JP2009276138A - 放射線グリッドおよび、それを備えた放射線撮像装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＦＰＤのＸ線検出素子が小さなものになっても、モアレの発生が抑制できるＸ線グリッドを提供する。
【解決手段】本発明に係るＸ線グリッド１０は、放射線を吸収する短冊状の第１吸収箔１ａを配列することによって構成されている第１吸収体１と、放射線を吸収する短冊状の第２吸収箔２ａを配列することによって構成されている第２吸収体２とを備え、第１吸収体１と第２吸収体１が積層されて配置されているとともに、第１吸収体１における第１吸収箔１ａの配列方向と、第２吸収体２における第２吸収箔２ａの配列方向とが平行となっており、配列方向における第１吸収箔１ａの位置と、第２吸収箔２ａの位置とは互いに異なっている。
【選択図】図１

Description

本発明は、散乱Ｘ線を吸収するＸ線グリッド、またはスペーサを必要としないＸ線エアグリッドなどの放射線グリッドおよび、それを備えた放射線撮像装置に関する。

Ｘ線撮像装置には、Ｘ線源からコーン状のＸ線ビームを被検体に向けて照射し、被検体を透過した透過Ｘ線をフラットパネル・ディテクタ（以下、ＦＰＤと略記）で検出する構成となっているものがある。この様なＸ線撮像装置において、Ｘ線が被検体を透過するときに、被検体で、散乱してからＦＰＤに入射する散乱Ｘ線が生じ、これが被検体のＸ線透視画像のコントラストを悪化させる要因となる。散乱Ｘ線がＦＰＤに入射することを防ぐために、ＦＰＤのＸ線検出面を覆うようにＸ線グリッドを付設することで、散乱Ｘ線を吸収させるようになっている。

従来のＸ線グリッドの構成について説明する。図１０に示すように、従来のＸ線グリッド５０は、Ｘ線を吸収しやすいモリブデン合金などからなる吸収箔５１を有し、それがほぼ平行に配列されている。そして、隣接する吸収箔５１の間隙には、スペーサ５２が設けられていて、吸収箔５１を支持している。この様に、従来のＸ線グリッド５０は、吸収箔５１とスペーサ５２が交互に積層された構成となっている。

ところで、ＦＰＤ５３は、多数の半導体タイプのＸ線検出素子がマトリクス状に配列されている。この様なＦＰＤ５３は、配列された各々のＸ線検出素子により被検体Ｍを透過したＸ線を離散的にサンプリングすることによりＸ線透視画像を構成する。一方、Ｘ線グリッド５０は、ブラインド状に配列された複数の吸収箔５１を有する。コーン状のＸ線ビームがこのＸ線グリッド５０を透過すると、Ｘ線グリッド５０の有する吸収箔５１の各々について筋状の影が生じる。この影をＸ線グリッド５０全体で見れば、ストライプ状である影の配列パターンとなっており、それがＸ線グリッド５０の下方に配置されたＦＰＤ５３に写り込む。この影の配列パターンは、ＦＰＤ５３を構成するＸ線検出素子によって離散的にサンプリングされることになるが、Ｘ線検出素子の各々に写る影の本数は、ＦＰＤ５３全体で一定とはならない。Ｘ線検出素子の配列ピッチと影の配列ピッチが一致していないためである。こうして、影の多数が映りこんだ細長状の暗部領域と、より少数の影が映りこんだ細長状の明部領域とが交互に並んだ干渉縞がＸ線透視画像に出現する。このように、ＦＰＤ５３が有するＸ線検出素子の配列パターンとＸ線グリッド５０による影の配列パターンとが干渉してモアレが生じＸ線透視画像に写り込む。

この様なモアレはＸ線透視画像の診断に邪魔である。このモアレを生じさせないようにするには、Ｘ線検出素子の配列ピッチと吸収箔５１の配列ピッチとを略同一なものとすればよい。具体的に例示すると、ＦＰＤ５３のＸ線検出素子の大きさが１５０μｍであれば、これと同一の１５０μｍの配列ピッチで吸収箔５１が配列されたＸ線グリッド５０を使用すれば、モアレの発生を抑制することができる（例えば、特許文献１参照）。
特開２０００−３３８２５４号公報

しかしながら、従来のＸ線グリッドの構成によれば、Ｘ線グリッドを構成する吸収箔の配列ピッチをこれ以上細かくすることが難しいという問題点がある。ＦＰＤのＸ線検出素子の大きさが１００μｍ以下となれば、モアレの発生を抑制することができるＸ線グリッドの吸収箔の配列ピッチは、１００μｍ以下となるが、このようなＸ線グリッドを精度良く製造することは、非常に困難である。

近年、ＦＰＤのＸ線検出素子の大きさは、小さくなる傾向にある。特に、マンモグラフィー用のＦＰＤは、関心部位が小さいこともあり、特にＸ線検出素子が小さなものとなる。そこで、それに合わせて、モアレの発生が抑制できるＸ線グリッドが要求されることになる。Ｘ線グリッドの吸収箔の配列ピッチを１ｃｍあたり１００枚以上とすると、吸収箔の配列が乱雑となり、直接Ｘ線をも吸収してしまうＸ線グリッドしか得られない。

本発明は、この様な事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、ＦＰＤの放射線検出素子（Ｘ線検出素子）が小さなものになっても、モアレの発生が抑制できるＸ線グリッドなどの放射線グリッドおよび、それを備えた放射線撮像装置を提供することにある。

本発明は、この様な目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、放射線を検出する放射線検出器に配置され、散乱放射線を除去する放射線グリッドにおいて、放射線を吸収する短冊状の第１吸収箔を配列することによって構成されている第１吸収体と、放射線を吸収する短冊状の第２吸収箔を配列することによって構成されている第２吸収体とを備え、第１吸収体と第２吸収体が積層されて配置されているとともに、第１吸収体における第１吸収箔の配列方向と、第２吸収体における第２吸収箔の配列方向とがほぼ平行となっており、配列方向における第１吸収箔の位置と、第２吸収箔の位置とは互いに異なっていることを特徴とするものである。

［作用・効果］本発明によれば、放射線検出器の放射線検出素子が小さなものになっても、モアレの発生が抑制できる放射線グリッドを提供することができる。すなわち、本発明によれば、第１吸収体と第２吸収体とを積層方向に積層することによって、吸収箔の配列方向におけるピッチをより細かくすることができる。したがって、本発明によれば、放射線検出器における放射線検出素子の配列ピッチよりも大きな配列ピッチで吸収箔が配列された第１吸収体、および第２吸収体を製造するだけで、何ら困難な工程を経由することなく、放射線検出器の放射線検出素子の配列ピッチと同等の配列ピッチで吸収箔が配列された放射線グリッドを提供することができる。

