殺菌特性を有する少なくとも一つのカチオン性界面活性剤（特に、（ｎ−アルキル）ジメチル（エチルベンジル）アンモニウムクロリドと（ｎ−アルキル）ジメチルベンジルアンモニウムクロリドとの混合物）０．１−２重量％、
場合により、ガム型の増粘剤（組成物の重量の０．１−３％の範囲の量）、特に、キサンタンガムまたはスクシノグリカン（Ｒｈｅｏｚａｎ）、
場合により、漂白剤（組成物の重量の１−１０％の範囲の量）、
場合により、防腐剤、着色剤、香料または研磨剤、および
水５０−９５重量％。

本発明の組成物の幾つかの他の特定の実施形態および適用形態を以下に明示する。

すなわち、本発明の組成物を、ガラス表面、特に窓の清浄化処理を容易にするために、用いることができる。この処理は、種々の公知の技術により行うことができる。特に、Ｋａｒｃｈｅｒ（登録商標）型の装置を用いて水のジェットを振りかけることにより窓を清浄化するための技術が挙げられる。

導入されるミクロゲルの量は、通常、清浄化組成物の使用中、場合による希釈の後に、ミクロゲルの濃度が０．００１ｇ／ｌ−２ｇ／ｌの間、好ましくは０．００５ｇ／ｌ−０．５ｇ／ｌの間となるような量である。

本発明による窓を清浄化するための組成物は、
ミクロゲル０．００１−１０重量％、好ましくは０．００５−３重量％、
少なくとも一つの非イオン性界面活性剤（たとえば、アミドオキシドまたはアルキルポリグルコシド）および／またはアニオン性界面活性剤０．００５−２０重量％、好ましくは０．５−１０重量％、および
水および／または、当分野で慣例的である種々の添加剤からなる残部
を含む。

このポリマーを含む窓用清浄化配合物は、
両性界面活性剤０−１０％、有利には０．５−５％、
アルコールのような溶媒０−３０％、有利には０．５−１５％、
水および従来の添加剤（特に香料）からなる残部
も含む。

組成物のｐＨは、６−１１の間が有利である。

本発明の組成物は、自動装置での食器の洗浄を容易にするためにも有利である。この組成物は、洗浄サイクルで用いられる洗剤（清浄化）配合物または、濯ぎ配合物であり得る。

本発明による自動食器洗浄機での食器の洗浄用の洗剤組成物は、有利には、ミクロゲルを０．０１−５重量％、好ましくは０．１−３重量％含む。

食器洗浄機用のこの洗剤組成物は、この洗剤組成物の重量の０．２−１０％、好ましくは０．５−５％の範囲であり得る量で少なくとも一つの界面活性剤、好ましくは非イオン性界面活性剤も含み、残部は、既に前述した種々の添加剤および充填剤からなる。

すなわち、これらは、さらに、
ソジウムトリポリホスフェートまたはシリケート型の少なくとも一つの洗浄力補助剤（ビルダー）を９０重量％まで、
少なくとも一つの補助的清浄化剤、好ましくはアクリル酸とメチルプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）とのコポリマーを１０重量％まで、好ましくは１−１０重量％、特に２−８重量％
漂白活性化剤と組み合わせても組み合わせなくても良い少なくとも一つの漂白剤、好ましくはパーボレートまたはパーカルボネートを３０重量％まで、および
少なくとも一つの充填剤、好ましくは、硫酸ナトリウムまたは塩化ナトリウムを５０重量％まで
含むことができる。

ｐＨは、有利には、８−１３の間である。

本発明による自動食器洗浄機での食器の濯ぎを容易にするための組成物は、ミクロゲルを組成物の合計重量に対して０．０２−１０重量％、好ましくは０．１−５重量％含むことが有利である。この組成物は、界面活性剤、好ましくは非イオン性界面活性剤を、この組成物の合計重量に対して０．１−２０重量％、好ましくは０．２−１５重量％含むこともできる。

好ましい非イオン性界面活性剤のうち、以下の型の界面活性剤が挙げられる。ポリオキシエチレン化Ｃ_６−Ｃ_１２アルキルフェノール、ポリオキシエチレン化および／またはポリオキシプロピレン化Ｃ_８−Ｃ_２２脂肪族アルコール、エチレンオキシド／プロピレンオキシドブロックコポリマー、場合により、ポリオキシエチレン化カルボキサミド等。

この組成物は、さらに、カルシウム金属イオン封鎖性有機酸、好ましくはクエン酸を、組成物の合計重量に対して０−１０重量％、好ましくは０．５−５重量％含むことができる。これらは、アクリル酸と無水マレイン酸とのコポリマーまたはアクリル酸ホモポリマー型の助剤も、この組成物の合計重量に対して０−１５重量％、好ましくは０．５−１０重量％の割合で含む。

ｐＨは４−７の間が有利である。

本発明のもう一つの対象は、手による食器の洗浄を容易にするための清浄化組成物である。

このタイプの好ましい洗剤配合物は、この組成物１００重量部当たり０．１−１０重量部のミクロゲルを含み、および、３−５０重量部、好ましくは１０−４０重量部の少なくとも一つの界面活性剤、好ましくは、アニオン性界面活性剤を含み、これは、特に、飽和のＣ_５−Ｃ_２４、好ましくはＣ_８−Ｃ_１６脂肪族アルコールの硫酸塩から選択され、場合により、エチレンオキシドの約０．５−３０、好ましくは０．５−８、特に０．５−５モルと縮合され、酸の形態または塩の形態、特に、アルカリ金属（ナトリウム）塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウム）塩等である。

好ましくは、これらは、手による食器の洗浄を容易にするための泡立性液状水性洗剤配合物である。

この配合物は、さらに、他の添加剤、特に他の界面活性剤、例えば、
非イオン性界面活性剤、例えば、アミンオキシド、アルキルグルカミド、アルキルポリグルコシド、脂肪アルコールのオキシアルキレン化誘導体、アルキルアミドもしくはアルカノールアミド、または両性もしくは双性イオン性界面活性剤、
非カチオン性殺細菌剤または殺菌剤、例えば、トリクロサン、
合成カチオン性ポリマー、
混合物の粘度および／または使用中に形成される泡の安定性を制御するためのポリマー、
ヒドロトロープ剤、
水和または保湿剤、または皮膚を保護するための薬剤、
着色剤、香料、防腐剤、２価塩（特に、マグネシウム塩）等
を含むことができる。

