JP2009290190A - 有機光電変換膜、これを備える光電変換素子およびイメージセンサー - Google Patents

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Abstract

【課題】カラーフィルタ、マイクロレンズ、フォトダイオードを使用しない新規な構造の有機光電変換膜、これを備える光電変換素子およびイメージセンサーを提供する。
【解決手段】本発明は、有機物からなるp型物質層と、p型物質層上に形成された、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)からなるn型物質層と、を備える有機光電変換膜である。
【選択図】図2

Description

本発明は、有機光電変換膜、これを備える光電変換素子およびイメージセンサーに関する。
一般に、光電変換素子とは、光電効果を利用して光を電気信号に変換する素子を称する。光電変換素子は、自動車用センサーや家庭用センサーのような各種光センサー、太陽電池に広く活用されており、特に、CMOS(Complementary Metal−Oxide Semiconductor)イメージセンサー用として広く利用されている。
従来、光電変化素子には、無機物からなる光電変換膜(以下、無機光電変換膜と称する)が主に使われていた。しかし、無機光電変換膜は、光の波長による選択性が低い。したがって、無機光電変換膜を利用したCMOSイメージセンサーは、入射光をそれぞれ赤色光、緑色光および青色光に分解するカラーフィルタを必要とする。しかし、これらのカラーフィルタの使用はモアレ欠陥を誘発する。モアレ欠陥の誘発が起こらないようにするために使われる光学フィルタは、解像力低下の原因となりうる。したがって、最近は、有機物を利用した光電変換膜を製造する研究が進められている。
一方、従来のCMOSイメージセンサー用光電変換素子には、カラーフィルタ、マイクロレンズおよびフォトダイオードが使われたが、カラーフィルタは、モアレ欠陥を誘発し、マイクロレンズは、フォトダイオードに達する光量を減少させるという短所があった。したがって、これらの問題点を解決するために、カラーフィルタ、マイクロレンズおよびフォトダイオードを使用しない新たな構造のCMOSイメージセンサー用光電変換素子の開発が期待されている。
図1には、従来のCMOSイメージセンサー用光電変換素子の断面が概略的に示されている。図1を参照すると、従来の光電変換素子は、第1電極10と第2電極20との間に、光導電層のp型物質層12、n型物質層14およびバッファ層16がこの順番で順次積層された構造を有している。ここで、前記n型物質層14は、可視光に対して透明な有機物質であるAlqからなっており、前記バッファ層16は、n型物質層14と第2電極20との間の電気的な短絡を防止するために設けた層であって、ナフタレンテトラカルボン酸無水物(NTCDA)からなっている。
上記のような関連する従来技術文献としては、以下が挙げられる。
特開2007−200921号公報 米国特許第7061011号明細書 米国特許第5315129号明細書
本発明は、上記従来技術の問題点を解決し、カラーフィルタ、マイクロレンズおよびフォトダイオードを使用しない新たな構造の光電変換素子およびイメージセンサーを提供すること、それら光電変換素子およびイメージセンサーに好適な、n型物質層が改善された新たな有機光電変換膜を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、有機物からなるp型物質層と、前記p型物質層上に形成された、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)からなるn型物質層と、を備える有機光電変換膜が提供される。
前記有機光電変換膜は、p型物質層とn型物質層との間に、p型物質層をなす有機物とn型物質層をなすNTCDAとの共蒸着層をさらに備えていてもよい。
p型物質層に含まれる有機物は、フタロシアニン、フタロシアニン誘導体、トリアリールアミン誘導体、ベンジジン誘導体、ピラゾリン誘導体、スチリルアミン誘導体、ヒドラジン誘導体、カルバゾール誘導体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フェナントレン誘導体、テトラセン誘導体、ペリレン誘導体およびナフタレン誘導体からなる群から選択された少なくとも一種でありうる。
本発明の他の態様によれば、相互に離隔されて設けられる第1および第2電極と、前記第1電極と第2電極との間に形成される上記の有機光電変換膜と、を備える光電変換素子が提供される。
第1電極とp型物質層との間、および第2電極とn型物質層との間のうち少なくとも一方は、バッファ層を備えていてもよい。
第1電極は、ITO、IZO、ZnOまたはSnOを含む透明導電性物質で形成されることが好ましい。そして、第2電極は、透明導電性物質またはAl、Cu、Ti、Au、Pt、AgまたはCrを含む金属の薄膜で形成されることが好ましい。
本発明のさらに他の態様によれば、複数の上記光電変換素子を備えるイメージセンサーが提供される。