また、本発明によれば、散乱放射線は、第１吸収体のみならず、第２吸収体においても除去されるので、散乱放射線は、第１吸収体のみ設けられた構成と比べて、より少ないものとなる。つまり、本発明によれば、比較的配列ピッチが大きく製造が容易な吸収体を構成するだけで、より高性能な放射線グリッドが構成できる。

また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の放射線グリッドにおいて、第１吸収体における第１吸収箔の配列ピッチと第２吸収体における第２吸収箔の配列ピッチとは同一であり、互いに隣接する第２吸収箔の間隙における中間の位置に第１吸収箔が配置されていることを特徴とするものである。

［作用・効果］上記構成によれば、より確実に放射線検出器における放射線検出素子の配列パターンと放射線グリッドが有する影の配列パターンが干渉してモアレが生じることを抑止することができる。上記構成によれば、第１吸収体と第２吸収体とを区別しなければ、吸収箔は、配列方向に第１吸収体における配列ピッチの半分の配列ピッチで配列される。したがって、本発明に係る放射線グリッドを第１吸収体における配列ピッチの半分の配列ピッチで配列された放射線検出素子で構成された放射線検出器に対して用いれば、放射線検出素子の１個に一本の吸収箔の影が映りこむことになる。したがって、本発明によれば、放射線検出素子の配列パターンと放射線グリッドの影パターンが干渉してモアレが生じることがなく、診断に好適な放射線透視画像が得られる。

また、請求項３に記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の放射線グリッドにおいて、第１吸収箔、および第２吸収箔を支持するとともに第１吸収箔の延伸方向に伸びた放射線を透過するスペーサが第１吸収体および、第２吸収体のそれぞれに設けられていることを特徴とするものである。

［作用・効果］上記構成によれば、第１吸収体、および第２吸収体における吸収箔の配列ピッチを更に細かなものとすることができる。第１吸収箔、および第２吸収箔は、スペーサに支持（接着固定）されることになるので、吸収箔は、両吸収体において、より整然と配列されることになる。これにより、隣接する吸収箔の間隙を狭くしても、確実にスペーサが吸収箔の姿勢を維持するので、両吸収体においてより吸収箔の配列ピッチを細かなものとすることができる。

また、請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の放射線グリッドを搭載した放射線撮像装置において、コーン状の放射線ビームを照射する放射線源と、放射線ビームを検出する放射線検出器と、放射線検出器の放射線を検出する放射線検出面を覆うように配置された放射線グリッドとを備えていることを特徴とするものである。

［作用・効果］上記構成によれば、モアレが映りこんでいない診断に好適な放射線透視画像を提供できる放射線撮像装置を提供することができる。上記構成の放射線撮像装置に備えられている放射線グリッドと放射線検出器は、放射線透視画像にモアレが生じないように設定されているので、これを備えた放射線撮像装置で放射線透視画像を撮像した場合、それにモアレが映りこむことがなく、診断に好適なものとなっている。

本発明の構成によれば、吸収箔の配列ピッチがより小さい放射線グリッドをより簡単に提供することができる。第１吸収体、および第２吸収体における吸収箔の配列ピッチ自体は広いものであっても、本発明に係る放射線グリッドは、その両吸収体を積層して製造されるので、本発明に係る放射線グリッドにおける吸収箔の配列ピッチは、第１吸収体と第２吸収体とを区別しなければ、より細かいものとなる。したがって、放射線検出器における放射線検出素子の配列ピッチが細かいものであっても、難なくそれに合わせて放射線グリッドにおける吸収箔の配列ピッチを細かくすることができるので、放射線検出素子の配列パターンと放射線グリッドにおける吸収箔の影の配列パターンとが干渉してモアレが生じることがない。

以下、本発明に係る放射線グリッド、およびそれを搭載した放射線撮像装置の実施例について、図面を参照しながら説明する。なお、本発明における放射線の一例としてＸ線を挙げ、各実施例における放射線は、Ｘ線であるものとする。それに伴って、放射線グリッド、および放射線撮像装置のそれぞれを便宜上、Ｘ線グリッド、およびＸ線撮像装置と呼ぶものとする。

図１は、実施例１に係るＸ線グリッドの構成を説明する断面図である。図１に示すように、実施例１に係るＸ線グリッド１０は、ｚ方向に積層された第１吸収体１と、第２吸収体２を備えている。第１吸収体１は、ｘ方向に延伸した短冊状の第１吸収箔１ａを備えている。この第１吸収箔１ａは、ｘ方向に直交するｙ方向に配列しており、Ｘ線グリッド１０全体で見れば、ブラインド状に配列される。そして、その配列ピッチは、例えば、２００μｍとなっている。また、第２吸収体２は、ｘ方向に延伸した短冊状の第２吸収箔２ａを備えている。この第２吸収箔２ａは、ｘ方向に直交するｙ方向に配列しており、Ｘ線グリッド１０全体で見れば、ブラインド状に配列される。そして、その配列ピッチは、第１吸収体１と略同一であり、例えば、２００μｍとなっている。なお、この第１吸収箔１ａ，および第２吸収箔２ａは、Ｘ線を吸収する例えばモリブデン合金からなっている。また、ｙ方向は、本発明の配列方向に相当する。そして、図１を見れば明らかなように、両吸収箔１ａ，２ａのうちのいずれかの１枚に注目すると、ｘ方向は、両吸収箔１ａ，２ａにとっての長手方向であり、ｙ方向は、両吸収箔１ａ，２ａにとっての厚さ方向であり、ｚ方向は、両吸収箔１ａ，２ａにとっての幅方向となっている。なお、第１吸収箔１ａ，および第２吸収箔２ａは、第１吸収体１，および第２吸収体２の各々に備えられた複数の吸収箔の総称である。

第１吸収体１における第１吸収箔１ａの間隙には、第１吸収箔１ａを固着支持するとともにＸ線を透過するスペーサ１ｂが設けられている。同様に、第２吸収体２における第２吸収箔２ａの間隙には、第２吸収箔２ａを固着支持するとともにＸ線を透過するスペーサ２ｂが設けられている。これらのスペーサ１ｂ，２ｂは、Ｘ線を透過しやすいアルミニウムなどからなり、ｘ方向に伸びた角柱状となっている。すなわち、実施例１に係る両吸収体１，２は、ｙ方向に吸収箔とスペーサが交互に積層されており、互いに当接する吸収箔とスペーサの各々が固着支持されて、一体化されることによって構成される。なお、図１によれば、第１吸収体１，および第２吸収体２は、説明のため離間したものとなっているが、実際の実施例１に係るＸ線グリッド１０においては、両吸収体１，２はｚ方向から互いに当接された構成となっている。なお、ｘ方向は、本発明の第１吸収箔の延伸方向に相当する。

