JP2009277750A - Method of manufacturing mounting structure, method of manufacturing droplet discharge head, mounting structure, and droplet discharge head - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of positioning a plurality of substrates on a base plate at less imaging frequency, for securing. <P>SOLUTION: The method of manufacturing a mounting structure includes a first mark measuring step in which alignment marks 6d and 7d of flexible substrates 6 and 7 where a wiring is arranged are imaged, for measuring positions of the alignment marks 6d and 7d, a second mark measuring step in which an alignment mark 2a of a base plate 2 where a wiring and the alignment mark 2a are arranged is imaged, for measuring position of the alignment mark 2a, a base aligning step in which, using the measurement results of the first mark measuring step and the measurement results of the second mark measuring step, the flexible substrates 6 and 7 and the base plate 2 are relatively moved to the places where the wiring of the flexible substrates 6 and 7 and the wiring of the base plate 2 face each other, and a mounting step in which the wiring of the flexible substrates 6 and 7 and the wiring of the base plate 2 are connected together for securing. In the first mark measuring step, the measurement marks 6d and 7d are imaged in a single image, for measuring position of the alignment marks 6d and 7d. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、実装構造体の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、実装構造体、液滴吐出ヘッドにかかわり、特に、基板を生産性良く実装する方法に関するものである。   The present invention relates to a mounting structure manufacturing method, a droplet discharging head manufacturing method, a mounting structure, and a droplet discharging head, and more particularly to a method for mounting a substrate with high productivity.

液晶テレビのカラーフィルタ等の微細なパターンを形成する方法の1つとして液滴吐出法が用いられている。この液滴吐出法は液滴吐出ヘッドから機能液を液滴にして基板に吐出して、基板上に微細なパターンを形成する方法である。そして、この液滴吐出ヘッドを生産性良く製造可能な構造が特許文献1に開示されている。それによると、液滴吐出ヘッドは液滴を吐出するノズルが形成されたノズル基板と振動板との間に圧力発生室が形成されている。そして、圧電素子が振動板に配置され、圧電素子が伸縮して振動板を振動させている。この振動板が振動することにより、圧力発生室に内在する機能液が加圧されて、機能液が液滴となって吐出される。   A droplet discharge method is used as one of methods for forming a fine pattern such as a color filter of a liquid crystal television. This droplet discharge method is a method of forming a fine pattern on a substrate by discharging functional liquid as droplets from a droplet discharge head onto the substrate. A structure capable of manufacturing this droplet discharge head with high productivity is disclosed in Patent Document 1. According to this, in the droplet discharge head, a pressure generating chamber is formed between the nozzle substrate on which nozzles for discharging droplets are formed and the vibration plate. The piezoelectric element is disposed on the diaphragm, and the piezoelectric element expands and contracts to vibrate the diaphragm. As the vibration plate vibrates, the functional liquid present in the pressure generating chamber is pressurized, and the functional liquid is discharged as droplets.

振動板の上には凹部が形成されたリザーバ形成基板が配置され、圧電素子はこの凹部と振動板により密閉されている。振動板には圧電素子の電極が形成され、電極の一部はリザーバ形成基板によって覆われていない場所に形成されている。そして、振動板には圧電素子の電極とフレキシブル基板とが電気的に接続されている。振動板には複数の圧電素子が配置されており、圧電素子の電極も複数形成されている。そして、フレキシブル基板には複数の配線が形成され、複数の圧電素子の電極とフレキシブル基板の複数の電極とが接続されている。従って、1つのフレキシブル基板により複数の電極が接続されるので、生産性良く圧電素子の配線を接続することができている。   A reservoir forming substrate having a recess formed thereon is disposed on the diaphragm, and the piezoelectric element is hermetically sealed by the recess and the diaphragm. An electrode of a piezoelectric element is formed on the diaphragm, and a part of the electrode is formed at a place not covered by the reservoir forming substrate. And the electrode of a piezoelectric element and the flexible substrate are electrically connected to the diaphragm. A plurality of piezoelectric elements are arranged on the diaphragm, and a plurality of electrodes of the piezoelectric elements are also formed. A plurality of wirings are formed on the flexible substrate, and the electrodes of the plurality of piezoelectric elements and the plurality of electrodes of the flexible substrate are connected. Accordingly, since a plurality of electrodes are connected by one flexible substrate, the wiring of the piezoelectric element can be connected with high productivity.

特開2006−68989号公報JP 2006-68989 A

振動板には配線を挟んでフレキシブル基板が2個配置され、フレキシブル基板及び振動板には位置を合わせるときに用いる位置合わせ用マークが配置されていた。そして、撮像装置が位置合わせ用マークを撮像することにより、フレキシブル基板及び振動板の位置を測定していた。このとき、精度良く測定するために所定の範囲に位置合わせ用マークを移動した後、撮像装置は位置合わせ用マークを撮像していた。そして位置合わせ用マークの位置を測定していた。   Two flexible substrates are arranged on the diaphragm with the wiring interposed therebetween, and alignment marks used for alignment are arranged on the flexible substrate and the diaphragm. And the position of the flexible substrate and the diaphragm was measured by the imaging device imaging the alignment mark. At this time, after moving the alignment mark to a predetermined range for accurate measurement, the imaging device images the alignment mark. And the position of the alignment mark was measured.

このとき、2個のフレキシブル基板における位置合わせ用マークが離れて配置されていたので、各位置合わせ用マークと同数の撮像を行って、各位置合わせ用マークの位置を測定していた。そして、少ない回数の撮像回数で振動板にフレキシブル基板を位置合わせして固定する方法が望まれていた。   At this time, since the alignment marks on the two flexible substrates are arranged apart from each other, the same number of images as the alignment marks are taken, and the positions of the alignment marks are measured. A method of aligning and fixing the flexible substrate to the diaphragm with a small number of times of imaging has been desired.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
本適用例にかかる実装構造体の製造方法であって、配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の第1配線基板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する第1マーク測定工程と、配線と位置合わせ用マークとが配置された第2配線基板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する第2マーク測定工程と、前記第1マーク測定工程の測定結果と前記第2マーク測定工程の測定結果とを用いて、前記第1配線基板の配線と前記第2配線基板の配線とが対向する場所に前記第1配線基板と前記第2配線基板とを相対移動する基板合わせ工程と、前記第1配線基板の配線と前記第2配線基板の配線とを接続して固定する実装工程と、を有し、前記第1マーク測定工程において、複数の前記位置合わせ用マークを1つの画像に撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定することを特徴とする。
[Application Example 1]
A method for manufacturing a mounting structure according to this application example, wherein the alignment marks of a plurality of first wiring boards on which wirings and alignment marks are arranged are imaged, and the positions of the alignment marks are determined. A first mark measurement step for measuring, a second mark measurement step for imaging the alignment mark on the second wiring board on which the wiring and the alignment mark are arranged, and measuring the position of the alignment mark; Using the measurement result of the first mark measurement step and the measurement result of the second mark measurement step, the first wiring is formed at a location where the wiring of the first wiring substrate and the wiring of the second wiring substrate are opposed to each other. A substrate alignment step of relatively moving the substrate and the second wiring substrate; and a mounting step of connecting and fixing the wiring of the first wiring substrate and the wiring of the second wiring substrate. In the mark measurement process Capturing a plurality of said alignment mark in one image, and measuring the position of the mark for the alignment.

この実装構造体の製造方法によれば、第1マーク測定工程において第1配線基板の位置合わせ用マークの位置を測定する。同様に、第2マーク測定工程において第2配線基板の位置合わせ用マークを測定する。そして、基板合わせ工程では第1配線基板の配線と第2配線基板の配線とが対向するように配置する。このとき、第1配線基板の位置合わせ用マークの測定値と第2配線基板の位置合わせ用マークの測定値とを用いて位置合わせを行う。従って、第1配線基板と第2配線基板とを所定の相対位置に合わせることができる。そして、実装工程において第1配線基板の配線と第2配線基板の配線とを接続して固定することにより、第1配線基板と第2配線基板とを実装している。   According to the manufacturing method of the mounting structure, the position of the alignment mark on the first wiring board is measured in the first mark measurement step. Similarly, the alignment mark on the second wiring board is measured in the second mark measurement step. In the substrate alignment step, the wiring on the first wiring board and the wiring on the second wiring board are arranged to face each other. At this time, alignment is performed using the measured value of the alignment mark on the first wiring board and the measured value of the alignment mark on the second wiring board. Therefore, the first wiring board and the second wiring board can be adjusted to a predetermined relative position. Then, in the mounting process, the first wiring board and the second wiring board are mounted by connecting and fixing the wiring of the first wiring board and the wiring of the second wiring board.

第1マーク測定工程では、第1配線基板における位置合わせ用マークを撮像して、位置合わせ用マークの位置を測定する。このとき、複数の位置合わせ用マークを1つの画像に撮像して測定している。従って、1つの位置合わせ用マークを1つの画像に撮像する方法に比べて、少ない回数の撮像により、所定の個数における位置合わせ用マークの位置を測定することができる。その結果、生産性良く実装構造体を製造することができる。   In the first mark measurement step, the alignment mark on the first wiring board is imaged and the position of the alignment mark is measured. At this time, a plurality of alignment marks are captured in one image and measured. Therefore, the position of the alignment marks in a predetermined number can be measured with a small number of times of imaging as compared with the method of imaging one alignment mark in one image. As a result, the mounting structure can be manufactured with high productivity.

[適用例2]
上記適用例にかかる実装構造体の製造方法において、前記第1マーク測定工程の測定結果を用いて、複数の前記第1配線基板の相対位置を所定の位置に移動する基板移動工程、をさらに有することを特徴とする。
[Application Example 2]
The mounting structure manufacturing method according to the application example further includes a substrate moving step of moving a relative position of the plurality of first wiring boards to a predetermined position using the measurement result of the first mark measuring step. It is characterized by that.

この実装構造体の製造方法によれば、基板移動工程において第1配線基板の相対位置を所定の位置に合わせている。そして、基板合わせ工程にて複数の第1配線基板と第2配線基板との相対位置を合わせている。そして、実装工程では複数の第1配線基板と第2配線基板とを固定している。従って、複数の第1配線基板を1つずつ位置合わせした後、実装工程において第2配線基板に固定する方法に比べて、生産性良く複数の第1配線基板を第2配線基板に実装することができる。   According to this method for manufacturing a mounting structure, the relative position of the first wiring board is adjusted to a predetermined position in the board moving step. Then, the relative positions of the plurality of first wiring boards and the second wiring boards are matched in the board matching step. In the mounting process, the plurality of first wiring boards and the second wiring board are fixed. Accordingly, after the plurality of first wiring boards are aligned one by one, the plurality of first wiring boards are mounted on the second wiring board with higher productivity than the method of fixing to the second wiring board in the mounting process. Can do.

[適用例3]
本適用例にかかる液滴吐出ヘッドの製造方法は、液滴を吐出するための駆動部が振動板を振動させる液滴吐出ヘッドの製造方法であって、配線と複数の位置合わせ用マークとが配置された前記振動板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する振動板マーク測定工程と、配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の配線基板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する配線基板マーク測定工程と、前記振動板マーク測定工程の測定結果と前記配線基板マーク測定工程の測定結果とを用いて、前記振動板の配線と前記配線基板の配線とが対向する場所に前記振動板と前記配線基板とを相対移動する基板合わせ工程と、前記振動板の配線と前記配線基板の配線とを接続して固定する実装工程と、を有し、前記配線基板マーク測定工程において、複数の前記位置合わせ用マークを1つの画像に撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定することを特徴とする。
[Application Example 3]
A method for manufacturing a droplet discharge head according to this application example is a method for manufacturing a droplet discharge head in which a driving unit for discharging droplets vibrates a diaphragm, and wiring and a plurality of alignment marks are provided. Imaging the alignment mark of the arranged diaphragm and measuring the position of the alignment mark, and a plurality of wiring boards on which the wiring and the alignment mark are arranged Using the wiring board mark measurement step of imaging the alignment mark and measuring the position of the alignment mark, the measurement result of the diaphragm mark measurement step, and the measurement result of the wiring substrate mark measurement step, Connecting the vibration plate and the wiring board to a location where the wiring of the vibration board and the wiring of the wiring board face each other, and connecting the wiring of the vibration board and the wiring of the wiring board; Includes a mounting step of fixing, a, in the wiring substrate mark measurement step, capturing a plurality of said alignment mark in one image, and measuring the position of the mark for the alignment.

この液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、振動板マーク測定工程において振動板の位置合わせ用マークの位置を測定する。同様に、配線基板マーク測定工程において配線基板の位置合わせ用マークを測定する。そして、基板合わせ工程では振動板の配線と配線基板の配線とが対向するように配置する。このとき、振動板の位置合わせ用マークの測定値と複数の配線基板の位置合わせ用マークの測定値とを用いて位置合わせを行う。従って、振動板と複数の配線基板とを所定の相対位置に合わせることができる。そして、実装工程において振動板の配線と配線基板の配線とを接続して固定することにより、振動板と配線基板とを実装している。   According to this method for manufacturing a droplet discharge head, the position of the alignment mark for the diaphragm is measured in the diaphragm mark measuring step. Similarly, the positioning mark of the wiring board is measured in the wiring board mark measuring step. In the substrate matching step, the wiring of the diaphragm and the wiring of the wiring board are arranged so as to face each other. At this time, alignment is performed using the measured value of the alignment mark on the diaphragm and the measured value of the alignment mark on the plurality of wiring boards. Therefore, the diaphragm and the plurality of wiring boards can be adjusted to a predetermined relative position. Then, in the mounting process, the diaphragm and the wiring board are mounted by connecting and fixing the wiring of the diaphragm and the wiring of the wiring board.

配線基板マーク測定工程では、配線基板における位置合わせ用マークを撮像して、位置合わせ用マークの位置を測定する。このとき、複数の位置合わせ用マークを1つの画像に撮像して測定している。従って、1つの位置合わせ用マークを1つの画像に撮像する方法に比べて、少ない回数の撮像により、所定の個数における位置合わせ用マークの位置を測定することができる。その結果、生産性良く液滴吐出ヘッドを製造することができる。   In the wiring board mark measurement step, the alignment mark on the wiring board is imaged and the position of the alignment mark is measured. At this time, a plurality of alignment marks are captured in one image and measured. Therefore, the position of the alignment marks in a predetermined number can be measured with a small number of times of imaging as compared with the method of imaging one alignment mark in one image. As a result, the droplet discharge head can be manufactured with high productivity.

[適用例4]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドの製造方法において、前記配線基板マーク測定工程の測定結果を用いて、複数の前記配線基板の相対位置を所定の位置に移動する基板移動工程、をさらに有することを特徴とする。
[Application Example 4]
The method for manufacturing a droplet discharge head according to the application example described above further includes a substrate moving step of moving a relative position of the plurality of wiring boards to a predetermined position using a measurement result of the wiring board mark measuring step. It is characterized by.

この液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、基板移動工程において配線基板の相対位置を所定の位置に合わせている。そして、基板合わせ工程にて複数の配線基板と振動板との相対位置を合わせている。そして、実装工程では複数の配線基板と振動板とを固定している。従って、複数の配線基板を1つずつ位置合わせした後、実装工程において振動板に固定する方法に比べて、生産性良く複数の配線基板を振動板に実装することができる。   According to this method for manufacturing a droplet discharge head, the relative position of the wiring board is adjusted to a predetermined position in the substrate moving step. And the relative position of a some wiring board and a diaphragm is match | combined at the board | substrate matching process. In the mounting process, the plurality of wiring boards and the diaphragm are fixed. Therefore, the plurality of wiring boards can be mounted on the diaphragm with higher productivity than the method of aligning the plurality of wiring boards one by one and then fixing to the diaphragm in the mounting process.

[適用例5]
本適用例にかかる実装構造体であって、配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の第1配線基板と、配線と位置合わせ用マークとが配置された第2配線基板と、を備え、前記第1配線基板の配線と前記第2配線基板の配線とが接続して実装され、複数の前記第1配線基板における前記位置合わせ用マークのうち少なくとも2つの前記位置合わせ用マークが、前記第1配線基板と前記第2配線基板とを実装するときに前記位置合わせ用マークを撮像する撮像装置の撮像範囲に配置されていることを特徴とする。
[Application Example 5]
A mounting structure according to this application example, comprising: a plurality of first wiring boards on which wirings and alignment marks are arranged; and a second wiring board on which wirings and positioning marks are arranged. The wiring of the first wiring board and the wiring of the second wiring board are connected and mounted, and at least two of the alignment marks in the plurality of the first wiring boards are The first wiring board and the second wiring board are arranged in an imaging range of an imaging device that images the alignment mark when the first wiring board and the second wiring board are mounted.

この実装構造体によれば、第1配線基板と第2配線基板とが位置合わせ用マークにより相対位置が合わされて実装されている。そして、複数の位置合わせ用マークが撮像装置の撮像範囲に配置されている為、複数の位置合わせ用マークの位置を1回の撮像で測定することができる。従って、複数の位置合わせ用マークを1つずつ測定する場合に比べて、生産性良く位置合わせ用マークの位置が測定可能な実装構造体とすることができる。   According to this mounting structure, the first wiring board and the second wiring board are mounted with their relative positions aligned by the alignment marks. Since a plurality of alignment marks are arranged in the imaging range of the imaging apparatus, the positions of the plurality of alignment marks can be measured by one imaging. Therefore, it is possible to provide a mounting structure capable of measuring the position of the alignment mark with high productivity as compared with the case where a plurality of alignment marks are measured one by one.

[適用例6]
上記適用例にかかる実装構造体であって、前記第1配線基板のうち少なくとも1つは前記第1配線基板の平面方向に凸部を有し、前記凸部に前記位置合わせ用マークが形成されていることを特徴とする。
[Application Example 6]
In the mounting structure according to the application example, at least one of the first wiring boards has a convex portion in a planar direction of the first wiring substrate, and the alignment mark is formed on the convex portion. It is characterized by.

この実装構造体によれば、第1配線基板の凸部には位置合わせ用マークが配置されている。従って、障害物があるときにも障害物を避けて凸部を配置することにより、複数の位置合わせ用マークを接近して配置することができる。   According to this mounting structure, the alignment mark is arranged on the convex portion of the first wiring board. Therefore, even when there is an obstacle, a plurality of alignment marks can be arranged close to each other by arranging the convex portion while avoiding the obstacle.

[適用例7]
本適用例にかかる液滴吐出ヘッドは、液滴を吐出するための駆動部が振動板を振動させる液滴吐出ヘッドであって、前記振動板には配線と位置合わせ用マークとが配置され、配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の配線基板を備え、前記振動板の配線と前記配線基板の配線とが接続して実装され、複数の前記配線基板における前記位置合わせ用マークのうち少なくとも2つの前記位置合わせ用マークが、前記振動板と前記配線基板とを実装するときに前記位置合わせ用マークを撮像する撮像装置の撮像範囲に配置されていることを特徴とする。
[Application Example 7]
The liquid droplet ejection head according to this application example is a liquid droplet ejection head in which a driving unit for ejecting liquid droplets vibrates a vibration plate, and wiring and alignment marks are arranged on the vibration plate, A plurality of wiring boards on which wirings and alignment marks are arranged, wherein the wiring of the diaphragm and the wirings of the wiring board are connected and mounted, and among the positioning marks on the wiring boards At least two of the alignment marks are arranged in an imaging range of an imaging apparatus that images the alignment marks when the diaphragm and the wiring board are mounted.