この組成物のｐＨは、５−９の間が有利である。

本発明のもう一つの特定の実施形態は、外面の清浄化、特に、原動機付き乗物（自動車、トラック、バス、電車、航空機等）の車体の清浄化を容易にするための組成物である。

この場合にも、組成物は、適切な清浄化組成物または濯ぎ組成物であり得る。

自動車用の清浄化組成物は、この組成物の合計重量に対して０．００５−１０重量％のミクロゲル、および、
非イオン性界面活性剤（配合物の０−３０％、好ましくは０．１−１５％の割合）、
両性および／または双性イオン性界面活性剤（配合物の０−３０％、好ましくは０．０１−１０％の割合）、
カチオン性界面活性剤（配合物の０−３０％、好ましくは０．０５−１５％の割合）、
アニオン性界面活性剤（配合物の０−３０％、好ましくは０．１−１５％の割合）、
洗浄力補助剤（ビルダー）（配合物の１−９９％、好ましくは４０−９８％の割合）、
ヒドロトロープ剤、
充填剤、ｐＨ調節剤など
を含むことが有利である。

このタイプの組成物中に存在する界面活性剤の最少量は、好ましくは、配合物の少なくとも０．５％である。

組成物のｐＨは、８−１３の間が有利である。

本発明の組成物は、セラミック型の硬質表面（タイル、バスタブ、浴室流し等）、特に浴室の清浄化を容易にすることにも特に適している。清浄化配合物は、この組成物の合計重量に対して０．０２−５重量％のミクロゲル、および少なくとも一つの界面活性剤を含むことが有利である。

界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤、特に、親水性のアルキレンオキシド基と、脂肪族またはアルキル芳香族であり得る疎水性有機化合物との縮合により生成される化合物が好ましい。

親水性鎖の、または任意の疎水性基と縮合されたポリオキシアルキレン基の長さは、所望の程度の親水性／疎水性バランス（ＨＬＢ）を有する水溶性化合物を得るように容易に調節することができる。

本発明の組成物中の非イオン性界面活性剤の量は、０−３０重量％、好ましくは０−２０重量％とし得る。

アニオン性界面活性剤は、場合により、０−３０重量％、有利には０−２０重量％の量で存在することができる。必須ではないが、両性、カチオン性または双性イオン性洗剤を添加することもできる。

このタイプの組成物中で用いられる界面活性化合物の合計量は、通常、組成物の合計重量に対して０．５−５０重量％、好ましくは１−３０重量％、特に２−２０重量％である。

この清浄化組成物は、他の微量成分、例えば、
前述のような洗浄力補助剤（ビルダー）（組成物の合計重量に対して０．１−２５重量％であり得る量）、
前述のような泡修飾物質、特に石鹸型のもの（組成物の合計重量に対して、通常、少なくとも０．００５重量％、好ましくは０．５−２重量％の量）
ｐＨ調節剤、着色剤、蛍光増白剤、汚損性物質を懸濁させる薬剤、洗剤酵素、相溶性漂白剤、ゲル形成を制御するための薬剤、凍結−解凍安定化剤、殺細菌剤、防腐剤、溶媒、殺真菌剤、防虫剤、ヒドロトロープ剤、香料および、乳白または真珠光沢剤
も含むことができる。

この組成物のｐＨは、２−１２の間が有利である。

本発明の組成物は、シャワー壁の濯ぎを容易にすることにも適している。シャワー壁を濯ぐための水性組成物は、ミクロゲルを０．０２−５％、有利には０．０５−１％含む。

本発明のシャワーを濯ぎ流すための水性組成物の他の主な活性成分は、０．５−５重量％の範囲の量で存在する少なくとも一つの界面活性剤、および場合により、０．０１−５重量％の範囲の量で存在する前述したような金属キレート剤である。

シャワーを濯ぎ流すための水性組成物は、有利には、水および、場合により、多量の少なくとも一つの低級アルコール、および少量の添加剤（約０．１−約５重量％、より有利には約０．５−約３重量％、より好ましくは約１−約２重量％）を含む。

このタイプの用途において用いることができる一部の界面活性剤が、特許ＵＳ ５ ５３６ ４５２および５ ５８７ ０２２に開示されており、この内容を、本記載において参照により組み込む。

好ましい界面活性剤は、ポリエトキシル化脂肪エステル、例えば、ポリエトキシル化ソルビタンモノオレエートおよびポリエトキシル化ヒマシ油である。このような界面活性剤の具体例は、エチレンオキシド２０モルとソルビタンモノオレエート（Ａｌｋａｍｕｌｓ ＰＳＭＯ−２０（登録商標）の名でＲｈｏｄｉａ Ｉｎｃ．から販売され、ＨＬＢが１５．０）との、およびエチレンオキシド３０または４０モルとヒマシ油（それぞれＡｌｋａｍｕｌｓ ＥＬ−６２０（登録商標）（ＨＬＢ １２．０）およびＥＬ−７１９（登録商標）（ＨＬＢ １３．６）の名でＲｈｏｄｉａ Ｉｎｃ．から販売）との縮合生成物である。エトキシル化の程度は、ＨＬＢが１３より大きい界面活性剤を得るのに充分であることが好ましい。

組成物のｐＨは、７−１１の間が有利である。

本発明の組成物は、ガラス−セラミックシートの清浄化を容易にするために用いることもできる。

有利には、本発明によるガラス−セラミックシートの清浄化のための配合物は、
ミクロゲル０．０１−５重量％、
キサンタンガムのような増粘剤０．１−５重量％、
カルシウムカルボネートまたはシリカのような研磨剤１０−６０重量％；
ブチルジグリコールのような溶媒０−７重量％、
非イオン性界面活性剤１−１０重量％、および
場合により、塩基性化剤または金属イオン封鎖剤
を含む。

組成物のｐＨは、７−１２の間が有利である。

前述のように、本発明の組成物は、産業用清浄化の分野でも、特に、反応器の清浄化を容易にするために、用いることができる。

有利には、この組成物は、
ミクロゲル０．０２−５重量％、
アルカリ金属塩（ソジウムまたはポタシウムホスフェート、カルボネート、シリケート）１−５０重量％、
界面活性剤の混合物、特にエトキシル化脂肪アルコールのような非イオン性界面活性剤とラウリルベンゼンスルホネートのようなアニオン性界面活性剤との混合物１−３０重量％、
ジイソブチルエーテルのような溶媒０−３０重量％
を含む。

このような組成物のｐＨは、通常、８−１４である。

本発明のもう一つの対象は、硬質表面を修飾および／または処理、好ましくは硬質表面を洗浄または濯ぐための、水性または水性／アルコール性媒体中に好ましくは少なくとも一つの界面活性剤を含む組成物中において、例えば表面に沈積し得る汚損性物質に対する抗沈積および／または抗付着特性をこの表面に付与することを可能にする薬剤としてミクロゲルを用いることである。

本発明のもう一つの対象は、組成物にミクロゲルを添加することにより、硬質表面を処理および／または修飾するための、場合により少なくとも一つの界面活性剤を含む組成物の特性を改良するための、好ましくは、水性または水性／アルコール性媒体中で硬質表面を洗浄または濯ぐための方法である。

本発明のもう一つの対象は、ミクロゲルおよび場合により少なくとも一つの界面活性剤を含む水性または水性／アルコール性媒体中の組成物に硬質表面を接触させることにより、硬質表面を処理および／または修飾するための、好ましくは、硬質表面の洗浄または濯ぎを容易にするための方法である。

