JP2009299565A - シリンダブロックの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】均一な溶射被膜を有するボアを備えたシリンダブロックを製造することができるシリンダブロックの製造方法を提供する。
【解決手段】シリンダブロック10を製造する方法であって、ブロック本体10aのボア24に、第1直径を有する第1部分21と、第1部分21と同心であり第1直径より大きい第2直径を有する第2部分22を形成する形状加工程と、第2部分22の内壁面22aをマスキングした状態で、第1部分21の内壁面21a上に溶射被膜50を形成する溶射被膜形成工程と、マスキング除去後の第2部分22の内壁面22aを基準にして、ボア24の中心軸を特定する中心軸特定工程と、特定した中心軸を中心に工具を回転させて、溶射被膜50を研削する溶射被膜研削工程を有している。
【選択図】図2
【解決手段】シリンダブロック10を製造する方法であって、ブロック本体10aのボア24に、第1直径を有する第1部分21と、第1部分21と同心であり第1直径より大きい第2直径を有する第2部分22を形成する形状加工程と、第2部分22の内壁面22aをマスキングした状態で、第1部分21の内壁面21a上に溶射被膜50を形成する溶射被膜形成工程と、マスキング除去後の第2部分22の内壁面22aを基準にして、ボア24の中心軸を特定する中心軸特定工程と、特定した中心軸を中心に工具を回転させて、溶射被膜50を研削する溶射被膜研削工程を有している。
【選択図】図2
Description
本発明は、エンジン等に用いられるシリンダブロックを製造する方法に関する。
シリンダブロックは、ピストンと摺動するボアを有している。ボアには、ピストンに対する耐磨耗性を向上させるために、その表面に溶射被膜が形成されている。
特許文献1には、シリンダブロックの製造方法が開示されている。この製造方法では、ブロック本体のボアの内壁面に溶射被膜を形成する(溶射被膜形成工程)。その後、ホーニングによって溶射被膜を研削する(溶射被膜研削工程)。これによって、溶射被膜の表面を平滑化し、溶射被膜の表面形状を正確な円筒形状に成形する。したがって、表面に溶射被膜が形成されているとともに、正確な円筒形状を有するボアを備えたシリンダブロックを製造することができる。
特許文献1には、シリンダブロックの製造方法が開示されている。この製造方法では、ブロック本体のボアの内壁面に溶射被膜を形成する(溶射被膜形成工程)。その後、ホーニングによって溶射被膜を研削する(溶射被膜研削工程)。これによって、溶射被膜の表面を平滑化し、溶射被膜の表面形状を正確な円筒形状に成形する。したがって、表面に溶射被膜が形成されているとともに、正確な円筒形状を有するボアを備えたシリンダブロックを製造することができる。
通常の溶射被膜研削工程では、ホーニングヘッドの複数の砥石を溶射被膜表面に押し付けることによってホーニングヘッドの位置を規定する。そして、ホーニングヘッドの回転軸にはユニバーサルジョイント等を介装しておき、ホーニングヘッドが溶射被膜の表面に倣って回転するようにする。これによって、均一な研削量で、溶射被膜の表面全体を研削する。
しかしながら、ホーニングによって溶射被膜を研削すると、研削後の溶射被膜の厚さが均一とならないという問題がある。すなわち、溶射被膜形成工程では、溶射被膜の厚さを完全に均一に形成することはできず、厚さにバラツキが生じる。このように厚さが均一でない溶射被膜を、ホーニングによって研削量が均一となるように(すなわち、溶射被膜の表面に倣って)研削すると、溶射被膜の厚さのバラツキを解消することができない。溶射被膜は、ボアの耐摩耗性を確保するために一定以上の厚さがあることが必要である。溶射被膜の厚さのバラツキを解消できないと、最も溶射被膜が薄くなる箇所で十分な耐摩耗性を確保できるように、溶射被膜全体を厚くしなければならない。このため、溶射被膜材料を無駄に多く使用することになり、また、溶射被膜形成工程に長時間を要するという問題があった。