この液滴吐出ヘッドによれば、振動板と配線基板とが位置合わせ用マークにより相対位置が合わされて実装されている。そして、複数の位置合わせ用マークが撮像装置の撮像範囲に配置されている為、複数の位置合わせ用マークの位置を1回の撮像で測定することができる。従って、複数の位置合わせ用マークを1つずつ測定する場合に比べて、生産性良く位置合わせ用マークの位置が測定可能な液滴吐出ヘッドとすることができる。   According to this droplet discharge head, the vibration plate and the wiring board are mounted with their relative positions aligned by the alignment marks. Since a plurality of alignment marks are arranged in the imaging range of the imaging apparatus, the positions of the plurality of alignment marks can be measured by one imaging. Therefore, compared to a case where a plurality of alignment marks are measured one by one, a droplet discharge head capable of measuring the position of the alignment marks with high productivity can be obtained.

[適用例8]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドであって、前記配線基板のうち少なくとも1つは前記配線基板の平面方向に凸部を有し、前記凸部に前記位置合わせ用マークが形成されていることを特徴とする。
[Application Example 8]
In the liquid droplet ejection head according to the application example, at least one of the wiring boards has a convex portion in a planar direction of the wiring substrate, and the alignment mark is formed on the convex portion. It is characterized by.

この液滴吐出ヘッドによれば、配線基板の凸部には位置合わせ用マークが配置されている。従って、障害物があるときにも障害物を避けて凸部を配置することにより、複数の位置合わせ用マークを接近して配置することができる。   According to this droplet discharge head, the alignment mark is arranged on the convex portion of the wiring board. Therefore, even when there is an obstacle, a plurality of alignment marks can be arranged close to each other by arranging the convex portion while avoiding the obstacle.

(第1の実施形態)
本実施形態では、本発明の特徴的な実装構造体と、この実装構造体を製造する例について図1〜図7に従って説明する。尚、以下の説明に用いた各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
(First embodiment)
In the present embodiment, a characteristic mounting structure of the present invention and an example of manufacturing the mounting structure will be described with reference to FIGS. In the drawings used for the following description, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing.

(実装構造体)
最初に、実装構造体1について説明する。図1(a)は実装構造体の構成を示す概略斜視図であり、図1(b)は実装構造体の模式平面図である。図1に示すように、実装構造体1は配線が形成された長方形の第2配線基板としての基板2を備えている。基板2の長手方向をY方向とし、基板2の平面方向においてY方向と直交する方向をX方向とする。そして、基板2の面に対して垂直の方向をZ方向とする。基板2の上には矩形に形成された板状の第1半導体素子3、第2半導体素子4、第3半導体素子5が配置され、配線により電気的に接続されている。
(Mounting structure)
First, the mounting structure 1 will be described. FIG. 1A is a schematic perspective view showing the configuration of the mounting structure, and FIG. 1B is a schematic plan view of the mounting structure. As shown in FIG. 1, the mounting structure 1 includes a substrate 2 as a rectangular second wiring substrate on which wiring is formed. The longitudinal direction of the substrate 2 is defined as the Y direction, and the direction orthogonal to the Y direction in the planar direction of the substrate 2 is defined as the X direction. A direction perpendicular to the surface of the substrate 2 is taken as a Z direction. A rectangular plate-like first semiconductor element 3, second semiconductor element 4, and third semiconductor element 5 are disposed on the substrate 2 and are electrically connected by wiring.

基板2の中央に第2半導体素子4が配置され、第2半導体素子4を挟んでY方向には第1半導体素子3及び第3半導体素子5が配置されている。基板2及び第1半導体素子3の上には第1配線基板としてのフレキシブル基板6が配置され、基板2及び第3半導体素子5の上には第1配線基板としてのフレキシブル基板7が配置されている。フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7は可撓性を有し第2半導体素子4を挟んで対向して配置されている。フレキシブル基板6は第2半導体素子4と対向する場所に凹部6aが形成され、フレキシブル基板7は第2半導体素子4と対向する場所に凹部7aが形成されている。そして、凹部6a及び凹部7aに第2半導体素子4が配置されている。凹部6a及び凹部7aにおいて基板2と対向する面には端子がX方向に配列して形成され、同様に、基板2においてこの端子と対向する場所には端子が形成されている。そして、フレキシブル基板6の端子と基板2の端子とが電気的に接続され、フレキシブル基板7の端子と基板2の端子とが電気的に接続されている。   The second semiconductor element 4 is disposed in the center of the substrate 2, and the first semiconductor element 3 and the third semiconductor element 5 are disposed in the Y direction across the second semiconductor element 4. A flexible substrate 6 as a first wiring substrate is disposed on the substrate 2 and the first semiconductor element 3, and a flexible substrate 7 as a first wiring substrate is disposed on the substrate 2 and the third semiconductor element 5. Yes. The flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 have flexibility and are arranged to face each other with the second semiconductor element 4 interposed therebetween. The flexible substrate 6 has a recess 6 a formed at a location facing the second semiconductor element 4, and the flexible substrate 7 has a recess 7 a formed at a location facing the second semiconductor element 4. And the 2nd semiconductor element 4 is arrange | positioned at the recessed part 6a and the recessed part 7a. Terminals are arranged in the X direction on the surface facing the substrate 2 in the recess 6a and the recess 7a. Similarly, a terminal is formed on the substrate 2 at a location facing this terminal. The terminals of the flexible substrate 6 and the terminals of the substrate 2 are electrically connected, and the terminals of the flexible substrate 7 and the terminals of the substrate 2 are electrically connected.

凹部6aのX方向の両側に凸部6b及び凸部6cが形成され、凸部6b及び凸部6cが第2半導体素子4をX方向から挟んで配置されている。同様に、フレキシブル基板7においても凹部7aのX方向の両側に凸部7b及び凸部7cが形成され、凸部7b及び凸部7cが第2半導体素子4をX方向から挟んで配置されている。凸部6bには円形の位置合わせ用マーク6dが形成され、凸部6cにも円形の位置合わせ用マーク6eが形成されている。同様に、凸部7bには円形の位置合わせ用マーク7dが形成され、凸部7cにも円形の位置合わせ用マーク7eが形成されている。基板2において、位置合わせ用マーク6dと位置合わせ用マーク7dとの間には位置合わせ用マーク2aが形成され、位置合わせ用マーク6eと位置合わせ用マーク7eとの間には位置合わせ用マーク2bが形成されている。   Convex portions 6b and convex portions 6c are formed on both sides in the X direction of the concave portion 6a, and the convex portions 6b and the convex portions 6c are arranged with the second semiconductor element 4 sandwiched from the X direction. Similarly, also in the flexible substrate 7, convex portions 7b and convex portions 7c are formed on both sides of the concave portion 7a in the X direction, and the convex portions 7b and the convex portions 7c are arranged with the second semiconductor element 4 sandwiched from the X direction. . A circular alignment mark 6d is formed on the convex portion 6b, and a circular alignment mark 6e is also formed on the convex portion 6c. Similarly, a circular alignment mark 7d is formed on the convex portion 7b, and a circular alignment mark 7e is also formed on the convex portion 7c. In the substrate 2, an alignment mark 2a is formed between the alignment mark 6d and the alignment mark 7d, and an alignment mark 2b is formed between the alignment mark 6e and the alignment mark 7e. Is formed.

フレキシブル基板6に形成されている端子と位置合わせ用マーク6d及び位置合わせ用マーク6eとの相対位置は精度良く形成されている。同様に、フレキシブル基板7に形成されている端子と位置合わせ用マーク7d及び位置合わせ用マーク7eとの相対位置は精度良く形成されている。基板2においても、基板2に形成された端子と位置合わせ用マーク2a及び位置合わせ用マーク2bとは精度良く形成されている。   The relative positions of the terminal formed on the flexible substrate 6, the alignment mark 6d, and the alignment mark 6e are formed with high accuracy. Similarly, the relative positions of the terminals formed on the flexible substrate 7, the alignment mark 7d, and the alignment mark 7e are formed with high accuracy. Also on the substrate 2, the terminals formed on the substrate 2, the alignment marks 2a, and the alignment marks 2b are formed with high accuracy.

(実装装置)
次に基板を組み合わせて実装する実装装置10について説明する。図2(a)は実装装置の模式平面図であり、図2(b)実装装置の模式側面図である。図2に示すように、実装装置10は直方体の板状に形成された基台11を備えている。基台11の長手方向をY方向とし、同Y方向と直交する方向をX方向とする。そして、X方向及びY方向と直交する方向をZ方向とし、Z方向は重力加速度方向とする。
(Mounting device)
Next, the mounting apparatus 10 for mounting in combination with substrates will be described. FIG. 2A is a schematic plan view of the mounting apparatus, and FIG. 2B is a schematic side view of the mounting apparatus. As shown in FIG. 2, the mounting apparatus 10 includes a base 11 formed in a rectangular parallelepiped plate shape. The longitudinal direction of the base 11 is the Y direction, and the direction orthogonal to the Y direction is the X direction. A direction orthogonal to the X direction and the Y direction is a Z direction, and the Z direction is a gravitational acceleration direction.

基台11上のY方向には第1固定ステージ12が配置され、第1固定ステージ12の上面には、Y方向に延びる図示しない一対の案内レールが同Y方向全幅にわたり凸設されている。第1固定ステージ12の上側には、一対の案内レールに対応する図示しない直動機構を備えた第1Yステージ13が取付けられている。その第1Yステージ13の直動機構は、例えば案内レールに沿ってY方向に延びるネジ軸(駆動軸)と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転する第1Y軸モータ13aに連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号が第1Y軸モータ13aに入力されると、第1Y軸モータ13aが正転又は逆転して、第1Yステージ13が同ステップ数に相当する分だけ、Y方向に沿って所定の速度で往動又は、復動するようになっている。   A first fixed stage 12 is arranged in the Y direction on the base 11, and a pair of guide rails (not shown) extending in the Y direction are provided on the upper surface of the first fixed stage 12 so as to protrude over the entire width in the Y direction. A first Y stage 13 having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of guide rails is attached to the upper side of the first fixed stage 12. The linear motion mechanism of the first Y stage 13 is, for example, a screw linear motion mechanism including a screw shaft (drive shaft) extending in the Y direction along the guide rail and a ball nut screwed to the screw shaft. The drive shaft is connected to a first Y-axis motor 13a that receives a predetermined pulse signal and rotates forward and backward in steps. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the first Y-axis motor 13a, the first Y-axis motor 13a rotates forward or reversely, and the first Y stage 13 corresponds to the same number of steps. It moves forward or backward at a predetermined speed along the Y direction.

第1Yステージ13の上面には、X方向に延びる図示しない一対の案内レールが同X方向全幅にわたり凸設されている。第1Yステージ13の上側には、一対の案内レールに対応する図示しない直動機構を備えた第1Xステージ14が取付けられている。その第1Xステージ14の直動機構は、例えば第1Yステージ13と同様の機構と第1X軸モータ14aとを備え、X方向に沿って所定の速度で往動又は、復動するようになっている。   A pair of guide rails (not shown) extending in the X direction is provided on the upper surface of the first Y stage 13 so as to protrude over the entire width in the X direction. A first X stage 14 having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of guide rails is attached to the upper side of the first Y stage 13. The linear motion mechanism of the first X stage 14 includes, for example, a mechanism similar to the first Y stage 13 and a first X-axis motor 14a, and moves forward or backward along the X direction at a predetermined speed. Yes.

第1Xステージ14の上面には、Z方向を中心とする同心円状の図示しない案内レールが凸設されている。第1Xステージ14の上側には同心円状の案内レールの中心を回転中心にして回転する回転機構を備えた第1回転ステージ15が取付けられている。その第1回転ステージ15の回転機構は、例えばハーモニックドライブ(登録商標)等の図示しない減速装置を備え、減速装置は駆動軸の回転速度を減速して出力軸を回転する。その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転する図示しない第1回転用モータに連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号が第1回転用モータに入力されると、第1回転用モータが正転又は逆転して、第1回転ステージ15が同ステップ数に相当する分だけ、Z方向を中心に所定の角度の正転又は反転をするようになっている。   On the upper surface of the first X stage 14, a concentric guide rail (not shown) centered in the Z direction is provided. On the upper side of the first X stage 14, a first rotation stage 15 having a rotation mechanism that rotates around the center of a concentric guide rail as a rotation center is attached. The rotation mechanism of the first rotation stage 15 includes a reduction device (not shown) such as a harmonic drive (registered trademark), for example, and the reduction device reduces the rotation speed of the drive shaft and rotates the output shaft. The drive shaft is connected to a first rotation motor (not shown) that receives a predetermined pulse signal and rotates forward and backward in steps. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the first rotation motor, the first rotation motor rotates forward or reverse, and the first rotation stage 15 is equivalent to the number of steps. , Normal rotation or reversal of a predetermined angle with the Z direction as the center.

第1回転ステージ15の上面には、第1載置台16が配置されている。第1載置台16には図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、第1載置台16にフレキシブル基板6を載置すると、基板チャック機構によって、そのフレキシブル基板6が第1載置台16の所定位置に位置決め固定されるようになっている。以上の第1固定ステージ12、第1Yステージ13、第1Xステージ14、第1回転ステージ15、第1載置台16等により第1ステージ17が構成されている。   A first mounting table 16 is disposed on the upper surface of the first rotary stage 15. The first mounting table 16 is provided with a suction type substrate chuck mechanism (not shown). When the flexible substrate 6 is mounted on the first mounting table 16, the flexible substrate 6 is positioned and fixed at a predetermined position of the first mounting table 16 by the substrate chuck mechanism. The first stage 17 is constituted by the first fixed stage 12, the first Y stage 13, the first X stage 14, the first rotating stage 15, the first mounting table 16, and the like.

第1ステージ17のY方向と逆の方向には第2ステージ18が配置されている。第2ステージ18は第1ステージ17と同様の構成であり、基台11上に第2固定ステージ19が配置されている。第2固定ステージ19の上面には第2Yステージ20が配置され、第2Yステージ20は図示しない直動機構と第2Y軸モータ20aとを備えている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号が第2Y軸モータ20aに入力されると、第2Yステージ20が同ステップ数に相当する分だけY方向に移動するようになっている。   A second stage 18 is arranged in a direction opposite to the Y direction of the first stage 17. The second stage 18 has the same configuration as the first stage 17, and a second fixed stage 19 is disposed on the base 11. A second Y stage 20 is disposed on the upper surface of the second fixed stage 19, and the second Y stage 20 includes a linear motion mechanism (not shown) and a second Y-axis motor 20a. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the second Y-axis motor 20a, the second Y stage 20 moves in the Y direction by an amount corresponding to the number of steps.

第2Yステージ20の上面には第2Xステージ21が取付けられ、第2Xステージ21は図示しない直動機構と第2X軸モータ21aとを備えている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号が第2X軸モータ21aに入力されると、第2Xステージ21が同ステップ数に相当する分だけX方向に移動するようになっている。   A second X stage 21 is attached to the upper surface of the second Y stage 20, and the second X stage 21 includes a linear motion mechanism (not shown) and a second X axis motor 21a. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the second X-axis motor 21a, the second X stage 21 is moved in the X direction by an amount corresponding to the number of steps.

第2Xステージ21の上面には第2回転ステージ22が取付けられ、第2回転ステージ22は図示しない回転機構を備えている。そして、この回転機構は、第1回転ステージ15と同様な減速装置及び第2回転用モータを備え、所定のステップ数に相対する駆動信号が第2回転用モータに入力されると、第2回転ステージ22が同ステップ数に相当する分だけZ方向を中心に所定の角度の正転又は反転をするようになっている。   A second rotary stage 22 is attached to the upper surface of the second X stage 21, and the second rotary stage 22 includes a rotation mechanism (not shown). The rotation mechanism includes a reduction gear and a second rotation motor similar to those of the first rotation stage 15, and the second rotation is performed when a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the second rotation motor. The stage 22 performs forward or reverse rotation at a predetermined angle around the Z direction by an amount corresponding to the number of steps.

第2回転ステージ22の上面には、第2載置台23が配置されている。第2載置台23には図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、第2載置台23にフレキシブル基板7を載置すると、基板チャック機構によって、そのフレキシブル基板7が第2載置台23の所定位置に位置決め固定されるようになっている。以上の第2固定ステージ19、第2Yステージ20、第2Xステージ21、第2回転ステージ22、第2載置台23等により第2ステージ18が構成されている。   A second mounting table 23 is disposed on the upper surface of the second rotary stage 22. The second mounting table 23 is provided with a suction type substrate chuck mechanism (not shown). When the flexible substrate 7 is mounted on the second mounting table 23, the flexible substrate 7 is positioned and fixed at a predetermined position on the second mounting table 23 by the substrate chuck mechanism. The second stage 18 is constituted by the second fixed stage 19, the second Y stage 20, the second X stage 21, the second rotary stage 22, the second mounting table 23, and the like.

第2ステージ18のY方向と逆の方向には第3ステージ24が配置されている。第3ステージ24は第1ステージ17と同様の構成であり、第1ステージ17及び第2ステージ18に比べてY方向に長く形成されている。第3ステージ24は基台11上に第3固定ステージ25が配置されている。第3固定ステージ25の上面には第3Yステージ26が配置され、第3Yステージ26は図示しない直動機構と第3Y軸モータ26aとを備えている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号が第3Y軸モータ26aに入力されると、第3Yステージ26が同ステップ数に相当する分だけY方向に移動するようになっている。   A third stage 24 is arranged in a direction opposite to the Y direction of the second stage 18. The third stage 24 has the same configuration as the first stage 17 and is formed longer in the Y direction than the first stage 17 and the second stage 18. In the third stage 24, a third fixed stage 25 is disposed on the base 11. A third Y stage 26 is disposed on the upper surface of the third fixed stage 25, and the third Y stage 26 includes a linear motion mechanism (not shown) and a third Y-axis motor 26a. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the third Y-axis motor 26a, the third Y stage 26 moves in the Y direction by an amount corresponding to the number of steps.

第3Yステージ26の上面には第3Xステージ27が取付けられ、第3Xステージ27は図示しない直動機構と第3X軸モータ27aとを備えている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号が第3X軸モータ27aに入力されると、第3Xステージ27が同ステップ数に相当する分だけX方向に移動するようになっている。   A third X stage 27 is attached to the upper surface of the third Y stage 26, and the third X stage 27 includes a linear motion mechanism (not shown) and a third X axis motor 27a. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the third X-axis motor 27a, the third X stage 27 moves in the X direction by an amount corresponding to the number of steps.

第3Xステージ27の上面には第3回転ステージ28が取付けられ、第3回転ステージ28は図示しない回転機構を備えている。そして、回転機構は第1回転ステージ15と同様な減速装置及び第3回転用モータを備え、所定のステップ数に相対する駆動信号が第3回転用モータに入力されると、第3回転ステージ28が同ステップ数に相当する分だけZ方向を中心に所定の角度の正転又は反転をするようになっている。   A third rotary stage 28 is attached to the upper surface of the third X stage 27, and the third rotary stage 28 includes a rotation mechanism (not shown). The rotation mechanism includes a reduction device and a third rotation motor similar to those of the first rotation stage 15, and when a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the third rotation motor, the third rotation stage 28. Are rotated or reversed at a predetermined angle around the Z direction by an amount corresponding to the number of steps.