ミクロゲルは、好ましくは、硬質表面上に沈積し得る汚損性物質に対する抗沈積および／または抗付着特性をこの硬質表面に付与することに効果的である量で、この組成物中に用いられるまたは存在する。

この組成物中に存在または用いられるミクロゲルの性質および量、並びに他の添加剤およびこの組成物の種々の適用形態は、既に先に記載している。

本発明の他の詳細または利点が、以下の非限定的実施例を考慮すると明らかとなる。

（実施例１）
ミクロゲルの調製
ミクロゲルの３種類の構造を合成した。

各々が中性親水性ポリアクリルアミドブロックおよび充填親水性ポリ（トリメチルアンモニウムメチルスルフェートのエチルアクリレート）ブロックを含む同じ化学的性質の分岐を有する１／Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲル。これらのミクロゲルは、リビング性を有する架橋コアを合成し、この上に分岐が重合されることからなる「コアファースト」法により合成した。

中性親水性ポリアクリルアミド分岐および充填親水性ポリ（トリメチルアンモニウムメチルスルフェートのエチルアクリレート）分岐を含む異なる化学的性質の分岐を有する２／Ｃ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲル。これらのスターは、リビング末端を含む分岐を合成し、次にこの上に架橋コアが重合されることからなる「アームファースト」法により合成した。

３／コアＣミクロゲル
以下に挙げる実施例において、重合反応は、予め７０℃に加熱されたオイルバスに沈められた簡単なガラス装備内で軽度にアルゴン置換して行った。遊離基発生剤として、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）（ＡＣＰ）または過硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_８）を用いた。以下の実施例で用いた架橋剤は、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド（ＭＢＡ）を用いた。例えば、以下で用いたカチオン性モノマーは、トリメチルアンモニウムメチルスルフェート（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）のエチルアクリレートであり、以下の全ての合成において、ＡＤＡＭＱＵＡＴの８０重量％水溶液を用いた。以下で用いた中性親水性モノマーはアクリルアミド（ＡＭ）であり、毒性の理由から、これは水溶液として取り扱った。

最初の生成ポリマーの転化は、サイズ排除クロマトグラフィー（ＳＥＣ）による（コ）ポリマーの分析により、残留モノマーのガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により、または高性能液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により評価した。数平均分子量Ｍ_ｎ（ｇ／モル）は、ポリエチレンオキシド相当物として表した。分子量分布は、重量平均分子量と数平均分子量との比に相当する多分散性指数（Ｉ_ｐ）（Ｉ_ｐ＝Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎ）により評価した。

これらの実施例は、エチレン性不飽和モノマーのラジカル重合から誘導された最初の生成ポリマーの数平均分子量は、主に、制御剤に対するモノマーの初期モル比により決めたことを示した。ＳＥＣクロマトグラフィーにおける２９０ｎｍでのＵＶ検出は、重合の制御された性質の特徴である、ポリマー鎖の末端における制御剤のフラグメントの存在を示した。

（略語）
ＡＡ＝アクリル酸
ＡＤＡＭＱＵＡＴ＝トリメチルアンモニウムメチルスルフェートのエチルアクリレート
ＡＭ＝アクリルアミド
ＭＢＡ＝Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド
Ｘａｎｔ＝ＥｔＯＣ（＝Ｓ）ＳＣＨ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_３型のキサンテート
ＡＣＰ＝４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）

（実施例１．１）
ＡＭ／ＭＢＡコアＣミクロゲルの調製
凝縮器を搭載した２口丸底フラスコにおいて、キサンテートＥｔＯＣ（＝Ｓ）ＳＣＨ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_３９．６４ｇ（４６．２８×１０^−３モル）を、エタノール５０ｇに加えた。反応混合物を７０℃にした。この温度において、ＡＣＰ１．９２７ｇ（６．８７×１０^−３モル）を一度に加えた。次に、ＡＭ１３．４２ｇ（１８８．７７×１０^−３モル）、ＭＢＡ４．２８ｇ（２７．７８×１０^−３モル）、脱イオン水１００．５４ｇおよびエタノール５７．３９ｇの混合物を、３時間かけて連続的に加えた。連続的添加の終了時に、２時間加熱してから、開始剤（ＡＣＰ）の最後のフラクション１．４４５ｇ（５．１５８×１０^−３モル）を一度に導入した。加熱をさらに５時間続けた。

（実施例１．２）
「コアファースト」経路によるカチオン性ジブロック分岐を有するＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルの調製 （ＡＭ／ＭＢＡコア）−（ＡＭ_５ｋ−ＡＤＡＭＱＵＡＴ_１０ｋ）
凝縮器を搭載した２口丸底フラスコにおいて、実施例１．１からの「Ｃ２」溶液２０ｇを７０℃に加熱した。この温度において、ＡＭ４０．２４ｇ（５６６．１０×１０^−３モル）（すなわち、４９重量％水溶液８２．１２ｇ）、ＡＣＰ０．２３０ｇ（０．８２２×１０^−３モル）および脱イオン水３８．８８ｇの混合物を、２時間３０分かけて加えた。反応をさらに２時間３０分続けてから、ＡＣＰ０．１１５ｇ（０．４１１×１０^−３モル）を加えた。加熱をさらに４時間続けた。

特定量の得られた溶液を、２口フラスコに反応媒体５０ｇのみを維持するように取り出し、そこに、さらに７０℃で、ＡＤＡＭＱＵＡＴ７．３８ｇ（２７．４２×１０^−３モル）（すなわち、８０重量％水溶液７．３８４ｇ）、ＡＣＰ０．１０８ｇ（０．３８５×１０^−３モル）および脱イオン水１８．８４ｇの混合物を２時間かけて加えた。加熱を、さらに５時間続けてから、ＡＣＰ０．０８６ｇ（０．３０８×１０^−３モル）を加えた。加熱をさらに４時間続けた。

（実施例１．３）
「アームファースト」経路によるカチオン性Ｍｉｋｔｏ分岐を有するＣ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲルの調製 Ｍｉｋｔｏ ＡＭ_５ｋ−Ｃ−ＡＤＡＭＱＵＡＴ_５ｋ ０３ＭＢＮ０５２
ステップＡ：Ｐ（ＡＭ）−５Ｋの合成：０３ＭＢＮ４８
凝縮器を搭載した２口丸底フラスコにおいて、キサンテートＥｔＯＣ（＝Ｓ）ＳＣＨ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_３１．４５８ｇ（７．０×１０^−３モル）を、ＡＭ５０．０ｇ（７０３．４３×１０^−３モル）（すなわち、ＡＭの３０重量％水溶液１６６．６７ｇ）に、および、エタノール３１．３５ｇと脱イオン水８．７１ｇとの混合物に加えた。次に、反応混合物を、７０℃に加熱した。この温度で、エタノール２ｍｌ中のＡＣＰ０．３９２ｇ（１．４０×１０^−３モル）を３０分かけて滴下した。７０℃で４時間加熱後、ＡＣＰ０．３９２ｇ（１．４０×１０^−３モル）を一度に加えた。次に、加熱をさらに４時間続けた。
Ｍ_ｎ＝５６３０ｇ／モル；Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎ＝１．４３