なお、両吸収箔１ａ，２ａの配列方向は、略同一であり、第１吸収箔１ａの配列方向と、第２吸収箔２ａの配列方向は、ほぼ平行となっている。このほぼ平行の意味は、Ｘ線グリッド１０をｚ方向（吸収体１，２の積層方向）から見たとき、両吸収箔１ａ，２ａが交差しない程度を言う。

次に、第１吸収箔１ａ，および第２吸収箔２ａのｙ方向における位置について説明する。図１に示すように、第１吸収箔１ａの各々は、ｙ方向に沿って所定の間隔をおいて配列されているが、第１吸収箔１ａのうちの１枚である第１吸収箔１ａ１と、それと隣接するとともに、ｙ方向について後方に位置する第１吸収箔１ａ２に注目すると、ｙ方向における第１吸収箔１ａ１と、第１吸収箔１ａ２の中間の位置には、第２吸収箔２ａのうちの１枚である第２吸収箔２ａ１が配置されている。これは、第１吸収箔１ａに限らず、Ｘ線グリッド１０全域に亘って互いに隣接する第１吸収箔１ａの中間の位置に第２吸収箔２ａのうちの１枚が配置されている。

また、両吸収体１，２における両吸収箔１ａ，２ａの配列ピッチは同一なものとなっており、その配列ピッチは、例えば２００μｍ（１ｃｍあたりに５０枚）となっている。したがって、全ての第１吸収箔１ａのｙ方向における位置は、全ての第２吸収箔２ａ位置とは異なっている。これを両吸収体１，２全体で見れば、第１吸収箔１ａの配列と第２吸収箔２ａの配列とは、両吸収体１，２における配列ピッチの半ピッチ分だけｙ方向に互いにずれたものとなっている。

続いて、両吸収箔１ａ，２ａの傾斜について説明する。図１に示すように、第１吸収体１における第１吸収箔１ａは、第１吸収体１におけるｙ方向についての端部に向かうに従って次第に傾斜している。また、第２吸収体２における第２吸収箔２ａも、第２吸収体２におけるｙ方向についての端部に向かうに従って次第に傾斜している。このように、実施例１に係るＸ線グリッド１０に備えられた両吸収箔１ａ，２ａは、コーン状のＸ線ビームが照射されたときに、放射状に広がるＸ線を通過させるように傾斜が変更された構成となっている。

このようにＸ線グリッド１０を透過したＸ線は、Ｘ線グリッド１０のｚ方向に対する下方に設けられたＦＰＤ３にて検出される。このＦＰＤ３におけるＸ線グリッド１０に向き合う面には、ｘ，およびｙ方向に二次元的に配列されＸ線を検出するＸ線検出素子ｅが備えられている。このＸ線検出素子ｅのｘ，およびｙ方向における配列ピッチは、例えば１００μｍ（１ｃｍあたりに１００個）となっている。このＦＰＤ３に配列されたＸ線検出素子ｅの出力するＸ線強度データをもとに、Ｘ線透視画像が形成される。なお、ＦＰＤは、本発明における放射線検出器に相当する。

次に、実施例１に係るＸ線グリッドの望ましい設定について説明する。Ｘ線グリッド自体は、従来からＸ線撮像装置において広く用いられている。そこで、従来のＸ線グリッドの構成に換算して実施例１に係るＸ線グリッドの設定を求めることにより、従来の構成に代えて直ちに実施できる実施例１に係るＸ線グリッドの構成を例示する。まず、両吸収体１，２における吸収箔の配列ピッチであるが、これは、Ｘ線撮像装置に用いられているＦＰＤ３のＸ線検出素子ｅの配列ピッチにしたがって設定されることが望ましい。図２は、実施例１に係る吸収箔の配列と、ＦＰＤにおけるＸ線検出素子の配列ピッチの関係を示した断面図である。図２に示すように、ＦＰＤ３を構成するＸ線検出素子ｅがｙ方向に配列されているものとし、それらを区別する必要があるときは、たとえばＸ線検出素子ｅ１などとして示す。なお、Ｘ線検出素子ｅのｙ方向における配列ピッチは、１００μｍであるものとする。実施例１に係るＸ線グリッド１０は、この様なＦＰＤ３のＸ線を検出する検出面を覆うように配置される。このときのＸ線グリッド１０の第１吸収体１における第１吸収箔１ａの配列ピッチは、２００μｍであることが望ましい。つまり、両吸収体１，２の各々において、吸収箔の配列ピッチは、ＦＰＤ３におけるＸ線検出素子の配列ピッチの整数倍であることが望ましい。より望ましくは、２倍であることが望ましい。

コーン状のＸ線ビームがＸ線グリッド１０に向けてｚ方向から照射されたとき、両吸収箔１ａ，２ａの影がＦＰＤ３に投影されることになるが、両吸収箔１ａ，２ａは、ｙ方向に沿って交互に配列しており、第１吸収体における第１吸収箔１ａのｙ方向における配列ピッチを２００μｍであるとすると、両吸収箔１ａ，２ａを区別しないならば、Ｘ線グリッド１０には、第１吸収箔１ａ，および第２吸収箔２ａが１００μｍの間隙を隔ててｙ方向に配列されていることになる。Ｘ線検出素子ｅの配列ピッチは、１００μｍであるわけだから、Ｘ線検出素子ｅの各々にＸ線グリッド１０の両吸収箔１ａ，２ａの影が１対１で投影されることになる。たとえば、Ｘ線検出素子ｅ１には、第１吸収箔１ａの影が投影され、Ｘ線検出素子ｅ１に隣接するＸ線検出素子ｅ２には、第２吸収箔２ａの影が投影される。同様に、奇数番のＸ線検出素子ｅには第１吸収箔１ａの影が、偶数番のＸ線検出素子ｅには第２吸収箔２ａの影がそれぞれ投影されることになる。なお、この両吸収箔１ａ，２ａの影とＸ線検出素子ｅとの関係は、ＦＰＤ３の全域に亘って同様である。なお、ＦＰＤ３のｙ方向についての端部においては、Ｘ線はｚ方向から傾斜してＦＰＤ３に入射するが、両吸収箔１ａ，２ａは、その傾斜角度に合わせて同様に傾斜しているので、結局、Ｘ線検出素子ｅの各々にＸ線グリッド１０の両吸収箔１ａ，２ａの影が１対１で投影される。

この様な構成となっていれば、ＦＰＤ３におけるＸ線検出素子ｅの配列ピッチとＸ線グリッド１０における両吸収箔１ａ，２ａの影の配列ピッチが一致する。したがって、それらが干渉してモアレが生じることがない。また、単一のＸ線検出素子ｅの一部分に両吸収箔１ａ，２ａの影が投影されるが、単一のＸ線検出素子ｅは、その一部分に投影されたＸ線の影を検出することはできず、代わりに単一のＸ線強度データを出力するのみである。これにより、Ｘ線検出素子ｅの一部分に投影された両吸収箔１ａ，２ａの影は、Ｘ線検出素子ｅの中でボカされ、最終的に形成されるＸ線透視画像に写り込むことがない。