第3回転ステージ28の上面には、第3載置台29が配置されている。第3載置台29には図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、第3載置台29に基板2を載置すると、基板チャック機構によって、基板2が第3載置台29の所定位置に位置決め固定されるようになっている。以上の第3固定ステージ25、第3Yステージ26、第3Xステージ27、第3回転ステージ28、第3載置台29等により第3ステージ24が構成されている。   A third mounting table 29 is disposed on the upper surface of the third rotary stage 28. The third mounting table 29 is provided with a suction type substrate chuck mechanism (not shown). When the substrate 2 is mounted on the third mounting table 29, the substrate 2 is positioned and fixed at a predetermined position of the third mounting table 29 by the substrate chuck mechanism. The third stage 24 is configured by the third fixed stage 25, the third Y stage 26, the third X stage 27, the third rotary stage 28, the third mounting table 29, and the like.

基台11のX方向両端の上面には、Y方向に延びる一対の案内レール32及び案内レール33が同Y方向全幅にわたり凸設されている。その基台11の上側には、一対の案内レール32及び案内レール33に対応する図示しない直動機構を備えた第4ステージ34が取付けられている。第4ステージ34は案内レール32と摺動して移動する移動部34a及び案内レール33と摺動して移動する移動部34bを備えている。そして、移動部34a及び移動部34bにはそれぞれ支持部34c及び支持部34dが立設されている。支持部34c及び支持部34dにかけて架橋部34eが架設されている。第4ステージ34は支持部34c、支持部34d、架橋部34eにより門型に形成されているので、第4ステージ34は第1ステージ17、第2ステージ18、第3ステージ24に衝突することなくY方向に移動可能になっている。その第4ステージ34の直動機構は、例えば第1Yステージ13と同様の機構と図示しない第4Y軸モータとを備え、Y方向に沿って所定の速度で往動又は、復動するようになっている。   A pair of guide rails 32 and guide rails 33 extending in the Y direction are provided on the upper surfaces of both ends in the X direction of the base 11 so as to protrude over the entire width in the Y direction. A fourth stage 34 provided with a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of guide rails 32 and the guide rails 33 is attached to the upper side of the base 11. The fourth stage 34 includes a moving part 34 a that slides and moves with the guide rail 32 and a moving part 34 b that slides and moves with the guide rail 33. And the support part 34c and the support part 34d are standingly arranged by the moving part 34a and the moving part 34b, respectively. A bridging portion 34e is constructed over the support portion 34c and the support portion 34d. Since the fourth stage 34 is formed in a portal shape by the support portion 34c, the support portion 34d, and the bridging portion 34e, the fourth stage 34 does not collide with the first stage 17, the second stage 18, and the third stage 24. It is movable in the Y direction. The linear motion mechanism of the fourth stage 34 includes, for example, a mechanism similar to the first Y stage 13 and a fourth Y-axis motor (not shown), and moves forward or backward along the Y direction at a predetermined speed. ing.

第4ステージ34は架橋部34eにヒータ昇降装置35を備え、ヒータ昇降装置35の基台11側には吸引加熱装置36を備えている。そして、ヒータ昇降装置35は上下動するエアーシリンダを備え、このエアーシリンダを駆動することにより吸引加熱装置36を昇降することが可能になっている。吸引加熱装置36には吸引式の基板チャック機構が設けられ、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を吸着することが可能になっている。さらに、吸引加熱装置36は内部に加熱機構を備え、発熱することが可能になっている。   The fourth stage 34 includes a heater elevating device 35 at the bridging portion 34e, and a suction heating device 36 on the base 11 side of the heater elevating device 35. The heater elevating device 35 includes an air cylinder that moves up and down, and the suction heating device 36 can be moved up and down by driving the air cylinder. The suction heating device 36 is provided with a suction-type substrate chuck mechanism so that the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 can be adsorbed. Furthermore, the suction heating device 36 includes a heating mechanism inside and can generate heat.

基台11のX方向両側において第1ステージ17の付近には門型の支持部37が配置されている。支持部37は基台11の側面に立設された一対の支柱部37a及び支柱部37bと、支柱部37a及び支柱部37bとの間に架橋された架橋部37cと、により構成されている。その架橋部37cには第1撮像装置38及び第2撮像装置39が配置されている。第1撮像装置38は第1照明装置38a及び撮像レンズ38bを備え、第1照明装置38aが発光する光は撮像レンズ38bを介してフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7に照射されるようになっている。そして、第1撮像装置38は光を照射されたフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を撮像することが可能になっている。同様に、第2撮像装置39は第2照明装置39a及び撮像レンズ39bを備え、光を照射されたフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を撮像することが可能になっている。   Gate-shaped support portions 37 are disposed in the vicinity of the first stage 17 on both sides in the X direction of the base 11. The support part 37 includes a pair of support pillars 37a and support pillars 37b erected on the side surface of the base 11, and a bridging part 37c bridged between the support pillars 37a and the support pillars 37b. A first imaging device 38 and a second imaging device 39 are disposed in the bridging portion 37c. The first imaging device 38 includes a first illumination device 38a and an imaging lens 38b, and light emitted from the first illumination device 38a is applied to the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 through the imaging lens 38b. . The first imaging device 38 can image the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 irradiated with light. Similarly, the second imaging device 39 includes a second illumination device 39a and an imaging lens 39b, and can image the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 irradiated with light.

基台11のX方向両側において第3ステージ24の付近には門型の支持部40が配置されている。支持部40は基台11の側面に立設された一対の支柱部40a及び支柱部40bと、支柱部40a及び支柱部40bとの間に架橋された架橋部40cと、により構成されている。その架橋部40cには第3撮像装置41及び第4撮像装置42が配置されている。第3撮像装置41は第3照明装置41a及び撮像レンズ41bを備え、光を照射された基板2を撮像することが可能になっている。同様に、第4撮像装置42は第4照明装置42a及び撮像レンズ42bを備え、光を照射された基板2を撮像することが可能になっている。   Gate-shaped support portions 40 are disposed in the vicinity of the third stage 24 on both sides in the X direction of the base 11. The support portion 40 includes a pair of support columns 40a and 40b that are erected on the side surface of the base 11, and a bridging portion 40c that is bridged between the support columns 40a and 40b. A third imaging device 41 and a fourth imaging device 42 are disposed in the bridging portion 40c. The 3rd imaging device 41 is provided with the 3rd illumination device 41a and the imaging lens 41b, and can image the board | substrate 2 irradiated with light. Similarly, the fourth imaging device 42 includes a fourth illumination device 42a and an imaging lens 42b, and can image the substrate 2 irradiated with light.

図3は、実装装置の電気制御ブロック図である。図3において、実装装置10の制御装置45はプロセッサとして各種の演算処理を行うCPU(演算処理装置)46と各種情報を記憶するメモリ47とを有する。   FIG. 3 is an electric control block diagram of the mounting apparatus. In FIG. 3, the control device 45 of the mounting apparatus 10 includes a CPU (arithmetic processing device) 46 that performs various arithmetic processes as a processor and a memory 47 that stores various information.

第1Xステージ駆動装置48、第1Xステージ位置検出装置49、第1Yステージ駆動装置50、第1Yステージ位置検出装置51、第1回転ステージ駆動装置52、第1回転ステージ角度検出装置53は、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。さらに、第2Xステージ駆動装置56、第2Xステージ位置検出装置57、第2Yステージ駆動装置58、第2Yステージ位置検出装置59、第2回転ステージ駆動装置60、第2回転ステージ角度検出装置61は、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。さらに、第3Xステージ駆動装置62、第3Xステージ位置検出装置63、第3Yステージ駆動装置64、第3Yステージ位置検出装置65、第3回転ステージ駆動装置66、第3回転ステージ角度検出装置67は、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。さらに、第4ステージ駆動装置68、第4ステージ位置検出装置69、は、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。   The first X stage driving device 48, the first X stage position detecting device 49, the first Y stage driving device 50, the first Y stage position detecting device 51, the first rotating stage driving device 52, and the first rotating stage angle detecting device 53 are input / output. It is connected to the CPU 46 via the interface 54 and the data bus 55. Further, the second X stage driving device 56, the second X stage position detecting device 57, the second Y stage driving device 58, the second Y stage position detecting device 59, the second rotating stage driving device 60, and the second rotating stage angle detecting device 61 are: The CPU 46 is connected via an input / output interface 54 and a data bus 55. Further, the third X stage driving device 62, the third X stage position detecting device 63, the third Y stage driving device 64, the third Y stage position detecting device 65, the third rotating stage driving device 66, and the third rotating stage angle detecting device 67 are: The CPU 46 is connected via an input / output interface 54 and a data bus 55. Further, the fourth stage driving device 68 and the fourth stage position detecting device 69 are connected to the CPU 46 via the input / output interface 54 and the data bus 55.

さらに、第1撮像装置38、第2撮像装置39、第3撮像装置41、第4撮像装置42は、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。さらに、第1照明装置38a、第2照明装置39a、第3照明装置41a、第4照明装置42aは、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。さらに、ヒータ昇降装置35、吸引加熱装置36、入力装置72、表示装置73も、入出力インターフェース54及びデータバス55を介してCPU46に接続されている。   Further, the first imaging device 38, the second imaging device 39, the third imaging device 41, and the fourth imaging device 42 are connected to the CPU 46 via the input / output interface 54 and the data bus 55. Further, the first illumination device 38 a, the second illumination device 39 a, the third illumination device 41 a, and the fourth illumination device 42 a are connected to the CPU 46 via the input / output interface 54 and the data bus 55. Further, the heater elevating device 35, the suction heating device 36, the input device 72, and the display device 73 are also connected to the CPU 46 via the input / output interface 54 and the data bus 55.

第1Xステージ駆動装置48は第1X軸モータ14aを駆動することにより、第1Xステージ14の移動を制御する装置であり、第1Xステージ位置検出装置49は第1Xステージ14の位置を検出する装置である。同様に、第1Yステージ駆動装置50は第1Y軸モータ13aを駆動することにより、第1Yステージ13の移動を制御する装置であり、第1Yステージ位置検出装置51は第1Yステージ13の位置を検出する装置である。第1回転ステージ駆動装置52は第1回転用モータ15aを駆動することにより、第1回転ステージ15の回転を制御する装置であり、第1回転ステージ角度検出装置53は第1回転ステージ15の回転角度を検出する装置である。第1Xステージ位置検出装置49、第1Yステージ位置検出装置51、第1回転ステージ角度検出装置53が第1ステージ17の位置及び回転角度を検出する。そして、第1Xステージ駆動装置48、第1Yステージ駆動装置50、第1回転ステージ駆動装置52が第1ステージ17を移動させることにより、所望の位置にフレキシブル基板6を移動及び停止することが可能となっている。   The first X stage driving device 48 is a device that controls the movement of the first X stage 14 by driving the first X axis motor 14a, and the first X stage position detecting device 49 is a device that detects the position of the first X stage 14. is there. Similarly, the first Y stage driving device 50 is a device that controls the movement of the first Y stage 13 by driving the first Y axis motor 13a, and the first Y stage position detecting device 51 detects the position of the first Y stage 13. It is a device to do. The first rotary stage driving device 52 is a device that controls the rotation of the first rotary stage 15 by driving the first rotary motor 15a, and the first rotary stage angle detecting device 53 is the rotation of the first rotary stage 15. It is a device that detects the angle. The first X stage position detection device 49, the first Y stage position detection device 51, and the first rotation stage angle detection device 53 detect the position and rotation angle of the first stage 17. Then, the first X stage driving device 48, the first Y stage driving device 50, and the first rotary stage driving device 52 move the first stage 17, whereby the flexible substrate 6 can be moved and stopped to a desired position. It has become.

同様に、第2Xステージ駆動装置56は第2X軸モータ21aを駆動することにより、第2Xステージ21の移動を制御する装置であり、第2Xステージ位置検出装置57は第2Xステージ21の位置を検出する装置である。同様に、第2Yステージ駆動装置58は第2Y軸モータ20aを駆動することにより、第2Yステージ20の移動を制御する装置であり、第2Yステージ位置検出装置59は第2Yステージ20の位置を検出する装置である。第2回転ステージ駆動装置60は第2回転用モータ22aを駆動することにより、第2回転ステージ22の回転を制御する装置であり、第2回転ステージ角度検出装置61は第2回転ステージ22の回転角度を検出する装置である。第2Xステージ位置検出装置57、第2Yステージ位置検出装置59、第2回転ステージ角度検出装置61が第2ステージ18の位置及び回転角度を検出する。そして、第2Xステージ駆動装置56、第2Yステージ駆動装置58、第2回転ステージ駆動装置60が第2ステージ18を移動させることにより、所望の位置にフレキシブル基板7を移動及び停止することが可能となっている。   Similarly, the second X stage driving device 56 controls the movement of the second X stage 21 by driving the second X axis motor 21a, and the second X stage position detecting device 57 detects the position of the second X stage 21. It is a device to do. Similarly, the second Y stage driving device 58 is a device that controls the movement of the second Y stage 20 by driving the second Y axis motor 20a, and the second Y stage position detecting device 59 detects the position of the second Y stage 20. It is a device to do. The second rotary stage driving device 60 is a device that controls the rotation of the second rotary stage 22 by driving the second rotary motor 22a, and the second rotary stage angle detecting device 61 is the rotation of the second rotary stage 22. It is a device that detects the angle. The second X stage position detection device 57, the second Y stage position detection device 59, and the second rotation stage angle detection device 61 detect the position and rotation angle of the second stage 18. The second X stage driving device 56, the second Y stage driving device 58, and the second rotary stage driving device 60 can move and stop the flexible substrate 7 to a desired position by moving the second stage 18. It has become.

同様に、第3Xステージ駆動装置62は第3X軸モータ27aを駆動することにより、第3Xステージ27の移動を制御する装置であり、第3Xステージ位置検出装置63は第3Xステージ27の位置を検出する装置である。同様に、第3Yステージ駆動装置64は第3Y軸モータ26aを駆動することにより、第3Yステージ26の移動を制御する装置であり、第3Yステージ位置検出装置65は第3Yステージ26の位置を検出する装置である。第3回転ステージ駆動装置66は第3回転用モータ28aを駆動することにより、第3回転ステージ28の回転を制御する装置であり、第3回転ステージ角度検出装置67は第3回転ステージ28の回転角度を検出する装置である。第3Xステージ位置検出装置63、第3Yステージ位置検出装置65、第3回転ステージ角度検出装置67が第3ステージ24の位置及び回転角度を検出する。そして、第3Xステージ駆動装置62、第3Yステージ駆動装置64、第3回転ステージ駆動装置66が第3ステージ24を移動させることにより、所望の位置に基板2を移動及び停止することが可能となっている。   Similarly, the third X stage driving device 62 is a device that controls the movement of the third X stage 27 by driving the third X axis motor 27a, and the third X stage position detecting device 63 detects the position of the third X stage 27. It is a device to do. Similarly, the third Y stage driving device 64 is a device that controls the movement of the third Y stage 26 by driving the third Y axis motor 26a, and the third Y stage position detecting device 65 detects the position of the third Y stage 26. It is a device to do. The third rotary stage driving device 66 is a device that controls the rotation of the third rotary stage 28 by driving the third rotary motor 28a, and the third rotary stage angle detecting device 67 is the rotation of the third rotary stage 28. It is a device that detects the angle. The third X stage position detection device 63, the third Y stage position detection device 65, and the third rotation stage angle detection device 67 detect the position and rotation angle of the third stage 24. Then, the third X stage driving device 62, the third Y stage driving device 64, and the third rotating stage driving device 66 move the third stage 24, so that the substrate 2 can be moved and stopped to a desired position. ing.

第4ステージ駆動装置68は第4Y軸モータ34fを駆動することにより、第4ステージ34の移動を制御する装置であり、第4ステージ位置検出装置69は第4ステージ34の位置を検出する装置である。第4ステージ位置検出装置69が第4ステージ34の位置を検出して、第4ステージ駆動装置68が第4ステージ34を移動させることにより、所望の位置に吸引加熱装置36を移動及び停止することが可能となっている。   The fourth stage driving device 68 is a device that controls the movement of the fourth stage 34 by driving the fourth Y-axis motor 34f, and the fourth stage position detecting device 69 is a device that detects the position of the fourth stage 34. is there. The fourth stage position detection device 69 detects the position of the fourth stage 34, and the fourth stage drive device 68 moves the fourth stage 34, thereby moving and stopping the suction heating device 36 to a desired position. Is possible.

第1撮像装置38及び第2撮像装置39はフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を撮像する装置であり、撮像した画像データをCPU46に出力することが可能となっている。同様に、第3撮像装置41及び第4撮像装置42は基板2を撮像する装置であり、撮像した画像データをCPU46に出力することが可能となっている。第1照明装置38a及び第2照明装置39aはフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7に光を照射する装置であり、第3照明装置41a及び第4照明装置42aは基板2に光を照射する装置である。第1照明装置38a、第2照明装置39a、第3照明装置41a、第4照明装置42aはCPU46の指示信号により光の照射開始と停止や照射する光の強度を変更可能になっている。   The first imaging device 38 and the second imaging device 39 are devices that image the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7, and can output the captured image data to the CPU 46. Similarly, the third imaging device 41 and the fourth imaging device 42 are devices that image the substrate 2, and can output the captured image data to the CPU 46. The first illumination device 38a and the second illumination device 39a are devices that irradiate light to the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7, and the third illumination device 41a and the fourth illumination device 42a are devices that irradiate the substrate 2 with light. . The first illumination device 38 a, the second illumination device 39 a, the third illumination device 41 a, and the fourth illumination device 42 a can start and stop the light irradiation and change the intensity of the light to be irradiated by an instruction signal from the CPU 46.

ヒータ昇降装置35はCPU46の指示信号により吸引加熱装置36を上昇及び下降させる装置である。吸引加熱装置36はCPU46の指示信号によりフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7の吸着開始と吸着停止とを行う装置であり、さらに、CPU46の指示信号によりフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7の加熱開始と加熱停止とを行う装置である。入力装置72は、実装する各種加工条件を入力する装置であり、例えば、位置合わせ用マーク2a、位置合わせ用マーク6d、位置合わせ用マーク7d、等の座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。表示装置73は、加工条件や、作業状況を表示する装置であり、操作者は、表示装置73に表示される情報を基に、入力装置72を用いて操作を行う。   The heater elevating device 35 is a device that raises and lowers the suction heating device 36 in accordance with an instruction signal from the CPU 46. The suction heating device 36 is a device that starts and stops the suction of the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 according to an instruction signal from the CPU 46, and further starts and stops heating the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 according to an instruction signal from the CPU 46. It is a device which performs. The input device 72 is a device for inputting various processing conditions to be mounted. For example, the input device 72 receives coordinates such as the alignment mark 2a, the alignment mark 6d, and the alignment mark 7d from an external device (not shown) and inputs them. It is a device to do. The display device 73 is a device that displays processing conditions and work status, and an operator performs an operation using the input device 72 based on information displayed on the display device 73.