ステップＢ：Ｐ（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）−５Ｋの合成：０３ＭＢＮ０６
凝縮器を搭載した２口丸底フラスコにおいて、キサンテートＥｔＯＣ（＝Ｓ）ＳＣＨ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_３２．０８ｇ（１０．０×１０^−３モル）を、ＡＤＡＭＱＵＡＴ５０ｇ（１８５．６５×１０^−３モル）（すなわち、８０重量％水溶液６２．５０ｇ）に、および、エタノール２４．７３ｇと脱イオン水８６．４３ｇとの混合物に加えた。次に、反応混合物を、７０℃に加熱した。この温度で、アンモニウムペルオキソジスルフェート（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_８）０．４５６ｇ（２．００×１０^−３モル）を一度に加えた。７０℃で４時間加熱後、アンモニウムペルオキソジスルフェート（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_８）０．４５６ｇ（２．００×１０^−３モル）を一度に加えた。次に、加熱をさらに４時間続けた。
Ｍ_ｎ＝５４５９ｇ／モル；Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎ＝１．２８

ステップＣ：
凝縮器を搭載した２口丸底フラスコにおいて、合成粗Ｐ（ＡＭ）−５Ｋ溶液８．９２９ｇ、合成粗Ｐ（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）−５Ｋ溶液８．３３３ｇおよび脱イオン水３２．７４ｇを混合した。この混合物を、７０℃に加熱した。この温度で、ＡＭ１．３４０ｇ（１８．８４８×１０^−３モル）（すなわち、ＡＭの３０重量％水溶液４．４６５７ｇ）、ＭＢＡ（量については以下の表を参照されたい）およびＡＣＰ０．０５０ｇ（０．１７９×１０^−３モル）をエタノール（量については表１を参照されたい）中に含む混合物を２時間かけて添加した。加熱をさらに２時間続けてから、ＡＣＰ０．０５０ｇ（０．１７９×１０^−３モル）を添加した。加熱をさらに５時間続けた。

（実施例１．４）
２つの線状アクリルアミドＡＭ_５ｋおよびポリＡＤＡＭＱＵＡＴ_５ｋポリマーのブレンドの調製 ０３ＭＢＮ０４９
凝縮器を搭載した２口丸底フラスコにおいて、合成粗Ｐ（ＡＭ）−５Ｋ溶液（実施例１．４のステップＡ）８．９２９ｇ、合成粗Ｐ（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）−５Ｋ溶液（実施例１．４のステップＢ）８．３３３ｇおよび脱イオン水３２．７４ｇを混合した。この混合物を、７０℃に加熱した。この温度で、ＡＭ１．３４０ｇ（１８．８４８×１０^−３モル）（すなわち、ＡＭの３０重量％水溶液４．４６５７ｇ）、ＭＢＡ（量については以下の表を参照されたい）およびＡＣＰ０．０５０ｇ（０．１７９×１０^−３モル）をエタノール（量については表１を参照されたい）中に含む混合物を２時間かけて添加した。加熱をさらに２時間続けてから、ＡＣＰ０．０５０ｇ（０．１７９×１０^−３モル）を添加した。加熱をさらに５時間続けた。

（実施例２）
評価
２．１ モデル表面への吸着
蒸留水；
実施例１．２からのミクロゲル５０重量ｐｐｍ；
ｐＨ６（塩酸またはＮａＯＨの添加による）；および
１０^−３Ｍ ＫＣｌ
を含む組成物を調製した。

酸化シリカウエハ（表面がガラスまたはセラミック表面に類似；Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｉｎｃ．から入手；表記「１００ｍｍＳｉｌｉｃｏｎ Ｗａｆｅｒｓ，片面研磨，Ｐ−型（１００）配向，厚さ５００−５５０ミクロン，１０００（＋／−３％）ＡのＳｉＯ_２を塗布、クリーンルームで加工および包装」）への組成物のミクロゲルの吸着速度を、反射率測定法によりモニターした。これは、以下の方法により、蒸留水および１０^−３Ｍ ＫＣｌを含む参照試料を用いる比較により行った。

技術は光の反射に基づく：研究すべき吸着性支持体の薄膜で覆われたシリコンウエハ上の水／シリコン界面（７１°）でブルースター角に沿ってガラスプリズムを通してセルに貫入するＨｅ−Ｎｅレーザー（６３２．８ｎｍ）の偏光。光を反射させ、次に、２つの成分（垂直Ｉｓおよび平衡Ｉｐ）に分離し、次に、光ダイオードで回収した。吸着中に記録された量は、ΔＳ＝Ｓ−Ｓｏ（ボルト）。Ｓｏは、基材を有するセルにおいて、溶媒のみの存在下における、Ｓ＝Ｉｐ／Ｉｓの値である。測定は、「よどみ点」として知られている点において行った。この点において、分子の輸送の機構と表面へのこの配列との結合を回避するために、流れが存在しない。研究すべきポリマーの溶液の流れを、水準の相違によってのみセルに取り入れ、これは、２ｍｌ／分の程度の薄膜状とすべきである。吸着量Γを計算するために、光学モデルを用いて感度因子Ａｓを決める必要がある。この因子は、レーザーの波長、入射角、吸着材の厚さ、および溶媒および表面の屈折率に依存する。吸着量Γ（ｍｇ／ｍ^２）を、次の式によりそこから推定することができる。
Γ＝（１／Ａｓ）（ΔＳ／Ｓｏ） （Ａｓ＝０．１７１１×ｄｎ／ｄｃ＝０．１７１１×０．１７＝０．０２９）

（結果）
吸着ミクロゲルの０．９ｍｇ／ｍ^２の水準で４分後にプラトーを示す迅速吸着が観察された。

濯ぎに対する吸着の抵抗性を試験した。吸着ミクロゲルは、濯ぎに耐えた（蒸留水および１０^−３Ｍ ＫＣｌを含む溶液での濯ぎ）。

（２．２ ガラス表面の処理／修飾）
蒸留水；
実施例１．２からのミクロゲル５０重量ｐｐｍ；
ｐＨ６
を含む組成物を調製した。

水；
比較用コポリマー５０または２００ｐｐｍ：
（文献ＷＯ ０１／０５９２０に記載のようなカチオン性単位およびアクリル酸から誘導された単位を含む両性ランダム線状コポリマー）
ｐＨ８
を含む比較用組成物を調製した。