しかしながら、ホーニングによって溶射被膜を研削すると、研削後の溶射被膜の厚さが均一とならないという問題がある。すなわち、溶射被膜形成工程では、溶射被膜の厚さを完全に均一に形成することはできず、厚さにバラツキが生じる。このように厚さが均一でない溶射被膜を、ホーニングによって研削量が均一となるように(すなわち、溶射被膜の表面に倣って)研削すると、溶射被膜の厚さのバラツキを解消することができない。溶射被膜は、ボアの耐摩耗性を確保するために一定以上の厚さがあることが必要である。溶射被膜の厚さのバラツキを解消できないと、最も溶射被膜が薄くなる箇所で十分な耐摩耗性を確保できるように、溶射被膜全体を厚くしなければならない。このため、溶射被膜材料を無駄に多く使用することになり、また、溶射被膜形成工程に長時間を要するという問題があった。
本発明は、上述した実情に鑑みて創作されたものであり、均一な溶射被膜を有するボアを備えたシリンダブロックを製造することができるシリンダブロックの製造方法を提供する。
本発明のシリンダブロックの製造方法は、形状加工工程と、溶射被膜形成工程と、中心軸特定工程と、溶射被膜研削工程を有している。形状加工工程では、ブロック本体のボアに、第1直径を有する第1部分と、第1部分と同心であり第1直径より大きい第2直径を有する第2部分を形成する。溶射被膜形成工程では、第2部分の内壁面をマスキングした状態で、第1部分の内壁面上に溶射被膜を形成する。中心軸特定工程では、マスキング除去後の第2部分の内壁面を基準にして、ボアの中心軸を特定する。溶射被膜研削工程では、特定した中心軸を中心に工具を回転させて、溶射被膜を研削する。
この製造方法では、形状加工工程を実施することによって、ボアに第1部分と第1部分より直径が大きい第2部分を形成する。第1部分と第2部分は、機械加工等により正確に同心に形成することができる。溶射被膜形成工程では、第1部分の内壁面上に溶射被膜を形成する。溶射被膜形成工程では、溶射被膜を完全に均一な厚さで形成することはできない。溶射被膜の厚さには、位置によってバラツキが生じる。また、溶射被膜形成工程は、第2部分の内壁面をマスキングした状態で行うので、第2部分の内壁面上には溶射被膜が形成されない。中心軸特定工程では、マスキング除去後の第2部分の内壁面を基準として、ボアの中心軸を特定する。第2部分には溶射被膜が形成されていないので、その中心軸を正確に特定することができる。上記のように第1部分と第2部分は同心であるので、特定した中心軸は第1部分の中心軸と一致する。溶射被膜研削工程では、特定した中心軸を中心に工具を回転させて溶射被膜を研削する。工具の回転中心は第1部分の内壁面の中心軸と一致しているので、研削後の溶射被膜の厚さは一定となる。
このように、本発明の製造方法では、ボアに溶射被膜を形成しない第2部分を形成し、その第2部分の中心軸を中心に工具を回転させて溶射被膜を研削する。したがって、溶射被膜形成工程で形成した溶射被膜の厚さにバラツキが生じている場合でも、溶射被膜研削工程で溶射被膜を均一な厚さとすることができる。
この製造方法では、形状加工工程を実施することによって、ボアに第1部分と第1部分より直径が大きい第2部分を形成する。第1部分と第2部分は、機械加工等により正確に同心に形成することができる。溶射被膜形成工程では、第1部分の内壁面上に溶射被膜を形成する。溶射被膜形成工程では、溶射被膜を完全に均一な厚さで形成することはできない。溶射被膜の厚さには、位置によってバラツキが生じる。また、溶射被膜形成工程は、第2部分の内壁面をマスキングした状態で行うので、第2部分の内壁面上には溶射被膜が形成されない。中心軸特定工程では、マスキング除去後の第2部分の内壁面を基準として、ボアの中心軸を特定する。第2部分には溶射被膜が形成されていないので、その中心軸を正確に特定することができる。上記のように第1部分と第2部分は同心であるので、特定した中心軸は第1部分の中心軸と一致する。溶射被膜研削工程では、特定した中心軸を中心に工具を回転させて溶射被膜を研削する。工具の回転中心は第1部分の内壁面の中心軸と一致しているので、研削後の溶射被膜の厚さは一定となる。
このように、本発明の製造方法では、ボアに溶射被膜を形成しない第2部分を形成し、その第2部分の中心軸を中心に工具を回転させて溶射被膜を研削する。したがって、溶射被膜形成工程で形成した溶射被膜の厚さにバラツキが生じている場合でも、溶射被膜研削工程で溶射被膜を均一な厚さとすることができる。
上述した製造方法においては、溶射被膜形成工程より前に、第2部分の内壁面をマスキングした状態で、第1部分の内壁面を粗面化する粗面化工程を実施することが好ましい。