メモリ47は、RAM、ROM等といった半導体メモリや、ハードディスク、CD−ROMといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、実装装置10における動作の制御手順が記述されたプログラムソフト74を記憶する記憶領域が設定される。さらに、位置合わせ用マーク2a、位置合わせ用マーク6d、位置合わせ用マーク7d、等のマーク位置の座標データであるマーク位置データ75を記憶するための記憶領域も設定される。他にも、第1照明装置38a〜第4照明装置42aが基板2等を照明するときの照明条件のデータである照明条件データ76を記憶するための記憶領域や、第1撮像装置38〜第4撮像装置42が撮像する画像のデータである撮像データ77を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、吸引加熱装置36が加熱するときの加熱条件や吸引加熱装置36を基板2に押圧するときの圧力条件等のデータである圧着条件データ78や、CPU46のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。   The memory 47 is a concept including a semiconductor memory such as a RAM and a ROM, and an external storage device such as a hard disk and a CD-ROM. Functionally, a storage area for storing program software 74 in which a procedure for controlling operations in the mounting apparatus 10 is described is set. Further, a storage area for storing mark position data 75, which is coordinate data of the mark position, such as the alignment mark 2a, the alignment mark 6d, and the alignment mark 7d, is also set. In addition, a storage area for storing illumination condition data 76 that is illumination condition data when the first illumination device 38a to the fourth illumination device 42a illuminate the substrate 2 and the like, and the first imaging device 38 to the first imaging device 38 A storage area for storing imaging data 77 that is image data captured by the four imaging devices 42 is set. In addition, pressure condition data 78 that is data such as heating conditions when the suction heating device 36 heats and pressure conditions when the suction heating device 36 is pressed against the substrate 2, a work area and a temporary file for the CPU 46. And other various storage areas are set.

CPU46は、メモリ47内に記憶されたプログラムソフト74に従って、基板2にフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を配置するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、ステージ制御演算部79、照明制御演算部80、撮像制御演算部81、マーク位置演算部82、圧着制御演算部83などを有する。ステージ制御演算部79は第1ステージ17〜第4ステージ34を所定の場所に移動して停止するための演算を行う。照明制御演算部80は、第1撮像装置38〜第4撮像装置42が適切な画像を撮像するように光の強さを演算する。撮像制御演算部81は第1撮像装置38〜第4撮像装置42に撮像する指示をだして、位置合わせ用マーク2a等の画像を撮像する。そして、マーク位置演算部82は撮像した画像を用いてマークの位置を演算する。マーク位置演算部82は、撮像制御演算部81が演算したマーク位置のデータと第1撮像装置38〜第4撮像装置42の位置データとを用いてマーク位置の座標を演算する。圧着制御演算部83は吸引加熱装置36が基板2とフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7の圧着を実現するための演算を行う。   The CPU 46 performs control for arranging the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 on the substrate 2 in accordance with the program software 74 stored in the memory 47. As specific function implementation units, there are a stage control calculation unit 79, an illumination control calculation unit 80, an imaging control calculation unit 81, a mark position calculation unit 82, a crimp control calculation unit 83, and the like. The stage control calculation unit 79 performs a calculation for moving and stopping the first stage 17 to the fourth stage 34 to a predetermined place. The illumination control calculation unit 80 calculates the light intensity so that the first imaging device 38 to the fourth imaging device 42 capture an appropriate image. The imaging control calculation unit 81 issues an instruction to the first imaging device 38 to the fourth imaging device 42 to capture an image such as the alignment mark 2a. The mark position calculation unit 82 calculates the mark position using the captured image. The mark position calculation unit 82 calculates the coordinate of the mark position using the mark position data calculated by the imaging control calculation unit 81 and the position data of the first imaging device 38 to the fourth imaging device 42. The pressure bonding control calculation unit 83 performs a calculation for the suction heating device 36 to realize pressure bonding between the substrate 2, the flexible substrate 6, and the flexible substrate 7.

(実装構造体の製造方法)
次に、上述した実装装置10を用いて、基板2にフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を配置する製造方法について図4〜図7にて説明する。図4は、基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造工程を示すフローチャートであり、図5〜図7は、基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造方法を説明する図である。
(Manufacturing method of mounting structure)
Next, the manufacturing method which arrange | positions the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 to the board | substrate 2 using the mounting apparatus 10 mentioned above is demonstrated in FIGS. FIG. 4 is a flowchart showing a manufacturing process of a mounting structure in which two substrates are arranged on the substrate. FIGS. 5 to 7 show a manufacturing method of the mounting structure in which two substrates are arranged on the substrate. It is a figure explaining.

ステップS1は、第1マーク測定工程に相当し、2つのフレキシブル基板をステージに載置した後、2つのフレキシブル基板に形成されている位置合わせ用マークの位置を測定する工程である。次にステップS2に移行する。ステップS2は、基板移動工程に相当し、2つのフレキシブル基板を移動して、位置合わせ用マークの相対位置を所定の位置にする工程である。次にステップS3に移行する。ステップS3は、第2マーク測定工程に相当し、基板をステージに載置した後、基板に形成されている位置合わせ用マークの位置を測定する工程である。次にステップS4に移行する。ステップS4は、基板合わせ工程に相当し、基板の上に2つのフレキシブル基板を重ねて、位置を合わせる工程である。次にステップS5に移行する。ステップS5は、実装工程に相当し、基板と2つのフレキシブル基板とを接合する工程である。以上で、基板上に2つの基板が配置された実装構造体を製造する製造工程を終了する。   Step S1 corresponds to a first mark measurement step, and is a step of measuring the positions of alignment marks formed on the two flexible substrates after placing the two flexible substrates on the stage. Next, the process proceeds to step S2. Step S2 corresponds to a substrate moving step, and is a step of moving the two flexible substrates to set the relative position of the alignment mark to a predetermined position. Next, the process proceeds to step S3. Step S3 corresponds to a second mark measurement step, and is a step of measuring the position of the alignment mark formed on the substrate after placing the substrate on the stage. Next, the process proceeds to step S4. Step S4 corresponds to a substrate aligning process, and is a process of aligning the positions by stacking two flexible substrates on the substrate. Next, the process proceeds to step S5. Step S5 corresponds to a mounting process and is a process of bonding the substrate and the two flexible substrates. Thus, the manufacturing process for manufacturing the mounting structure in which the two substrates are arranged on the substrate is completed.

次に、図5〜図7を用いて、図4に示したステップと対応させて、基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造方法を詳細に説明する。図5(a)〜図5(c)はステップS1の第1マーク測定工程に対応する図である。図5(a)に示すように、第1ステージ17の第1載置台16にフレキシブル基板6を載置した後、フレキシブル基板6を第1載置台16に吸着させる。第1載置台16には位置決め用のピンが複数配置され、位置決め用のピンの側面に接するようにフレキシブル基板6を載置することにより、フレキシブル基板6は略所定の位置に配置することができるようになっている。同様に、第2ステージ18の第2載置台23にフレキシブル基板7を載置した後、フレキシブル基板7を第2載置台23に吸着させる。第2載置台23にも位置決め用のピンが複数配置され、位置決め用のピンの側面に接するようにフレキシブル基板7を載置することにより、フレキシブル基板7は略所定の位置に配置することができるようになっている。   Next, a manufacturing method of a mounting structure in which two substrates are arranged on a substrate will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 5A to FIG. 5C are diagrams corresponding to the first mark measurement process of step S1. As shown in FIG. 5A, after the flexible substrate 6 is placed on the first placement table 16 of the first stage 17, the flexible substrate 6 is attracted to the first placement table 16. A plurality of positioning pins are arranged on the first mounting table 16, and the flexible substrate 6 can be arranged at a substantially predetermined position by placing the flexible substrate 6 in contact with the side surface of the positioning pin. It is like that. Similarly, after mounting the flexible substrate 7 on the second mounting table 23 of the second stage 18, the flexible substrate 7 is attracted to the second mounting table 23. A plurality of positioning pins are also arranged on the second mounting table 23. By placing the flexible substrate 7 so as to be in contact with the side surface of the positioning pin, the flexible substrate 7 can be disposed at a substantially predetermined position. It is like that.

次に、第1照明装置38aを点灯することにより、凸部6b及び凸部7bを照射する。そして、第1撮像装置38が凸部6b及び凸部7bを撮像する。同様に、第2照明装置39aを点灯することにより、凸部6c及び凸部7cを照射する。そして、第2撮像装置39が凸部6c及び凸部7cを撮像する。このとき、撮像する画像が鮮明になるように撮像レンズ38b及び撮像レンズ39bのフォーカス調整が事前に実施されている。   Next, the convex part 6b and the convex part 7b are irradiated by turning on the first illumination device 38a. And the 1st imaging device 38 images the convex part 6b and the convex part 7b. Similarly, the projection 6c and the projection 7c are irradiated by turning on the second illumination device 39a. And the 2nd imaging device 39 images the convex part 6c and the convex part 7c. At this time, focus adjustment of the imaging lens 38b and the imaging lens 39b is performed in advance so that an image to be captured becomes clear.

図5(b)は、第1撮像装置38によって撮像された画像84を示している。画像84には位置合わせ用マーク6d及び位置合わせ用マーク7dが撮像されている。従って、1つの画像84を用いて位置合わせ用マーク6d及び位置合わせ用マーク7dの位置を測定することができる。   FIG. 5B shows an image 84 captured by the first imaging device 38. In the image 84, an alignment mark 6d and an alignment mark 7d are captured. Therefore, the position of the alignment mark 6d and the alignment mark 7d can be measured using one image 84.

撮像装置は撮像可能な有効画素が多い方が精度良く位置合わせ用マーク6d及び位置合わせ用マーク7dの位置を測定することができる。一方、撮像装置は有効画素が多い程、画素欠陥の無い撮像装置を製造することが難しいので、画素欠陥が無く有効画素が多い撮像装置を用意することが困難となっている。本実施形態では、例えば、縦方向及び横方向共に1000画素の画素を備えた撮像装置を採用している。そして、撮像範囲を縦横共に0.6mmになるように撮像レンズの倍率を設定することにより、測定分解能を0.6μmにしている。従って、所望の測定分解能に対して、画素数を掛算して撮像範囲を設定する。そして、その撮像範囲に2つの位置合わせ用マークが入るように位置合わせ用マークを形成した後、撮像範囲に入るように配置することにより、2つの位置合わせ用マークの位置を所望の測定分解能で測定することができる。尚、本実施形態においては、第1撮像装置38、第2撮像装置39、第3撮像装置41、第4撮像装置42共に上述の画素数を備えた撮像装置を採用している。そして、上述の撮像レンズの倍率を設定することにより、各撮像装置を用いたときの測定分解能を、例えば、0.6μmにしている。   The imaging device can measure the positions of the alignment mark 6d and the alignment mark 7d with higher accuracy when the number of effective pixels that can be imaged is larger. On the other hand, as the number of effective pixels increases, it is difficult to manufacture an image pickup device free from pixel defects, and thus it is difficult to prepare an image pickup device free from pixel defects and having a large number of effective pixels. In the present embodiment, for example, an imaging apparatus including 1000 pixels in both the vertical direction and the horizontal direction is employed. Then, the measurement resolution is set to 0.6 μm by setting the magnification of the imaging lens so that the imaging range is 0.6 mm both vertically and horizontally. Therefore, the imaging range is set by multiplying the desired measurement resolution by the number of pixels. Then, after the alignment mark is formed so that the two alignment marks are in the imaging range, the two alignment marks are arranged at the desired measurement resolution by arranging them so as to be in the imaging range. Can be measured. In the present embodiment, the first imaging device 38, the second imaging device 39, the third imaging device 41, and the fourth imaging device 42 employ an imaging device having the above-described number of pixels. Then, by setting the magnification of the imaging lens described above, the measurement resolution when using each imaging device is set to 0.6 μm, for example.

次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク6dの中心6f及び位置合わせ用マーク7dの中心7fの位置を演算する。中心6f及び中心7fの位置の演算は、画像84の左下の第1基準位置84aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第1基準位置84aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第1基準位置84aの座標データと第1基準位置84aを原点とする中心6f及び中心7fの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10の座標軸における中心6f及び中心7fの座標を演算する。   Next, the mark position calculation unit 82 calculates the positions of the center 6f of the alignment mark 6d and the center 7f of the alignment mark 7d. The calculation of the positions of the center 6f and the center 7f is performed by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the first reference position 84a at the lower left of the image 84 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the first reference position 84 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the first reference position 84a and the coordinate data of the center 6f and the center 7f with the first reference position 84a as the origin, the mark position calculation unit 82 uses the center 6f on the coordinate axis of the mounting apparatus 10 and The coordinates of the center 7f are calculated.

図5(c)は、第2撮像装置39によって撮像された画像85を示している。画像84と同様に、画像85には位置合わせ用マーク6e及び位置合わせ用マーク7eが撮像されている。従って、1つの画像85を用いて位置合わせ用マーク6e及び位置合わせ用マーク7eの位置を測定することができる。   FIG. 5C shows an image 85 captured by the second imaging device 39. Similar to the image 84, the image 85 includes the alignment mark 6e and the alignment mark 7e. Accordingly, the position of the alignment mark 6e and the alignment mark 7e can be measured using one image 85.

次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク6eの中心6g及び位置合わせ用マーク7eの中心7gの位置を演算する。中心6g及び中心7gの位置の演算は、画像85の左下の第2基準位置85aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第2基準位置85aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第2基準位置85aの座標データと第2基準位置85aを原点とする中心6g及び中心7gの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10の座標軸における中心6g及び中心7gの座標を演算する。   Next, the mark position calculation unit 82 calculates the positions of the center 6g of the alignment mark 6e and the center 7g of the alignment mark 7e. The calculation of the positions of the center 6g and the center 7g is calculated by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the second reference position 85a at the lower left of the image 85 and the measurement resolution. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the second reference position 85 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the second reference position 85a and the coordinate data of the center 6g and the center 7g with the second reference position 85a as the origin, the mark position calculation unit 82 uses the center 6g on the coordinate axis of the mounting apparatus 10 and The coordinates of the center 7g are calculated.

図5(d)はステップS2の基板移動工程に対応する図である。図5(d)に示すように、フレキシブル基板6が第1載置台16に載置され、フレキシブル基板7が第2載置台23に載置されている。ステージ制御演算部79は中心6f、中心6g、中心7f、中心7gを測定したデータと各中心を配置する目標の場所との差分を演算する。   FIG. 5D is a diagram corresponding to the substrate moving process in step S2. As shown in FIG. 5 (d), the flexible substrate 6 is placed on the first placement table 16, and the flexible substrate 7 is placed on the second placement table 23. The stage control calculation unit 79 calculates a difference between data obtained by measuring the center 6f, the center 6g, the center 7f, and the center 7g and a target location where each center is arranged.

具体的には、まず、中心6fと中心6gとの中点を演算し、この中点と中点を配置する目標の場所との差分を演算する。次に、中心6fと中心6gとを結ぶ線分とX軸とがなす角度を演算する。そして、この線分と線分を配置する目標の角度との差分を演算する。続いて、演算した差分にもとづいて第1ステージ17を駆動することにより、フレキシブル基板6をXY方向に移動させ、中点のZ方向を中心にして回転させる。そして、ステージ制御演算部79は中心6f及び中心6gを目標とする場所と略同じ場所に移動する。次に、同様の方法にて、ステージ制御演算部79は中心7f及び中心7gを目標とする場所と略同じ場所に移動する。   Specifically, first, the midpoint between the center 6f and the center 6g is calculated, and the difference between the midpoint and the target location where the midpoint is placed is calculated. Next, the angle formed by the line connecting the center 6f and the center 6g and the X axis is calculated. Then, the difference between this line segment and the target angle for arranging the line segment is calculated. Subsequently, by driving the first stage 17 based on the calculated difference, the flexible substrate 6 is moved in the XY direction and rotated around the Z direction of the middle point. Then, the stage control calculation unit 79 moves to substantially the same location as the target location for the center 6f and the center 6g. Next, by the same method, the stage control calculation unit 79 moves to the substantially same place as the target place with the center 7f and the center 7g.

図6(a)〜図6(c)はステップS3の第2マーク測定工程に対応する図である。図6(a)に示すように、第3ステージ24の第3載置台29に基板2を載置した後、基板2を第3載置台29に吸着させる。第3載置台29には位置決め用のピンが複数配置され、位置決め用のピンの側面に接するように基板2を載置することにより、基板2は略所定の位置に載置することができるようになっている。   FIG. 6A to FIG. 6C are diagrams corresponding to the second mark measurement process in step S3. As shown in FIG. 6A, after the substrate 2 is placed on the third placement table 29 of the third stage 24, the substrate 2 is attracted to the third placement table 29. A plurality of positioning pins are arranged on the third mounting table 29, and the substrate 2 can be placed at a substantially predetermined position by placing the substrate 2 in contact with the side surface of the positioning pins. It has become.

次に、第3照明装置41a及び第4照明装置42aを点灯することにより、位置合わせ用マーク2a及び位置合わせ用マーク2bを照射する。そして、第3撮像装置41が位置合わせ用マーク2aを撮像し、第4撮像装置42が位置合わせ用マーク2bを撮像する。このとき、撮像する画像が鮮明になるように撮像レンズ41b及び撮像レンズ42bのフォーカス調整が事前に実施されている。   Next, the alignment mark 2a and the alignment mark 2b are irradiated by turning on the third illumination device 41a and the fourth illumination device 42a. Then, the third imaging device 41 images the alignment mark 2a, and the fourth imaging device 42 images the alignment mark 2b. At this time, focus adjustment of the imaging lens 41b and the imaging lens 42b is performed in advance so that an image to be captured becomes clear.

図6(b)は、第3撮像装置41によって撮像された画像86を示している。画像86には位置合わせ用マーク2aが撮像されている。次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク2aの中心2cの位置を演算する。中心2cの位置の演算は、画像86の左下の第3基準位置86aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第3基準位置86aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第3基準位置86aの座標データと第3基準位置86aを原点とする中心2cの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10の座標軸における中心2cの座標を演算する。   FIG. 6B shows an image 86 captured by the third imaging device 41. In the image 86, the alignment mark 2a is captured. Next, the mark position calculation unit 82 calculates the position of the center 2c of the alignment mark 2a. The calculation of the position of the center 2c is performed by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the third reference position 86a at the lower left of the image 86 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the third reference position 86 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the third reference position 86a and the coordinate data of the center 2c with the third reference position 86a as the origin, the mark position calculation unit 82 calculates the coordinates of the center 2c on the coordinate axis of the mounting apparatus 10. To do.

図6(c)は、第4撮像装置42によって撮像された画像87を示している。画像86と同様に、画像87には位置合わせ用マーク2bが撮像されている。次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク2bの中心2dの位置を演算する。中心2dの位置の演算は、画像87の左下の第4基準位置87aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第4基準位置87aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第4基準位置87aの座標データと第4基準位置87aを原点とする中心2dの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10の座標軸における中心2dの座標を演算する。   FIG. 6C shows an image 87 captured by the fourth imaging device 42. Similar to the image 86, the alignment mark 2 b is captured in the image 87. Next, the mark position calculation unit 82 calculates the position of the center 2d of the alignment mark 2b. The calculation of the position of the center 2d is performed by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the fourth reference position 87a at the lower left of the image 87 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the fourth reference position 87 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the fourth reference position 87a and the coordinate data of the center 2d with the fourth reference position 87a as the origin, the mark position calculation unit 82 calculates the coordinates of the center 2d on the coordinate axis of the mounting apparatus 10. To do.

図6(d)〜図7(c)はステップS4の基板合わせ工程に対応する図である。図6(d)に示すように、基板2が第3載置台29に載置されている。ステージ制御演算部79は中心2c及び中心2dを測定したデータと各中心を配置する目標の場所との差分を演算する。   FIG. 6D to FIG. 7C are diagrams corresponding to the substrate alignment process in step S4. As shown in FIG. 6D, the substrate 2 is placed on the third placement table 29. The stage control calculation unit 79 calculates the difference between the data obtained by measuring the centers 2c and 2d and the target location where each center is arranged.

