JP2009283668A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】微細なバイアホールを高精度に形成することが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】このプリント配線板1の製造方法は、コア配線板10の両面上に、絶縁樹脂層2を設ける工程と、絶縁樹脂層2の表面上の所定領域にメッキレジスト層30を設ける工程と、絶縁樹脂層2の表面上のメッキレジスト層30が設けられた領域を除く領域に、メッキ法により、銅メッキ層4aを設ける工程と、銅メッキ層4aをマスクとしてレーザ加工を行うことにより、導体回路パターン12の一部を露出させることによって、バイアホール20を形成する工程とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】このプリント配線板1の製造方法は、コア配線板10の両面上に、絶縁樹脂層2を設ける工程と、絶縁樹脂層2の表面上の所定領域にメッキレジスト層30を設ける工程と、絶縁樹脂層2の表面上のメッキレジスト層30が設けられた領域を除く領域に、メッキ法により、銅メッキ層4aを設ける工程と、銅メッキ層4aをマスクとしてレーザ加工を行うことにより、導体回路パターン12の一部を露出させることによって、バイアホール20を形成する工程とを備える。
【選択図】図1
Description
この発明は、プリント配線板の製造方法に関し、特に、レーザ加工によりバイアホールを形成するプリント配線板の製造方法に関する。
従来、レーザ加工によりバイアホールを形成するプリント配線板の製造方法が知られている。
図10は、従来の一例によるバイアホールが形成されたプリント配線板の構造を示した断面図である。図11は、図10に示した従来の一例によるプリント配線板のコア配線板の構造を示した断面図である。図12〜図16は、図10に示した従来の一例によるプリント配線板の製造方法を説明するための断面図である。
従来の一例によるプリント配線板101は、図10に示すように、絶縁層111の両面上(上面上および下面上)に導体回路パターン112が設けられたコア配線板110と、コア配線板110の両面上に設けられた絶縁樹脂層102と、絶縁樹脂層102の表面上に形成された導体回路パターン103とによって、構成されている。
コア配線板110の絶縁層111は、絶縁性の樹脂などからなる。また、導体回路パターン112は、銅箔などからなる。
また、絶縁層111には、図11に示すように、スルーホール111aが形成されている。このスルーホール111aにより、絶縁層111の上面上の導体回路パターン112と、絶縁層111の下面上の導体回路パターン112とが電気的に接続されている。また、スルーホール111aにおける導体回路パターン112の内部には、導体や誘電体などからなる充填材113が充填されている。
導体回路パターン103は、図10に示すように、絶縁樹脂層102の表面上(上面上および下面上)に形成された銅箔からなる銅箔パターン104と、銅箔パターン104の表面上に形成されたメッキパターン105とによって構成されている。
プリント配線板101の所定領域には、バイアホール120が形成されており、メッキパターン105は、バイアホール120の内面を覆うように形成されている。これにより、絶縁樹脂層102の外側に形成された銅箔パターン104(導体回路パターン103)と、絶縁樹脂層102の内側に形成された導体回路パターン112とが電気的に接続されている。
次に、従来の一例によるプリント配線板101の製造方法を説明する。まず、図11に示すように、絶縁層111の両面上に導体回路パターン112が設けられたコア配線板110を準備する。
そして、図12に示すように、コア配線板110の両面上に、絶縁樹脂層102を介して銅箔104aを積層接着する。
その後、銅箔104aの表面上の所定領域(銅箔104aのバイアホール120となる領域を除く領域上)に、レジスト層130(図13参照)を形成する。そして、レジスト層130(図13参照)をマスクとして銅箔104aの一部(銅箔104aのバイアホール120となる領域)をエッチングする。これにより、図13に示すように、銅箔104aに開口部104bが形成される。その後、レジスト層130を除去する。
次に、銅箔104aをマスクとしてレーザ加工を行うことにより、図14に示すように、導体回路パターン112の一部が露出するまで、銅箔104aの開口部104bの内側の絶縁樹脂層102を除去する。これにより、プリント配線板101に、バイアホール120が形成される。このようなバイアホールの形成方法は、コンフォーマル法と呼ばれており、例えば、特許文献1および特許文献2に開示されている。
そして、パネルメッキを行うことにより、図15に示すように、銅箔104aの表面上(上面上および下面上)に、メッキ層105aを形成する。このとき、バイアホール120の内面上にも、メッキ層105aが形成される。なお、パネルメッキとは、無電解メッキ、電解メッキ、または、その両方を用いて、プリント配線板の全面に、一定の厚みのメッキ層を形成することである。