次に、実施例１に係るＸ線グリッドの望ましいｚ方向の幅の設定について説明する。従来の散乱Ｘ線を除去するＸ線グリッドの構成として、吸収箔の配列ピッチが２００μｍ，吸収箔の厚さが３０μｍ，吸収箔の幅が１．７ｍｍとなっているものが一般的である。ちなみに、この従来のＸ線グリッドは、本発明とは異なり、単一の吸収体しか有さないものである。

従来のＸ線グリッドの散乱Ｘ線の除去能力を比較する上での目安として、見込み角Φを用いることができる。この見込み角Φについて説明する。ある特定の入射方向からＸ線グリッドに入射したＸ線は、吸収箔に邪魔されることなく、Ｘ線グリッドを通過することができる。しかし、その特定の入射方向から外れた方向からＸ線グリッドに入射したＸ線は、Ｘ線グリッドを通過することができない。見込み角Φは、Ｘ線グリッドが通過を許容するＸ線の入射方向範囲を表す角度であり、これが小さいほど直接Ｘ線を選択的に通過させることになるので、Ｘ線グリッドの散乱Ｘ線の除去能力が高いということになる。この見込み角Φは、吸収箔の配列ピッチが狭く、吸収箔のＸ線の進行方向（ｚ方向）に沿った幅ｗが大きいほど、小さな値をとる。

この見込み角Φの導出に先立って、吸収箔の有する頂点の定義を行う。図３は、実施例１に係るＸ線グリッドの見込み角を説明する断面図である。図３（ａ）に示すように、吸収箔Ｓの幅方向ｚについて、Ｘ線グリッドのＸ線が入射する、吸収箔Ｓの一端をＩＮ側とし、Ｘ線が出射する吸収箔Ｓの他端をＯＵＴ側とする。そして、吸収箔Ｓの有する４頂点のうち、ｙ方向についてより前方に位置するとともに、ｚ方向についてよりＩＮ側に位置する頂点を吸収箔Ｓの第１頂点Ｓ（１）と定義する。同様に、吸収箔Ｓの有する４頂点のうち、ｙ方向についてより前方に位置するとともに、ｚ方向についてよりＯＵＴ側に位置する頂点を吸収箔Ｓの第２頂点Ｓ（２）と定義する。続いて、吸収箔Ｓの有する４頂点のうち、ｙ方向についてより後方に位置するとともに、ｚ方向についてよりＩＮ側に位置する頂点を吸収箔Ｓの第３頂点Ｓ（３）と定義する。最後に、吸収箔Ｓの有する４頂点のうち、ｙ方向についてより後方に位置するとともに、ｚ方向についてよりＯＵＴ側に位置する頂点を吸収箔Ｓの第４頂点Ｓ（４）と定義する。

見込み角Φについて説明する。図３（ｂ）は、従来のＸ線グリッドにおける見込み角を説明する模式図である。Ｘ線グリッドのうち、互いに隣接しているｙ方向についてより前方に配置された吸収箔αと、より後方に配置された吸収箔βをについて注目すると、Ｘ線が入射する領域ＩＮは、吸収箔αの第３頂点α（３）と、吸収箔βの第１頂点β（１）とを結んだ線分となる。一方、Ｘ線が出射する領域ＯＵＴは、吸収箔αの第４頂点α（４）と、吸収箔βの第２頂点β（２）とを結んだ線分となる。なお、吸収箔吸収箔αと吸収箔βとの離間距離を２ｄとし、両吸収箔α、βのｚ方向に沿った幅をｗとする。

図３（ｂ）における点ｒは、Ｘ線が出射する領域ＯＵＴに属する一点である。この点ｒにおける見込み角Φを求めてみる。点ｒに入射するＸ線は、領域ＩＮを必ず通過する。したがって、点ｒにおいて、Ｘ線グリッドが通過を許容するＸ線の入射方向範囲を表す角度である入射角Φは、図３（ｂ）に示すように、吸収箔αの第３頂点α（３）と、点ｒとを結んだ線分と、吸収箔βの第１頂点β（１）と、点ｒとを結んだ線分とがなす角となる。

この見込み角Φは、離間距離２ｄよりも吸収箔の幅ｗ（箔高さともいう）が十分大きいとき、２ｄ／ｗに近似できる。また、２ｄがｗよりも十分に小さい場合、点ｒが領域ＯＵＴのいずれに位置していても、見込み角Φを２ｄ／ｗと近似できる。結局、従来構成におけるＸ線グリッドの見込み角Φは、２ｄ／ｗとみなすことができる。

次に、実施例１に係るＸ線グリッドの見込み角Ωを求め、先ほど従来構成の見込み角Φと比較する。図４は、実施例１に係るＸ線グリッドの見込み角を説明する断面図である。実施例１に係るＸ線グリッド１０のＸ線が出射するＯＵＴ側には、第２吸収体２が設けられている。そこに属する互いに隣接する一対の第２吸収箔のうち、ｙ方向についてより前方に配置された第２吸収箔αと、ｙ方向についてより後方に配置された第２吸収箔βとに挟まれた点ｒに入射するＸ線について考える。この点ｒは、Ｘ線が出射する領域ＯＵＴに属する一点である。また、第２吸収箔αに対して、ｙ方向の前方に配置されている第１吸収箔１ａを第１吸収箔γとし、第２吸収箔βに対して、ｙ方向の後方に配置されている第１吸収箔を第１吸収箔εとし、第２吸収箔αと第２吸収箔βとの間隙の中央に配置されている第１吸収箔を第１吸収箔δとする。また、上述の吸収箔αないし吸収箔εは、両吸収体１，２に係らず、すべて同一の寸法であるものとし、そのｚ方向に沿った幅をＷとし、厚さを２Ａとし、互いに隣接する第１吸収箔γ、δ、εの離間距離の各々は、同一であり、これを２Ｄとする。なお、互いに隣接する第２吸収箔α、βの離間距離も同様に２Ｄである。

点ｒのＸ線入射側には、この第１吸収箔δが位置しているために、Ｘ線が入射しない死角Θが発生する。したがって、点ｒにおける見込み角ΩはΘに分断された２つの角度の合計となる。具体的には、見込み角Ωは、第２吸収箔αの第３頂点α（３）と点ｒを結んだ線分と、第１吸収箔δの第１頂点δ（１）と点ｒを結んだ線分とがなす角Ω_１と、第１吸収箔δの第４頂点δ（４）と点ｒを結んだ線分と、第１吸収箔εの第１頂点ε（１）と点ｒを結んだ線分とがなす角Ω_２の合計となる。このΩ_１，およびΩ_２は、幾何学的に求めることができ、第２吸収箔αと第２吸収箔βにおける間隙の中央を基準としてｒのｙ方向における位置を示すｇを用いて式（１）のように表現することができる。