具体的には、まず、中心2cと中心2dとの中点を演算し、この中点と中点を配置する目標の場所との差分を演算する。次に、中心2cと中心2dとを結ぶ線分とX軸とがなす角度を演算する。そして、この線分と線分を配置する目標の角度との差分を演算する。続いて、演算した差分にもとづいて第3ステージ24を駆動することにより、基板2をXY方向に移動させ、中点のZ方向を中心にして回転させる。そして、ステージ制御演算部79は中心2c及び中心2dを目標とする場所と略同じ場所に移動する。   Specifically, first, the midpoint between the center 2c and the center 2d is calculated, and the difference between this midpoint and the target location where the midpoint is placed is calculated. Next, the angle formed by the line connecting the center 2c and the center 2d and the X axis is calculated. Then, the difference between this line segment and the target angle for arranging the line segment is calculated. Subsequently, by driving the third stage 24 based on the calculated difference, the substrate 2 is moved in the XY directions and rotated around the Z direction of the middle point. Then, the stage control calculation unit 79 moves to substantially the same location as the target location for the centers 2c and 2d.

次に、図7(a)に示すように、ステージ制御演算部79は第4ステージ34を移動させることにより、吸引加熱装置36をフレキシブル基板6とフレキシブル基板7との間の場所と対向する場所に移動する。続いて、ステージ制御演算部79はヒータ昇降装置35を駆動することにより、吸引加熱装置36を下降させる。そして、ステージ制御演算部79は吸引加熱装置36をフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7に接触させる。次に、ステージ制御演算部79は吸引加熱装置36の基板チャック機構を駆動することにより、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を吸引加熱装置36に吸着させる。そして、ステージ制御演算部79はヒータ昇降装置35を駆動することにより、吸引加熱装置36を上昇させる。   Next, as shown in FIG. 7A, the stage control calculation unit 79 moves the fourth stage 34 so that the suction heating device 36 faces the place between the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7. Move to. Subsequently, the stage control calculation unit 79 drives the heater lifting device 35 to lower the suction heating device 36. Then, the stage control calculation unit 79 brings the suction heating device 36 into contact with the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7. Next, the stage control calculation unit 79 drives the substrate chuck mechanism of the suction heating device 36 to attract the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 to the suction heating device 36. Then, the stage control calculation unit 79 drives the heater elevating device 35 to raise the suction heating device 36.

次に、図7(b)に示すように、ステージ制御演算部79は第4ステージ34を移動させることにより、吸引加熱装置36を基板2と対向する場所に移動する。続いて、図7(c)に示すように、ステージ制御演算部79はヒータ昇降装置35を駆動することにより、吸引加熱装置36を下降させる。このとき、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7は吸引加熱装置36に対して位置合わせされており、吸引加熱装置36は予め設定された位置に移動する。そして、基板2も予め設定された位置に位置合わせされているので、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7と基板2とは予め設定された相対位置に配置される。   Next, as illustrated in FIG. 7B, the stage control calculation unit 79 moves the fourth stage 34 to move the suction heating device 36 to a place facing the substrate 2. Subsequently, as illustrated in FIG. 7C, the stage control calculation unit 79 drives the heater lifting device 35 to lower the suction heating device 36. At this time, the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 are aligned with the suction heating device 36, and the suction heating device 36 moves to a preset position. And since the board | substrate 2 is also aligned to the preset position, the flexible substrate 6, the flexible substrate 7, and the board | substrate 2 are arrange | positioned in the preset relative position.

図7(c)及び図7(d)はステップS5の実装工程に対応する図である。図7(c)に示すように、圧着制御演算部83は所定の圧力でフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を基板2に押圧する。フレキシブル基板6の凹部6aの付近及びフレキシブル基板7の凹部7aの付近で基板2と接触する場所には、予め異方性導電ペーストが塗布された後、この異方性導電ペーストが乾燥されている。続いて、圧着制御演算部83は吸引加熱装置36を発熱させることにより、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を所定の温度まで加熱させる。そして、所定の時間が経た後、圧着制御演算部83は吸引加熱装置36を冷却させる。   FIG. 7C and FIG. 7D are diagrams corresponding to the mounting process of step S5. As shown in FIG. 7C, the crimping control calculation unit 83 presses the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 against the substrate 2 with a predetermined pressure. An anisotropic conductive paste is applied in advance to a place in contact with the substrate 2 in the vicinity of the concave portion 6a of the flexible substrate 6 and in the vicinity of the concave portion 7a of the flexible substrate 7, and then the anisotropic conductive paste is dried. . Subsequently, the crimping control calculation unit 83 causes the suction heating device 36 to generate heat, thereby heating the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 to a predetermined temperature. Then, after a predetermined time has elapsed, the crimping control calculation unit 83 cools the suction heating device 36.

その結果、図7(d)に示すように、基板2とフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7とが固着される。異方性導電ペーストには導電性の粒子が混在しており、この導電性の粒子によりフレキシブル基板6に形成された端子と基板2に形成された端子とが電気的に接続される。同様に、フレキシブル基板7に形成された端子と基板2に形成された端子とが電気的に接続される。基板2、フレキシブル基板6、フレキシブル基板7はそれぞれ位置を調整した後、配置されているので、それぞれ対応する端子は品質よく電気的に接続することができる。以上の工程により、基板上に2つの基板が配置された実装構造体を製造する製造工程を終了する。   As a result, as shown in FIG. 7D, the substrate 2, the flexible substrate 6, and the flexible substrate 7 are fixed. Conductive particles are mixed in the anisotropic conductive paste, and the terminals formed on the flexible substrate 6 and the terminals formed on the substrate 2 are electrically connected by the conductive particles. Similarly, the terminals formed on the flexible substrate 7 and the terminals formed on the substrate 2 are electrically connected. Since the board | substrate 2, the flexible board | substrate 6, and the flexible board | substrate 7 are each arrange | positioned after adjusting a position, each corresponding terminal can be electrically connected with sufficient quality. Through the above steps, the manufacturing process for manufacturing the mounting structure in which two substrates are arranged on the substrate is completed.

上述したように、本実施形態は、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、ステップS1の第1マーク測定工程では、位置合わせ用マーク6d,6e,7d,7eを撮像して、各位置合わせ用マークの位置を測定する。このとき、位置合わせ用マーク6dと位置合わせ用マーク7dの位置合わせ用マークを1つの画像84に撮像して測定している。同様に、位置合わせ用マーク6eと位置合わせ用マーク7eの位置合わせ用マークを1つの画像85に撮像して測定している。従って、1つの位置合わせ用マークを1つの画像に撮像する方法に比べて、少ない回数の撮像により、所定の個数における位置合わせ用マークの位置を測定することができる。その結果、生産性良く位置合わせ用マークの位置を測定することができる。
As described above, the present embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, in the first mark measurement process of step S1, the alignment marks 6d, 6e, 7d, and 7e are imaged and the positions of the alignment marks are measured. At this time, the alignment mark 6d and the alignment mark 7d are imaged on one image 84 and measured. Similarly, the positioning mark 6e and the positioning mark 7e are imaged on one image 85 and measured. Therefore, the position of the alignment marks in a predetermined number can be measured with a small number of times of imaging as compared with the method of imaging one alignment mark in one image. As a result, the position of the alignment mark can be measured with high productivity.

(2)本実施形態によれば、ステップS2の基板移動工程においてフレキシブル基板6とフレキシブル基板7との相対位置を所定の位置に合わせている。そして、ステップS4の基板合わせ工程にてフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7と基板2との相対位置を合わせている。そして、ステップS5の実装工程ではフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を基板2に同時に固着している。従って、実装工程においてフレキシブル基板6と基板2とを固着した後、フレキシブル基板7と基板2とを固着する方法に比べて、生産性良くフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7とを基板2に実装することができる。   (2) According to the present embodiment, the relative positions of the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 are adjusted to a predetermined position in the substrate moving process of step S2. And the relative position of the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7, and the board | substrate 2 is match | combined at the board | substrate matching process of step S4. In the mounting process in step S5, the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 are simultaneously fixed to the substrate 2. Therefore, after the flexible substrate 6 and the substrate 2 are fixed in the mounting process, the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 are mounted on the substrate 2 with higher productivity than the method of fixing the flexible substrate 7 and the substrate 2 together. Can do.

(3)本実施形態によれば、フレキシブル基板6では凸部6bに位置合わせ用マーク6dが形成され、凸部6cに位置合わせ用マーク6eが形成されている。同様に、フレキシブル基板7では凸部7bに位置合わせ用マーク7dが形成され、凸部7cに位置合わせ用マーク7eが形成されている。従って、基板2に第2半導体素子4があるときにも第2半導体素子4を避けて凸部6b、凸部6c、凸部7b、凸部7cを配置することにより、複数の位置合わせ用マークを接近して配置することができる。   (3) According to this embodiment, in the flexible substrate 6, the alignment mark 6d is formed on the convex portion 6b, and the alignment mark 6e is formed on the convex portion 6c. Similarly, in the flexible substrate 7, an alignment mark 7d is formed on the convex portion 7b, and an alignment mark 7e is formed on the convex portion 7c. Accordingly, even when the second semiconductor element 4 is present on the substrate 2, a plurality of alignment marks can be obtained by arranging the convex portions 6b, the convex portions 6c, the convex portions 7b, and the convex portions 7c while avoiding the second semiconductor element 4. Can be placed close together.

(第2の実施形態)
次に、液滴吐出ヘッドとその製造方法の一実施形態について図8〜図14を用いて説明する。この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、実装構造体の製造方法を用いて液滴吐出ヘッドを製造する点にある。尚、第1の実施形態と同じ点については説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, an embodiment of a droplet discharge head and a manufacturing method thereof will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the first embodiment in that a droplet discharge head is manufactured by using a mounting structure manufacturing method. Note that description of the same points as in the first embodiment is omitted.

(液滴吐出ヘッド)
最初に、液滴吐出ヘッドについて説明する。図8は液滴吐出ヘッドの構成を示す概略斜視図である。図8(a)は液状体を供給する側から見た図であり、図8(b)は液滴を吐出する側から見た図である。図8に示すように、液滴吐出ヘッド91は略直方体に形成されている。液滴吐出ヘッド91の長手方向をX方向とし、長手方向と直交する方向をY方向とする。そして、液滴吐出ヘッド91が液滴を吐出する方向をZ方向の逆の方向とする。
(Droplet ejection head)
First, the droplet discharge head will be described. FIG. 8 is a schematic perspective view showing the configuration of the droplet discharge head. FIG. 8A is a view as seen from the liquid supply side, and FIG. 8B is a view as seen from the droplet discharge side. As shown in FIG. 8, the droplet discharge head 91 is formed in a substantially rectangular parallelepiped. The longitudinal direction of the droplet discharge head 91 is defined as the X direction, and the direction orthogonal to the longitudinal direction is defined as the Y direction. The direction in which the droplet discharge head 91 discharges droplets is the direction opposite to the Z direction.

液滴吐出ヘッド91は、液滴を吐出するノズル92が形成されたノズルプレート93を備えている。ノズルプレート93は液滴に対する耐腐食性と剛性のある板材であれば良く、金属板、シリコン板、ガラス板等を用いることができる。本実施形態では、例えば、ステンレス板を採用している。ノズルプレート93にはノズル92が2列配列して形成され、各列には9個のノズル92が形成されている。各列のノズル数は9個に限定されず、液滴吐出ヘッド91の要求仕様に合わせて設定できる。   The droplet discharge head 91 includes a nozzle plate 93 on which nozzles 92 for discharging droplets are formed. The nozzle plate 93 only needs to be a plate material that is resistant to droplets and is resistant to corrosion, and a metal plate, a silicon plate, a glass plate, or the like can be used. In the present embodiment, for example, a stainless plate is employed. The nozzle plate 93 is formed with two rows of nozzles 92, and nine nozzles 92 are formed in each row. The number of nozzles in each row is not limited to nine and can be set according to the required specifications of the droplet discharge head 91.

ノズルプレート93と重ねて略直方体の流路形成基板94が配置され、流路形成基板94と重ねて振動板95が配置されている。流路形成基板94は、液滴に対する耐腐食性と剛性のある板材であれば良く、金属板、シリコン板、ガラス板等を用いることができる。本実施形態では、例えば、シリコン単結晶からなる板を採用している。振動板95は液滴に対する耐腐食性と振動可能な伸縮性と強度のある板材であれば良く、金属板、シリコン板、ガラス板、強化樹脂等を用いることができる。本実施形態では、例えば、ステンレス板を採用している。   A substantially rectangular parallelepiped flow path forming substrate 94 is disposed so as to overlap with the nozzle plate 93, and a vibration plate 95 is disposed so as to overlap with the flow path forming substrate 94. The flow path forming substrate 94 only needs to be a plate material having corrosion resistance and rigidity against droplets, and a metal plate, a silicon plate, a glass plate, or the like can be used. In the present embodiment, for example, a plate made of a silicon single crystal is employed. The vibration plate 95 may be a plate material that has corrosion resistance against droplets, vibration that can vibrate, and strength, and may be a metal plate, a silicon plate, a glass plate, a reinforced resin, or the like. In the present embodiment, for example, a stainless plate is employed.

略直方体をした一対の補強部材96及び補強部材97が振動板95の上に重ねて配置されている。補強部材96と補強部材97とは離して配置され、補強部材96及び補強部材97の間には空間が形成されている。補強部材96及び補強部材97は液滴に対する耐腐食性と剛性のある板材であれば良く、金属板、シリコン板、ガラス板等を用いることができる。本実施形態では、例えば、シリコン単結晶からなる板を採用している。補強部材96及び補強部材97にはそれぞれ導入口96a及び導入口97aが形成され、吐出する液滴を構成する液状体を供給可能になっている。   A pair of reinforcing members 96 and 97 having a substantially rectangular parallelepiped shape are arranged on the diaphragm 95 so as to overlap each other. The reinforcing member 96 and the reinforcing member 97 are arranged apart from each other, and a space is formed between the reinforcing member 96 and the reinforcing member 97. The reinforcing member 96 and the reinforcing member 97 may be any plate material that is resistant to liquid droplets and has rigidity, and may be a metal plate, a silicon plate, a glass plate, or the like. In the present embodiment, for example, a plate made of a silicon single crystal is employed. An introduction port 96a and an introduction port 97a are formed in the reinforcing member 96 and the reinforcing member 97, respectively, so that the liquid material constituting the liquid droplets to be discharged can be supplied.

補強部材96と重ねて配線基板としてのフレキシブル基板98が配置され、補強部材97と重ねて配線基板としてのフレキシブル基板99が配置されている。フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99は、補強部材96と補強部材97との間で一部が振動板95と固着されている。フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99は可撓性を有する基板であり、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99の振動板95と対向する面には液滴吐出ヘッド91に電気信号を供給する配線が形成されている。そして、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99の配線が形成されている面には駆動回路部100が配置されている。駆動回路部100は、液滴吐出ヘッド91に入力される電気信号から液滴を吐出する駆動信号を形成する機能を備えている。   A flexible board 98 as a wiring board is disposed so as to overlap with the reinforcing member 96, and a flexible board 99 as a wiring board is disposed so as to overlap with the reinforcing member 97. A part of the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 is fixed to the diaphragm 95 between the reinforcing member 96 and the reinforcing member 97. The flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 are flexible substrates, and wirings for supplying electric signals to the droplet discharge head 91 are formed on the surfaces of the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 facing the vibration plate 95. Yes. The drive circuit unit 100 is disposed on the surface of the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 where the wiring is formed. The drive circuit unit 100 has a function of forming a drive signal for discharging a droplet from an electric signal input to the droplet discharge head 91.

図9は、液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図である。図9に示すように、流路形成基板94においてノズル92と対向する場所には圧力室101が形成され、ノズル92と圧力室101とが連通して配置されている。従って、流路形成基板94にはノズル92と同数の圧力室101がノズル92と同様に2列配列して配置されている。流路形成基板94には流路孔102が形成され、流路孔102は各圧力室101と図示しない流路により接続されている。   FIG. 9 is a schematic exploded perspective view showing the structure of the droplet discharge head. As shown in FIG. 9, a pressure chamber 101 is formed at a location facing the nozzle 92 in the flow path forming substrate 94, and the nozzle 92 and the pressure chamber 101 are arranged to communicate with each other. Therefore, the same number of pressure chambers 101 as the nozzles 92 are arranged on the flow path forming substrate 94 in two rows like the nozzles 92. A channel hole 102 is formed in the channel forming substrate 94, and the channel hole 102 is connected to each pressure chamber 101 by a channel (not shown).

流路形成基板94と重ねて配置される振動板95には圧力室101と対向する場所に駆動部としての駆動素子103が配置されている。従って、振動板95にはノズル92と同数の駆動素子103がノズル92と同様に2列配列して配置されている。駆動素子103には下電極膜104及び上電極膜105が配置され、下電極膜104及び上電極膜105は、2列の駆動素子103の間に向かって配置されている。下電極膜104は2列の駆動素子103の間でX方向に延在する配線104aと接続されている。そして、各駆動素子103の下電極膜104は電気的に接続されている。振動板95において流路孔102と対向する場所には流路孔106が配置され、流路孔102と流路孔106とが接続して配置されている。   A driving element 103 serving as a driving unit is disposed at a location facing the pressure chamber 101 on the vibration plate 95 disposed so as to overlap the flow path forming substrate 94. Therefore, the same number of drive elements 103 as the nozzles 92 are arranged in the diaphragm 95 in two rows like the nozzles 92. A lower electrode film 104 and an upper electrode film 105 are disposed on the drive element 103, and the lower electrode film 104 and the upper electrode film 105 are disposed between the two rows of drive elements 103. The lower electrode film 104 is connected to the wiring 104 a extending in the X direction between the two rows of driving elements 103. The lower electrode film 104 of each drive element 103 is electrically connected. A flow path hole 106 is disposed at a position facing the flow path hole 102 in the vibration plate 95, and the flow path hole 102 and the flow path hole 106 are connected to each other.

駆動素子103が配置された振動板95の上に重ねて、一対の補強部材96及び補強部材97が配置されている。補強部材96に形成された導入口96aと、流路孔106、流路孔102は接続して配置され、各孔を液状体が通過可能になっている。同様に、補強部材97に形成された導入口97aと、流路孔106、流路孔102は接続して配置され、各孔を液状体が通過可能になっている。   A pair of reinforcing member 96 and reinforcing member 97 are disposed on the diaphragm 95 on which the drive element 103 is disposed. The introduction port 96a formed in the reinforcing member 96, the flow path hole 106, and the flow path hole 102 are connected and arranged so that the liquid can pass through each hole. Similarly, the introduction port 97a formed in the reinforcing member 97, the flow path hole 106, and the flow path hole 102 are connected to each other so that the liquid can pass through each hole.

図10(a)は、液滴吐出ヘッドを示す模式平面図である。図10(a)に示すように、フレキシブル基板98は左下側に凸部98aを備え、右下側に凸部98bを備えている。そして、フレキシブル基板98の振動板95側の面において凸部98aと凸部98bとの間は端子が配列して配置された端子部98gとなっている。同様に、フレキシブル基板99は左上側に凸部99aを備え、右上側に凸部99bを備えている。そして、フレキシブル基板99の振動板95側の面において凸部99aと凸部99bとの間は端子が配列して配置された端子部99gとなっている。この凸部98aと凸部99aとが対向して配置され、凸部98bと凸部99bとが対向して配置されている。   FIG. 10A is a schematic plan view showing a droplet discharge head. As shown in FIG. 10A, the flexible substrate 98 includes a convex portion 98a on the lower left side and a convex portion 98b on the lower right side. A terminal portion 98g in which terminals are arranged is arranged between the convex portion 98a and the convex portion 98b on the surface of the flexible substrate 98 on the diaphragm 95 side. Similarly, the flexible substrate 99 includes a convex portion 99a on the upper left side and a convex portion 99b on the upper right side. And, on the surface of the flexible substrate 99 on the vibration plate 95 side, a terminal portion 99g in which terminals are arranged is arranged between the convex portion 99a and the convex portion 99b. The convex portion 98a and the convex portion 99a are arranged to face each other, and the convex portion 98b and the convex portion 99b are arranged to face each other.