表面の処理／修飾。１０ｃｍ×１５ｃｍガラス板を使用した。これらの板を、１０％Ｄｅｃｏｎ ９０アルカリ溶液で洗った。次に、これらを水道水で濯ぎ、次に、蒸留水で濯いだ。これらを、吸収性紙（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ Ｋｉｍｔｅｃｈ ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ ｗｉｐｅｒ）で拭き、上記組成物をこの上に噴霧した。板を、再び吸収性紙で拭き、約３０分間放置して乾燥させた。

蒸留水の水滴の接触角を、この処理／修飾の前後に、ゴニオメーター（Ｒａｍｅ−Ｈａｒｔ Ｉｎｃ．ＮＲＬ Ｃ．Ａ．Ｇｏｎｉｏｍｅｔｅｒ、Ｍｏｄｅｌ Ｎｏ．１００−００−２３０）を用いて測定した。相違（初期−最終）および最終値も報告する。相違の値が大きいことは、著しい親水性化（低下した接触角）を示していた。最終値が低いことは、著しい親水性を示していた。

（実施例３）
浴室表面の清浄化
以下の組成物を調製した

組成物を用いる表面の修飾を、以下の方法で評価した。

ａ）浴室に特徴的な汚れの、セラミックタイルへの適用；
ｂ）組成物の適用、清浄化および乾燥（清浄化後の表面の外観の評価）；
ｃ）浴室に特徴的な新しい汚れの適用；および
ｄ）さらなる清浄化および乾燥（清浄化後の表面の外観の評価）；
完全な親水性化（乾燥時における液滴の痕跡が無い）および新しく改良または容易化された清浄化が、実施例３．１、３．２および３．３からの組成物について観察された（実施例３．４からの組成物と比較して）。本発明の添加剤は、特に、少量で著しい効果を得ることを可能にした。

（実施例４）
トイレ表面の清浄化
以下の水性組成物を調製した（重量％の量）：
以下の組成物を調製した。

組成物を用いる表面の修飾を、以下の方法で評価した。

ａ）黒色セラミックタイルの清浄化および乾燥（エタノールおよび脱イオン水での清浄化、次に、乾燥紙で拭き、１時間乾燥）；
ｂ）黒色セラミックタイルへの組成物の適用（ピペットを用いて３ｍｌを適用して表面全体を覆い、拭かないで、水平状態で１時間乾燥）；
ｃ）トイレに特徴的な汚れの適用（フィルム展延機を用いて、以下の汚れ２５ｇを適用）、および水平状態で１２時間乾燥；
ｄ）濯ぎ（１Ｌ／１０秒の割合で水道水を用いて可撓性管を用いて１分間濯ぐ、管の直径：０．５ｃｍ、２０サイクル往復）；
ｅ）表面の外観の評価（画像分析、採点：採点が高い程、良好である）
ｆ）トイレに特徴的な新しい汚れの適用、および乾燥；
ｇ）さらなる濯ぎ；および
ｈ）表面の外観の評価（画像分析、採点）。

汚れの組成：
プラスチックビーカー内で、以下の材料を、ｕｌｔｒａｔｕｒａｘ ｍｉｘｅｒで混合した。

結果を以下に示す。

完全な親水性化（乾燥時における液滴の痕跡が無い）および改良または容易化された清浄化が、実施例４．１および４．２からの組成物について観察された（実施例４．３からの組成物と比較して）。この効果は、少なくとも１回の濯ぎの後に、維持された。本発明の添加剤は、特に、少量で著しい効果を得ることを可能にした。

（実施例５）
キッチン表面の清浄化
以下の水性組成物を調製した。

組成物を用いる表面の修飾を、以下の方法で評価した。

ａ）組成物のセラミックタイルへの適用、および乾燥；
ｂ）キッチンに特徴的な汚れの適用、および乾燥；
ｃ）濯ぎ；および
ｄ）表面の外観の視覚的評価。

完全な親水性化（乾燥時における液滴の痕跡が無い）および改良または容易化された清浄化が、実施例５．１および５．２からの組成物について観察された（実施例５．３からの組成物と比較して）。本発明の添加剤は、特に、少量で著しい効果を得ることを可能にした。

（実施例６）
表面の修飾−液滴痕跡試験
以下の水性組成物を調製した。

液滴痕跡試験を、以下の手順に従って行った（液滴を、垂直表面を走らせ、時間の関数として、痕跡の幅を１点で観察した）。

ａ）ガラス板の処理：
１０ｃｍ×１５ｃｍガラス板を使用した。これらの板を、Ｄｅｃｏｎ ９０の１０％溶液で洗った。次に、これらを水道水で濯ぎ、次に、蒸留水で濯いだ。これらを、吸収性紙（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ Ｋｉｍｔｅｃｈ ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ ｗｉｐｅｒ）で拭き、試験すべき組成物をこの上に噴霧した。板を、再び吸収性紙で拭き、約３０分間放置して乾燥させた。

ｂ）液滴痕跡
板を垂直に配置した。蒸留水の液滴を、ピペットを用いて、ガラス板の上側部分に、一列に連続的に並べた。赤色および緑色の光によって、水フィルムの外形を可視化することができた。スライドさせることにより、液滴はその後に水のフィルムを残し、これは、基質により許容される湿潤の関数として広がり、フィルムが垂直になると水が流れ排液される。カメラで、液滴の流れを記録した。

画像処理ソフトウェアを用いて、液滴痕跡の幅を、所与の高さにおいて時間とともにモニターした。この幅は、表面の湿潤性の一般的概念を与えるものであり、この値が大きいほど、表面がより親水性である。

種々の組成物について、（数滴について平均、秒）液滴の幅（ピクセルとして）を、時間の関数として図Ｉに報告する。

本発明の組成物は、親水性および／または親水性化を示すことが分かる。本発明の添加剤は、特に、少量で著しい効果を得ることを可能にする。

（実施例７）
食器の清浄化（自動食器洗浄機）
ガラスを、試験すべきポリマーが添加された市販の生成物を用いて、食器洗浄機において洗った。

２つの欠点が視覚的に評価された。

ガラス上のスポットの存在；および
ガラス上の光沢の無い連続的フィルム（沈積）の存在。

本発明の添加剤は、特に、少量で著しい効果を得ることを可能にした。

実施例３、４、５および７は、同一のミクロゲルが、幾つかの型の組成物において、および／または、硬質表面を処理するための幾つかの異なる用途において、有利な効果を提供することができるので、特に、本発明のミクロゲルが高い調節能を有することを示している。

種々の組成物について、液滴の幅（ピクセルとして）を、時間の関数（数滴について平均、秒）として示す。

Claims (49)