したがって、実施例１に係る見込み角Ωは、吸収箔の間隙における位置ｇに関する関数であり、式（２）のように表される。

上式（２）では、位置ｇによって見込み角Ωが変化するが、これを平均して、実施例１に係るＸ線グリッドの位置ｇによらない平均見込み角Ω_ａｖｅを求める。このΩ_ａｖｅは、式（３）のように表される。

この平均見込み角Ω_ａｖｅと従来のＸ線グリッドにおける見込み角Φとを比較して、実施例１に係るＸ線グリッドの好適な設定を求めることができる。その一例を表１に示す。なお、平均見込み角Ω_ａｖｅと見込み角Φは、上述したように、吸収箔の離間距離２ｄ，２Ｄ，吸収箔の厚さ２Ａ，吸収箔の幅ｗ，Ｗが設定されれば一義的に求められる。

従来の構成＜１＞は、従来のＸ線グリッドにおける一般的な構成である。これによれば、吸収箔の配列ピッチは、２００μｍであり、見込み角Φは、０．１ラジアンとなっている。この従来の構成におけるＸ線グリッドをｚ方向に積層して実施例１に係るＸ線グリッドを形成したとすると、構成＜２＞に示すようになる。Ｘ線グリッドのｚ方向の幅は、従来の構成＜１＞と比べると、単純に２倍となっているが、見込み角Φと平均見込み角Ω_ａｖｅとを比べると、構成＜２＞のほうが従来の構成＜１＞と比べてより小さなものとなっている。したがって、構成＜２＞のほうが散乱Ｘ線を除去する能力が高く、高性能となっている。

実施例１に係るＸ線グリッド１０の散乱Ｘ線を除去する能力を従来におけるＸ線グリッドのそれと同一なものとする設定を行うと、Ｘ線グリッド１０のｚ方向の幅を抑制することができる。構成＜３＞によれば、見込み角Φと平均見込み角Ω_ａｖｅとが０．１ラジアンの同一となっている。その代わり、構成＜３＞と構成＜２＞を比べると、構成＜３＞のほうがよりｚ方向の幅が抑制された構成となっている。このような設定の変更を行えば、Ｘ線グリッドのｚ方向の幅がより抑えられているので、実施例１に係るＸ線グリッドをより容易にＸ線撮像装置に搭載することができる。

また、実施例１に係る構成＜２＞、および構成＜３＞によれば、第１吸収体１と第２吸収体２とを区別しなければ、両吸収箔１ａ，２ａは、ｙ方向に１００μｍの配列ピッチで配列されている。したがって、これを１００μｍの配列ピッチで配列されたＸ線検出素子ｅで構成されたＦＰＤ３に配置すれば、Ｘ線検出素子ｅの１個に一本の第１吸収箔１ａ，または第２吸収箔２ａの影いずれかが映りこむことになる。この様に、Ｘ線検出素子ｅの各々に写る影の本数は、ＦＰＤ３全体で一定となっているので、Ｘ線検出素子ｅの配列パターンとＸ線グリッド１０の第１吸収箔１ａ，および第２吸収箔２ａの影の配列パターンとが干渉してモアレが生じることがない。

実施例１に係るＸ線グリッド１０は、比較的容易に製造できる。Ｘ線グリッド１０の有する両吸収体１，２の両方を合わせたときの吸収箔の配列ピッチは１００μｍであるが、実際は、配列ピッチが２００μｍの吸収体を製造するだけで済む。したがって、何ら困難な工程を経由することなく、ＦＰＤ３のＸ線検出素子ｅの配列ピッチと同等の配列ピッチで両吸収箔１ａ，２ａが配列されたＸ線グリッド１０を提供することができる。

続いて、本発明の第２の実施例について図面を参照しながら説明する。実施例２に係るＸ線グリッドは、実施例１で説明したスペーサ１ｂ，およびスペーサ２ｂを有しないＸ線エアグリッドである。一般に、Ｘ線エアグリッドにおける隣接する吸収箔の間隙は、スペーサを備えたＸ線グリッドよりも広いものとなる。これは、吸収箔の間隙が狭いＸ線エアグリッドを製造することがより困難であるからである。

図５は、実施例２に係るＸ線エアグリッドの構成について説明する断面図である。図５に示すように、実施例２に係るＸ線エアグリッド２０は、ｚ方向に積層された第１吸収体２１と、第２吸収体２２を備えている。第１吸収体２１は、ｘ方向に延伸した短冊状の第１吸収箔２１ａを備えている。この第１吸収箔２１ａは、ｘ方向に直交するｙ方向に配列しており、Ｘ線エアグリッド２０全体で見れば、ブラインド状に配列される。そして、その配列ピッチは、例えば、５００μｍとなっている。また、第２吸収体２２は、ｘ方向に延伸した短冊状の第２吸収箔２２ａを備えている。この第２吸収箔２２ａは、ｘ方向に直交するｙ方向に配列しており、Ｘ線エアグリッド２０全体で見れば、ブラインド状に配列される。そして、その配列ピッチは、第１吸収体２１と略同一であり、例えば、５００μｍとなっている。なお、この第１吸収箔２１ａ，および第２吸収箔２２ａは、Ｘ線を吸収するモリブデン合金からなっている。また、ｙ方向は、本発明の配列方向に相当する。そして、両吸収箔２１ａ，２２ａのうちのいずれかの１枚に注目すると、ｘ方向は、両吸収箔２１ａ，２２ａにとっての長手方向であり、ｙ方向は、両吸収箔２１ａ，２２ａにとっての厚さ方向であり、ｚ方向は、両吸収箔２１ａ，２２ａにとっての幅方向となっている。なお、第１吸収箔２１ａ，および第２吸収箔２２ａは、第１吸収体２１，および第２吸収体２２の各々に備えられた複数の吸収箔の総称である。

なお、両吸収箔１ａ，２ａの配列方向は、略同一であり、第１吸収箔１ａの配列方向と、第２吸収箔２ａの配列方向は、ほぼ平行となっている。このほぼ平行の意味は、Ｘ線グリッド１０をｚ方向（吸収体１，２の積層方向）から見たとき、両吸収箔１ａ，２ａが交差しない程度を言う。

次に、第１吸収体２１の構成について説明する。第１吸収体２１は、第１吸収箔２１ａを支持する筐体２５ａを備えている。この筐体２５ａは、Ｘ線エアグリッド２０全体で見れば、角筒状であり、第１吸収体２１を囲むように配置される。この筐体２５ａにおけるｙ方向（吸収箔の延伸方向と直交する方向）に沿った２側端は、ｚ方向に伸びた複数の溝を有して櫛型のプレートとなっており、この一対の櫛型のプレートで第１吸収箔の両端を支える。また、第２吸収体２２は筐体２５ｂを備え、その構成は第１吸収体２１と同様となっている。