図10(b)及び図10(c)は、フレキシブル基板を示す要部模式平面図である。図10(b)に示すように、凸部98aには位置合わせ用マーク98cが形成され、凸部99aには位置合わせ用マーク99cが形成されている。そして、凸部98aと凸部99aとの間の場所における振動板95上には位置合わせ用マーク95aが形成されている。同様に、図10(c)に示すように、凸部98bには位置合わせ用マーク98dが形成され、凸部99bには位置合わせ用マーク99dが形成されている。そして、凸部98bと凸部99bとの間の場所における振動板95上には位置合わせ用マーク95bが形成されている。位置合わせ用マーク95a及び位置合わせ用マーク95bは下電極膜104または上電極膜105と同じ材料を用いて同じ工程にて製造することが可能である。   FIG.10 (b) and FIG.10 (c) are principal part schematic plan views which show a flexible substrate. As shown in FIG. 10B, an alignment mark 98c is formed on the convex portion 98a, and an alignment mark 99c is formed on the convex portion 99a. An alignment mark 95a is formed on the diaphragm 95 at a location between the convex portion 98a and the convex portion 99a. Similarly, as shown in FIG. 10C, an alignment mark 98d is formed on the convex portion 98b, and an alignment mark 99d is formed on the convex portion 99b. An alignment mark 95b is formed on the diaphragm 95 at a location between the convex portion 98b and the convex portion 99b. The alignment mark 95a and the alignment mark 95b can be manufactured in the same process using the same material as the lower electrode film 104 or the upper electrode film 105.

図10(d)は液滴吐出ヘッドの構造を示す模式断面図である。図10(d)に示すように、液滴吐出ヘッド91はノズルプレート93を備え、ノズルプレート93にはノズル92が形成されている。ノズルプレート93の上側であって、ノズル92と対向する場所には、ノズル92と連通する圧力室101が形成されている。そして、図示しない供給装置に貯留されている液状体111が図示しない流路及び導入口97a、流路孔102等の流路101a及び圧力室入口101bを通って圧力室101に供給される。   FIG. 10D is a schematic cross-sectional view showing the structure of the droplet discharge head. As shown in FIG. 10D, the droplet discharge head 91 includes a nozzle plate 93, and the nozzle 92 is formed on the nozzle plate 93. A pressure chamber 101 communicating with the nozzle 92 is formed at a location above the nozzle plate 93 and facing the nozzle 92. Then, the liquid material 111 stored in a supply device (not shown) is supplied to the pressure chamber 101 through a flow channel 101a and a pressure chamber inlet 101b such as a flow channel and an introduction port 97a and a flow channel hole 102 (not shown).

圧力室101の上側には、上下方向(Z方向)に振動して、圧力室101内の容積を拡大縮小する振動板95と、左右方向に伸縮して振動板95を振動させる駆動部としての駆動素子103が配設されている。駆動素子103は、下電極膜104、圧電素子107、上電極膜105がこの順で振動板95の上面に配置されている。振動板95の駆動素子103が配置された側の面には図示しない絶縁膜が形成され、下電極膜104及び上電極膜105に電流が流動するときにも、振動板95には電流が流動しないようになっている。そして、下電極膜104と上電極膜105との間に電圧を印加することにより圧電素子107が伸縮可能になっている。   Above the pressure chamber 101, a vibration plate 95 that vibrates in the vertical direction (Z direction) and expands and contracts the volume in the pressure chamber 101, and a drive unit that expands and contracts in the left-right direction to vibrate the vibration plate 95. A drive element 103 is provided. In the drive element 103, a lower electrode film 104, a piezoelectric element 107, and an upper electrode film 105 are arranged on the upper surface of the diaphragm 95 in this order. An insulating film (not shown) is formed on the surface of the diaphragm 95 on which the driving element 103 is disposed, and even when a current flows through the lower electrode film 104 and the upper electrode film 105, a current flows through the diaphragm 95. It is supposed not to. The piezoelectric element 107 can be expanded and contracted by applying a voltage between the lower electrode film 104 and the upper electrode film 105.

駆動素子103の上側(Z方向)には補強部材97が配置されている。補強部材97の駆動素子103側には凹部97bが形成され、凹部97bが駆動素子103を覆って配置されている。そして、補強部材97が駆動素子103を密閉するように配置されているので、補強部材97は駆動素子103に塵が付着することを防止できる。   A reinforcing member 97 is arranged above the drive element 103 (Z direction). A recess 97 b is formed on the drive element 103 side of the reinforcing member 97, and the recess 97 b is disposed so as to cover the drive element 103. And since the reinforcement member 97 is arrange | positioned so that the drive element 103 may be sealed, the reinforcement member 97 can prevent that the dust adheres to the drive element 103. FIG.

振動板95及び補強部材97の上にはフレキシブル基板99が配置されている。フレキシブル基板99の振動板95側の面には複数の図示しない配線が配置されている。そして、この配線と上電極膜105及び下電極膜104とが電気的に接続されている。補強部材96とフレキシブル基板98との間には樹脂材料等からなるレジスト108が塗布され、フレキシブル基板98に形成された電気回路に塵や水分が付着することを防止している。同様に、補強部材97とフレキシブル基板99との間にも樹脂材料等からなるレジスト108が塗布されている。さらに、振動板95のフレキシブル基板98とフレキシブル基板99との間にもレジスト108が塗布されている。   A flexible substrate 99 is disposed on the vibration plate 95 and the reinforcing member 97. A plurality of wirings (not shown) are arranged on the surface of the flexible substrate 99 on the vibration plate 95 side. The wiring is electrically connected to the upper electrode film 105 and the lower electrode film 104. A resist 108 made of a resin material or the like is applied between the reinforcing member 96 and the flexible substrate 98 to prevent dust and moisture from adhering to the electric circuit formed on the flexible substrate 98. Similarly, a resist 108 made of a resin material or the like is applied between the reinforcing member 97 and the flexible substrate 99. Further, a resist 108 is also applied between the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 of the vibration plate 95.

そして、液滴吐出ヘッド91が駆動素子103を制御駆動するためのノズル駆動信号を受けると、駆動素子103が伸縮して、振動板95が圧力室101内の容積を拡大縮小して圧力室101を加圧する。その結果、液滴吐出ヘッド91のノズル92から、縮小した容積分の液状体111が液滴112として吐出される。ノズル92、圧力室101、振動板95、駆動素子103等により液滴吐出素子113が構成され、1つの液滴吐出ヘッド91には複数の液滴吐出素子113が配列して形成されている。   When the droplet discharge head 91 receives a nozzle drive signal for controlling and driving the drive element 103, the drive element 103 expands and contracts, and the diaphragm 95 expands and contracts the volume in the pressure chamber 101. Pressurize. As a result, a reduced volume of the liquid material 111 is discharged as a droplet 112 from the nozzle 92 of the droplet discharge head 91. The nozzle 92, the pressure chamber 101, the vibration plate 95, the drive element 103, and the like constitute a droplet discharge element 113, and a plurality of droplet discharge elements 113 are arranged in one droplet discharge head 91.

(液滴吐出ヘッドの製造方法)
次に、第1の実施形態における実装構造体の製造方法を用いて、液滴吐出ヘッドを製造する製造方法について図11〜図14にて説明する。図11は、液滴吐出ヘッドを製造する製造工程を示すフローチャートであり、図12〜図14は、液滴吐出ヘッドの製造方法を説明する図である。
(Method for manufacturing droplet discharge head)
Next, a manufacturing method for manufacturing a droplet discharge head using the method for manufacturing a mounting structure according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 11 is a flowchart showing a manufacturing process for manufacturing a droplet discharge head, and FIGS. 12 to 14 are diagrams for explaining a method for manufacturing the droplet discharge head.

ステップS11は、配線基板マーク測定工程に相当し、2つのフレキシブル基板をステージに載置した後、2つのフレキシブル基板に形成されている位置合わせ用マークの位置を測定する工程である。次にステップS12に移行する。ステップS12は、基板移動工程に相当し、2つのフレキシブル基板の相対位置を移動して、位置合わせ用マークの相対位置を所定の位置にする工程である。次にステップS13に移行する。ステップS13は、振動板マーク測定工程に相当し、基板をステージに載置した後、振動板に形成されている位置合わせ用マークの位置を測定する工程である。次にステップS14に移行する。ステップS14は、基板合わせ工程に相当し、振動板の上に2つのフレキシブル基板を重ねて、位置を合わせる工程である。次にステップS15に移行する。ステップS15は、実装工程に相当し、振動板と2つのフレキシブル基板とを接合する工程である。次にステップS16に移行する。ステップS16は、レジスト塗布工程に相当し、振動板上及び振動板とフレキシブル基板との間にレジストを塗布する工程である。以上で、液滴吐出ヘッドを製造する製造工程を終了する。   Step S11 corresponds to a wiring board mark measurement step, and is a step of measuring the position of the alignment mark formed on the two flexible substrates after placing the two flexible substrates on the stage. Next, the process proceeds to step S12. Step S12 corresponds to a substrate moving step, and is a step of moving the relative position of the two flexible substrates to set the relative position of the alignment mark to a predetermined position. Next, the process proceeds to step S13. Step S13 corresponds to a vibration plate mark measurement step, and is a step of measuring the position of the alignment mark formed on the vibration plate after placing the substrate on the stage. Next, the process proceeds to step S14. Step S <b> 14 corresponds to a substrate alignment process, and is a process of aligning the positions by overlapping two flexible substrates on the diaphragm. Next, the process proceeds to step S15. Step S15 corresponds to a mounting process and is a process of joining the diaphragm and the two flexible boards. Next, the process proceeds to step S16. Step S16 corresponds to a resist coating process and is a process of coating a resist on the diaphragm and between the diaphragm and the flexible substrate. This completes the manufacturing process for manufacturing the droplet discharge head.

次に、図12〜図14を用いて、図11に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッド91の製造方法を詳細に説明する。図12(a)〜図12(c)はステップS11の配線基板マーク測定工程に対応する図である。図12(a)に示すように、第1ステージ17の第1載置台16にフレキシブル基板98を載置した後、フレキシブル基板98を第1載置台16に吸着させる。同様に、第2ステージ18の第2載置台23にフレキシブル基板99を載置した後、フレキシブル基板99を第2載置台23に吸着させる。駆動回路部100が実装されたフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99の製造方法は公知であり説明を省略する。第1載置台16及び第2載置台23には駆動回路部100の形状に凹部が形成され、駆動回路部100をその凹部に配置してフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99を第1載置台16及び第2載置台23にそれぞれ載置する。従って、第1載置台16及び第2載置台23はフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99をそれぞれ吸着することが可能になっている。   Next, a manufacturing method of the droplet discharge head 91 will be described in detail with reference to FIGS. 12 to 14 in association with the steps shown in FIG. FIG. 12A to FIG. 12C are diagrams corresponding to the wiring board mark measuring step in step S11. As shown in FIG. 12A, after the flexible substrate 98 is placed on the first placement table 16 of the first stage 17, the flexible substrate 98 is attracted to the first placement table 16. Similarly, after the flexible substrate 99 is placed on the second placement table 23 of the second stage 18, the flexible substrate 99 is attracted to the second placement table 23. The manufacturing method of the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 on which the drive circuit unit 100 is mounted is well known, and the description thereof is omitted. The first mounting table 16 and the second mounting table 23 are formed with recesses in the shape of the drive circuit unit 100, and the drive circuit unit 100 is disposed in the recesses so that the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 are attached to the first mounting table 16 and It mounts on the 2nd mounting base 23, respectively. Therefore, the first mounting table 16 and the second mounting table 23 can suck the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99, respectively.

次に、第1照明装置38aを点灯することにより、凸部98a及び凸部99aを照射する。そして、第1撮像装置38が凸部98a及び凸部99aを撮像する。同様に、第2照明装置39aを点灯することにより、凸部98b及び凸部99bを照射する。そして、第2撮像装置39が凸部98b及び凸部99bを撮像する。   Next, the first illumination device 38a is turned on to irradiate the convex portion 98a and the convex portion 99a. And the 1st imaging device 38 images the convex part 98a and the convex part 99a. Similarly, the projection 98b and the projection 99b are irradiated by turning on the second illumination device 39a. And the 2nd imaging device 39 images the convex part 98b and the convex part 99b.

図12(b)は、第1撮像装置38によって撮像された画像114を示している。画像114には位置合わせ用マーク98c及び位置合わせ用マーク99cが撮像されている。従って、1つの画像114を用いて位置合わせ用マーク98c及び位置合わせ用マーク99cの位置を測定することができる。   FIG. 12B shows an image 114 captured by the first imaging device 38. In the image 114, an alignment mark 98c and an alignment mark 99c are captured. Therefore, the position of the alignment mark 98c and the alignment mark 99c can be measured using one image 114.

次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク98cの中心98e及び位置合わせ用マーク99cの中心99eの位置を演算する。中心98e及び中心99eの位置の演算は、画像114の左下の第1基準位置114aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第1基準位置114aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第1基準位置114aの座標データと第1基準位置114aを原点とする中心98e及び中心99eの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10の座標軸における中心98e及び中心99eの座標を演算する。   Next, the mark position calculation unit 82 calculates the positions of the center 98e of the alignment mark 98c and the center 99e of the alignment mark 99c. The calculation of the positions of the center 98e and the center 99e is performed by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the first reference position 114a at the lower left of the image 114 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the first reference position 114 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the first reference position 114a and the coordinate data of the center 98e and the center 99e with the first reference position 114a as the origin, the mark position calculation unit 82 uses the center 98e on the coordinate axis of the mounting apparatus 10 and The coordinates of the center 99e are calculated.

図12(c)は、第2撮像装置39によって撮像された画像115を示している。画像114と同様に、画像115には位置合わせ用マーク98d及び位置合わせ用マーク99dが撮像されている。従って、1つの画像115を用いて位置合わせ用マーク98d及び位置合わせ用マーク99dの位置を測定することができる。   FIG. 12C shows an image 115 captured by the second imaging device 39. Similar to the image 114, an alignment mark 98d and an alignment mark 99d are captured in the image 115. Therefore, the position of the alignment mark 98d and the alignment mark 99d can be measured using one image 115.

次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク98dの中心98f及び位置合わせ用マーク99dの中心99fの位置を演算する。中心98f及び中心99fの位置の演算は、画像115の左下の第2基準位置115aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第2基準位置115aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第2基準位置115aの座標データと第2基準位置115aを原点とする中心98f及び中心99fの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10の座標軸における中心98f及び中心99fの座標を演算する。   Next, the mark position calculation unit 82 calculates the positions of the center 98f of the alignment mark 98d and the center 99f of the alignment mark 99d. The calculation of the positions of the center 98f and the center 99f is performed by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the second reference position 115a at the lower left of the image 115 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the second reference position 115 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the second reference position 115a and the coordinate data of the center 98f and the center 99f with the second reference position 115a as the origin, the mark position calculation unit 82 uses the center 98f on the coordinate axis of the mounting apparatus 10 and The coordinates of the center 99f are calculated.

図12(d)はステップS12の基板移動工程に対応する図である。図12(d)に示すように、フレキシブル基板98が第1載置台16に載置され、フレキシブル基板99が第2載置台23に載置されている。ステージ制御演算部79は中心98e、中心98f、中心99e、中心99fを測定したデータと各中心を配置する目標の場所との差分を演算する。   FIG. 12D is a diagram corresponding to the substrate moving process in step S12. As shown in FIG. 12 (d), the flexible substrate 98 is placed on the first placement table 16, and the flexible substrate 99 is placed on the second placement table 23. The stage control calculation unit 79 calculates a difference between data obtained by measuring the center 98e, the center 98f, the center 99e, and the center 99f and a target location where each center is arranged.

具体的には、まず、中心98eと中心98fとの中点を演算し、この中点と中点を配置する目標の場所との差分を演算する。次に、中心98eと中心98fとを結ぶ線分とX軸とがなす角度を演算する。そして、この線分と線分を配置する目標の角度との差分を演算する。続いて、演算した差分にもとづいて第1ステージ17を駆動することにより、フレキシブル基板98をXY方向に移動させ、中点のZ方向を中心にして回転させる。そして、ステージ制御演算部79は中心98e及び中心98fを目標とする場所と略同じ場所に移動する。次に、同様の方法にて、ステージ制御演算部79は中心99e及び中心99fを目標とする場所と略同じ場所に移動する。   Specifically, first, the midpoint between the center 98e and the center 98f is calculated, and the difference between the midpoint and the target location where the midpoint is placed is calculated. Next, the angle formed by the line connecting the center 98e and the center 98f and the X axis is calculated. Then, the difference between this line segment and the target angle for arranging the line segment is calculated. Subsequently, by driving the first stage 17 based on the calculated difference, the flexible substrate 98 is moved in the XY directions and rotated around the Z direction of the middle point. Then, the stage control calculation unit 79 moves to the substantially same place as the target place with the center 98e and the center 98f. Next, in the same manner, the stage control calculation unit 79 moves the center 99e and the center 99f to substantially the same place as the target place.

図13(a)〜図13(c)はステップS13の振動板マーク測定工程に対応する図である。図13(a)に示すように、第3ステージ24の第3載置台29に吐出ヘッド本体116を載置した後、吐出ヘッド本体116を第3載置台29に吸着させる。吐出ヘッド本体116は、ノズルプレート93、流路形成基板94、振動板95、補強部材96、補強部材97が組み立てられたものであり、液滴吐出ヘッド91の1部分が形成された物である。吐出ヘッド本体116の製造方法は公知であり、説明を省略する。   FIG. 13A to FIG. 13C are diagrams corresponding to the diaphragm mark measuring step in step S13. As shown in FIG. 13A, after the ejection head main body 116 is placed on the third mounting base 29 of the third stage 24, the ejection head main body 116 is adsorbed to the third mounting base 29. The discharge head main body 116 is an assembly of the nozzle plate 93, the flow path forming substrate 94, the vibration plate 95, the reinforcing member 96, and the reinforcing member 97, and is formed by forming a portion of the droplet discharge head 91. . The manufacturing method of the discharge head main body 116 is well-known, and description thereof is omitted.

次に、第3照明装置41a及び第4照明装置42aを点灯することにより、位置合わせ用マーク95a及び位置合わせ用マーク95bを照射する。そして、第3撮像装置41が位置合わせ用マーク95aを撮像し、第4撮像装置42が位置合わせ用マーク95bを撮像する。このとき、撮像する画像が鮮明になるように撮像レンズ41b及び撮像レンズ42bのフォーカス調整が事前に実施されている。   Next, the alignment mark 95a and the alignment mark 95b are irradiated by turning on the third illumination device 41a and the fourth illumination device 42a. Then, the third imaging device 41 images the alignment mark 95a, and the fourth imaging device 42 images the alignment mark 95b. At this time, focus adjustment of the imaging lens 41b and the imaging lens 42b is performed in advance so that an image to be captured becomes clear.