その後、メッキ層105aの表面上の所定領域にレジスト層(図示せず)を形成し、レジスト層(図示せず)をマスクとしてメッキ層105aおよび銅箔104aの一部をエッチングする。これにより、銅箔パターン104およびメッキパターン105からなる導体回路パターン103(図10参照)を形成する。そして、レジスト層(図示せず)を除去することにより、図10に示したプリント配線板101が得られる。
特開昭58−64097号公報
特開昭63−224390号公報
上記した従来の一例によるプリント配線板101の製造方法では、銅箔104aは、絶縁樹脂層102を介してコア配線板110に積層接着されるので、ある程度厚みが必要であり、むやみに厚みを小さくできない。このため、銅箔104aは、通常、18μm〜50μm程度の厚みを有している。
しかしながら、銅箔104aにエッチングにより開口部104bを形成する場合、通常、開口部104bの内径は、銅箔104aの厚みの数倍の大きさが必要である。また、銅箔104aが18μm〜50μm程度の厚みを有する場合、エッチングにより形成される開口部104bの断面形状は、サイドエッチング効果により、図16に示すように、すり鉢状になる。すなわち、開口部104bの形状および内径が、レジスト層130の開口部130aの形状および内径と一致せず、安定しない。
このため、バイアホール120を形成する際に、エッチングにより開口部104bが形成された銅箔104aをマスクとして用いた場合、数十μm程度の内径を有する微細なバイアホール120を、高精度に形成するのが困難であるという問題点があった。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の目的は、微細なバイアホールを高精度に形成することが可能なプリント配線板の製造方法を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の一の局面によるプリント配線板の製造方法は、絶縁層の少なくとも一方面上に第1導体回路パターンが設けられたコア配線板を準備する工程と、コア配線板の少なくとも一方面側に、第1導体回路パターンを覆うように絶縁樹脂層を設ける工程と、絶縁樹脂層の表面上の所定領域にレジスト層を設ける工程と、絶縁樹脂層の表面上のレジスト層が設けられた領域を除く領域に、メッキ法により、第1金属層を設ける工程と、第1金属層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、少なくとも絶縁樹脂層の所定領域を除去し、絶縁樹脂層のコア配線板側に設けられた導体層の一部を露出させることによって、バイアホールを形成する工程と、バイアホールの内面上、および、第1金属層の表面上に、メッキ法により、第2金属層を設ける工程と、第1金属層および第2金属層の所定領域をエッチングすることにより、第2導体回路パターンを形成する工程とを備える。
この一の局面によるプリント配線板の製造方法では、上記のように、絶縁樹脂層の表面上の所定領域にレジスト層を設ける工程と、絶縁樹脂層の表面上のレジスト層が設けられた領域を除く領域に、メッキ法により、第1金属層を設ける工程とを備えている。これにより、レジスト層は、通常、微細に、かつ、側面を略垂直に形成することが可能であり、第1金属層のバイアホールとなる部分(レジスト層が設けられた部分)の内径を十分に小さくすることができるとともに、バイアホールとなる部分(レジスト層が設けられた部分)の断面形状がすり鉢状になるのを抑制することができる。その結果、第1金属層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、微細なバイアホールを、高精度に形成することができる。
また、上記一の局面によるプリント配線板の製造方法では、上記のように、メッキ法により、第1金属層を設けることによって、第1金属層を、例えば金属箔を用いて形成する場合に比べて、第1金属層の厚みを十分に小さくすることができる。これにより、第1金属層および第2金属層を合わせた厚みが大きくなるのを抑制することができるので、第2導体回路パターンをエッチングにより形成する場合に、第2導体回路パターンを、微細に形成することができる。
上記一の局面によるプリント配線板の製造方法において、好ましくは、第1金属層を設ける工程において、少なくとも無電解メッキ法が用いられる。このように構成すれば、絶縁樹脂層の表面上に、容易に、第1金属層を形成することができる。
この場合、好ましくは、第1金属層を設ける工程において、無電解メッキ法および電解メッキ法の両方が用いられる。このように構成すれば、第1金属層を大きい厚みに形成する場合に、容易に、メッキ時間を短縮することができる。