また、Ｘ線エアグリッド２０は、第１吸収体２１の上面，および第２吸収体２２のした面をｚ方向から挟むように一対の板状のシートカバー２３，２４が備えられている。このシートカバー２３，２４はＸ線を透過しやすいグラスファイバーからなっている。

なお、第１吸収箔２１ａ，および第２吸収箔２２ａのｙ方向における位置と、両吸収箔２１ａ，２２ａの傾斜については、実施例１の構成と同様である。すなわち、両吸収箔２１ａ，２２ａを区別しないならば、Ｘ線エアグリッド２０には、第１吸収箔２１ａ，および第２吸収箔２２ａが２５０μｍの間隙を隔ててｙ方向に配列されている。

ＦＰＤ３についても、実施例１と同様であるが、そのＸ線検出素子の配列ピッチが異なっている。具体的には、Ｘ線検出素子ｅのｘ，およびｙ方向における配列ピッチは、例えば１２５μｍ（１ｃｍあたりに８０個）となっている。

図６は、実施例２に係るＸ線エアグリッドの構成を説明する平面図である。なお、この図６においては、第１吸収体２１の構成を例にとって説明している。図６に示すように、実施例２に係るＸ線エアグリッド２０のｘ方向における両端部には接着剤が浸透した接着領域２６ａが設けられている。接着領域２６ａが筐体２５ａの有する櫛型プレートの部分である。要するに、櫛型プレートと、それに挿入された第１吸収箔２１ａの各々とは、接着剤で固着されている。これにより、第１吸収箔２１ａの各々が一体化して第１吸収体２１を構成する。同様に、第２吸収箔２２ａの各々が一体化して第２吸収体２２を構成する。

次に、実施例２に係るＸ線エアグリッド２０の望ましいｚ方向の幅の設定について説明する。従来の散乱Ｘ線を除去するＸ線エアグリッドの構成として、吸収箔の配列ピッチが５００μｍ，吸収箔の厚さが３０μｍ，吸収箔の幅が４．７ｍｍとなっているものが一般的である。ちなみに、この従来のＸ線グリッドは、本発明とは異なり、単一の吸収体しか有さないものである。

実施例１で求めた平均見込み角Ω_ａｖｅは、実施例２においても適応できる。実施例２に係るＸ線エアグリッド２０の平均見込み角Ω_ａｖｅと、従来のＸ線エアグリッドにおける見込み角Φとを比較して、実施例２に係るＸ線エアグリッドの好適な設定を求めることができる。その一例を表２に示す。なお、平均見込み角Ω_ａｖｅと見込み角Φは、上述したように、吸収箔の離間距離２ｄ，２Ｄ，吸収箔の厚さ２Ａ，吸収箔の幅ｗ，Ｗが設定されれば一義的に求められる。表２には、従来の構成と、その見込み角Φと同等の見込み角角Ω_ａｖｅを有していて従来の構成と散乱Ｘ線を除去する性能が同一となっている実施例２に係るＸ線エアグリッド２０の構成について例示する。

実施例２に係るＸ線エアグリッド２０によれば、ＦＰＤ３におけるＸ線検出素子の配列ピッチが仮に２５０μｍであれば、Ｘ線グリッド１０の両吸収箔１ａ，２ａの影の配列ピッチと一致する。したがって、それらが干渉してモアレが生じることがない。また、単一のＸ線検出素子の一部に両吸収箔２１ａ，２２ａの影が投影されるが、単一のＸ線検出素子は、その一部におけるＸ線の入射強度の分布を検出することはできず、代わりに単一のＸ線強度データを出力するのみである。これにより、Ｘ線検出素子の一部に投影された両吸収箔２１ａ，２２ａの影は、Ｘ線検出素子の中でボカされ、最終的に形成されるＸ線透視画像に写り込むことがない。

実施例２の場合、ＦＰＤ３におけるＸ線検出素子の配列ピッチは１２５μｍであり、Ｘ線検出素子の配列ピッチと両吸収箔２１ａ，２２ａの配列ピッチとが同一なものとはなっていない。しかしながら、両吸収箔２１ａ，２２ａの配列ピッチをＸ線検出素子の配列ピッチの整数倍であるので、両吸収箔２１ａ，２２ａの影がｙ方向から隣接するＸ線検出素子ｅに跨らないようにすることができる。

構成＜５＞の場合、そもそも両吸収体２１，２２における隣接する吸収箔の離間距離２Ｄが大きいので、ＦＰＤ３のＸ線検出素子とそれに写り込む両吸収箔２１ａ，２２ａの影とを１対１で対応していない。具体的には、第１吸収体２１と第２吸収体２２とを区別しなければ、両吸収箔の配列ピッチは、２５０μｍであり、Ｘ線検出素子の配列ピッチ（１２５μｍ）の２倍であることから、両吸収箔２１ａ，２２ａの影α、βは、一個分ずつ離間したＸ線検出素子にサンプリングされ、Ｘ線透視画像にＸ線の強度ムラが表れる。しかしながら、これは後述の画像処理によって容易に除去できるので、上述で説明したようなより幅広の周期でＸ線透視画像に写り込むモアレと比べれば、さほど視認性を低下させるものではない。

また、従来の構成＜４＞と、実施例２の構成＜５＞を比較すると、それらを構成する吸収箔の幅は構成＜５＞のほうがより小さなものとなっている。これにより、より診断に好適なＸ線透視画像を得ることができる。

図７は、実施例２に係る吸収箔の影を説明する図である。上述したように、Ｘ線エアグリッド２０のｙ方向における端部において、Ｘ線が斜め方向から入射するので、それに合わせて両吸収箔２１ａ，２２ａも傾斜した構成となっている。したがって、図７（ａ）に示すように、両吸収箔２１ａ，２２ａの影α、βは、Ｘ線エアグリッド２０の端部においても、両吸収箔２１ａ，２２ａの厚さと同等の幅細なものとなっている。そして、第１吸収体２１と第２吸収体２２とを区別しなければ、両吸収箔の配列ピッチは、Ｘ線検出素子の配列ピッチの２倍であることから、両吸収箔２１ａ，２２ａの影α、βは、一個分ずつ離間したＸ線検出素子ｅにサンプリングされる。