図13(b)は、第3撮像装置41によって撮像された画像117を示している。画像117には位置合わせ用マーク95aが撮像されている。次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク95aの中心95cの位置を演算する。中心95cの位置の演算は、画像117の左下の第3基準位置117aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第3基準位置117aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第3基準位置117aの座標データと第3基準位置117aを原点とする中心95cの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸における中心95cの座標を演算する。   FIG. 13B shows an image 117 captured by the third imaging device 41. An alignment mark 95a is captured in the image 117. Next, the mark position calculation unit 82 calculates the position of the center 95c of the alignment mark 95a. The calculation of the position of the center 95c is calculated by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the third reference position 117a at the lower left of the image 117 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the third reference position 117 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the third reference position 117a and the coordinate data of the center 95c with the third reference position 117a as the origin, the mark position calculation unit 82 calculates the coordinates of the center 95c on the coordinate axis in the mounting apparatus 10. To do.

図13(c)は、第4撮像装置42によって撮像された画像118を示している。画像117と同様に、画像118には位置合わせ用マーク95bが撮像されている。次に、マーク位置演算部82は位置合わせ用マーク95bの中心95dの位置を演算する。中心95dの位置の演算は、画像118の左下の第4基準位置118aを原点として、X方向及びY方向の画素の個数に測定分解能を掛算して算出する。次に、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸上の第4基準位置118aの座標データをメモリ47から入力する。続いて、この第4基準位置118aの座標データと第4基準位置118aを原点とする中心95dの座標データとを用いて、マーク位置演算部82は実装装置10における座標軸における中心95dの座標を演算する。   FIG. 13C shows an image 118 captured by the fourth imaging device 42. Similar to the image 117, the alignment mark 95 b is captured in the image 118. Next, the mark position calculation unit 82 calculates the position of the center 95d of the alignment mark 95b. The calculation of the position of the center 95d is performed by multiplying the number of pixels in the X direction and the Y direction by the measurement resolution with the fourth reference position 118a at the lower left of the image 118 as the origin. Next, the mark position calculation unit 82 inputs the coordinate data of the fourth reference position 118 a on the coordinate axis in the mounting apparatus 10 from the memory 47. Subsequently, using the coordinate data of the fourth reference position 118a and the coordinate data of the center 95d with the fourth reference position 118a as the origin, the mark position calculation unit 82 calculates the coordinates of the center 95d on the coordinate axis in the mounting apparatus 10. To do.

図13(d)〜図14(c)はステップS14の基板合わせ工程に対応する図である。図13(d)に示すように、吐出ヘッド本体116が第3載置台29に載置されている。ステージ制御演算部79は中心95c及び中心95dを測定したデータと各中心を配置する目標の場所との差分を演算する。   FIGS. 13D to 14C are diagrams corresponding to the substrate alignment process of step S14. As shown in FIG. 13 (d), the ejection head main body 116 is placed on the third placement table 29. The stage control calculation unit 79 calculates the difference between the data obtained by measuring the centers 95c and 95d and the target location where each center is arranged.

具体的には、まず、中心95cと中心95dとの中点を演算し、この中点と中点を配置する目標の場所との差分を演算する。次に、中心95cと中心95dとを結ぶ線分とX軸とがなす角度を演算する。そして、この線分と線分を配置する目標の角度との差分を演算する。続いて、演算した差分にもとづいて第3ステージ24を駆動することにより、吐出ヘッド本体116をXY方向に移動させ、中点のZ方向を中心にして回転させる。そして、ステージ制御演算部79は中心95c及び中心95dを目標とする場所と略同じ場所に移動する。   Specifically, first, the midpoint between the center 95c and the center 95d is calculated, and the difference between the midpoint and the target location where the midpoint is placed is calculated. Next, the angle formed by the line connecting the center 95c and the center 95d and the X axis is calculated. Then, the difference between this line segment and the target angle for arranging the line segment is calculated. Subsequently, by driving the third stage 24 based on the calculated difference, the ejection head main body 116 is moved in the XY direction and rotated around the Z direction of the middle point. Then, the stage control calculation unit 79 moves to substantially the same place as the target place with the centers 95c and 95d.

次に、図14(a)に示すように、ステージ制御演算部79は第4ステージ34を移動させることにより、吸引加熱装置36をフレキシブル基板98とフレキシブル基板99との間の場所と対向する場所に移動する。続いて、ステージ制御演算部79はヒータ昇降装置35を駆動することにより、吸引加熱装置36を下降させる。そして、ステージ制御演算部79は吸引加熱装置36をフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99に接触させる。次に、ステージ制御演算部79は吸引加熱装置36の基板チャック機構を駆動することにより、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99を吸引加熱装置36に吸着させる。そして、ステージ制御演算部79はヒータ昇降装置35を駆動することにより、吸引加熱装置36を上昇させる。   Next, as shown in FIG. 14A, the stage control calculation unit 79 moves the fourth stage 34 to place the suction heating device 36 opposite to the place between the flexible board 98 and the flexible board 99. Move to. Subsequently, the stage control calculation unit 79 drives the heater lifting device 35 to lower the suction heating device 36. Then, the stage control calculation unit 79 brings the suction heating device 36 into contact with the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99. Next, the stage control calculation unit 79 drives the substrate chuck mechanism of the suction heating device 36 to attract the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 to the suction heating device 36. Then, the stage control calculation unit 79 drives the heater elevating device 35 to raise the suction heating device 36.

次に、図14(b)に示すように、ステージ制御演算部79は第4ステージ34を移動させることにより、吸引加熱装置36を吐出ヘッド本体116と対向する場所に移動する。続いて、図14(c)に示すように、ステージ制御演算部79はヒータ昇降装置35を駆動することにより、吸引加熱装置36を下降させる。このとき、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99は吸引加熱装置36に対して位置合わせされており、吸引加熱装置36は予め設定された位置に移動する。そして、吐出ヘッド本体116も予め設定された位置に位置合わせされているので、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99と吐出ヘッド本体116とは予め設定された相対位置に配置される。   Next, as illustrated in FIG. 14B, the stage control calculation unit 79 moves the fourth stage 34, thereby moving the suction heating device 36 to a location facing the discharge head main body 116. Subsequently, as illustrated in FIG. 14C, the stage control calculation unit 79 drives the heater lifting device 35 to lower the suction heating device 36. At this time, the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 are aligned with the suction heating device 36, and the suction heating device 36 moves to a preset position. Since the discharge head main body 116 is also aligned at a preset position, the flexible substrate 98, the flexible substrate 99, and the discharge head main body 116 are disposed at a preset relative position.

図14(c)はステップS15の実装工程に対応する図である。図14(c)に示すように、圧着制御演算部83は所定の圧力でフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99を振動板95に押圧する。フレキシブル基板98の端子部98gの付近及びフレキシブル基板99の端子部99gの付近で振動板95と接触する場所には、予め異方性導電ペーストが塗布された後、この異方性導電ペーストが乾燥されている。続いて、圧着制御演算部83は吸引加熱装置36を発熱させることにより、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99を所定の温度まで加熱させる。そして、所定の時間が経た後、圧着制御演算部83は吸引加熱装置36を冷却させる。その結果、振動板95とフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99とが固着される。異方性導電ペーストによりフレキシブル基板98に形成された端子と振動板95に形成された端子とが電気的に接続される。同様に、フレキシブル基板99に形成された端子と振動板95に形成された端子とが電気的に接続される。吐出ヘッド本体116の振動板95、フレキシブル基板98、フレキシブル基板99はそれぞれ位置を調整した後、配置されているので、それぞれ対応する端子は品質よく電気的に接続することができる。   FIG. 14C is a diagram corresponding to the mounting process of step S15. As illustrated in FIG. 14C, the crimping control calculation unit 83 presses the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 against the diaphragm 95 with a predetermined pressure. An anisotropic conductive paste is applied in advance to a place in contact with the diaphragm 95 in the vicinity of the terminal portion 98g of the flexible substrate 98 and in the vicinity of the terminal portion 99g of the flexible substrate 99, and then the anisotropic conductive paste is dried. Has been. Subsequently, the pressure bonding control calculation unit 83 causes the suction heating device 36 to generate heat, thereby heating the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 to a predetermined temperature. Then, after a predetermined time has elapsed, the crimping control calculation unit 83 cools the suction heating device 36. As a result, the diaphragm 95, the flexible substrate 98, and the flexible substrate 99 are fixed. The terminals formed on the flexible substrate 98 and the terminals formed on the diaphragm 95 are electrically connected by the anisotropic conductive paste. Similarly, the terminals formed on the flexible substrate 99 and the terminals formed on the diaphragm 95 are electrically connected. Since the diaphragm 95, the flexible substrate 98, and the flexible substrate 99 of the discharge head main body 116 are arranged after adjusting their positions, the corresponding terminals can be electrically connected with high quality.

図14(d)はステップS16のレジスト塗布工程に対応する図である。図14(d)に示すように、補強部材96とフレキシブル基板98との間にレジスト108の材料を塗布する。同様に、補強部材97とフレキシブル基板99との間にレジスト108の材料を塗布する。さらに、振動板95、フレキシブル基板98、フレキシブル基板99上の端子部98g及び端子部99gの付近にレジスト108の材料を塗布する。その後、吐出ヘッド本体116を乾燥させることにより、レジスト108を固化する。以上の工程により、液滴吐出ヘッド91を製造する製造工程を終了する。   FIG. 14D is a diagram corresponding to the resist coating process in step S16. As shown in FIG. 14D, a resist 108 material is applied between the reinforcing member 96 and the flexible substrate 98. Similarly, the material of the resist 108 is applied between the reinforcing member 97 and the flexible substrate 99. Further, the material of the resist 108 is applied to the vibration plate 95, the flexible substrate 98, the terminal portion 98g on the flexible substrate 99, and the vicinity of the terminal portion 99g. Thereafter, the resist 108 is solidified by drying the discharge head body 116. With the above steps, the manufacturing process for manufacturing the droplet discharge head 91 is completed.

上述したように、本実施形態は、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、ステップS11の配線基板マーク測定工程では、フレキシブル基板98及びフレキシブル基板99における位置合わせ用マーク98c,98d,99c,99dを撮像して、位置合わせ用マーク98c,98d,99c,99dの位置を測定する。このとき、2つの位置合わせ用マークを1つの画像に撮像して測定している。従って、1つの位置合わせ用マークを1つの画像に撮像する方法に比べて、少ない回数の撮像により位置合わせ用マーク98c,98d,99c,99dの位置を測定することができる。その結果、生産性良く位置合わせ用マーク98c,98d,99c,99dの位置を測定できる為、生産性良く液滴吐出ヘッド91を製造することができる。
As described above, the present embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, in the wiring board mark measuring step in step S11, the alignment marks 98c, 98d, 99c, and 99d on the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 are imaged, and the alignment marks 98c, The positions 98d, 99c, and 99d are measured. At this time, two alignment marks are captured in one image and measured. Therefore, the positions of the alignment marks 98c, 98d, 99c, and 99d can be measured with a small number of imaging compared to a method of capturing one alignment mark in one image. As a result, since the positions of the alignment marks 98c, 98d, 99c, and 99d can be measured with high productivity, the droplet discharge head 91 can be manufactured with high productivity.

(2)本実施形態によれば、ステップS12の基板移動工程においてフレキシブル基板98とフレキシブル基板99との相対位置を所定の位置に合わせている。そして、ステップS14の基板合わせ工程にてフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99と振動板95との相対位置を合わせている。そして、ステップS15の実装工程ではフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99と振動板95とを固着している。従って、ステップS15の実装工程においてフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99を1つずつ振動板95に固着する方法に比べて、生産性良くフレキシブル基板98及びフレキシブル基板99を振動板95に実装することができる。   (2) According to the present embodiment, the relative positions of the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 are adjusted to a predetermined position in the substrate moving process of step S12. Then, the relative positions of the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 and the diaphragm 95 are aligned in the substrate alignment step of step S14. In the mounting process in step S15, the flexible substrate 98, the flexible substrate 99, and the diaphragm 95 are fixed. Therefore, the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 can be mounted on the vibration plate 95 with higher productivity than the method of fixing the flexible substrate 98 and the flexible substrate 99 to the vibration plate 95 one by one in the mounting process of step S15. .

尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良等を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記第1の実施形態では、フレキシブル基板6の角に凸部6b及び凸部6cが形成され、フレキシブル基板7の角に凸部7b及び凸部7cが形成されていたが、凸部が配置される場所は角に限定されない。例えば、図15(a)に示すように、角以外の場所に凸部121を配置して、凸部121に位置合わせ用マーク122を配置しても良い。この場合にも、複数の位置合わせ用マーク122を1つの画像123に撮像することにより、生産性よく位置合わせ用マーク122の位置を測定することができる。さらに、凸部121を配置する場所の自由度を大きくすることができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
The present embodiment is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be added. A modification will be described below.
(Modification 1)
In the first embodiment, the convex portions 6b and the convex portions 6c are formed at the corners of the flexible substrate 6 and the convex portions 7b and the convex portions 7c are formed at the corners of the flexible substrate 7, but the convex portions are arranged. The location is not limited to the corner. For example, as shown in FIG. 15A, the convex part 121 may be arranged at a place other than the corner, and the alignment mark 122 may be arranged on the convex part 121. Also in this case, the position of the alignment mark 122 can be measured with high productivity by capturing a plurality of alignment marks 122 in one image 123. Furthermore, the freedom degree of the place which arrange | positions the convex part 121 can be enlarged. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例2)
前記第1の実施形態では、フレキシブル基板6の角に凸部6b及び凸部6cが形成され、凸部6b、凸部6cにそれぞれ位置合わせ用マーク6d、位置合わせ用マーク6eを配置したが、位置合わせ用マークを配置する場所は、凸部に限定されない。さらに、位置合わせ用マークを配置する場所は基板の角に限定されない。図15(b)に示すように、基板124の辺124aに近い場所に位置合わせ用マークを配置することにより、複数の位置合わせ用マーク125を近づけて配置することができる。この場合にも、複数の位置合わせ用マークを1つの画像126に撮像することにより、生産性良く位置合わせ用マーク125の位置を測定することができる。基板124に凸部が形成されないので、外形形状が変形し難くすることができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 2)
In the first embodiment, the convex portion 6b and the convex portion 6c are formed at the corners of the flexible substrate 6, and the alignment mark 6d and the alignment mark 6e are arranged on the convex portion 6b and the convex portion 6c, respectively. The place where the alignment mark is arranged is not limited to the convex portion. Further, the position where the alignment mark is arranged is not limited to the corner of the substrate. As shown in FIG. 15B, by arranging the alignment marks near the side 124a of the substrate 124, a plurality of alignment marks 125 can be arranged close to each other. Also in this case, the position of the alignment mark 125 can be measured with high productivity by capturing a plurality of alignment marks in one image 126. Since no convex portion is formed on the substrate 124, the outer shape can be made difficult to deform. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例3)
前記第1の実施形態では、2つの位置合わせ用マークを1つの画像に撮像したが、3つ以上でも良い。図15(b)に示すように、3つ以上の位置合わせ用マークを近づけることにより、1つの画像126に3つ以上の位置合わせ用マークを撮像することができる。基板124は角が直角に形成され、角に近い場所に位置合わせ用マーク125を配置することにより、1つの画像126に4つの位置合わせ用マーク125を撮像することができる。さらに、角を90度未満にすることにより、1つの画像126に5つ以上の位置合わせ用マーク125を撮像することができる。1つの画像126に撮像する位置合わせ用マーク125の数が多い方が少ない場合に比べて1つの画像で多くの位置合わせ用マーク125の位置を測定することができる。従って、生産性良く位置合わせ用マーク125の位置を測定することができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 3)
In the first embodiment, two alignment marks are captured in one image, but three or more may be used. As shown in FIG. 15B, three or more alignment marks can be imaged in one image 126 by bringing three or more alignment marks close to each other. The substrate 124 is formed with a right angle, and the alignment mark 125 is arranged at a location near the corner, so that the four alignment marks 125 can be imaged in one image 126. Furthermore, by setting the angle to less than 90 degrees, five or more alignment marks 125 can be captured in one image 126. Compared with the case where the number of alignment marks 125 to be captured in one image 126 is larger, the position of many alignment marks 125 can be measured with one image. Therefore, the position of the alignment mark 125 can be measured with high productivity. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例4)
前記第1の実施形態では、2つの基板を対向させて配置したが、基板は2つに限定されない。図15(c)及び図15(d)に示すように、3つ以上の基板127を連結して配置しても良い。この場合にも、複数の位置合わせ用マーク129を1つの画像128に撮像することにより、生産性良く位置合わせ用マーク129の位置を測定することができる。また、基板127の配置パターンの自由度が大きくなるので、基板127を配置し易くすることができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 4)
In the first embodiment, two substrates are arranged to face each other, but the number of substrates is not limited to two. As shown in FIGS. 15C and 15D, three or more substrates 127 may be connected and arranged. Also in this case, the position of the alignment mark 129 can be measured with high productivity by capturing a plurality of alignment marks 129 in one image 128. Further, since the degree of freedom of the arrangement pattern of the substrate 127 is increased, the substrate 127 can be easily arranged. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例5)
前記第1の実施形態では、縦横方向共に1000画素の画素を備えた撮像装置を採用した。そして、撮像範囲を縦横共に0.6mmになるように撮像レンズの倍率を設定することにより、測定分解能を0.6μmにしていた。画素数と撮像レンズの倍率との組み合わせはこれに限らず、他の組み合わせでも良い。撮像装置の画素数は縦横方向共に1000画素を超えて、2000画素でも良い。測定分解能が0.3μmと小さくなるので、さらに精度良く測定することができる。また、撮像範囲を縦横共に1.2mmに広くしても良い。そして、縦横方向共に1000画素の画素を備えた撮像装置を採用することにより、測定分解能を0.6μmにしても良い。凸部とマークとを形成するときに微細さが要求されなくなるので、凸部とマークを形成し易くすることができる。また、撮像レンズの倍率を高くしても良い。この場合にも測定分解能が小さくなるので、さらに精度良く測定することができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 5)
In the first embodiment, an imaging apparatus having 1000 pixels in both the vertical and horizontal directions is employed. Then, the measurement resolution is set to 0.6 μm by setting the magnification of the imaging lens so that the imaging range is 0.6 mm both vertically and horizontally. The combination of the number of pixels and the magnification of the imaging lens is not limited to this, and other combinations may be used. The number of pixels of the imaging device may exceed 1000 pixels in both the vertical and horizontal directions and may be 2000 pixels. Since the measurement resolution is as small as 0.3 μm, it is possible to measure with higher accuracy. Further, the imaging range may be widened to 1.2 mm both vertically and horizontally. The measurement resolution may be set to 0.6 μm by adopting an imaging device having 1000 pixels in both the vertical and horizontal directions. Since the fineness is not required when the convex portions and the marks are formed, the convex portions and the marks can be easily formed. Further, the magnification of the imaging lens may be increased. In this case as well, the measurement resolution becomes small, so that the measurement can be performed with higher accuracy. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例6)
前記第1の実施形態では、位置合わせ用マーク6d,6e,7d,7eは円形に形成されたが、円形に限らない。例えば、四角形や十字形等の図形から1点が抽出できる図形であれば良い。4角形は対角を用いて中心となる点を演算し易い図形である。また、十字形も2つの直線の交差する点を抽出し易いので、特定の1点を演算し易い図形である。このような図形を用いることにより簡便に特定の1点を抽出することができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 6)
In the first embodiment, the alignment marks 6d, 6e, 7d, and 7e are formed in a circular shape, but are not limited to a circular shape. For example, any figure can be used as long as it can extract one point from a figure such as a rectangle or a cross. A quadrangle is a figure that can easily calculate a central point using a diagonal. Also, the cross shape is a figure that is easy to calculate a specific point because it is easy to extract a point where two straight lines intersect. By using such a figure, a specific point can be easily extracted. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例7)
前記第1の実施形態において、基板2に形成された端子と位置合わせ用マーク2a及び位置合わせ用マーク2bとは同じ材料を用いて同じ工程にて形成されても良い。位置合わせ用マーク2a及び位置合わせ用マーク2bは撮像装置にて撮像可能なマークであれば良いので、端子を同じ材料にて形成されても良い。そして、端子を形成する工程で同時に形成することにより、端子を形成する工程と、位置合わせ用マーク2a及び位置合わせ用マーク2bを形成する工程とを2つの工程で形成する場合に比べて、生産性良く位置合わせ用マーク2a及び位置合わせ用マーク2bを形成することができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 7)
In the first embodiment, the terminal formed on the substrate 2, the alignment mark 2a, and the alignment mark 2b may be formed in the same process using the same material. Since the alignment mark 2a and the alignment mark 2b may be marks that can be imaged by the imaging apparatus, the terminals may be formed of the same material. Then, by forming simultaneously in the step of forming the terminal, the process of forming the terminal and the step of forming the alignment mark 2a and the alignment mark 2b are produced compared to the case of forming in two steps. The alignment mark 2a and the alignment mark 2b can be formed with good performance. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例8)
前記第1の実施形態では、ステップS1の第1マーク測定工程とステップS2の基板移動工程の後、ステップS3の第2マーク測定工程を実施したが、ステップの順番を変更しても良い。例えば、ステップS1とステップS2とを実施している間にステップS3を並行して実施しても良い。短い時間でステップS1からステップS3まで実施されるので、生産性良く位置合わせ用マークの位置を測定することができる。また、ステップS3を実施した後、ステップS1及びステップS2を行っても良い。この場合にも、生産性良く位置合わせ用マークの位置を測定することができる。
(Modification 8)
In the first embodiment, after the first mark measurement process in step S1 and the substrate movement process in step S2, the second mark measurement process in step S3 is performed. However, the order of the steps may be changed. For example, step S3 may be performed in parallel while step S1 and step S2 are being performed. Since the steps S1 to S3 are performed in a short time, the position of the alignment mark can be measured with high productivity. Moreover, after implementing step S3, you may perform step S1 and step S2. Also in this case, the position of the alignment mark can be measured with high productivity.