溶射被膜形成工程の前に第1部分の内壁面を粗面化することで、溶射被膜形成工程で形成される溶射被膜を第1部分の内壁面に強固に結合させることができる。また、粗面化工程においても第2部分をマスキングすることで、第2部分の内壁面が粗面化されることが防止される。したがって、中心軸特定工程で、第2部分の中心軸を正確に特定することができる。
なお、溶射被膜形成工程では、粗面化工程で用いたマスキングをそのまま用いてもよいし、マスキングを交換してもよい。
溶射被膜形成工程の前に第1部分の内壁面を粗面化することで、溶射被膜形成工程で形成される溶射被膜を第1部分の内壁面に強固に結合させることができる。また、粗面化工程においても第2部分をマスキングすることで、第2部分の内壁面が粗面化されることが防止される。したがって、中心軸特定工程で、第2部分の中心軸を正確に特定することができる。
なお、溶射被膜形成工程では、粗面化工程で用いたマスキングをそのまま用いてもよいし、マスキングを交換してもよい。
溶射被膜形成工程で形成した溶射被膜には、その表面に微小な凸部(一般に、スパッタと呼ばれる)が形成されることがある。このような溶射被膜をホーニングヘッド等の工具で研削すると、工具(砥石)の側面とスパッタが衝突して、スパッタが塊の状態で溶射被膜表面から剥がれ落ちることがある。すると、溶射被膜表面に凹部が形成されてしまう。
したがって、上述した製造方法では、溶射被膜研削工程において、円周形状の研削面を有する工具を、前記中心軸から偏心した位置で前記中心軸と平行に自転させるとともに、前記中心軸を中心に公転させることによって、溶射被膜を研削することが好ましい。
この製造方法によれば、円周形状の切削面を有する工具が自転しながらスパッタと接触するので、スパッタと工具が接触するとスパッタが削られる。したがって、スパッタが塊の状態で溶射被膜表面から剥がれ落ちることが防止される。このため、溶射被膜の表面に凹部が形成されることが抑制される。
したがって、上述した製造方法では、溶射被膜研削工程において、円周形状の研削面を有する工具を、前記中心軸から偏心した位置で前記中心軸と平行に自転させるとともに、前記中心軸を中心に公転させることによって、溶射被膜を研削することが好ましい。
この製造方法によれば、円周形状の切削面を有する工具が自転しながらスパッタと接触するので、スパッタと工具が接触するとスパッタが削られる。したがって、スパッタが塊の状態で溶射被膜表面から剥がれ落ちることが防止される。このため、溶射被膜の表面に凹部が形成されることが抑制される。
本発明によれば、均一な厚さの溶射被膜を有するボアを備えたシリンダブロックを製造することができる。
下記に詳細に説明する実施例の構成を最初に列記する。
(特徴1)研削工程では、工具の自転方向と工具の公転方向を同一方向とする。
(特徴2)研削工程では、工具の自転速度を工具の公転速度の20倍以上とする。
(特徴1)研削工程では、工具の自転方向と工具の公転方向を同一方向とする。
(特徴2)研削工程では、工具の自転速度を工具の公転速度の20倍以上とする。
(実施例)
本発明を適用したシリンダブロックの製造方法の実施例について説明する。図1は、本実施例の製造方法により製造されるシリンダブロック10の概略構成を示す縦断面図である。図示するように、シリンダブロック10は、シリンダ20とクランクケース30を一体成形した構造を備えている。シリンダ20のボア24には、小径部21と、直径が拡大された大径部22が形成されている。大径部22は、ボア24の下端部に形成されている。シリンダブロック10を用いてエンジンを組み立てたときには、クランクケース30内に、クランクが収容される。また、ボア24の小径部21内に、ピストンが配置される。ピストンは、小径部21内を上下に往復運動する。すなわち、ボア24の小径部21が、ピストンと摺動する部分である。図示していないが、小径部21の内壁面21a(以下では、小径内壁面21aという場合がある)には、溶射被膜が形成されている。これによって、小径内壁面21aのピストンに対する耐磨耗性が向上されている。