上記一の局面によるプリント配線板の製造方法において、好ましくは、バイアホールを形成する工程に先立って、レジスト層を除去する工程をさらに備える。このように構成すれば、第1金属層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、容易に、絶縁樹脂層を除去してバイアホールを形成することができる。
上記一の局面によるプリント配線板の製造方法において、好ましくは、バイアホールを形成する工程は、第1金属層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、レジスト層と絶縁樹脂層の所定領域とを除去する1つの工程からなる。このように構成すれば、バイアホールを形成するための工程が増加するのを抑制することができる。
上記一の局面によるプリント配線板の製造方法において、好ましくは、バイアホールを形成する工程は、レーザ加工を行うことにより、第1導体回路パターンの一部を露出させることによって、バイアホールを形成する工程を含む。このように構成すれば、第1導体回路パターンと第1金属層(第2導体回路パターン)とを、バイアホールにより、容易に、電気的に接続することができる。
上記一の局面によるプリント配線板の製造方法において、好ましくは、第1金属層を設ける工程に先立って、絶縁樹脂層の表面を粗化および脱湿する工程をさらに備える。このように、絶縁樹脂層の表面を粗化した後に第1金属層を設けることによって、第1金属層と絶縁樹脂層との接着強度を大きくすることができる。これにより、バイアホールを形成する工程において、レーザ光により大きな熱ストレスを受けた場合や、加工ガスにより圧力を受けた場合にも、第1金属層が絶縁樹脂層から剥離するのを抑制することができる。なお、第1金属層と絶縁樹脂層との接着強度が小さい場合、バイアホールを形成する工程において、レーザ光により大きな熱ストレスを受けた場合や、加工ガスにより圧力を受けた場合に、バイアホールの周辺部分において、第1金属層が絶縁樹脂層から剥離する可能性がある。また、第1金属層と絶縁樹脂層との接着強度を大きくすることができるので、第1金属層の引き剥がし強度を大きくすることができる。また、絶縁樹脂層を脱湿した後に第1金属層を設けることによって、バイアホールを形成する工程においてレーザ光により加熱される場合にも、絶縁樹脂層内に吸湿された水分が気化(膨張)して第1金属層が絶縁樹脂層から剥離するのを抑制することができる。
以上のように、本発明によれば、微細なバイアホールを高精度に形成することが可能なプリント配線板を容易に得ることができる。
図1は、本発明の一実施形態によるプリント配線板の構造を示した断面図である。図2は、図1に示した本発明の一実施形態によるプリント配線板のコア配線板の構造を示した断面図である。まず、図1および図2を参照して、本発明の一実施形態によるプリント配線板1の構造について説明する。
本発明の一実施形態によるプリント配線板1は、電子機器などに用いられる。また、プリント配線板1は、図1に示すように、絶縁層11の両面上(上面上および下面上)に導体回路パターン12が設けられたコア配線板10と、コア配線板10の両面上(上面上および下面上)に設けられた絶縁樹脂層2と、絶縁樹脂層2の表面上に形成された導体回路パターン3とによって、構成されている。なお、導体回路パターン12は、本発明の「第1導体回路パターン」および「導体層」の一例である。また、導体回路パターン3は、本発明の「第2導体回路パターン」の一例である。
コア配線板10の絶縁層11は、例えば、ガラス繊維強化樹脂材からなる。なお、コア配線板10は、ガラス繊維強化エポキシ樹脂材以外に、ポリイミド樹脂などの他の材料を用いてもよい。また、導体回路パターン12は、銅箔などからなる。
また、絶縁層11には、図2に示すように、スルーホール11aが形成されている。このスルーホール11aにより、絶縁層11の上面上の導体回路パターン12と、絶縁層11の下面上の導体回路パターン12とが電気的に接続されている。また、スルーホール11aにおける導体回路パターン12の内部には、導体や誘電体などからなる充填材13が充填されている。なお、スルーホール11aにおける導体回路パターン12の内部に、充填材13が充填されていなくてもよい。
ここで、本実施形態では、図1に示すように、導体回路パターン3は、絶縁樹脂層2の表面上(上面上および下面上)に形成された銅メッキ層からなる銅メッキパターン4と、銅メッキパターン4の表面上に形成されたメッキパターン5とによって構成されている。この銅メッキパターン4は、例えば、約0.1μm〜数μmの厚みに形成されている。
プリント配線板1の所定領域には、バイアホール20が形成されており、メッキパターン5は、バイアホール20の内面(導体回路パターン12の表面を含む)を覆うように形成されている。これにより、絶縁樹脂層2の外側に形成された銅メッキパターン4(導体回路パターン3)と、絶縁樹脂層2の内側に形成された導体回路パターン12とが電気的に接続されている。
