JP2009295976A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板にパターンを露光する間に、位相調整器の光学素子を横断する光波の位相を調整する位相調整器を含む。実施形態において、光学素子は、リソグラフィ装置の投影系における熱制御可能な光学素子である。使用するとき、パターンは、オフアクシス放射ビームを含む照明モードで照明される。このビームは、光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜した0次および1次回折ビームに回折される。1次回折ビームが光学素子を横断する領域が特性される。パターンの像の像特性は、0次回折ビームの光位相に関して、望ましい1次回折ビームの光位相を計算することにより最適化される。位相調整器は、望ましい光位相を1次回折ビームに適用するよう制御される。
【選択図】図2
Description
−放射ビームB(例えば、例えば248nmまたは193nmの波長で動作するエキシマレーザにより生成されたUV放射、または、例えば約13.6nmの波長で動作するレーザ発火プラズマ源により生成されたEUV放射)を調整する照明系(照明器)IL。
−パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持し、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成された第1位置決め装置PMに接続される支持構造(例えば、マスクテーブル)MT。
−基板(例えば、レジストコートされたウェハ)Wを保持するための基板テーブル(例えば、ウェハテーブル)WT。基板テーブルWTは、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成された第2位置決め装置PWに接続される。
−基板Wの目標部分C(例えば、一つまたは複数のダイからなる)に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するよう構成された投影系(例えば、屈折投影レンズ系)PS。
Claims (6)
- 照明極から出射し且つ光軸に対して傾斜したオフアクシス放射ビームを含む照明モードを備える放射ビームを調整するよう構成された照明系と、
パターニングデバイスを支持するよう構成された支持体であって、前記パターニングデバイスが、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン形成放射ビームを形成可能であり、さらに前記オフアクシス放射ビームを前記光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜した0次回折ビームおよび1次回折ビームに回折可能である、支持体と、
瞳面を有し、前記パターン形成放射ビームを基板の目標部分に投影するよう構成された投影系と、
位相調整器であって、前記瞳面に配置された該位相調整器の光学素子を横断する放射ビームの電界の位相を調整するよう構成および配置された位相調整器と、
前記パターンおよび前記照明モードを表すデータを取り込み、前記1次回折ビームが前記瞳面を横断する領域を特定し、前記0次回折ビームの光位相に関して前記1次回折ビームの望ましい光位相を計算することにより、前記パターンの像の像特性を最適化し、前記光学素子の部分に前記領域をマップし、前記望ましい光位相に従って前記光学素子の部分の屈折率を変化させるために、前記部分に熱を印加または前記部分から熱を除去するよう構成および配置された制御部と、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記照明モードは、第1および第2ビームを含む四極照明モードであり、前記第1および第2ビームはそれぞれ第1極および隣接した第2極から出射しており、両者は前記光軸に対して傾斜しており、
前記オフアクシス放射ビームは、前記第2ビームであり、
前記パターニングデバイスは、前記第1ビームを、前記光軸に対して逆向き且つ対称に傾斜した0次ビームおよび1次ビームに回折可能であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記像特性は、焦点深度であることを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスからパターンを基板に転写するステップを含むデバイス製造方法であって、
照明極から出射し且つ光軸に対して傾斜したオフアクシス放射ビームを含む照明モードを有する放射ビームでパターニングデバイスを照明するステップであって、前記パターニングデバイスが、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン形成放射ビームを形成し、さらに前記オフアクシス放射ビームを前記光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜した0次回折ビームおよび1次回折ビームに回折する、ステップと、
前記パターン形成放射ビームを瞳面を介して前記基板の目標部分に投影するステップと、
前記瞳面に配置された光学素子を横断する放射ビームの電界の位相を調整するステップであって、
前記パターンおよび前記照明モードを表すデータを取り込むステップと、
前記1次回折ビームが前記瞳面を横断する領域を特定するステップと、
前記0次回折ビームの光位相に関して、前記1次回折ビームの望ましい光位相を計算することにより、前記パターンの像の像特性を最適化するステップと、
前記光学素子の部分に前記領域をマップするステップと、
前記望ましい光位相に従って前記光学素子の部分の屈折率を変化させるために、前記部分に熱を印加または前記部分から熱を除去するステップとを備えるステップと、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。 - 前記照明モードは、第1および第2ビームを含む四極照明モードであり、前記第1および第2ビームはそれぞれ第1極および隣接した第2極から出射しており、両者は前記光軸に対して傾斜しており、
前記オフアクシス放射ビームは、前記第2ビームであり、
前記パターニングデバイスは、前記第1ビームを、前記光軸に対して逆向き且つ対称に傾斜した0次ビームおよび1次ビームに回折することを特徴とする請求項4に記載のデバイス製造方法。 - 前記像特性は、焦点深度であることを特徴とする請求項4または5に記載のデバイス製造方法。
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