本発明を適用したシリンダブロックの製造方法の実施例について説明する。図1は、本実施例の製造方法により製造されるシリンダブロック10の概略構成を示す縦断面図である。図示するように、シリンダブロック10は、シリンダ20とクランクケース30を一体成形した構造を備えている。シリンダ20のボア24には、小径部21と、直径が拡大された大径部22が形成されている。大径部22は、ボア24の下端部に形成されている。シリンダブロック10を用いてエンジンを組み立てたときには、クランクケース30内に、クランクが収容される。また、ボア24の小径部21内に、ピストンが配置される。ピストンは、小径部21内を上下に往復運動する。すなわち、ボア24の小径部21が、ピストンと摺動する部分である。図示していないが、小径部21の内壁面21a(以下では、小径内壁面21aという場合がある)には、溶射被膜が形成されている。これによって、小径内壁面21aのピストンに対する耐磨耗性が向上されている。
図2は、シリンダブロック10の製造工程を示すフローチャートである。
シリンダブロック10は、図3に示すブロック本体10aから製造される。なお、図3では、ブロック本体10aのボア24の縦断面を拡大して示している。ブロック本体10aは、鋳造により成形された鋳物である。ブロック本体10aには、図1に示すシリンダブロック10と同様に、シリンダ20、ボア24(小径部21及び大径部22)、及び、クランクケース30が形成されている。
シリンダブロック10は、図3に示すブロック本体10aから製造される。なお、図3では、ブロック本体10aのボア24の縦断面を拡大して示している。ブロック本体10aは、鋳造により成形された鋳物である。ブロック本体10aには、図1に示すシリンダブロック10と同様に、シリンダ20、ボア24(小径部21及び大径部22)、及び、クランクケース30が形成されている。
ステップS2では、ブロック本体10aの小径内壁面21aと大径内壁面22aを切削加工する。これによって、小径部21と大径部22が正確に円筒形に形成される。また、小径部21と大径部22が正確に同心に形成される。切削加工によれば、高精度に小径部21と大径部22を同心に形成することができる。
ステップS4では、ブロック本体10aの小径内壁面21aを粗面化する。すなわち、最初に、大径内壁面22aをマスキング治具により覆う。そして、マスキング治具を設置した状態で、小径内壁面21aに向けて高圧噴射を行う。これによって、小径内壁面21aを粗面化する。図4は、ステップS4を実施したブロック本体10aの縦断面図を示している。図4に示すように、小径内壁面21aの全体を粗面化する。なお、大径内壁面22aは、マスキング治具によって覆われているので、粗面化されない。
ステップS6では、小径内壁面21a上に、溶射被膜を形成する。すなわち、最初に、大径内壁面22aをマスキング治具で覆った状態で覆う。そして、マスキング治具を設置した状態で、小径内壁面21aに向けて溶射材料を吹き付ける。溶射処理は、溶融した溶射材料を高圧で小径内壁面21aに吹き付けることにより行う。これによって、小径内壁面21a上に溶射被膜を形成する。図5は、ステップS6を実施したブロック本体10aの縦断面図を示している。図6に示すように、小径内壁面21a上の全体に溶射被膜50を形成する。なお、大径内壁面22aはマスキング治具によって覆われているので、大径内壁面22a上には溶射被膜50は形成されない。
ステップS8では、大径内壁面22aの中心軸の位置を特定する。図6は、ステップS8の実施中におけるブロック本体10aを示している。ステップS8では、ブロック本体10aを研削装置のワーク上に固定する。そして、研削装置のタッチセンサ60により、大径部22の中心軸の位置を測定する。
図6に示すように、タッチセンサ60は、回転軸60a周りに回転可能に構成されている。タッチセンサ60は、検出棒62を有している。タッチセンサ60は、検出棒62の先端部62aの位置座標を検出する。
ステップS8では、図6に示すように、タッチセンサ60をボア24内に挿入する。なお、このときのタッチセンサ60の回転軸60aの位置座標は、研削装置内の座標系によって特定される。次に、先端部62aを大径内壁面22aに接触させた状態で、タッチセンサ60を回転させる。これによって、大径内壁面22a上の各点の位置(回転軸60aに対する相対位置)を検出する。すなわち、大径内壁面22aの断面形状を測定する。タッチセンサ60は、測定した大径内壁面22aの断面形状から、大径内壁面22aの中心軸の位置(回転軸60aに対する相対位置)を特定する。そして、上記の回転軸60aの位置座標と、特定した中心軸の相対位置から、研削装置内の座標系における大径内壁面22aの中心軸の位置座標を特定する。