ところが、被検体の大きさや関心部位によって、Ｘ線の照射する方向が変化する場合がある。そうなると、Ｘ線の進行方向と、両吸収箔２１ａ，２２ａの傾斜が一致しなくなるので、両吸収箔２１ａ，２２ａの影α１，β２は、より幅広なものとなる。この各々がＸ線検出素子ｅにサンプリングされる。これが、Ｘ線透視画像にどのように影響するかを示したのが、図７（ｃ）である。Ｘ線透視画像２７には、図７（ｃ）によると、ｘ方向に延伸する明部領域Ｂと、両吸収箔２１ａ，２２ａの影α１，β２が映りこんだｘ方向に延伸する暗部領域Ｄとが１画素幅で交互に配列している。そして、その配列方向はｙ方向に沿っている。したがって、両吸収箔２１ａ，２２ａの影α１，β２が幅広なものとなるほど、暗部領域Ｄは暗いものとなる。また、各画素位置におけるＸ線強度Ｉを比較すると図７（ｄ）のようになる。図７（ｄ）の示すように、Ｘ線強度Iは、ｙ方向の位置によって微小に変化している。このＸ線透視画像２７に写り込むＸ線の強度ムラは、Ｘ線透視画像２７を形成した後の画像処理にて除去される。なお、この撮像条件に伴うＸ線の強度ムラは、Ｘ線グリッドにおいて、吸収箔が傾斜した領域において発生する。したがって、Ｘ線の強度ムラは、Ｘ線グリッドのｙ方向における両端部に相当するＸ線透視画像に写り込むことになる。なお、このＸ線の強度ムラは、吸収箔の傾斜の度合いが大きいほど、より激しいものとなる。

図８は、実施例２に係る吸収箔の影を説明する図である。従来の構成＜４＞のＸ線エアグリッドにおける吸収箔の配列ピッチは、５００μｍであり、ＦＰＤ３における検出素子ｅの配列ピッチが１２５μｍであることからすると、吸収箔Ｈの影は、Ｘ線検出素子ｅの３個分だけ離間したＸ線検出素子ｅの各々にサンプリングされる。当初、図８（ａ）に示すように、Ｘ線エアグリッドの端部において、吸収箔Ｈの影αは、吸収箔Ｈの厚さと同等の幅細なものとなっているものとする。これが図８（ｂ）に示すように、撮影条件の変更によって、Ｘ線の照射する方向が変化する場合を考えると、Ｘ線の進行方向と吸収箔Ｈの傾斜が一致しなくなるので、吸収箔Ｈの影α１は、より幅広なものとなる。この各々がＸ線検出素子ｅにサンプリングされる。これが、Ｘ線透視画像にどのように影響するかを示したのが、図８（ｃ）である。Ｘ線透視画像２８には、図８（ｃ）によると、吸収箔Ｈの影α１が映りこんだｙ方向に１画素分の幅を持った暗部領域Ｄと、ｙ方向に３画素分の幅を持った明部領域Ｂとがｙ方向に交互に配列する。また、各画素位置におけるＸ線強度Iを比較すると図８（ｄ）のようになる。図８（ｄ）の示すように、Ｘ線強度Iは、ｙ方向の位置によってより急激に変化する。

一般に、吸収箔のｚ方向における幅Ｗが小さいほど、撮影条件の変更による影の幅広化が抑制される。具体的に、図７（ｂ）と図８（ｂ）を見比べることで、見込み角０．１ラジアンの散乱Ｘ線吸収能を有する従来のＸ線エアグリッドと、同一の性能を有する実施例２に係るＸ線エアグリッドとを比較すると、実施例２に係るＸ線エアグリッドの方が吸収箔の影のｙ方向における幅が細いものとなっている。そして、図７（ｃ）と、図８（ｃ）とを参照すれば分かるように、実施例２に係るＸ線透視画像２７における暗部領域Ｄの階調値のほうが従来構成に係るＸ線透視画像２８における暗部領域Ｄの階調値よりも高いものとなっている。つまり、Ｘ線透視画像２７における暗部領域Ｄの階調値のほうがより明部領域Ｂの階調値に近いものとなっている。

このようなＸ線透視画像に写り込む暗部領域Ｄと明部領域Ｂとが配列したＸ線の強度ムラは、画像処理によって除くことができる。具体的には、暗部領域Ｄの階調値を明部領域Ｂと同等となるように、暗部領域Ｄに適当な係数を乗算する画像処理がなされる。従来の構成＜４＞は、Ｘ線エアグリッドであるので、実施例１で挙げた従来の構成＜１＞と比べて、吸収箔のピッチが荒いものとなり、散乱Ｘ線の除去能力が低下する。構成＜４＞では、これを補うために、吸収箔の幅Ｗは、構成＜１＞と比べて、より広く設定される。この幅Ｗが広いほど、影α１より幅広なものとなり、例えば、構成＜４＞に係る暗部領域Ｄの階調値は、明部領域Ｂの階調値の２０〜３０％程度の値にまで低下してしまう。

一方、実施例２の構成＜５＞では、図７（ｃ）と図８（ｃ）を見比べればわかるように、暗部領域Ｄの階調値の低下は、構成＜４＞のそれよりも抑制される。つまり、実施例２の構成によれば、画像処理で乗算される係数を従来の構成よりも小さく抑えることができる。

暗部領域Ｄの階調値には、各画素の間でバラツイたノイズ成分を含んでいる。上述の画像処理において、暗部領域Ｄに係数を乗算すると、このノイズ成分が増幅される。すると、ノイズ成分に起因する画素値のバラツキも増幅されてＸ線透視画像の視認性が低下する。したがって、診断に好適なＸ線透視画像を取得するには、ノイズ成分の増幅は極力抑えたほうがよく、言い換えれば、画像処理において乗算される係数は小さいほうがよい。実施例２の構成によれば、画像処理で乗算される係数を小さなものとすることができるので、暗部領域Ｄに含まれるノイズ成分の拡大は、極力抑制される構成となっている。

以上のように、実施例２に係るＸ線エアグリッド２０によれば、より診断に好適なＸ線透視画像が提供できる。すなわち、実施例１で説明したように、実施例２に係るＸ線エアグリッドの製造は安易なものである。そして、実施例２の場合、Ｘ線の強度ムラがＸ線透視画像に表れるが、実施例２の構成では、従来の構成＜４＞に比べてノイズ成分の増幅を極力抑制してＸ線の強度ムラを除去できるものとなっている。それは、Ｘ線の強度ムラを構成する明部領域Ｂと暗部領域Ｄとの階調値がより近いものとなっているからである。したがって、実施例２の構成によれば、撮影条件の変更によって吸収箔の影が幅広なものとなったとしても、その影響は画像処理によって容易に除かれるものとなるので、結果としてより診断に好適なＸ線透視画像が提供できる。