前記複数の光電変換素子は、垂直方向に配列されうる。
本発明の光電変換膜は、n型物質としてNTCDAを使用することによって、後述するように、光電流の量子効率が向上されうる。本発明の光電変換素子は、自動車用センサーや家庭用センサーのような各種光センサーおよび太陽電池に広く活用することができ、特に、CMOSイメージセンサー用として好適である。CMOSイメージセンサーに本発明による複数の光電変換素子を採用することによって、さらに高画質を実現しうる。
以下、添付された図面を参照して、本発明による望ましい実施形態を詳細に説明する。図面中で同一の参照符号は、同一の構成要素を表し、各構成要素のサイズや厚さは、説明を分かりやすくするために誇張されている。また、一層が他の層上に形成される、と説明したときには、その層は他の層に直接接して形成されてもよく、他の層との間に第3の層が形成されてもよいことを意味している。
図2は、本発明の実施形態による光電変換素子の断面図である。 図2に示すように、本発明の実施形態による光電変換素子は、所定の間隔で離隔されて設けられる第1電極110および第2電極120と、第1電極110と第2電極120との間に形成される有機光電変換膜と、を備える。
第1電極110はアノード電極となりうる。第1電極110は、ガラスまたはプラスチックからなる透明な基板(図示せず)上に形成される。第1電極110は透明導電性物質からなりうる。ここで、透明導電性物質は、ITO、IZO、ZnOまたはSnOでありうる。しかしながら、これらに限定されるものではない。第1電極の厚さとしては、好ましくは10〜500nmである。
第2電極120はカソード電極となりうる。第2電極120は、前述した第1電極材料と同様の透明導電性物質または金属の薄膜で形成される。第2電極120が金属からなる場合には、第2電極120は、約15〜20nmの厚さに形成される。第2電極を構成する金属は、Al、Cu、Ti、Au、Pt、AgまたはCrでありうる。しかし、これらに限定されるものではない。
第1電極110と第2電極120との間には、有機光電変換膜が形成されている。有機光電変換膜は、光電効果を利用して光を電気的な信号に変換する役割を担う。有機光電変換膜は、第1電極110上に形成されるp型物質層112とこのp型物質層112上に形成されるn型物質層114とを備える。
本発明では、n型物質層114は、透明な有機物である1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)からなる。NTCDAは下記式で表わされる。
NTCDAは、n型物質であると同時に、電荷を発生させ、電荷を輸送する役割を担う。上記のように、従来NTCDAはバッファ層に使用されてきたが、本発明者らはn型物質層にNTCDAを用いることを独自に着想した。n型物質層の好ましい厚さとしては、5〜1000nmであり、より好ましくは50〜500nmである。
p型物質層112に含まれる有機物としては、光吸収波長の範囲が広いことから、フタロシアニンが特に好ましい。フタロシアニンは、下記式で表わされ、可視光のうち、約550〜700nmの波長を有する光を吸収できる物質である。
p型物質層112中に含まれる有機物は、前述したフタロシアニン以外にも、吸収する波長によって、フタロシアニン誘導体、トリアリールアミン誘導体、ベンジジン誘導体、ピラゾリン誘導体、スチリルアミン誘導体、ヒドラジン誘導体、カルバゾール誘導体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フェナントレン誘導体、テトラセン誘導体、ペリレン誘導体およびナフタレン誘導体からなる群から選ばれた一種が好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。しかしながら、これらに限定されるものではなく、それ以外に、他の多様な物質で形成されうる。p型物質層の好ましい厚さとしては、5〜1000nmであり、より好ましくは50〜500nmである。
一方、第1電極110とp型物質層112との間、および第2電極120とn型物質層114との間のうち少なくとも一方には、バッファ層(図示せず)がさらに形成されることもある。ここで、バッファ層は、電荷をさらに容易に輸送可能にするための層であって、有機発光素子(OLED:Organic Light Emitting Diodes)で一般的に使われる電荷輸送物質で形成される。電荷輸送物質としては、アリール化合物が挙げられ、例えば、ヒドラゾン化合物、トリフェニルアミン化合物、スチルベン化合物、ブタジエン化合物、ジフェノキノン化合物等が例示される。
以上の本発明による光電変換素子では、n型物質としてNTCDAを使用することによって、後述するように、光電流の量子効率が向上されうる。
図3は、本発明の他の実施形態による光電変換素子の断面を示す図面である。以下では、前述した実施形態とは異なる点を中心に説明する。