上述したように、大径内壁面22aは粗面化されておらず、また、大径内壁面22a上には溶射被膜50が形成されていない。したがって、大径部22の中心軸を正確に特定することができる。また、上述したように、大径部22と小径部21は同心に形成されている。したがって、ステップS8で特定した中心軸は、小径部21の中心軸と一致する。
なお、大径部22の中心軸の位置の特定方法には、上記以外の従来公知の種々の方法を採用することができる。
図6に示すように、タッチセンサ60は、回転軸60a周りに回転可能に構成されている。タッチセンサ60は、検出棒62を有している。タッチセンサ60は、検出棒62の先端部62aの位置座標を検出する。
ステップS8では、図6に示すように、タッチセンサ60をボア24内に挿入する。なお、このときのタッチセンサ60の回転軸60aの位置座標は、研削装置内の座標系によって特定される。次に、先端部62aを大径内壁面22aに接触させた状態で、タッチセンサ60を回転させる。これによって、大径内壁面22a上の各点の位置(回転軸60aに対する相対位置)を検出する。すなわち、大径内壁面22aの断面形状を測定する。タッチセンサ60は、測定した大径内壁面22aの断面形状から、大径内壁面22aの中心軸の位置(回転軸60aに対する相対位置)を特定する。そして、上記の回転軸60aの位置座標と、特定した中心軸の相対位置から、研削装置内の座標系における大径内壁面22aの中心軸の位置座標を特定する。
上述したように、大径内壁面22aは粗面化されておらず、また、大径内壁面22a上には溶射被膜50が形成されていない。したがって、大径部22の中心軸を正確に特定することができる。また、上述したように、大径部22と小径部21は同心に形成されている。したがって、ステップS8で特定した中心軸は、小径部21の中心軸と一致する。
なお、大径部22の中心軸の位置の特定方法には、上記以外の従来公知の種々の方法を採用することができる。
ステップS10では、研削装置によって、溶射被膜50を研削する。
図7は、ステップS10の実施中におけるブロック本体10aの縦断面図を示している。また、図8は、ステップS10の実施中におけるシリンダ20の横断面図を示している。ステップS10では、図7、8に示すプラネット加工工具70の砥石76により溶射被膜50を研削する。
図7は、ステップS10の実施中におけるブロック本体10aの縦断面図を示している。また、図8は、ステップS10の実施中におけるシリンダ20の横断面図を示している。ステップS10では、図7、8に示すプラネット加工工具70の砥石76により溶射被膜50を研削する。
まず、プラネット加工工具70の構成について説明する。プラネット加工工具70は、第1回転部72と第2回転部74と砥石76を備えている。第1回転部72は、回転軸72aを中心に回転する。第2回転部74は、回転軸72aに対して偏心している回転軸74aを中心に、第1回転部72に対して相対回転する。砥石76は、第2回転部74の先端に固定されている。砥石76は、略円盤形状を備えており、その中心軸は第2回転部74の回転軸74aと一致している。また、図9は、砥石76の縦断面図を示している。図9に示すように、砥石76は、外周面(研削面)76aと上面76bの間にテーパ面76dが形成されており、外周面76aと下面76cの間にテーパ面76eが形成されている。なお、砥石76のテーパ面76d、76eは、図10に示すように、その断面形状が外周面76aと連続するR形状に形成されていてもよい。研削装置によりプラネット加工工具70を作動させると、第1回転部72と第2回転部74の双方が回転する。したがって、砥石76は、回転軸72aを中心に公転すると共に、回転軸74aを中心に自転する。図8に示すように、砥石76は、公転方向と自転方向が同一方向となるように回転される。また、砥石76の自転速度は、公転速度の20倍以上に設定されている。
