JP2012004579A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板にパターンを露光する間に、位相調整器の光学素子を横断する光波の位相を調整する位相調整器を含む。実施形態において、光学素子は、リソグラフィ装置の投影系における熱制御可能な光学素子である。使用するとき、パターンは、オフアクシス放射ビームを含む照明モードで照明される。このビームは、光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜した0次および1次回折ビームに回折される。1次回折ビームが光学素子を横断する領域が特性される。パターンの像の像特性は、0次回折ビームの光位相に関して、望ましい1次回折ビームの光位相を計算することにより最適化される。位相調整器は、望ましい光位相を1次回折ビームに適用するよう制御される。
【選択図】図2
Description
−放射ビームB(例えば、例えば248nmまたは193nmの波長で動作するエキシマレーザにより生成されたUV放射、または、例えば約13.6nmの波長で動作するレーザ発火プラズマ源により生成されたEUV放射)を調整する照明系(照明器)IL。
−パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持し、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成された第1位置決め装置PMに接続される支持構造(例えば、マスクテーブル)MT。
−基板(例えば、レジストコートされたウェハ)Wを保持するための基板テーブル(例えば、ウェハテーブル)WT。基板テーブルWTは、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするよう構成された第2位置決め装置PWに接続される。
−基板Wの目標部分C(例えば、一つまたは複数のダイからなる)に、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを投影するよう構成された投影系(例えば、屈折投影レンズ系)PS。
Claims (20)
- パターン形成放射ビームを基板の目標部分に投影するよう構成された投影系であって、パターン形成放射ビームが、パターン形成放射ビームの少なくとも一部のパターンの像を形成する0次ビームおよび関連する1次ビームを有する投影系と、
位相調整器であって、該位相調整器を横断するパターン形成放射ビームの放射の光位相を調整するよう構成および配置された位相調整器と、
前記位相調整器を制御して、前記0次ビームに対する相対的な光位相の変化を前記1次ビームに選択的に与えるように構成および配置された制御部と、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 照明極から出射し且つ光軸に対して傾斜したオフアクシス放射ビームを含む照明モードを備える放射ビームを調整するよう構成された照明系を備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明モードは、第1および第2ビームを含む多極照明モードであり、第1および第2ビームはそれぞれ第1極および隣接した第2極から出射しており、両者は光軸に対してある角度をなして傾斜しており、
第2ビームは、前記0次ビームおよび関連する前記1次ビームを形成するために用いられ、
パターン形成放射ビームは、第1ビームから形成された0次ビームおよび関連する1次ビームをさらに備え、第1ビームの0次ビームおよび関連する1次ビームは、光軸に対して逆向き且つ対称に傾斜している、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、位相調整器を制御して位相調整器の光学素子に熱を印加または光学素子から熱を除去させ、光位相の変化に従ってその屈折率を変化させるよう構成されることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、パターンの像の像特性に変化をもたらすために、光位相の変化値を計算するよう構成されることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記像特性は、焦点深度であることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 使用の際、前記0次ビームおよび関連する前記1次ビームは、パターン形成放射ビームの光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜していることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスを支持するよう構成された支持体であって、前記パターニングデバイスが、放射ビームの断面にパターンを付与して0次ビームおよび関連する1次ビームを有するパターン形成放射ビームを形成するよう構成されており、前記1次ビームが、放射ビーム光軸に対して前記0次ビームとは異なる角度をなして傾斜している、支持体と、
パターン形成放射ビームを基板の目標部分に投影するよう構成された投影系と、
位相調整器であって、該位相調整器の光学素子を横断する放射の光位相を調整するよう構成および配置された位相調整器と、
使用の際に前記1次ビームが横断する光学素子の領域を特定し、前記0次ビームに対する相対的な光位相の変化を前記1次ビームに与えるために該領域の光学素子の特性を変化させるよう構成および配置された制御部と、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 照明極から出射し且つ光軸に対してある角度をなして傾斜したオフアクシス放射ビームを含む照明モードを備える放射ビームを調整するよう構成された照明系を備えることを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照明モードは、第1および第2ビームを含む多極照明モードであり、第1および第2ビームはそれぞれ第1極および隣接した第2極から出射しており、両者は光軸に対してある角度をなして傾斜しており、
第2ビームは、前記0次ビームおよび関連する前記1次ビームを形成するために用いられ、
パターン形成放射ビームは、第1ビームから形成された0次ビームおよび関連する1次ビームをさらに備え、第1ビームの0次ビームおよび関連する1次ビームは、光軸に対して逆向き且つ対称に傾斜している、ことを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。 - 前記光学素子の特性は、光学素子の屈折率であり、前記制御部は、前記位相調整器を制御して前記光学素子に熱を印加または前記光学素子から熱を除去させ、光位相の変化に従って前記光学素子の前記領域の屈折率を変化させるよう構成されることを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、パターンの像の像特性に変化をもたらすために、光位相の変化値を計算するよう構成されることを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記像特性は、焦点深度であることを特徴とする請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- パターニングデバイスからパターンを基板に転写するステップを含むデバイス製造方法であって、
パターン形成放射ビームを基板の目標部分に投影するステップであって、パターン形成放射ビームが、パターン形成放射ビームの少なくとも一部のパターンの像を形成する0次ビームおよび関連する1次ビームを有するステップと、
位相調整器を用いてパターン形成放射ビームの放射の光位相を調整するステップであって、前記0次ビームに対する相対的な光位相の変化を前記位相調整器を横断する前記1次ビームに選択的に与えるよう前記位相調整器を制御するステップを備えるステップと、
を備えることを特徴とするデバイス製造方法。 - 照明極から出射し且つ光軸に対して傾斜したオフアクシス放射ビームを含む照明モードを備える放射ビームを提供するステップを備えることを特徴とする請求項14に記載のデバイス製造方法。
- 前記照明モードは、第1および第2ビームを含む多極照明モードであり、第1および第2ビームはそれぞれ第1極および隣接した第2極から出射しており、両者は光軸に対してある角度をなして傾斜しており、
第2ビームは、前記0次ビームおよび関連する前記1次ビームを形成するために用いられ、
パターン形成放射ビームは、第1ビームから形成された0次ビームおよび関連する1次ビームをさらに備え、第1ビームの0次ビームおよび関連する1次ビームは、光軸に対して逆向き且つ対称に傾斜している、ことを特徴とする請求項15に記載のデバイス製造方法。 - 放射の光位相を調整するステップは、位相調整器を制御して位相調整器の光学素子に熱を印加または光学素子から熱を除去させ、光位相の変化に従ってその屈折率を変化させるステップを備えることを特徴とする請求項14に記載のデバイス製造方法。
- パターンの像の像特性に変化をもたらすために、光位相の変化値を計算するステップを備えることを特徴とする請求項14に記載のデバイス製造方法。
- 前記像特性は、焦点深度であることを特徴とする請求項18に記載のデバイス製造方法。
- 前記0次ビームおよび関連する前記1次ビームは、パターン形成放射ビームの光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜していることを特徴とする請求項14に記載のデバイス製造方法。
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