図3〜図9は、図1に示した本発明の一実施形態によるプリント配線板の製造方法を説明するための断面図である。次に、図1〜図9を参照して、本発明の一実施形態によるプリント配線板1の製造方法について説明する。
まず、図2に示すように、絶縁層11の両面上に導体回路パターン12が設けられたコア配線板10を準備する。このコア配線板10は、例えば、ガラス繊維強化エポキシ樹脂材(絶縁層11)の両面上に銅箔(導体回路パターン12)を積層接着した市販の両面銅張り積層板に、スルーホール加工、パネルメッキおよびパターンエッチングなどの従来から知られた方法を用いて作製する。
そして、本実施形態では、図3に示すように、コア配線板10の両面上に、導体回路パターン12を覆うように絶縁樹脂層2を積層接着する。具体的には、本実施形態では、絶縁層11(コア配線板10)にガラスエポキシ樹脂を用いるので、半硬化状態のガラスエポキシ樹脂からなる市販のプリプレグを、コア配線板10の両面上に配置し、加熱および加圧して接着する。なお、コア配線板10の両面上に、接着材を介して、硬化後のガラスエポキシ樹脂からなる樹脂材料を接着することも可能である。また、他の材料からなるプリプレグや樹脂材料を接着することも可能である。
その後、本実施形態では、図4に示すように、絶縁樹脂層2の表面上の所定領域(絶縁樹脂層2のバイアホール20を形成する予定の領域上)に、メッキレジスト層30を形成する。通常、メッキレジスト層を形成する場合、メッキレジスト層の側面を、コア配線板などに対して略垂直に形成することが可能であり、本実施形態のメッキレジスト層30の側面も、コア配線板10(絶縁層11)に対して略垂直に形成される。なお、メッキレジスト層30は、本発明の「レジスト層」の一例である。
また、メッキレジスト層30は、例えば、感光性の樹脂を用いることが可能であり、所望の位置に数μm以下の精度で微細な形状に形成することが可能である。なお、メッキレジスト層30は、例えば、市販の無電解銅メッキ用のアクリル変成したノボラック型エポキシ樹脂からなるメッキレジストなどを用いることも可能である。
そして、本実施形態では、市販のクロム酸系の粗化剤を用いて、絶縁樹脂層2の表面を粗化する。その後、中和および洗浄を行う。そして、約120℃の温度で約1時間以上の熱処理(乾燥処理)を行うことにより、絶縁樹脂層2およびコア配線板10の脱湿を行う。
その後、本実施形態では、図5に示すように、絶縁樹脂層2の表面上のメッキレジスト層30が形成された領域を除く領域に、無電解メッキ法により、例えば、約0.1μm〜数μmの厚みを有する銅メッキ層4aを形成する。このとき、例えば、硫酸銅、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)、NaOHおよびその他の添加物などからなる無電解銅メッキ浴を用いる。なお、銅メッキ層4aは、本発明の「第1金属層」の一例である。
なお、後述するレーザ加工条件によっては、無電解メッキ法により銅メッキ層4aを形成した後、銅層やその他の金属層を厚付けしてもよい。このとき、銅メッキ層4aを給電層として電解メッキを行ってもよい。このように、無電解メッキを行った後に電解メッキを行えば、後述するレーザ加工時にマスクとなる層(銅メッキ層4aおよび銅層やその他の金属層)を大きい厚みに形成する場合に、メッキ時間を短縮することが可能である。
そして、メッキレジスト剥離液を用いて、メッキレジスト層30を剥離する。これにより、図6に示すように、銅メッキ層4aのバイアホール20となる領域に、微小径の開口部4bが高精度に形成される。このとき、開口部4bの断面形状(内面)は、図7に示すように、コア配線板10に対して略垂直に形成される。
次に、銅メッキ層4aをマスクとして炭酸ガスレーザを用いてレーザ加工を行うことにより、図8に示すように、導体回路パターン12の一部が露出するまで、絶縁樹脂層2の所定領域(銅メッキ層4aの開口部4bの内側の領域)を除去する。これにより、プリント配線板1に、バイアホール20が形成される。
なお、このとき用いるレーザは、絶縁樹脂層2の加工に適したレーザを用いればよい。例えば、絶縁樹脂層2にポリイミド系の樹脂を用いる場合には、YAGレーザを用いるのが好ましい。
そして、バイアホール20内を清掃および洗浄するとともに、メッキ前処理を行う。その後、パネルメッキを行うことにより、図9に示すように、銅メッキ層4aの表面上(上面上および下面上)に、メッキ層5aを形成する。このとき、バイアホール20の内面(導体回路パターン12の表面を含む)上にも、メッキ層5aが形成される。なお、メッキ層5aは、本発明の「第2金属層」の一例である。
その後、メッキ層5aの表面上の所定領域にレジスト層(図示せず)を形成し、レジスト層(図示せず)をマスクとしてメッキ層5aおよび銅メッキ層4aの一部をエッチングする。これにより、銅メッキパターン4およびメッキパターン5からなる導体回路パターン3(図1参照)を形成する。そして、レジスト層(図示せず)を除去する。