1. 合成ポリマーを含む、硬質表面を処理および／または修飾するための組成物であり、
   該ポリマーは、
   コアモノマーＣから誘導される単位Ｃと架橋性モノマーＲから誘導される架橋性単位Ｒとを含む化学的に架橋されたポリマーコア、および
   場合により、該コアの周囲におけるマクロ分子分岐
   を含むミクロゲルであることを特徴とする、組成物。
2. 界面活性剤を含むことを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
3. ミクロゲルが、制御下のラジカル重合を用いるプロセスにより得ることができることを特徴とする、請求項１または２に記載の組成物。
4. ミクロゲルが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位または双性イオン性単位を含むことを特徴とする、請求項１から３の一項に記載の組成物。
5. コア単位Ｃが、
   カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｃ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｃ_Ｚ、
   アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ｃ_Ａ、または
   親水性もしくは疎水性中性単位Ｃ_Ｎ
   であることを特徴とする、請求項１から４の一項に記載の組成物。
6. 架橋性単位Ｒが、ジエチレン性不飽和モノマーＲ_{ｄｉｆｕｎｃｔ}から誘導される単位であることを特徴とする、請求項１から５の一項に記載の組成物。
7. ミクロゲルが、
   単一の重合性基を含む少なくとも一つのコアモノマーＣ、好ましくはモノエチレン性不飽和モノマー、および
   少なくとも二つの重合性基を含む少なくとも一つの架橋性モノマーＲ、好ましくは多エチレン性不飽和モノマー
   を含むモノマーブレンドの重合、好ましくは制御下のラジカル重合により得られる、コアの周囲にマクロ分子分岐を含まないコアＣであることを特徴とする、請求項１から６の一項に記載の組成物。
8. コアモノマーＣと架橋性モノマーＲとのモル比が１以上であることを特徴とする、請求項７に記載の組成物。
9. コアＣが、「前駆体」制御または転移剤を用いる制御下のラジカル重合により得られ、
   架橋性モノマーＲが、ジエチレン性不飽和モノマーＲ_{ｄｉｆｕｎｃｔ}であり、および
   理論的分岐発生係数ｒが０．２５以上であることを特徴とする、請求項７または８に記載の組成物。
10. ミクロゲルが、以下のミクロゲル：
    各分岐が同じ化学的性質であり、同じ単位を少なくとも９０モル％含む、Ｃ−分岐_Ｈｏｍｏ、
    各分岐が同じ化学的性質であり、各々が、単位Ａを含む少なくとも一つのブロックＡと単位Ｂを含む少なくとも一つのブロックＢとを含み、ブロックＢがブロックＡと異なるものである、Ｃ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}、
    各分岐が同じ化学的性質であり、各々が、単位Ａ９０モル％未満と単位Ａと異なる単位Ｂ９０モル％未満とを含み、これらがランダムにまたは勾配して分布している、Ｃ−分岐_ｒａｎｄ、および
    単位Ａを含む少なくとも一つの分岐Ａおよび単位Ａと異なる単位Ｂを含む少なくとも一つの分岐Ｂとを含み、分岐Ａと分岐Ｂとが異なる化学的性質である、Ｃ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}、
    から選択される、コアの周囲にマクロ分子分岐を含むＣ−分岐ミクロゲルであることを特徴とする、請求項１から６の一項に記載の組成物。
11. ミクロゲルが、「アームファースト」型または「コアファースト」型のプロセスにより得ることができることを特徴とする、請求項１０に記載の組成物。
12. ミクロゲルがＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルであり、
    ブロックＡが、コアに結合しているまたは少なくとも部分的にコアに含まれている親水性中間ブロックであり、および
    ブロックＢが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含み、ブロックＡに結合している周囲ブロックであることを特徴とする、請求項１０または１１に記載の組成物。
13. コアＣが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
    中間ブロックＡが、中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含み、および
    周囲ブロックＢが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含むことを特徴とする、請求項１２に記載の組成物。
14. ミクロゲルがＣ−分岐_{ｂｌｏｃｋ}ミクロゲルであり、
    ブロックＡが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ａ_Ｚを含み、コアに結合しているまたは少なくとも部分的にコアに含まれている中間ブロックであり、および
    ブロックＢが、ブロックＡに結合している親水性周囲ブロックであることを特徴とする、請求項１０または１１に記載の組成物。
15. コアが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
    中間ブロックＡが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔを含み、および
    周囲ブロックＢが、中性親水性単位Ｂ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含むことを特徴とする、請求項１４に記載の組成物。
16. ミクロゲルがＣ−分岐_{ＭＩＫＴＯ}ミクロゲルであり、
    分岐Ａが、親水性分岐であり、および
    分岐Ｂが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含むことを特徴とする、請求項１０または１１に記載の組成物。
17. コアが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
    分岐Ａが、中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含み、および
    分岐Ｂが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含むことを特徴とする、請求項１６に記載の組成物。
18. ミクロゲルがＣ−分岐_ｒａｎｄミクロゲルであり、分岐が
    アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ａ_Ａおよび／または親水性または疎水性中性単位Ａ_Ｎ、および
    カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔまたは双性イオン性単位Ｂ_Ｚを含むことを特徴とする、請求項１０または１１に記載の組成物。
19. コアが、中性で親水性の単位Ｃ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であるコア単位Ｃを含み、
    分岐が、
    アニオン性もしくは潜在的アニオン性単位Ａ_Ａ、
    カチオン性単位Ｂ_ｃａｔ、および
    潜在的カチオン性単位Ｂ_ｃａｔおよび／または親水性中性単位Ｂ_{Ｎｐｈｉｌｅ}を含むことを特徴とする、請求項１８に記載の組成物。
20. ミクロゲルが、カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔを含み、および
    該カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔまたはＢ_ｃａｔまたはＣ_ｃａｔが、以下のモノマー：
    Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルアクリルアミドまたはメタクリルアミド；
    ２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリルアミドまたはメタクリルアミド；
    ３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミドまたはメタクリルアミド；
    ４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ブチルアクリルアミドまたはメタクリルアミド；
    ２−（ジメチルアミノ）エチルアクリレート（ＡＤＡＭ）；
    ２−（ジメチルアミノ）エチルメタクリレート（ＤＭＡＭまたはＭＡＤＡＭ）；
    ３−（ジメチルアミノ）プロピルメタクリレート、２−（ｔｅｒｔ−ブチルアミノ）エチルメタクリレート；
    ２−（ジペンチルアミノ）エチルメタクリレート、
    ２−（ジエチルアミノ）エチルメタクリレート、
    ビニルピリジン；
    ビニルアミン；
    ビニルイミダゾリン；
    トリメチルアンモニウムプロピルメタクリレートクロリド；
    トリメチルアンモニウムエチルアクリルアミドクロリドもしくはブロミドまたはトリメチルアンモニウムメタクリルアミドクロリドもしくはブロミド；
    トリメチルアンモニウムブチルアクリルアミドメチルスルフェートまたはトリメチルアンモニウムメタクリルアミドメチルスルフェート；
    トリメチルアンモニウムプロピルメタクリルアミドメチルスルフェート（ＭＡＰＴＡ ＭｅＳ）；
    （３−メタクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＭＡＰＴＡＣ）；
    （３−アクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＡＰＴＡＣ）；
    （メタクリロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウムクロリドまたはメチルスルフェート；
    （アクリロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウムの塩（ＡＤＡＭＱＵＡＴ）；
    １−エチル−２−ビニルピリジニウムブロミド、クロリドまたはメチルスルフェート、１−エチル−４−ビニルピリジニウムブロミド、クロリドまたはメチルスルフェート；
    Ｎ，Ｎ−ジメチルジアリルアンモニウムクロリド（ＤＡＤＭＡＣ）；および
    ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、Ｎ−（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド（ＤＩＱＵＡＴ）
    から選択されるモノマーから誘導される単位であることを特徴とする、請求項１から１９の一項に記載の組成物。
21. ミクロゲルが、親水性または疎水性中性単位Ａ_Ｎおよび／またはＢ_Ｎおよび／またはＣ_Ｎを含み、および
    これらの単位が、以下のモノマー：
    ヒドロキシエチルアクリレートおよびメタクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド；および
    ビニルアルコール
    から選択されるモノマーから誘導される中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＢ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＣ_{Ｎｐｈｉｌｅ}であることを特徴とする、請求項１から２０の一項に記載の組成物。
22. ミクロゲルが、アニオン性または潜在的アニオン性単位Ａ_Ａおよび／またはＣ_Ａを含み、および
    これらの単位が、以下のモノマー：
    アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸または無水物、およびこれらの水溶性塩；および
    ２−スルホオキシエチルメタクリレート、ビニルベンゼンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スルホエチルアクリレートもしくはメタクリレート、スルホプロピルアクリレートもしくはメタクリレート、およびこれらの水溶性塩
    から選択されるモノマーから誘導される単位であることを特徴とする、請求項１から１２、１４、１６または１８から２１の一項に記載の組成物。
23. ミクロゲルが、
    カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位Ａ_ｃａｔおよび／またはＢ_ｃａｔおよび／またはＣ_ｃａｔ；
    中性親水性単位Ａ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＢ_{Ｎｐｈｉｌｅ}および／またはＣ_{Ｎｐｈｉｌｅ}
    を含み、および
    カチオン性もしくは潜在的カチオン性単位と中性親水性単位との重量比が１以上であることを特徴とする、請求項１から２２の一項に記載の組成物。
24. 単位Ｂと単位Ａとの重量比が１以上であることを特徴とする、請求項１０から２３の一項に記載の組成物。
25. 界面活性剤が、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、中性界面活性剤および、これらの混合物または組み合わせから選択されることを特徴とする、請求項２から２４の一項に記載の組成物。
26. ミクロゲルが、組成物の０．００１から１０重量％をなすことを特徴とする、請求項１から２５のいずれか一項に記載の組成物。
27. １つまたは複数の界面活性剤が、組成物の０．００５から６０％、好ましくは０．５から４０％をなすことを特徴とする、請求項２から２６の一項に記載の組成物。
28. キレート剤、金属イオン封鎖剤またはスケール防止剤、無機洗浄力補助剤（ビルダー）、漂白剤、充填剤、漂白触媒、ｐＨに影響を与える薬剤、混合物の粘度および／または泡の安定性を制御することができるポリマー、ヒドロトロープ剤、水和または保湿剤、殺生物剤または殺菌剤、清浄化または脱脂活性を有する溶媒、産業用洗浄剤、清浄化効果のあまりない水溶性有機溶媒、共溶媒、消泡剤、研磨剤、酵素、香料、着色剤または、金属の腐食を阻害する薬剤から選択される少なくとも一つの添加剤をさらに含むことを特徴とする、請求項１から２７のいずれか一項に記載の組成物。
29. セラミック、ガラス、金属、合成樹脂またはプラスチックからなる硬質表面を清浄化または濯ぐための、請求項１から２８のいずれか一項に記載の組成物。
30. 手でまたは機械で、浴室、キッチン、リノリウム製の床、タイルもしくはセメント、便器、窓もしくは鏡、または食器を清浄化または濯ぐための、家庭内用の、請求項１から２９のいずれか一項に記載の組成物。
31. 反応器、鋼刃、流し、タンク、食器、建物の外側もしくは内側表面、アパートを含む建物の窓、または瓶を清浄化または濯ぐための、産業用または公共施設用の、請求項１から３０のいずれか一項に記載の組成物。
32. 少なくともｐＨ７．５を示し、ミクロゲルを０．００１から５重量％、好ましくは０．００５から２重量％含むことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
33. 金属イオン封鎖剤もしくはスケール防止剤、カチオン性殺生物剤または殺菌剤、界面活性剤、ｐＨ調節剤、水、清浄化または脱脂性有機溶媒、共溶媒、清浄化効果のあまりない水溶性有機溶媒、漂白剤および香料から選択される少なくとも一つの添加剤をさらに含むことを特徴とする、請求項３２に記載の組成物。
34. キッチンの清浄化を意図しており、
    ミクロゲル０．００１から１重量％、
    水溶性溶媒、特にイソプロパノール１から１０重量％、
    清浄化または脱脂性溶媒、特にブトキシプロパノール１から５重量％、
    モノエタノールアミン０．１から２重量％、
    少なくとも一つの非カチオン性界面活性剤、好ましくは両性もしくは非イオン性界面活性剤０から５重量％、
    殺菌特性を有する少なくとも一つのカチオン性界面活性剤（特に、（ｎ−アルキル）ジメチル（エチルベンジル）アンモニウムクロリドと（ｎ−アルキル）ジメチルベンジルアンモニウムクロリドとの混合物）０から１重量％（界面活性剤の合計量は１から５０重量％）
    スケール防止剤としてのジカルボン酸０から２重量％、
    漂白剤０から５％、および
    水７０から９８重量％
    を含み、および、ｐＨが好ましくは７．５から１３、好ましくは８から１２を示すことを特徴とする、請求項３１または３２に記載の組成物。
35. ５未満のｐＨを示し、および、無機または有機酸性薬剤をミクロゲルの重量の０．００１から５％、好ましくは０．０１から２％含むことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