図3を参照すれば、本発明の他の実施形態による光電変換素子は、相互に所定の間隔で離隔されて設けられる第1電極110および第2電極120と、第1電極110と第2電極120との間に設けられる有機光電変換膜と、を備える。ここで、有機光電変換膜は、第1電極110上に順次に形成されるp型物質層112、共蒸着層113およびn型物質層114を備える。ここで、前述したように、n型物質層114は、NTCDAからなり、p型物質層112は、所定の有機物からなる。そして、本実施形態で、共蒸着層113は、前述したn型物質(NTCDA)とp型物質とを第1電極110上に共蒸着することによって形成される。また、前述したように、第1電極110とp型物質層112との間、および第2電極120とn型物質層114との間のうち少なくとも一方には、バッファ層がさらに形成される。
本発明では、共蒸着層を設けることにより、光電流の量子効率は一層向上する。その理由としては、共蒸着層において励起子(エキシトン)が分離し、キャリアである空孔と電子が形成されることによると考えられる。共蒸着層を設けることによって、既存のp−n接合に比べてp−n接合界面が増加し、相対的に励起子が分離するサイトが増加するためである。共蒸着層の厚さとしては、5〜500nmが好ましい。また、共蒸着層はp型物質とn型物質を同時に蒸着するが、その比率は個々の場合によって適宜調整され得る。好ましくは、共蒸着層中におけるNTDCAと有機物との組成比は1:1である。
本発明は、上記の光電変換膜を備える光電変換素子を複数使用した、CMOSイメージセンサーをも提供する。CMOSイメージセンサーを構成する複数の光電変換素子が基板に対して(すなわち、基板の上下に)積層される。そして、前記光電変換素子のそれぞれには、所定波長範囲の光を吸収できるp型物質が使われる。例えば、p型物質として、フタロシアニン(吸収波長領域が約550〜700nm)を使用する光電変換素子が、他の光電変換素子より下部に位置すれば、赤色光を吸収するピクセルとして使われる。このように、本発明の実施形態による複数の光電変換素子が垂直に配列されてCMOSイメージセンサーが製作されれば、従来のCMOSイメージセンサーより高い解像度の画質を実現しうる。
本発明の有機光電変換膜を構成する、n型物質層、p型物質層およびバッファ層のそれぞれは、従来公知の薄膜形成技術によって製造することができる。例えば、スパッタ法、真空蒸着法、気相成長法等である。共蒸着層は、従来公知の真空蒸着法によって形成でき、例えば、真空蒸着法、電子ビーム蒸着法等を用いることができる。
より具体的には、共蒸着層を備える光電変換素子は、一製造例として、以下のように製造できる。まず、第1電極としてITO電極が形成されたガラス基板を水および超音波を利用して洗浄し、メタノールおよびアセトンを利用してさらに洗浄する。その後、その表面を酸素プラズマ処理する。次いで、熱蒸発器を利用して、1×10−5Torr(約133.3Pa)の圧力で、有機物の薄膜については蒸着速度1Å/秒(0.1nm/秒)で、金属の薄膜については蒸着速度2Å/秒(0.1nm/秒)で、n型物質層、p型物質層、第2電極層、必要に応じてバッファ層および共蒸着層を積層する順に蒸着する。ここに記載した製造条件は一例であり、異なる条件を適用してもよい。
図4A〜図4Cは、光の波長変化に対応した量子効率を測定するために製造した光電変化素子を示す図面である。ここで、図4Bおよび図4Cは、本発明による光電変換素子の一例を示す。図5は、図4Aないし図4Cに示された光電変換素子の光の波長変化に対応した光電流量子効率を示すグラフである。
具体的には、図4Aに示された光電変換素子は、第1電極110(ITO電極)と第2電極120(Ag電極)との間にフタロシアニンからなるp型物質層112のみが形成された構造を有している。図4Bに示された光電変換素子は、第1電極110(ITO電極)と第2電極120(Ag電極)との間にフタロシアニンからなるp型物質層112と、NTCDAからなるn型物質層114とが順次に積層された構造を有している。図4Cに示された光電変換素子は、第1電極110(ITO電極)と第2電極120(Ag電極)との間にフタロシアニンからなるp型物質層112、フタロシアニンとNTCDAとからなる共蒸着層113およびNTCDAからなるn型物質層114が順次に積層された構造を有している。
図4A〜図4Cに示す光電変換素子は、上記の方法によって、1×10−5Torr(約133.3Pa)の圧力下で、有機物の薄膜は蒸着速度2Å/秒(0.1nm/秒)、金属の薄膜は蒸着速度5Å/秒(0.1nm/秒)で積層し、製造した。n型物質としては、NTCDAを使用し、p型物質としては、フタロシアニンを使用した。図4A〜図4Cの光電変換素子の構成は以下の通りであった。
図4A: ITO/フタロシアニン(厚さ600nm)/Ag(厚さ20nm)
図4B: ITO/フタロシアニン(厚さ100nm)/NTCDA(厚さ300nm)/Ag(厚さ20nm)
図4C: ITO/フタロシアニン/フタロシアニンとNTCDAとの共蒸着層(組成比 1:1、厚さ100nm)/NTCDA(厚さ160nm)/Ag(厚さ20nm)
光電変換素子の電気的特性を測定するために、単色光を第1電極110側(図4Aおよび図4Cの場合)または第2電極120側(図4Bの場合)で照射した状態で、光電変換素子に正バイアス電圧または逆バイアス電圧を印加した。