次に、実施例１，および実施例２で説明したＸ線グリッド１０，およびＸ線エアグリッド２０を備えたＸ線撮像装置について図面を参照しながら説明する。

図９は、実施例３に係るＸ線撮像装置の構成を説明する機能ブロック図である。図９に示すように、実施例３に係るＸ線撮像装置３０は、被検体Ｍを載置する天板３１と、天板３１の下部に設けられたイメージセンサを備えるＦＰＤ３２と、天板３１の上部に設けられたコーン状のＸ線ビームをＦＰＤ３２に向けて照射するＸ線管３３と、ＦＰＤ３２のＸ線検出面を覆うように設けられ散乱Ｘ線を除去するＸ線グリッド３４と、Ｘ線管３３の管電圧を制御するＸ線管制御部３５と、Ｘ線管３３を移動させるＸ線管移動機構３６と、これを制御するＸ線管移動制御部３７と、ＦＰＤ３２を移動させるＦＰＤ移動機構３８と、これを制御するＦＰＤ移動制御部３９と、ＦＰＤ３２から出力されるＸ線透視画像に所定の画像処理を行う画像処理部４０と、Ｘ線透視画像を表示する表示部４１とを備えている。なお、ＦＰＤ３２，およびＸ線管３３は、本発明の放射線検出器および、放射線源のそれぞれに相当する。また、Ｘ線グリッド３４は、実施例１に係るＸ線グリッド１０でもよいし、実施例２に係るＸ線エアグリッド２０でもよい。

また、Ｘ線撮像装置３０は、各制御部３５，３７，および３９を統括的に制御する主制御部４２をも備えている。この主制御部４２は、ＣＰＵによって構成され、各種のプログラムを実行することにより各制御部３５，３７，および３９，ならびに画像処理部４０を実現している。

実施例３に係るＸ線撮像装置３０でＸ線透視画像を撮像するには、まず、天板３１に被検体Ｍが仰臥される。そして、ＦＰＤ３２と、Ｘ線管３３とを被検体Ｍの関心部位を挟む位置に移動させる。ついで、Ｘ線管３３をｚ方向に移動させて撮像視野の大きさを決定する。そして、Ｘ線管３３は、コーン状のＸ線ビームを照射するように制御される。なお、このコーン状のＸ線ビームは、パルス状となっている。

被検体Ｍを透過したＸ線は、Ｘ線グリッド３４を通過して、ＦＰＤ３２に入射する。それが、画像処理部４０に移送され、Ｘ線透視画像の両端に表れるＸ線の強度ムラを除去する。最後に被検体Ｍの関心部位が写っているＸ線透視画像が表示部４１に表示されて撮像は終了となる。

以上のように、実施例１，および実施例２に記載のＸ線グリッドを備えた実施例３に係るＸ線撮像装置３０によれば、モアレが映りこんでいない診断に好適なＸ線透視画像を提供できる。実施例３のＸ線撮像装置３０に備えられているＸ線グリッド３４とＦＰＤ３２は、Ｘ線透視画像にモアレが生じないように設定されているので、これを備えたＸ線撮像装置３０でＸ線透視画像を撮像した場合、それにモアレが映りこむことがなく、診断に好適なものとなっている。

本発明は、上記実施例に限られることなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した各実施例のＸ線グリッドは、第１吸収体、および第２吸収体を備えていたが、本発明はこれに限らない。より多くの吸収体を有したものとしてもよい。本変形例の場合、ｙ方向における吸収箔の配列ピッチは、各吸収体を区別しなければ、ＦＰＤの有するＸ線検出素子の配列ピッチの整数倍が望ましい。具体的には、１倍であることが望ましい。

（２）上述した各実施例は、医用の装置であったが、本発明は、工業用や、原子力用の装置に適用することもできる。

（３）上述した各実施例のいうＸ線は、本発明における放射線の一例である。したがって、本発明は、Ｘ線以外の放射線にも適応できる。

（４）上述した各実施例のＸ線グリッドは、吸収箔がブラインド状に配列されたものであったが、吸収箔の配列を格子状として、クロスグリッドとすることもできる。

実施例１に係るＸ線グリッドの構成を説明する断面図である。 実施例１に係る吸収箔の配列と、ＦＰＤにおけるＸ線検出素子の配列ピッチの関係を示した断面図である。 実施例１に係るＸ線グリッドの見込み角を説明する断面図である。 実施例１に係るＸ線グリッドの見込み角を説明する断面図である。 実施例２に係るＸ線エアグリッドの構成について説明する断面図である。 実施例２に係るＸ線エアグリッドの構成を説明する平面図である。 実施例２に係る吸収箔の影を説明する図である。 従来のＸ線エアグリッドにおける吸収箔の影を説明する図である。 実施例３に係るＸ線撮像装置の構成を説明する機能ブロック図である。 従来のＸ線グリッドの構成を説明する断面図である。

符号の説明

１ 第１吸収体
１ａ 第１吸収箔
１ｂ スペーサ
２ 第２吸収体
２ａ 第２吸収箔
２ｂ スペーサ
３ ＦＰＤ（放射線検出器）
１０ Ｘ線グリッド（放射線グリッド）
２０ Ｘ線エアグリッド
２１ 第１吸収体
２１ａ 第１吸収箔
２２ 第２吸収体
２２ａ 第２吸収箔
３０ Ｘ線撮像装置
３２ ＦＰＤ（放射線検出器）
３３ Ｘ線管（放射線源）
３４ Ｘ線グリッド（放射線グリッド）

Claims (4)

1. 放射線を検出する放射線検出器に配置され、散乱放射線を除去する放射線グリッドにおいて、
   放射線を吸収する短冊状の第１吸収箔を配列することによって構成されている第１吸収体と、放射線を吸収する短冊状の第２吸収箔を配列することによって構成されている第２吸収体とを備え、
   前記第１吸収体と前記第２吸収体が積層されて配置されているとともに、
   前記第１吸収体における前記第１吸収箔の配列方向と、前記第２吸収体における前記第２吸収箔の配列方向とがほぼ平行となっており、
   前記配列方向における前記第１吸収箔の位置と、前記第２吸収箔の位置とは互いに異なっていることを特徴とする放射線グリッド。
2. 請求項１に記載の放射線グリッドにおいて、前記第１吸収体における前記第１吸収箔の配列ピッチと前記第２吸収体における前記第２吸収箔の配列ピッチとは同一であり、
   互いに隣接する前記第２吸収箔の間隙における中間の位置に第１吸収箔が配置されていることを特徴とする放射線グリッド。
3. 請求項１または請求項２に記載の放射線グリッドにおいて、前記第１吸収箔、および前記第２吸収箔を支持するとともに前記第１吸収箔の延伸方向に伸びた放射線を透過するスペーサが前記第１吸収体および、前記第２吸収体のそれぞれに設けられていることを特徴とする放射線グリッド。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の放射線グリッドを搭載した放射線撮像装置において、
   コーン状の放射線ビームを照射する放射線源と、
   前記放射線ビームを検出する前記放射線検出器と、
   前記放射線検出器の放射線を検出する放射線検出面を覆うように配置された前記放射線グリッドとを備えていることを特徴とする放射線撮像装置。

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