36. 非イオン性、両性、双性イオン性もしくはアニオン性界面活性剤またはこれらの混合物、カチオン性殺生物剤もしくは殺菌剤、増粘剤、漂白剤、水、溶媒、香料または研磨剤から選択される少なくとも一つの添加剤をさらに含むことを特徴とする、請求項３５に記載の組成物。
37. 便器の清浄化を意図しており、
    ミクロゲル０．０５から５重量％、好ましくは０．０１から２重量％、
    少なくとも一つの酸性清浄化剤０．１から約４０重量％、および好ましくは０．５から約１５重量％、
    少なくとも一つの界面活性剤、好ましくはアニオン性または非イオン性界面活性剤０．５から１０重量％、
    場合により、殺菌特性を有する少なくとも一つのカチオン性界面活性剤、好ましくは、（ｎ−アルキル）ジメチル（エチルベンジル）アンモニウムクロリドと（ｎ−アルキル）ジメチルベンジルアンモニウムクロリドとの混合物０．１から２重量％、
    場合により、少なくとも一つの増粘剤、好ましくはガム、特にキサンタンガムまたはスクシノグリカン０．１から３重量％、
    場合により、少なくとも一つの漂白剤１から１０重量％、
    場合により、防腐剤、着色剤、香料または研磨剤、および
    水５０から９５重量％
    を含み、および、０．５から４、好ましくは１から４のｐＨを示すことを特徴とする、請求項３５または３６に記載の組成物。
38. 窓の清浄化を意図しており、
    ミクロゲル０．００１から１０重量％、好ましくは０．００５から３重量％、
    少なくとも一つの非イオン性および／またはアニオン性界面活性剤０．００５から２０重量％、好ましくは０．５から１０重量％、
    少なくとも一つの両性界面活性剤０から１０重量％、好ましくは０．５から５重量％、
    水
    少なくとも一つの溶媒、好ましくはアルコール０から３０重量％、好ましくは０．５から１５重量％、
    を含み、６から１１のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
39. 自動食器洗浄機内の食器の洗浄を意図しており、
    ミクロゲル０．０１から５重量％、有利には０．１から３重量％、
    少なくとも一つの界面活性剤、好ましくは非イオン性界面活性剤０．２から１０重量％、有利には０．５から５重量％、および場合により、
    少なくとも一つの洗浄力補助剤（ビルダー）９０重量％まで、
    少なくとも一つの補助的清浄化剤、好ましくはアクリル酸とメチルプロパンスルホン酸とのコポリマー１０重量％まで、好ましくは１から１０重量％、特に２から８重量％、
    漂白活性化剤と組み合わせても組み合わせなくても良い、少なくとも一つの漂白剤、好ましくはパーボレートもしくはパーカーボネート３０重量％まで、
    少なくとも一つの充填剤、好ましくは硫酸ナトリウムまたは塩化ナトリウム５０重量％まで
    を含み、８から１３のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
40. 自動食器洗浄機内の食器の濯ぎを意図しており、
    ミクロゲル０．０２から１０重量％、好ましくは０．１から５重量％、
    少なくとも一つの界面活性剤、好ましくは非イオン性界面活性剤０．１から２０重量％、有利には０．２から１５重量％、
    少なくとも一つのカルシウム金属イオン封鎖性有機酸、好ましくはクエン酸０から１０重量％、有利には０．５から５重量％、
    少なくとも一つの補助的洗浄性薬剤、好ましくはアクリル酸と無水マレイン酸とのコポリマーおよびアクリル酸ホモポリマー０から１５重量％、有利には０．５から１０重量％
    を含み、が４から７のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
41. 手による食器の洗浄を意図しており、
    ミクロゲル０．１から１０重量％、
    少なくとも一つの界面活性剤、好ましくはアニオン性界面活性剤３から５０重量％、有利には１０から４０重量％、および場合により、
    少なくとも一つの非イオン性界面活性剤、
    少なくとも一つの非カチオン性殺細菌剤または殺菌剤、好ましくはトリクロサン、
    少なくとも一つの合成カチオン性ポリマー薬剤、
    混合物の粘度および／または泡の安定性を制御することができる少なくとも一つのポリマー、
    少なくとも一つのヒドロトロープ剤、
    少なくとも一つの水和もしくは保湿剤または皮膚を保護するための薬剤
    を含み、５から９のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１の一項に記載の組成物。
42. 原動機付き乗物の外側洗浄を意図しており、
    ミクロゲル０．００５から１０重量％、
    少なくとも一つの非イオン性界面活性剤０から３０重量％、好ましくは０．１から１５重量％、
    少なくとも一つのアニオン性界面活性剤０から３０重量％、好ましくは０．１から１５重量％、
    少なくとも一つの両性および／または双性イオン性界面活性剤０から３０重量％、好ましくは０．０１から１０重量％、
    少なくとも一つのカチオン性界面活性剤０から３０重量％、好ましくは０．０５から１５重量％（界面活性剤の最少量は少なくとも０．５重量％）、
    少なくとも一つの洗浄力補助剤（ビルダー）０から９９重量％、好ましくは４０から９８重量％、
    場合により、ヒドロトロープ剤、充填剤またはｐＨ調節剤
    を含み、８から１３のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
43. セラミック表面、特に浴室の清浄化を意図しており、
    ミクロゲル０．０２から５重量％、
    少なくとも一つの非イオン性界面活性剤０から３０重量％、好ましくは０から２０重量％、
    少なくとも一つのアニオン性界面活性剤０から３０重量％、好ましくは０から２０重量％（界面活性剤の合計量は０．５から５０重量％、好ましくは１から３０重量％、特に２から２０重量％）、
    少なくとも一つの洗浄力補助剤（ビルダー）０から２５重量％、好ましくは０．１から２５重量％、
    泡調節剤０から２重量％、好ましくは０．００５から２重量％、特に０．５から２重量％
    を含み、２から１２のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
44. シャワー壁の濯ぎを意図しており、
    ミクロゲル０．０２から５重量％、好ましくは０．０５から１重量％、
    少なくとも一つの非イオン性界面活性剤、好ましくはポリエトキシル化脂肪酸エステル０．５から５重量％、
    水、
    場合により、少なくとも一つの低級アルコール、
    場合により、少なくとも一つの金属キレート剤０．０１から５重量％
    を含み、７から１１のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
45. ガラス−セラミックシートの清浄化を意図しており、
    ミクロゲル０．０１から５重量％、
    少なくとも一つの増粘剤、好ましくはキサンタンガム０．１から１重量％、
    少なくとも一つの研磨剤、好ましくは炭酸カルシウムまたはシリカ１０から６０重量％、
    少なくとも一つの非イオン性界面活性剤１から１０重量％、
    少なくとも一つの溶媒、好ましくはブチルジグリコール０から７重量％、
    場合により、塩基性化または金属イオン封鎖剤
    を含み、７から１２のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
46. 反応器の清浄化を意図しており、
    ミクロゲル０．０２から５重量％、
    少なくとも一つのアルカリ金属塩、好ましくはリン酸、炭酸もしくはケイ酸のナトリウムまたはカリウム塩１から５０重量％、
    界面活性剤、好ましくは非イオン性およびアニオン性界面活性剤の、特にエトキシル化脂肪アルコールおよびラウリルベンゼンスルホネートの混合物１から３０重量％、
    少なくとも一つの溶媒、好ましくはジイソブチルエステル０から３０重量％
    を含み、８から１４のｐＨを示すことを特徴とする、請求項１から３１のいずれか一項に記載の組成物。
47. 硬質表面を処理および／または修飾するための、請求項群の一項に定義されるミクロゲルの使用。
48. 硬質表面の親水性化、
    硬質表面の清浄化の容易化、および／または
    硬質表面のその後の清浄化の容易化、
    のための、請求項４７に記載の使用。
49. 表面に沈積し得る汚損性物質に対して抗沈積および／または抗付着特性を提供するための、請求項４７または４８に記載の使用。

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