図5は、1Vのバイアス電圧が印加されたとき、光の波長に対応した光電流量子効率を、図4A〜図4Cに示された光電変換素子のそれぞれの場合について示したグラフである。
図5を参照すると、図4Aに示す第1電極110と第2電極120との間にフタロシアニンからなるp型物質層112のみが形成された光電変換素子では、電流がほとんど流れていないということが分かる。図4Bに示す、第1電極110と第2電極120との間にフタロシアニンからなるp型物質層112とNTCDAからなるn型物質層114とが形成された光電変換素子は、フタロシアニンが吸収する光の波長領域で良好に電流が流れることが分かる。また、図4Cに示す、第1電極110と第2電極120との間にフタロシアニンからなるp型物質層112、フタロシアニンとNTCDAとからなる共蒸着層113およびNTCDAからなるn型物質層114が形成された光電変換素子では、量子効率がさらに向上することが分かる。
以上のような結果を通じて、n型物質としてNTCDAを使用すれば、量子効率が向上した光電変換素子を実現できるということが分かる。一方、図4Bの場合には、図4Aおよび図4Cとは異なり、光(単色光)を第2電極120側から照射したが、NTCDAが透明な有機物であるため、第1電極110側から光を照射した場合とその結果は同様である。
以上、本発明による望ましい実施形態を説明したが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形および均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲によって決定されなければならない。
本発明は、撮像関連の技術分野に適用可能である。
従来のCMOSイメージセンサー用光電変換素子の断面図である。 本発明の実施形態による光電変換素子の断面図である。 本発明の他の実施形態による光電変換素子の断面図である。 光の波長変化に対応した光電流の量子効率を測定するために製造した光電変換素子を示す図面である。 光の波長変化に対応した光電流の量子効率を測定するために製造した別の光電変換素子を示す図面である。 光の波長変化に対応した光電流の量子効率を測定するために製造したさらに別の光電変換素子を示す図面である。 図4A〜図4Cに示した光電変換素子の光の波長変化に対応する光電流の量子効率を示すグラフである。
符号の説明
10、110 第1電極、
12、112 p型物質層、
14、 バッファ層、
16、114 n型物質層、
20、120 第2電極、
113 共蒸着層。

Claims (11)

  1. 有機物からなるp型物質層と、
    前記p型物質層上に形成された、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物(NTCDA)からなるn型物質層と、を備えることを特徴とする有機光電変換膜。
  2. 前記p型物質層とn型物質層との間には、前記p型物質層をなす有機物と前記n型物質層をなすNTCDAとの共蒸着層がさらに形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機光電変換膜。
  3. 前記p型物質層中の有機物は、フタロシアニン、フタロシアニン誘導体、トリアリールアミン誘導体、ベンジジン誘導体、ピラゾリン誘導体、スチリルアミン誘導体、ヒドラジン誘導体、カルバゾール誘導体、チオフェン誘導体、ピロール誘導体、フェナントレン誘導体、テトラセン誘導体、ペリレン誘導体およびナフタレン誘導体からなる群から選択された少なくとも一種であることを特徴とする請求項1または2に記載の有機光電変換膜。
  4. 相互に離隔されて設けられる第1および第2電極と、
    前記第1電極と第2電極との間に形成された請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機光電変換膜と、を備えることを特徴とする光電変換素子。
  5. 前記第1電極と前記p型物質層との間、および前記第2電極と前記n型物質層との間のうち少なくとも一方に、バッファ層が形成されることを特徴とする請求項4に記載の光電変換素子。
  6. 前記第1電極は、透明導電性物質からなることを特徴とする請求項4または5に記載の光電変換素子。
  7. 前記透明導電性物質は、ITO、IZO、ZnOまたはSnOであることを特徴とする請求項6に記載の光電変換素子。
  8. 前記第2電極は、透明導電性物質または金属の薄膜からなることを特徴とする請求項4または5に記載の光電変換素子。
  9. 前記金属は、Al、Cu、Ti、Au、Pt、AgまたはCrであることを特徴とする請求項8に記載の光電変換素子。
  10. 請求項4〜9のいずれか一項に記載の光電変換素子を複数備えることを特徴とするイメージセンサー。
  11. 前記複数の光電変換素子は、垂直方向に配列されることを特徴とする請求項10に記載のイメージセンサー。
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