ステップS10では、最初に、回転軸(公転軸)72aがステップS8で特定した小径部21の中心軸(大径部22の中心軸でもある)と一致するように、プラネット加工工具70を移動させる。すなわち、回転軸72aの位置座標を、ステップS8で特定した位置座標と一致させる。ステップS8で用いる位置座標とステップS10で用いる位置座標は共に研削装置の位置座標であるので、回転軸72aと小径部21の中心軸を正確に一致させることができる。
回転軸72aの位置を調整したら、プラネット加工工具70を作動させる(すなわち、砥石76を公転及び自転させる)。そして、プラネット加工工具70をボア24内に挿入する。これによって、図7、8に示すように、砥石76によって溶射被膜50が研削される。ステップS10では、プラネット加工工具70を、小径部21の範囲内で上下に移動させる。これによって、溶射被膜50の表面全体が研削される。このとき、プラネット加工工具70の回転軸72aが小径部21の中心軸と一致しているので、研削された溶射被膜50の表面形状の中心軸と小径部21の中心軸は一致する。すなわち、溶射被膜50の厚さが一定となる。
また、研削前の溶射被膜50の表面には、その表面から突出するスパッタ(凸部)が形成されている場合がある。図11は、研削時に、スパッタ80と砥石76が接触している状態を示している。図11に示すように、砥石76は、公転と共に自転しているため、接触したときにスパッタ80を微小に削ることができる。したがって、スパッタ80は砥石76に削られて、研削後の表面と同一面に成形される。すなわち、砥石76との衝突によりスパッタ80が塊の状態で剥がれ落ちることがない。溶射被膜50の表面に凹部(スパッタ80が剥がれ落ちた場合に生じる凹部)が生じることが抑制されている。
また、上述したように、砥石76の自転速度は、公転速度の20倍以上に設定されている。自転速度が遅いと研削後の溶射被膜50の表面にうねりが生じ易い。上記のように砥石76の自転速度が設定されていると、後述する仕上げホーニングにおいて問題ない程度までうねりを抑制することができる。
回転軸72aの位置を調整したら、プラネット加工工具70を作動させる(すなわち、砥石76を公転及び自転させる)。そして、プラネット加工工具70をボア24内に挿入する。これによって、図7、8に示すように、砥石76によって溶射被膜50が研削される。ステップS10では、プラネット加工工具70を、小径部21の範囲内で上下に移動させる。これによって、溶射被膜50の表面全体が研削される。このとき、プラネット加工工具70の回転軸72aが小径部21の中心軸と一致しているので、研削された溶射被膜50の表面形状の中心軸と小径部21の中心軸は一致する。すなわち、溶射被膜50の厚さが一定となる。
また、研削前の溶射被膜50の表面には、その表面から突出するスパッタ(凸部)が形成されている場合がある。図11は、研削時に、スパッタ80と砥石76が接触している状態を示している。図11に示すように、砥石76は、公転と共に自転しているため、接触したときにスパッタ80を微小に削ることができる。したがって、スパッタ80は砥石76に削られて、研削後の表面と同一面に成形される。すなわち、砥石76との衝突によりスパッタ80が塊の状態で剥がれ落ちることがない。溶射被膜50の表面に凹部(スパッタ80が剥がれ落ちた場合に生じる凹部)が生じることが抑制されている。
また、上述したように、砥石76の自転速度は、公転速度の20倍以上に設定されている。自転速度が遅いと研削後の溶射被膜50の表面にうねりが生じ易い。上記のように砥石76の自転速度が設定されていると、後述する仕上げホーニングにおいて問題ない程度までうねりを抑制することができる。
ステップS12では、溶射被膜50をホーニングにより研削する。これによって、溶射被膜50の表面をさらに平滑化する。ステップS12では、仕上げホーニングと、仕上げホーニングよりさらに平滑度を向上させる超仕上げホーニングの2度のホーニングを行うことによって、溶射被膜50を適切な平滑度まで平滑化する。これによって、ボア24に対する加工が完了する。その後は、その他の部分について必要な加工を行うことで、シリンダブロック10が完成する。