さらに、ステップS1の後にステップS3を実施し、ステップS3の後にステップS2とを行っても良い。さらに、ステップS1とステップS3を同時に実施し、その後にステップS2を行っても良い。ステップS1とステップS3とを同時に実施することにより、生産性良く位置合わせ用マークの位置を測定することができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。   Further, step S3 may be performed after step S1, and step S2 may be performed after step S3. Furthermore, step S1 and step S3 may be performed simultaneously, and then step S2 may be performed. By performing step S1 and step S3 simultaneously, the position of the alignment mark can be measured with high productivity. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例9)
前記第1の実施形態では、ステップS2の基板移動工程においてフレキシブル基板6とフレキシブル基板7との相対位置を調整した後、ステップS4の基板合わせ工程においてフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を基板2に配置した。ステップS2の後に再度ステップS1の第1マーク測定工程を行い、位置合わせ用マークの相対位置を測定して検査しても良い。そして、位置合わせ用マークの相対位置が所定の位置にあることを検査してステップS4に移行しても良い。さらに精度良くフレキシブル基板6とフレキシブル基板7との相対位置を調整することができる。
(Modification 9)
In the first embodiment, after adjusting the relative positions of the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 in the substrate moving process in step S2, the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 are arranged on the substrate 2 in the substrate alignment process in step S4. did. After step S2, the first mark measurement process of step S1 may be performed again to measure and inspect the relative position of the alignment mark. Then, it may be inspected that the relative position of the alignment mark is at a predetermined position, and the process may proceed to step S4. Furthermore, the relative position of the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 can be adjusted with high accuracy.

(変形例10)
前記第1の実施形態では、ステップS1の第1マーク測定工程の後、ステップS2の基板移動工程においてフレキシブル基板6とフレキシブル基板7との相対位置を調整した後、ステップS4の基板合わせ工程においてフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を基板2に配置した。これに限らず、ステップS2を省略する方法を採用しても良い。この場合には、吸引加熱装置36はフレキシブル基板6とフレキシブル基板7とを別々に吸着可能にする。そして、ステップS1にて位置合わせ用マーク6d,6e,7d,7eの位置を測定する。そして、ステップS4において、まずフレキシブル基板6を基板2に配置する。このとき、第3ステージ24を駆動することにより、フレキシブル基板6と基板2との相対位置を所定の位置に合わせる。次に、フレキシブル基板7を基板2に配置する。このとき、第3ステージ24を駆動することにより、フレキシブル基板7と基板2との相対位置を所定の位置に合わせる。そして、ステップS5の実装工程において実装する。この方法の場合には、第1ステージ17及び第2ステージ18を移動させないので、実装装置10の第1ステージ17及び第2ステージ18が移動する機構を除くことができる。従って、実装装置10を簡便な装置にすることができる。
(Modification 10)
In the first embodiment, after the first mark measurement process in step S1, the relative position between the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 is adjusted in the substrate moving process in step S2, and then the flexible in the substrate alignment process in step S4. The substrate 6 and the flexible substrate 7 are arranged on the substrate 2. Not limited to this, a method of omitting step S2 may be adopted. In this case, the suction heating device 36 can adsorb the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 separately. In step S1, the positions of the alignment marks 6d, 6e, 7d, 7e are measured. In step S4, first, the flexible substrate 6 is placed on the substrate 2. At this time, the relative position of the flexible substrate 6 and the substrate 2 is adjusted to a predetermined position by driving the third stage 24. Next, the flexible substrate 7 is disposed on the substrate 2. At this time, the relative position between the flexible substrate 7 and the substrate 2 is adjusted to a predetermined position by driving the third stage 24. And it mounts in the mounting process of step S5. In the case of this method, since the first stage 17 and the second stage 18 are not moved, the mechanism for moving the first stage 17 and the second stage 18 of the mounting apparatus 10 can be omitted. Therefore, the mounting apparatus 10 can be a simple apparatus.

(変形例11)
前記第1の実施形態では、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7は可撓性を有していた。第1半導体素子3及び第3半導体素子5のように基板2上に段差を形成する物がない場合には、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7は可撓性を有しない基板でも良い。従って、グラスファイバをエポキシ樹脂にて成形した基板や、シリコンを用いた基板等の基板を用いることができる。
(Modification 11)
In the first embodiment, the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 have flexibility. When there is no object forming a step on the substrate 2 as in the first semiconductor element 3 and the third semiconductor element 5, the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 may be non-flexible substrates. Therefore, it is possible to use a substrate such as a substrate obtained by molding glass fiber with an epoxy resin or a substrate using silicon.

(変形例12)
前記第1の実施形態では、凸部6b,6c,7b,7cは矩形に形成されたが、矩形に限らず他の形状でも良い。例えば、楕円形や多角形でも良い。基板2上の配置する素子の形状に合わせて設定しても良い。基板2上の配置する素子の設計をし易くすることができる。この内容は前記第2の実施形態にも適用することができる。
(Modification 12)
In the first embodiment, the convex portions 6b, 6c, 7b, and 7c are formed in a rectangular shape, but the shape is not limited to a rectangular shape and may be other shapes. For example, an ellipse or a polygon may be used. You may set according to the shape of the element arrange | positioned on the board | substrate 2. FIG. It is possible to easily design elements to be arranged on the substrate 2. This content can also be applied to the second embodiment.

(変形例13)
前記第1の実施形態では、フレキシブル基板6に位置合わせ用マーク6dが配置され、フレキシブル基板7に位置合わせ用マーク7dが配置された。そして、位置合わせ用マーク6dと位置合わせ用マーク7dの略中央の場所と対向する基板2の場所に位置合わせ用マーク2aを配置した。基板2に配置する位置合わせ用マークは、フレキシブル基板6及びフレキシブル基板7を組み立てた後の位置合わせ用マーク6d及び位置合わせ用マーク7dと対向する場所に配置しても良い。第3撮像装置41が基板2に配置された位置合わせ用マークを撮像してCPU46がメモリ47に記憶する。そして、組み立てた後、第3撮像装置41が位置合わせ用マーク6dと位置合わせ用マーク7dを撮像して、CPU46が重なった位置合わせ用マークの位置を比較することにより基板2に対するフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7の位置を測定することができる。このとき、基板2の位置合わせ用マークとフレキシブル基板6及びフレキシブル基板7の位置合わせ用マークを比較することにより、位置合わせ用マーク位置の差を精度良く測定することができる。
(Modification 13)
In the first embodiment, the alignment mark 6 d is disposed on the flexible substrate 6, and the alignment mark 7 d is disposed on the flexible substrate 7. Then, the alignment mark 2a is arranged at a location on the substrate 2 opposite to a substantially central location between the alignment mark 6d and the alignment mark 7d. The alignment mark to be arranged on the substrate 2 may be arranged at a position facing the alignment mark 6d and the alignment mark 7d after the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7 are assembled. The third imaging device 41 captures an alignment mark placed on the substrate 2 and the CPU 46 stores it in the memory 47. Then, after the assembly, the third imaging device 41 images the alignment mark 6d and the alignment mark 7d, and the CPU 46 compares the position of the overlapping alignment mark, whereby the flexible substrate 6 and the substrate 2 are compared. The position of the flexible substrate 7 can be measured. At this time, by comparing the alignment mark of the substrate 2 with the alignment marks of the flexible substrate 6 and the flexible substrate 7, the difference in the alignment mark position can be measured with high accuracy.

第1の実施形態にかかわり、(a)は実装構造体の構成を示す概略斜視図、(b)は実装構造体の模式平面図。(A) is a schematic perspective view which shows the structure of a mounting structure in connection with 1st Embodiment, (b) is a schematic plan view of a mounting structure. (a)は実装装置の模式平面図、(b)実装装置の模式側面図。(A) is a schematic plan view of a mounting apparatus, (b) A schematic side view of a mounting apparatus. 実装装置の電気制御ブロック図。The electrical control block diagram of a mounting apparatus. 基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing process of the mounting structure by which two board | substrates are arrange | positioned on the board | substrate. 基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the mounting structure by which two board | substrates are arrange | positioned on the board | substrate. 基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the mounting structure by which two board | substrates are arrange | positioned on the board | substrate. 基板上に2つの基板が配置された実装構造体の製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of the mounting structure by which two board | substrates are arrange | positioned on the board | substrate. 第2の実施形態にかかわる滴吐出ヘッドの構成を示す概略斜視図。FIG. 6 is a schematic perspective view illustrating a configuration of a droplet discharge head according to a second embodiment. 液滴吐出ヘッドの構造を示す概略分解斜視図。FIG. 3 is a schematic exploded perspective view showing a structure of a droplet discharge head. (a)は液滴吐出ヘッドを示す模式平面図、(b)及び(c)はフレキシブル基板を示す要部模式平面図、(c)はフレキシブル基板を示す要部模式平面図、(d)は液滴吐出ヘッドの構造を示す模式断面図。(A) is a schematic plan view showing a droplet discharge head, (b) and (c) are main part schematic plan views showing a flexible substrate, (c) is a main part schematic plan view showing a flexible substrate, and (d) is a main part schematic plan view. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a droplet discharge head. 液滴吐出ヘッドを製造する製造工程を示すフローチャート。6 is a flowchart showing a manufacturing process for manufacturing a droplet discharge head. 液滴吐出ヘッドの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of a droplet discharge head. 液滴吐出ヘッドの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of a droplet discharge head. 液滴吐出ヘッドの製造方法を説明する図。The figure explaining the manufacturing method of a droplet discharge head. 変形例にかかわる基板の配置例を示す図。The figure which shows the example of arrangement | positioning of the board | substrate in connection with a modification.

符号の説明Explanation of symbols

2a,2b,6d,6e,7d,7e,95a,95b,98c,98d,99c,99d,122,125,129…位置合わせ用マーク、2…第2配線基板としての基板、6,7…第1配線基板としてのフレキシブル基板、6b,6c,7b,7c,98a,98b,99a,99b,121…凸部、95…振動板、98,99…配線基板としてのフレキシブル基板、103…駆動部としての駆動素子。   2a, 2b, 6d, 6e, 7d, 7e, 95a, 95b, 98c, 98d, 99c, 99d, 122, 125, 129... Alignment marks, 2. 1 flexible substrate as a wiring substrate, 6b, 6c, 7b, 7c, 98a, 98b, 99a, 99b, 121 ... convex portion, 95 ... vibration plate, 98, 99 ... flexible substrate as wiring substrate, 103 ... as drive unit Drive element.

Claims (8)

配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の第1配線基板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する第1マーク測定工程と、
配線と位置合わせ用マークとが配置された第2配線基板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する第2マーク測定工程と、
前記第1マーク測定工程の測定結果と前記第2マーク測定工程の測定結果とを用いて、前記第1配線基板の配線と前記第2配線基板の配線とが対向する場所に前記第1配線基板と前記第2配線基板とを相対移動する基板合わせ工程と、
前記第1配線基板の配線と前記第2配線基板の配線とを接続して固定する実装工程と、を有し、
前記第1マーク測定工程において、複数の前記位置合わせ用マークを1つの画像に撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定することを特徴とする実装構造体の製造方法。
A first mark measuring step of imaging the alignment marks of a plurality of first wiring boards on which wiring and alignment marks are arranged, and measuring the positions of the alignment marks;
A second mark measurement step of imaging the alignment mark on the second wiring board on which the wiring and the alignment mark are arranged, and measuring the position of the alignment mark;
Using the measurement result of the first mark measurement process and the measurement result of the second mark measurement process, the first wiring board is placed at a location where the wiring of the first wiring board and the wiring of the second wiring board face each other. And a substrate alignment step of relatively moving the second wiring substrate;
A mounting step of connecting and fixing the wiring of the first wiring board and the wiring of the second wiring board;
In the first mark measuring step, a plurality of the alignment marks are picked up in one image, and the position of the alignment mark is measured.
請求項1に記載の実装構造体の製造方法であって、
前記第1マーク測定工程の測定結果を用いて、複数の前記第1配線基板の相対位置を所定の位置に移動する基板移動工程、をさらに有することを特徴とする実装構造体の製造方法。
It is a manufacturing method of the mounting structure according to claim 1,
A method for manufacturing a mounting structure, further comprising a substrate moving step of moving a relative position of the plurality of first wiring substrates to a predetermined position using a measurement result of the first mark measuring step.
液滴を吐出するための駆動部が振動板を振動させる液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
配線と複数の位置合わせ用マークとが配置された前記振動板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する振動板マーク測定工程と、
配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の配線基板の前記位置合わせ用マークを撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定する配線基板マーク測定工程と、
前記振動板マーク測定工程の測定結果と前記配線基板マーク測定工程の測定結果とを用いて、前記振動板の配線と前記配線基板の配線とが対向する場所に前記振動板と前記配線基板とを相対移動する基板合わせ工程と、
前記振動板の配線と前記配線基板の配線とを接続して固定する実装工程と、を有し、
前記配線基板マーク測定工程において、複数の前記位置合わせ用マークを1つの画像に撮像し、前記位置合わせ用マークの位置を測定することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
A method for manufacturing a droplet discharge head in which a driving unit for discharging droplets vibrates the diaphragm,
A diaphragm mark measurement step of imaging the alignment mark of the diaphragm in which wiring and a plurality of alignment marks are arranged, and measuring the position of the alignment mark;
A wiring board mark measuring step of imaging the positioning marks of a plurality of wiring boards on which wiring and positioning marks are arranged, and measuring the positions of the positioning marks;
Using the measurement result of the vibration plate mark measurement step and the measurement result of the wiring substrate mark measurement step, the vibration plate and the wiring substrate are placed at locations where the wiring of the vibration plate and the wiring of the wiring substrate face each other. A relatively moving substrate alignment process;
A mounting step of connecting and fixing the wiring of the diaphragm and the wiring of the wiring board;
In the wiring board mark measurement step, a method of manufacturing a droplet discharge head, wherein a plurality of the alignment marks are captured in one image and the positions of the alignment marks are measured.
請求項3に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記配線基板マーク測定工程の測定結果を用いて、複数の前記配線基板の相対位置を所定の位置に移動する基板移動工程、をさらに有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
A method of manufacturing a droplet discharge head according to claim 3,
A method of manufacturing a droplet discharge head, further comprising: a substrate moving step of moving a relative position of the plurality of wiring substrates to a predetermined position using a measurement result of the wiring substrate mark measuring step.
配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の第1配線基板と、
配線と位置合わせ用マークとが配置された第2配線基板と、を備え、
前記第1配線基板の配線と前記第2配線基板の配線とが接続して実装され、
複数の前記第1配線基板における前記位置合わせ用マークのうち少なくとも2つの前記位置合わせ用マークが、前記第1配線基板と前記第2配線基板とを実装するときに前記位置合わせ用マークを撮像する撮像装置の撮像範囲に配置されていることを特徴とする実装構造体。
A plurality of first wiring boards on which wiring and alignment marks are arranged;
A second wiring board on which wiring and alignment marks are arranged,
The wiring of the first wiring board and the wiring of the second wiring board are connected and mounted,
At least two of the alignment marks in the plurality of first wiring boards pick up an image of the alignment marks when the first wiring board and the second wiring board are mounted. A mounting structure which is disposed in an imaging range of an imaging device.
請求項5に記載の実装構造体であって、
前記第1配線基板のうち少なくとも1つは前記第1配線基板の平面方向に凸部を有し、前記凸部に前記位置合わせ用マークが形成されていることを特徴とする実装構造体。
The mounting structure according to claim 5,
At least one of the first wiring substrates has a convex portion in a planar direction of the first wiring substrate, and the alignment mark is formed on the convex portion.
液滴を吐出するための駆動部が振動板を振動させる液滴吐出ヘッドであって、
前記振動板には配線と位置合わせ用マークとが配置され、
配線と位置合わせ用マークとが配置された複数の配線基板を備え、
前記振動板の配線と前記配線基板の配線とが接続して実装され、
複数の前記配線基板における前記位置合わせ用マークのうち少なくとも2つの前記位置合わせ用マークが、前記振動板と前記配線基板とを実装するときに前記位置合わせ用マークを撮像する撮像装置の撮像範囲に配置されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
A driving unit for discharging liquid droplets is a liquid droplet discharging head that vibrates the diaphragm,
Wiring and alignment marks are arranged on the diaphragm,
Provided with a plurality of wiring boards on which wiring and alignment marks are arranged,
The wiring of the diaphragm and the wiring of the wiring board are connected and mounted,
Among the alignment marks on the plurality of wiring boards, at least two of the alignment marks are within an imaging range of an imaging device that images the alignment marks when the diaphragm and the wiring board are mounted. A droplet discharge head, which is arranged.
請求項7に記載の液滴吐出ヘッドであって、
前記配線基板のうち少なくとも1つは前記配線基板の平面方向に凸部を有し、前記凸部に前記位置合わせ用マークが形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
The droplet discharge head according to claim 7,
At least one of the wiring substrates has a convex portion in a plane direction of the wiring substrate, and the alignment mark is formed on the convex portion.
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