以上のようにして、図1に示した本発明の一実施形態によるプリント配線板1が製造される。
本実施形態では、上記のように、絶縁樹脂層2の表面上の所定領域にメッキレジスト層30を設ける工程と、絶縁樹脂層2の表面上のメッキレジスト層30が設けられた領域を除く領域に、無電解メッキ法により、銅メッキ層4aを設ける工程とを備えている。これにより、メッキレジスト層30は、微細に、かつ、側面を略垂直に形成することができるので、銅メッキ層4aのバイアホール20となる部分(開口部4b)の内径を十分に小さくすることができるとともに、バイアホール20となる部分(開口部4b)の断面形状がすり鉢状になるのを抑制することができる。その結果、銅メッキ層4aをマスクとしてレーザ加工を行うことにより、微細なバイアホール20を、高精度に形成することができる。
また、本実施形態では、上記のように、無電解メッキ法により銅メッキ層4aを形成することによって、銅メッキ層4aを、例えば金属箔を用いて形成する場合に比べて、銅メッキ層4aの厚みを十分に小さくすることができる。これにより、銅メッキ層4aおよびメッキ層5aを合わせた厚みが大きくなるのを抑制することができるので、導体回路パターン3をエッチングにより形成する場合に、導体回路パターン3を、微細に形成することができる。
また、本実施形態では、上記のように、絶縁樹脂層2の表面を粗化した後に銅メッキ層4aを形成することによって、銅メッキ層4aと絶縁樹脂層2との接着強度を大きくすることができる。これにより、バイアホール20を形成する工程において、レーザ光により大きな熱ストレスを受けた場合や、加工ガスにより圧力を受けた場合にも、銅メッキ層4aが絶縁樹脂層2から剥離するのを抑制することができる。なお、銅メッキ層4aと絶縁樹脂層2との接着強度が小さい場合、バイアホール20を形成する工程において、レーザ光により大きな熱ストレスを受けた場合や、加工ガスにより圧力を受けた場合に、バイアホール20の周辺部分において、銅メッキ層4aが絶縁樹脂層2から剥離する可能性がある。また、銅メッキ層4aと絶縁樹脂層2との接着強度を大きくすることができるので、銅メッキ層4aの引き剥がし強度を大きくすることができる。また、絶縁樹脂層2を脱湿した後に銅メッキ層4aを形成することによって、バイアホール20を形成する工程においてレーザ光により加熱される場合にも、絶縁樹脂層2内に吸湿された水分が気化(膨張)して銅メッキ層4aが絶縁樹脂層2から剥離するのを抑制することができる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記実施形態では、絶縁層の両面上に、導体回路パターンが設けられたコア配線板を用いた例について示したが、本発明はこれに限らず、絶縁層の、例えば上面上のみに、導体回路パターンが設けられたコア配線板を用いてもよい。
また、上記実施形態では、コア配線板の両面上に、絶縁樹脂層および銅メッキ層(銅メッキパターン)を設けた例について示したが、本発明はこれに限らず、コア配線板の、例えば上面上のみに、絶縁樹脂層および銅メッキ層(銅メッキパターン)を設けてもよい。
また、上記実施形態では、コア配線板の両面上に、絶縁樹脂層を介して、銅メッキ層(銅メッキパターン)を1層ずつ形成する例ついて示したが、本発明はこれに限らず、コア配線板の両面上に、複数の絶縁樹脂層と、複数の銅メッキ層(銅メッキパターン)とを交互に積層してもよい。
また、上記実施形態では、コア配線板の導体回路パターンと銅メッキ層(銅メッキパターン)とを接続するようにバイアホールを形成する場合について示したが、本発明はこれに限らず、上記したように、コア配線板の両面上に、複数の絶縁樹脂層と、複数の銅メッキ層(銅メッキパターン)とを交互に積層する場合には、所定の絶縁樹脂層の内側(コア配線板側)に設けられた銅メッキ層(銅メッキパターン)と外側に設けられた銅メッキ層(銅メッキパターン)とを接続するようにバイアホールを形成する場合にも適用可能である。
また、上記実施形態では、銅メッキ層をマスクとしてレーザ加工を行う前に、メッキレジスト層を剥離する場合について示したが、本発明はこれに限らず、メッキレジスト層を剥離せずに、銅メッキ層をマスクとしてレーザ加工を行ってもよい。すなわち、銅メッキ層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、メッキレジスト層と絶縁樹脂層の所定領域とを、1つの工程で除去してもよい。この場合、バイアホールを形成するための工程が増加するのを抑制することができる。
また、上記実施形態では、絶縁樹脂層の表面上に銅メッキ層を形成する前に、絶縁樹脂層の表面を粗化する例について示したが、本発明はこれに限らず、絶縁樹脂層の表面を粗化しなくてもよい。
また、上記実施形態では、絶縁樹脂層の表面上に銅メッキ層を形成する前に、絶縁樹脂層およびコア配線板の脱湿を行う例について示したが、本発明はこれに限らず、絶縁樹脂層およびコア配線板の脱湿を行わなくてもよい。