以上に説明したように、本実施例のシリンダブロック10の製造方法では、ボア24の大径部22を粗面化せず、大径部22に溶射被膜50を形成しない。そして、その大径部22の内壁面22aを基準として小径部21の中心軸を特定し、特定した中心軸を中心にプラネット加工工具70を回転させる。したがって、溶射被膜50の厚さを均一にすることができる。この製造方法によれば、均一な厚さの溶射被膜50が形成されたボア24を有するシリンダブロック10を製造することができる。
また、上述した製造方法では、回転軸72aを中心に公転すると共に、回転軸72aから偏心している回転軸74aを中心に自転する砥石76によって溶射被膜50を研削する。したがって、溶射被膜50の表面にスパッタ80が存在する場合にも、溶射被膜50の表面を適切に研削することができる。
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例をさまざまに変形、変更したものが含まれる。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
10:シリンダブロック
10a:ブロック本体
20:シリンダ
21:小径部
22:大径部
24:ボア
30:クランクケース
50:溶射被膜
60:タッチセンサ
70:プラネット加工工具
72a:回転軸
74a:回転軸
76:砥石
80:スパッタ
Claims (3)
- シリンダブロックを製造する方法であって、
ブロック本体のボアに、第1直径を有する第1部分と、第1部分と同心であり第1直径より大きい第2直径を有する第2部分を形成する形状加工程と、
第2部分の内壁面をマスキングした状態で、第1部分の内壁面上に溶射被膜を形成する溶射被膜形成工程と、
マスキング除去後の第2部分の内壁面を基準にして、ボアの中心軸を特定する中心軸特定工程と、
特定した中心軸を中心に工具を回転させて、溶射被膜を研削する溶射被膜研削工程、
を有していることを特徴とする製造方法。 - 溶射被膜形成工程より前に、第2部分の内壁面をマスキングした状態で、第1部分の内壁面を粗面化する粗面化工程をさらに有していることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 溶射被膜研削工程では、円周形状の研削面を有する工具を、前記中心軸から偏心した位置で前記中心軸と平行に自転させるとともに、前記中心軸を中心に公転させることによって、溶射被膜を研削することを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008154504A JP2009299565A (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | シリンダブロックの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008154504A JP2009299565A (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | シリンダブロックの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009299565A true JP2009299565A (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=41546706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008154504A Pending JP2009299565A (ja) | 2008-06-12 | 2008-06-12 | シリンダブロックの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2009299565A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6877800B1 (ja) * | 2020-10-30 | 2021-05-26 | 株式会社ニッシン | ワークの丸孔の仕上げ加工方法 |
-
2008
- 2008-06-12 JP JP2008154504A patent/JP2009299565A/ja active Pending
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