また、上記実施形態では、絶縁樹脂層の表面上に、銅メッキ層(銅メッキパターン)を形成した例について示したが、本発明はこれに限らず、絶縁樹脂層の表面上に、銅以外の金属からなるメッキ層(メッキパターン)を形成してもよい。
また、上記実施形態では、導体回路パターンが銅箔により形成されたコア配線板を用いた例について示したが、本発明はこれに限らず、導体回路パターンが銅以外の金属箔やメッキ層などにより形成されたコア配線板を用いてもよい。
また、上記実施形態では、スルーホールが設けられたコア配線板を用いた例について示したが、本発明はこれに限らず、スルーホールが設けられていないコア配線板を用いてもよい。
1 プリント配線板
2 絶縁樹脂層
3 導体回路パターン(第2導体回路パターン)
4a 銅メッキ層(第1金属層)
5a メッキ層(第2金属層)
10 コア配線板
11 絶縁層
12 導体回路パターン(第1導体回路パターン、導体層)
20 バイアホール
30 メッキレジスト層(レジスト層)
2 絶縁樹脂層
3 導体回路パターン(第2導体回路パターン)
4a 銅メッキ層(第1金属層)
5a メッキ層(第2金属層)
10 コア配線板
11 絶縁層
12 導体回路パターン(第1導体回路パターン、導体層)
20 バイアホール
30 メッキレジスト層(レジスト層)
Claims (7)
- 絶縁層の少なくとも一方面上に第1導体回路パターンが設けられたコア配線板を準備する工程と、
前記コア配線板の少なくとも一方面側に、前記第1導体回路パターンを覆うように絶縁樹脂層を設ける工程と、
前記絶縁樹脂層の表面上の所定領域にレジスト層を設ける工程と、
前記絶縁樹脂層の表面上の前記レジスト層が設けられた領域を除く領域に、メッキ法により、第1金属層を設ける工程と、
前記第1金属層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、少なくとも前記絶縁樹脂層の所定領域を除去し、前記絶縁樹脂層の前記コア配線板側に設けられた導体層の一部を露出させることによって、バイアホールを形成する工程と、
前記バイアホールの内面上、および、前記第1金属層の表面上に、メッキ法により、第2金属層を設ける工程と、
前記第1金属層および前記第2金属層の所定領域をエッチングすることにより、第2導体回路パターンを形成する工程とを備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 前記第1金属層を設ける工程において、少なくとも無電解メッキ法が用いられることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記第1金属層を設ける工程において、無電解メッキ法および電解メッキ法の両方が用いられることを特徴とする請求項2に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記バイアホールを形成する工程に先立って、前記レジスト層を除去する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記バイアホールを形成する工程は、前記第1金属層をマスクとしてレーザ加工を行うことにより、前記レジスト層と前記絶縁樹脂層の所定領域とを除去する1つの工程からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記バイアホールを形成する工程は、レーザ加工を行うことにより、前記第1導体回路パターンの一部を露出させることによって、前記バイアホールを形成する工程を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
- 前記第1金属層を設ける工程に先立って、前記絶縁樹脂層の表面を粗化および脱湿する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
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JP2008134105A JP2009283668A (ja) | 2008-05-22 | 2008-05-22 | プリント配線板の製造方法 |
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WO2022039062A1 (ja) * | 2020-08-15 | 2022-02-24 | Mgcエレクトロテクノ株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
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2008
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